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盒和打印設(shè)備的制作方法

文檔序號(hào):40629730發(fā)布日期:2025-01-10 18:35閱讀:10來源:國知局
盒和打印設(shè)備的制作方法

本公開涉及一種盒和一種打印設(shè)備。


背景技術(shù):

1、通過將液體噴射到打印介質(zhì)上而執(zhí)行打印的打印設(shè)備有時(shí)使用盒,在所述盒中,液體容納室和液體噴射單元彼此成一體,并且所述盒能夠可拆卸地附接至打印設(shè)備。

2、日本專利特開no.2008-260199公開了一種噴墨打印盒(盒),其包括儲(chǔ)存液體的儲(chǔ)存單元(容納室)以及通過噴射液體而執(zhí)行打印的噴墨打印頭(噴射單元)。日本專利特開no.2008-260199還公開了在容納室和噴射單元之間形成有從儲(chǔ)存單元供應(yīng)液體所通過的供應(yīng)路徑(通道),并且那些供應(yīng)路徑連接至噴射單元。

3、日本專利特開no.2008-260199的盒中的通道需要包括在盒安裝至打印設(shè)備的狀態(tài)下水平延伸的水平部分。在供應(yīng)路徑中的液體中產(chǎn)生有氣泡的情況下,氣泡可能會(huì)停留在那些水平部分中,并且不能容易地從水平部分釋放。在氣泡與液體一起被供應(yīng)至噴射單元的情況下,這將導(dǎo)致噴射故障。為了保持噴射性能,可以執(zhí)行維護(hù)操作,在該維護(hù)操作中,氣泡與液體一起被排出到盒的外部。這里,在頻繁地將液體與氣泡一起丟棄的情況下,液體將被浪費(fèi)。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、因此,本公開的目的是提供一種盒,該盒能夠防止氣泡進(jìn)入其噴射單元并且相比于傳統(tǒng)技術(shù)更大程度地保持噴射性能。

2、一種能夠安裝至打印設(shè)備的盒,所述打印設(shè)備能夠通過將液體噴射到打印介質(zhì)上而執(zhí)行打印,所述盒包括:能夠容納所述液體的第一容納室;和第一通道,所述第一通道連接所述第一容納室和打印元件板,所述打印元件板包括構(gòu)造成將用于噴射所述液體的能量施加至所述液體的元件,其中,在所述盒安裝至所述打印設(shè)備的狀態(tài)下,所述第一通道包括沿水平方向延伸的第一水平部分、連接至所述打印元件板并沿豎直方向延伸的第一連接部分、以及能夠儲(chǔ)存氣泡的第一貯存器部分,并且當(dāng)沿所述第一水平部分延伸的延伸方向觀察時(shí),所述第一貯存器部分的寬度大于所述第一連接部分的寬度。

3、通過下文參考附圖對(duì)示例性實(shí)施例的描述,本公開的其他特征將變得明顯。



技術(shù)特征:

1.一種能夠安裝至打印設(shè)備的盒,所述打印設(shè)備能夠通過將液體噴射到打印介質(zhì)上而執(zhí)行打印,所述盒包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盒,其中,當(dāng)在所述盒安裝至所述打印設(shè)備的狀態(tài)下沿所述延伸方向觀察時(shí),所述第一水平部分具有角部。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盒,其中,當(dāng)在所述盒安裝至所述打印設(shè)備的狀態(tài)下沿所述延伸方向觀察時(shí),所述第一水平部分的形狀在所述豎直方向上的長度比其在寬度方向上的長度長。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盒,其中,當(dāng)在所述盒安裝至所述打印設(shè)備的狀態(tài)下從豎直上方觀察時(shí),所述第一水平部分的更遠(yuǎn)離所述打印元件板的端部的寬度比所述第一水平部分的更靠近所述打印元件板的端部的寬度小。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盒,其中,所述第一水平部分的更遠(yuǎn)離所述打印元件板的所述端部布置在所述第一容納室內(nèi)部。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盒,其中,所述第一貯存器部分具有錐形部分,所述錐形部分具有在所述盒安裝至所述打印設(shè)備的狀態(tài)下位于所述錐形部分在所述豎直方向上的上端的開口部分以及位于所述錐形部分下端的開口部分,所述上端處的開口部分大于所述下端處的開口部分。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的盒,其中

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的盒,其中,所述第二貯存器部分具有錐形部分,所述錐形部分具有在所述盒安裝至所述打印設(shè)備的狀態(tài)下位于所述錐形部分在所述豎直方向上的上端的開口部分以及位于所述錐形部分下端的開口部分,所述上端處的開口部分大于所述下端處的開口部分。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的盒,還包括第一分隔件,所述第一分隔件將所述第二貯存器部分的內(nèi)部分隔成彼此連接的多個(gè)空間。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的盒,其中

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的盒,還包括第一過濾器,在所述盒安裝至所述打印設(shè)備的狀態(tài)下,所述第一過濾器覆蓋在所述第二貯存器部分的所述豎直方向上的所述上端處形成的所述開口部分。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盒,其中

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的盒,其中,所述打印元件板布置在形成于所述第二構(gòu)件處的打印元件放置部分處。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的盒,還包括

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的盒,其中,當(dāng)在所述盒安裝至所述打印設(shè)備的狀態(tài)下沿著所述延伸方向觀察時(shí),所述第二水平部分的橫截面具有角部。

16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的盒,其中,當(dāng)在所述盒安裝至所述打印設(shè)備的狀態(tài)下沿所述延伸方向觀察時(shí),所述第二水平部分的形狀在所述豎直方向上的長度比其在寬度方向上的長度長。

17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的盒,其中,當(dāng)在所述盒安裝至所述打印設(shè)備的狀態(tài)下沿所述延伸方向觀察時(shí),所述第二水平部分的寬度小于所述第一水平部分的寬度。

18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的盒,其中,當(dāng)在所述盒安裝至所述打印設(shè)備的狀態(tài)下從豎直上方觀察時(shí),所述第二水平部分的更遠(yuǎn)離所述打印元件板的端部的寬度比所述第二水平部分的更靠近所述打印元件板的端部的寬度小。

19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的盒,其中,所述第二水平部分的更遠(yuǎn)離所述打印元件板的所述端部布置在所述第二容納室內(nèi)部。

20.根據(jù)權(quán)利要求14所述的盒,其中,所述第三貯存器部分具有錐形部分,所述錐形部分具有在所述盒安裝至所述打印設(shè)備的狀態(tài)下位于所述錐形部分在所述豎直方向上的上端的開口部分以及位于所述錐形部分下端的開口部分,所述上端處的開口部分大于所述下端處的開口部分。

21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的盒,其中

22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的盒,其中,所述第三貯存器部分具有錐形部分,所述錐形部分具有在所述盒安裝至所述打印設(shè)備的狀態(tài)下位于所述錐形部分在所述豎直方向上的上端的開口以及位于所述錐形部分下端的開口,所述上端處的開口大于所述下端處的開口部分。

23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的盒,還包括第二分隔件,所述第二分隔件將所述第四貯存器部分的內(nèi)部分隔成彼此連接的多個(gè)空間。

24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的盒,其中

25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的盒,還包括第二過濾器,在所述盒安裝至所述打印設(shè)備的狀態(tài)下,所述第二過濾器覆蓋在所述第四貯存器部分在所述豎直方向上的所述上端處形成的所述開口部分。

26.根據(jù)權(quán)利要求14所述的盒,其中,在所述盒安裝至所述打印設(shè)備的狀態(tài)下,所述第一容納室和所述第二容納室沿著所述延伸方向線性地布置。

27.根據(jù)權(quán)利要求14所述的盒,其中

28.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盒,其中,在所述盒安裝至所述打印設(shè)備的狀態(tài)下,所述盒能夠在沿著與所述豎直方向和所述延伸方向交叉的方向往復(fù)移動(dòng)的同時(shí)噴射所述液體。

29.一種能夠通過將液體噴射到打印介質(zhì)上而執(zhí)行打印的打印設(shè)備,包括:


技術(shù)總結(jié)
本公開提供盒和打印設(shè)備。目的是提供一種盒,該盒能夠防止氣泡進(jìn)入其噴射單元并且相比于傳統(tǒng)技術(shù)更大程度地保持噴射性能。一種能夠安裝至打印設(shè)備的盒包括:能夠容納液體的第一容納室;和第一通道,所述第一通道連接所述第一容納室和打印元件板,所述打印元件板包括構(gòu)造成將用于噴射所述液體的能量施加至所述液體的元件。在所述盒安裝至所述打印設(shè)備的狀態(tài)下,所述第一通道包括沿水平方向延伸的第一水平部分、連接至所述打印元件板并沿豎直方向延伸的第一連接部分、以及能夠儲(chǔ)存氣泡的第一貯存器部分。當(dāng)沿著所述第一水平部分延伸的延伸方向觀察時(shí),所述第一貯存器部分比所述第一連接部分寬。

技術(shù)研發(fā)人員:近藤壯至,林弘毅,高橋亙,楠城達(dá)雄,飯沼啟輔
受保護(hù)的技術(shù)使用者:佳能株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/9
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