記錄介質(zhì)及其生產(chǎn)方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及一種記錄介質(zhì)及其生產(chǎn)方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 近年來，在噴墨記錄方法中，圖像記錄速度的增長(zhǎng)正在進(jìn)步。即使在高速記錄中， 也要求具有高品質(zhì)的圖像的輸出和記錄設(shè)備的小型化。
[0003] 首先，為了即使在高速記錄時(shí)也輸出具有高品質(zhì)的圖像，在輸送記錄介質(zhì)時(shí)提高 輸送精度是有效的。提高輸送精度的方法的實(shí)例包括使用硬化漉作為用于輸送記錄介質(zhì)的 輸送漉的方法。通過使用硬化的輸送漉，可抑制由于在輸送時(shí)輸送漉變形所導(dǎo)致的輸送精 度的劣化。然而，與此類輸送漉的接觸在記錄介質(zhì)側(cè)造成擦傷或壓痕（漉痕跡），并提供品 質(zhì)劣化的圖像。因此要求記錄介質(zhì)具有高的耐擦傷性。
[0004] 其次，對(duì)于即使在高速記錄時(shí)記錄裝置的小型化，引用了當(dāng)給予記錄介質(zhì)大的曲 率并由此減少記錄介質(zhì)的輸送距離的同時(shí)輸送記錄介質(zhì)的方法。在此情形中，給予記錄介 質(zhì)的曲率有時(shí)在記錄介質(zhì)中造成裂紋。因此要求記錄介質(zhì)具有高的耐彎曲性。
[0005] 改進(jìn)耐擦傷性或耐彎曲性的方法的實(shí)例包括交聯(lián)墨接收層的方法（日本專利特 開2000-239578和日本專利3805246)。日本專利特開2000-239578公開了一種具有主要由 無機(jī)顏料構(gòu)成并含有聚乙締醇和棚酸的多孔層的記錄介質(zhì)。該多孔層具有聚乙締醇的徑基 通過經(jīng)由棚的氨鍵而交聯(lián)的結(jié)構(gòu)。日本專利號(hào)3805246公開了一種具有主要由無機(jī)顏料構(gòu) 成并含有聚乙締醇和多價(jià)金屬鹽的著色材料接收層的記錄介質(zhì)。該著色材料接收層具有聚 乙締醇的徑基已通過經(jīng)由金屬原子的共價(jià)鍵而交聯(lián)的結(jié)構(gòu)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006] 在最近的噴墨記錄方法中，通過輸送例如卷狀記錄介質(zhì)等給予了大曲率時(shí)的記錄 介質(zhì)并由此縮短記錄介質(zhì)的輸送距離，而使記錄設(shè)備小型化。
[0007] 然而，作為本發(fā)明人研究的結(jié)果，當(dāng)使用含有日本專利特開2000-239578所描述 的樹脂細(xì)顆粒的墨在高轉(zhuǎn)印速率下進(jìn)行記錄時(shí)，不能獲得本發(fā)明期望的具有高品質(zhì)水平的 圖像。除此之外，噴墨穩(wěn)定性低。
[0008] 本發(fā)明的目的是提供具有高的噴墨穩(wěn)定性和高的轉(zhuǎn)印效率的圖像記錄方法，從而 即使在高轉(zhuǎn)印速率下進(jìn)行記錄也提供高品質(zhì)圖像。
[0009] 然而本發(fā)明人的研究掲示，日本專利特開2000-239578和日本專利3805246中描 述的各記錄介質(zhì)在本發(fā)明所期望的耐擦傷性水平和耐彎曲性水平之下。更具體地，日本專 利特開2000-239578中描述的記錄介質(zhì)具有通過弱且可逆的氨鍵所形成的交聯(lián)結(jié)構(gòu)，因 此暴露于高濕度環(huán)境會(huì)阻止其展現(xiàn)足夠的耐擦傷性和耐彎曲性。另一方面，在日本專利 3805246所描述的記錄介質(zhì)中，著色材料接收層通過共價(jià)鍵牢固交聯(lián)，使得記錄介質(zhì)具有低 劣的曉性和不足的耐彎曲性。
[0010] 因此，本發(fā)明的目的是提供一種即使在高速記錄中也能夠輸出高品質(zhì)圖像，并且 同時(shí)具有高耐擦傷性和耐彎曲性，從而使得記錄設(shè)備能夠小型化的記錄介質(zhì)。
[0011] 上面提及的目的可通過下面描述的本發(fā)明實(shí)現(xiàn)。在本發(fā)明中，因而提供具有基材 W及含有無機(jī)顆粒和選自由下式（I)所表示的化合物和由下式（II)所表示的化合物的至 少一種化合物的墨接收層的記錄介質(zhì)，
[0012]
[001引（在式（I)和（Π)中，R康示由下式（ΙΠ)所表示的結(jié)構(gòu)或者由下式（IV)所表 示的結(jié)構(gòu)，并且R2和R4各自獨(dú)立地表示氨原子或者由（邸2)。-01表示1W上的整數(shù)）所表 示的結(jié)構(gòu)，并且Y表示由下式（V)所表示的結(jié)構(gòu)），
[0014]
[001引（在式（ΙΠ)和（IV)中，Rs至R洛自獨(dú)立地表示氨原子或者由畑2)。-(η表示1W上的整數(shù)）所表示的結(jié)構(gòu)），
[0016]
[0017](在式（V)中，o和p各自獨(dú)立地表示0 W上的整數(shù)，但是o和p不同時(shí)表示0，R'i至R'S各自獨(dú)立地表示氨原子、烷基、徑烷基、幾基、-〇-、葡萄糖基或者由-(CH2)。- (η表示1 W上的整數(shù)）所表示的結(jié)構(gòu)）。
[0018] 根據(jù)本發(fā)明，可提供具有高的耐擦傷性和耐彎曲性的記錄介質(zhì)。
[0019] 本發(fā)明進(jìn)一步的特征將通過下面典型實(shí)施方案的描述而變得明顯。
【具體實(shí)施方式】
[0020] 下文將通過優(yōu)選的實(shí)施方案具體描述本發(fā)明，然而本發(fā)明不限于下列實(shí)施方案， 也不受下列實(shí)施方案限制。本發(fā)明的記錄介質(zhì)具有基材W及含有無機(jī)顆粒和選自由下式 (I)所表示的化合物（下文可稱為"式（I)的化合物"）和由下式（II)所表示的化合物（下 文可稱為"式（II)的化合物"）的至少一種化合物的墨接收層。
[0021] 墨接收層中所含的式（I)和（II)的化合物在其結(jié)構(gòu)中具有由式（V)所表示的Y 位點(diǎn)。由于此結(jié)構(gòu)，墨接收層可在保持其曉性的同時(shí)又具有提高的機(jī)械強(qiáng)度，因而推定記錄 介質(zhì)具有增強(qiáng)的耐擦傷性和彎曲強(qiáng)度。
[0022] 作為將Y位點(diǎn)引入墨接收層的方法，在本發(fā)明中優(yōu)選通過使用分子中具有酸和縮 醒至少之一的多價(jià)醒，例如雙醒淀粉等，來進(jìn)行例如聚乙締醇等含徑基聚合物的交聯(lián)。推定 運(yùn)可能提供兼有通過交聯(lián)而增強(qiáng)的機(jī)械強(qiáng)度和曉性，同時(shí)既調(diào)節(jié)欲交聯(lián)的結(jié)構(gòu)之間的交聯(lián) 距離又具有與親水性聚合物的高反應(yīng)性的墨接收層。另一方面，根據(jù)本發(fā)明人的研究，即使 從多價(jià)醒中選擇并使用例如乙二醒或戊二醒等通常使用的交聯(lián)劑，墨接收層也不能具有足 夠的曉性。原因是交聯(lián)距離不足，或者是由于調(diào)節(jié)欲交聯(lián)的結(jié)構(gòu)之間的距離的亞烷基的疏 水性，與具有欲交聯(lián)的結(jié)構(gòu)的親水性聚合物的反應(yīng)效率降低。
[0023] 下面將詳細(xì)描述記錄介質(zhì)的各部分，W及構(gòu)成各部分的材料。
[0024] 1.基材
[00巧]作為記錄介質(zhì)的基材，可使用通常已知的基材。下面是基材的實(shí)例。墨非吸收性 基材的實(shí)例包括由樹脂膜制成的基材，W及兩面都用樹脂涂布的基材。墨吸收性基材的實(shí) 例包括纖維狀基材。由樹脂膜制成的基材的實(shí)例包括聚醋、聚氯乙締、聚丙締和聚苯乙締， W及層壓它們所獲得的基材。作為運(yùn)些基材，可使用透明的、半透明的或不透明的。用樹脂 涂布的基材優(yōu)選為通過用聚締控樹脂涂布紙的兩面而獲得的基材。用于涂布的聚締控的 實(shí)例包括聚乙締和聚丙締。纖維狀基材的實(shí)例包括主要由紙漿構(gòu)成的基材，也就是由紙制 成的基材。由紙制成的基材包括用淀粉、聚乙締醇等進(jìn)行施膠壓制（sizingpress)的原 紙化asepaper)，W及例如銅版紙（artpaper)、涂布紙（coatedpaper)和高光澤印刷紙 (castcoatedpaper)等在原紙上設(shè)有涂布層的涂布紙。
[002引2.墨接收層
[0027] 墨接收層含有無機(jī)顆粒和選自式（I)的化合物和式（II)的化合物的至少一種化 合物。如有必要，除它們W外，墨接收層可含有粘結(jié)劑、陽離子化劑（cationizingagent)、 棚酸和棚酸鹽等。下文將詳細(xì)描述墨接收層中可含有的材料。
[0028] 由式（I)所表示的化合物和由式（II)所表示的化合物
[0029] 本實(shí)施方案的記錄介質(zhì)的墨接收層含有具有由下式（I)所表示的結(jié)構(gòu)的化合物 和/或具有由下式（II)所表示的結(jié)構(gòu)的化合物。
[0030] 在式訊和（Π)中，R2至R4各自獨(dú)立地表示氨原子或者由畑2)。-(η表示1W上 的整數(shù)）所表示的結(jié)構(gòu)，由（CH2)。-所表示的結(jié)構(gòu)中的氨原子可被選自烷基、徑基、乙酷醋 基、乙酷乙酷基、簇基、幾基、醋基、酷胺基、硅烷醇基、聚烷基酸基、氨基、橫基、憐酸醋基、徑 丙基和縮醒基的取代基取代。
[003。在式訊和（Π)中，Y是由式（V)所表示的結(jié)構(gòu)。
[0032]
[0033]在式（I)和（II)中，Ri表示由式（ΠΙ)所表示的結(jié)構(gòu)或者由式（IV)所表示的結(jié) 構(gòu)。
[0034]
[00對(duì)在式（ΙΠ)和（IV)中，Rs至R7各自獨(dú)立地表示氨原子或者由畑2)。-(η表示1W上的整數(shù)）所表示的結(jié)構(gòu)。由（CH2)。-所表示的結(jié)構(gòu)中的氨原子可被選自烷基、徑基、乙酷 醋基、乙酷乙酷基、簇基、幾基、醋基、酷胺基、硅烷醇基、聚烷基酸基、氨基、橫基、憐酸醋基、 徑丙基和縮醒基的取代基取代。在上式中，η優(yōu)選表示1W上且6W下，更加優(yōu)選1W上且 3W下。
[003引在式訊和（Π)中，R2至R4各自獨(dú)立地表示氨原子或者由畑2)η-(η表示1W上 的整數(shù)）所表示的結(jié)構(gòu)。由（CHz)。-所表示的結(jié)構(gòu)中的氨原子可被選自烷基、徑基、乙酷醋 基、乙酷乙酷基、簇基、幾基、醋基、酷胺基、硅烷醇基、聚烷基酸基、氨基、橫基、憐酸醋基、徑 丙基和縮醒基的取代基取代。在上式中，η優(yōu)選表示1W上且6W下，更加優(yōu)選1W上且3 W下。
[0037] 進(jìn)一步，在式（I)和（II)中，Υ是由式（V)所表示的結(jié)構(gòu)。
[0038]
[003引在式（V)中，ο和p各自獨(dú)立地表示0W上的整數(shù)，并且ο和p不同時(shí)表示0,R' 1 至R'S各自獨(dú)立地表示氨原子、烷基、徑烷基、幾基、-0-、葡萄糖基或者由-(CH2)。- (η表示1 W上的整數(shù)）所表示的結(jié)構(gòu)。當(dāng)R'3至R' 8中的任意兩個(gè)表示-(邸2)。-時(shí)，它們可形成環(huán)狀 結(jié)構(gòu)，并且環(huán)狀結(jié)構(gòu)可含有氧原子。當(dāng)R'l至R' 8中的任何表示烷基或徑烷基時(shí)，碳原子數(shù) 優(yōu)選為1W上且6W下，更加優(yōu)選0W上且3W下。由-(邸2)。-所表示的結(jié)構(gòu)可被取代基 取代，并且取代基的實(shí)例包括徑基。在該結(jié)構(gòu)中，η優(yōu)選為1W上且6W下，更加優(yōu)選1W 上且3W下。進(jìn)一步，0和Ρ優(yōu)選滿足下列關(guān)系：0 > 0,Ρ> 0,0=Ρ聲0,且|0-ρ|= 1， 更加優(yōu)選滿足下列關(guān)系：20 > 0 > 0且20 >Ρ> 0。
[0040] 式（I)和（II)的各化合物優(yōu)選為含有選自由下列式（VI)至狂I)組成的組的至 少一種重復(fù)單元的化合物：
[0041]
[0042]Υ可通過R'3至R'8