本公開涉及液體噴射頭和打印裝置。

背景技術(shù)：

1、通過將液體噴射至打印介質(zhì)來執(zhí)行打印的一些打印裝置使用液體噴射頭，所述液體噴射頭具有彼此成一體的液體儲存室和液體噴射單元，并且能夠附接到打印裝置以及能夠從打印裝置拆卸。

2、日本專利特開第2008-260199號公開了一種噴墨打印盒(也稱為液體噴射頭)，其包括儲存液體的多個儲存室(儲存室)和配置成通過噴射液體來執(zhí)行打印的噴墨打印頭(噴射單元)。日本專利特開第2008-260199號還公開了用于從儲存室供應液體的多條供應通道(流動通道)配置在相應的儲存室和噴射單元之間并且均連接到噴射單元。

3、然而，對于如日本專利特開第2008-260199號中所述的具有密集布置的多條流動通道的液體噴射頭來說，其難以在減少氣泡生成的同時使液體噴射頭的主體的寬度變薄。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本公開的目的是提供一種液體噴射頭，其中，即使在設置多條流動通道的情況下，與現(xiàn)有技術(shù)中的液體噴射頭相比，在本公開提供的液體噴射頭中生成的氣泡更少并且本公開提供的液體噴射頭更薄。

2、在本公開的一方面，提供了一種液體噴射頭，其包括：并排布置的第一噴射口陣列和第二噴射口陣列，各個噴射口陣列由在第一方向上排列的用于噴射液體的多個噴射口形成；第一過濾器，所述第一過濾器配置成過濾待供應到所述第一噴射口陣列的液體；第二過濾器，所述第二過濾器配置成過濾待供應到所述第二噴射口陣列的液體；第一流動通道，所述第一流動通道配置成將液體從所述第一過濾器供應到所述第一噴射口陣列；以及第二流動通道，所述第二流動通道配置成將液體從所述第二過濾器供應到所述第二噴射口陣列，其中所述第一流動通道包括與所述第一噴射口陣列連通的第一下游流動通道以及與所述第一過濾器和所述第一下游流動通道連通的第一上游流動通道，所述第二流動通道包括與所述第二噴射口陣列連通的第二下游流動通道以及與所述第二過濾器和所述第二下游流動通道連通的第二上游流動通道，在使用所述液體噴射頭的狀態(tài)下，所述第一上游流動通道具有第一區(qū)域，所述第一區(qū)域在豎直方向上位于所述第一下游流動通道上方，并且在所述第一區(qū)域中所述第一上游流動通道的截面積在豎直方向上從上側(cè)到下側(cè)變得越來越小，并且所述第二上游流動通道具有第二區(qū)域，所述第二區(qū)域在豎直方向上位于所述第二下游流動通道上方，并且在所述第二區(qū)域中所述第二上游流動通道的截面積在豎直方向上從上側(cè)到下側(cè)變得越來越小，并且在沿著所述第一方向觀察的視圖中，所述第一下游流動通道和所述第二下游流動通道彼此不重疊，而所述第一區(qū)域和所述第二區(qū)域彼此重疊。

3、根據(jù)參照附圖對示例性實施例的以下描述，本公開的更多特征將變得顯而易見。

技術(shù)特征：

1.一種液體噴射頭，其包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體噴射頭，其包括：

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液體噴射頭，其中

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的液體噴射頭，其中，所述第一下游流動通道具有：

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的液體噴射頭，其中

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的液體噴射頭，其中，所述第一錐形部分包括：

7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的液體噴射頭，其中

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的液體噴射頭，其中

9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液體噴射頭，其中

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體噴射頭，其中

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的液體噴射頭，其中

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的液體噴射頭，其中

13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的液體噴射頭，其中

14.一種打印裝置，其包括：

技術(shù)總結(jié)
本公開的目的是提供一種液體噴射頭，即使在布置多條流動通道的情況下，本公開提供的液體噴射頭也比現(xiàn)有技術(shù)中的液體噴射頭更薄。在使用液體噴射頭的狀態(tài)下，第一上游流動通道具有第一區(qū)域，所述第一區(qū)域豎直地位于第一下游流動通道上方，并且在所述第一區(qū)域中第一上游流動通道的截面積豎直地向下變得越來越小。第二上游流動通道具有第二區(qū)域，所述第二區(qū)域豎直地位于第二下游流動通道上方，并且在所述第二區(qū)域中第二上游流動通道的截面積豎直地向下變得越來越小。在沿著第一方向觀察的視圖中，第一下游流動通道和第二下游流動通道彼此不重疊，而第一區(qū)域和第二區(qū)域彼此重疊。本公開還涉及一種打印裝置。

技術(shù)研發(fā)人員：中島貴之,飯沼啟輔,楠城達雄,高橋亙
受保護的技術(shù)使用者：佳能株式會社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/9