液體排出設(shè)備、壓印設(shè)備和組件制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種液體排出設(shè)備、壓印設(shè)備和組件制造方法。所述液體排出設(shè)備包括：頭，其具有排出口面；第一儲(chǔ)液室，用于儲(chǔ)存要供給至所述頭的所述液體；以及撓性構(gòu)件，其將所述第一儲(chǔ)液室的內(nèi)部空間分離成用于儲(chǔ)存所述液體的第一室和用于儲(chǔ)存工作液的第二室。所述液體排出設(shè)備還包括：第二儲(chǔ)液室，其與所述第二室連通，并且用于儲(chǔ)存要供給至所述第二室的工作液，其中所述第二儲(chǔ)液室以所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)所儲(chǔ)存的工作液的液面位于所述排出口面的下方的方式配置；以及調(diào)整單元，用于在所述第二儲(chǔ)液室向大氣開(kāi)放的狀態(tài)下，以所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)的工作液的液面的位置落在預(yù)定范圍內(nèi)的方式進(jìn)行調(diào)整。
【專利說(shuō)明】
液體排出設(shè)備、壓印設(shè)備和組件制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及包括排出液體的液體排出頭的液體排出設(shè)備、壓印設(shè)備和組件制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]已知有包括配備有用于排出液體的排出口(以下稱為“噴嘴”)的液體排出頭(以下簡(jiǎn)稱為“頭”)的液體排出設(shè)備。近年來(lái)，這種液體排出設(shè)備已用在各種領(lǐng)域中，并且例如，已用于噴墨記錄設(shè)備等。
[0003]通常，需要始終維持頭內(nèi)的壓力處于負(fù)壓(低于大氣壓)，以防止液體從頭(噴嘴)泄漏到外部。
[0004]例如，在日本特開(kāi)2008-105360中，公開(kāi)了如圖15所示的、用于利用撓性構(gòu)件203將副儲(chǔ)液室202的內(nèi)部分割成墨室204和浮力產(chǎn)生室205以維持與頭201連通的該副儲(chǔ)液室內(nèi)的壓力為負(fù)壓的結(jié)構(gòu)。并且，比重小的浮袋206在與撓性構(gòu)件203相連接的狀態(tài)下設(shè)置在浮力產(chǎn)生室205中。利用浮力產(chǎn)生室205內(nèi)的浮袋206的浮力使與墨室204的內(nèi)部連通的頭201的內(nèi)部維持處于負(fù)壓的狀態(tài)。
[0005]然而，日本特開(kāi)2008-105360所公開(kāi)的噴墨記錄設(shè)備存在以下問(wèn)題。
[0006]S卩，在日本特開(kāi)2008-105360所公開(kāi)的噴墨記錄設(shè)備中，需要將充滿氣體的浮袋206安裝至撓性構(gòu)件203并且沉到浮力產(chǎn)生室205內(nèi)的液體中，由此使結(jié)構(gòu)變復(fù)雜。此外，在該結(jié)構(gòu)中，由于氣體和液體之間的密度差相對(duì)較大，因此在向副儲(chǔ)液室202的殼體施加沖擊的情況下，浮袋206發(fā)生大幅搖動(dòng)。因此，與浮袋206相連接的墨室204內(nèi)的壓力或者與墨室204連通的頭201內(nèi)的壓力也容易發(fā)生波動(dòng)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明的目的是提供能夠穩(wěn)定地維持頭內(nèi)的壓力并進(jìn)一步抑制來(lái)自頭的液體的泄漏的液體排出設(shè)備。
[0008]本發(fā)明的另一目的是提供一種液體排出設(shè)備，包括:頭，其具有形成有用以排出液體的排出口的排出口面;第一儲(chǔ)液室，用于儲(chǔ)存要供給至所述頭的所述液體；以及撓性構(gòu)件，其將所述第一儲(chǔ)液室的內(nèi)部空間分離成用于儲(chǔ)存所述液體的第一室和用于儲(chǔ)存工作液的第二室，其中，所述液體排出設(shè)備還包括:第二儲(chǔ)液室，其與所述第二室連通，并且用于儲(chǔ)存要供給至所述第二室的工作液，其中所述第二儲(chǔ)液室以所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)所儲(chǔ)存的工作液的液面位于所述排出口面的下方的方式配置；以及調(diào)整單元，用于在所述第二儲(chǔ)液室向大氣開(kāi)放的狀態(tài)下，以使所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)的工作液的液面的位置落在預(yù)定范圍內(nèi)的方式進(jìn)行調(diào)整。
[0009]本發(fā)明的另一目的是提供一種壓印設(shè)備，包括:頭，其具有形成有用以排出液體的排出口的排出口面;第一儲(chǔ)液室，用于儲(chǔ)存要供給至所述頭的所述液體；以及撓性構(gòu)件，其將所述第一儲(chǔ)液室的內(nèi)部空間分離成用于儲(chǔ)存所述液體的第一室和用于儲(chǔ)存工作液的第二室，其中，所述壓印設(shè)備還包括:第二儲(chǔ)液室，其與所述第二室連通，并且用于儲(chǔ)存要供給至所述第二室的工作液，其中所述第二儲(chǔ)液室以所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)所儲(chǔ)存的工作液的液面位于所述排出口面的下方的方式配置;調(diào)整單元，用于在所述第二儲(chǔ)液室向大氣開(kāi)放的狀態(tài)下，以使所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)的工作液的液面的位置落在預(yù)定范圍內(nèi)的方式進(jìn)行調(diào)整；以及形成單元，用于使襯底的被所述頭排出所述液體的表面和模具的形成有凹凸圖案的表面彼此接觸，以在所述襯底的所述表面上形成與所述模具的所述凹凸圖案相對(duì)應(yīng)的圖案。
[0010]本發(fā)明的另一目的是提供一種組件制造方法，用于通過(guò)使用壓印設(shè)備來(lái)制造包括襯底的組件，所述壓印設(shè)備包括:頭，其具有形成有用以排出液體的排出口的排出口面;第一儲(chǔ)液室，用于儲(chǔ)存要供給至所述頭的所述液體;撓性構(gòu)件，其將所述第一儲(chǔ)液室的內(nèi)部空間分離成用于儲(chǔ)存所述液體的第一室和用于儲(chǔ)存工作液的第二室;第二儲(chǔ)液室，其與所述第二室連通，并且用于儲(chǔ)存要供給至所述第二室的工作液，其中所述第二儲(chǔ)液室以所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)所儲(chǔ)存的工作液的液面位于所述排出口面的下方的方式配置；以及調(diào)整單元，用于在所述第二儲(chǔ)液室向大氣開(kāi)放的狀態(tài)下，以使所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)的工作液的液面的位置落在預(yù)定范圍內(nèi)的方式進(jìn)行調(diào)整，所述組件制造方法包括以下步驟:通過(guò)所述頭向襯底的表面施加所述液體;使所述襯底的被所述頭排出所述液體的表面和模具的形成有凹凸圖案的表面彼此接觸，以在所述襯底的所述表面上形成與所述模具的所述凹凸圖案相對(duì)應(yīng)的圖案；以及對(duì)形成了所述圖案的所述襯底進(jìn)行處理。
[0011]本發(fā)明的另一目的是提供一種液體排出設(shè)備，包括:頭，其具有形成有用以排出液體的排出口的排出口面;第一儲(chǔ)液室，用于儲(chǔ)存要供給至所述頭的所述液體；以及撓性構(gòu)件，其將所述第一儲(chǔ)液室的內(nèi)部空間分離成用于儲(chǔ)存所述液體的第一室和用于儲(chǔ)存工作液的第二室，其中，所述液體排出設(shè)備還包括:第二儲(chǔ)液室，用于儲(chǔ)存要供給至所述第二室的工作液，其中所述第二儲(chǔ)液室以所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)所儲(chǔ)存的工作液的液面位于所述排出口面的下方的方式配置;第一流路，其允許所述第二室和所述第二儲(chǔ)液室彼此連通；以及氣泡去除單元，用于去除所述第一流路內(nèi)產(chǎn)生的氣泡。
[0012]本發(fā)明的另一目的是提供一種壓印設(shè)備，包括:頭，其具有形成有用以排出液體的排出口的排出口面;第一儲(chǔ)液室，用于儲(chǔ)存要供給至所述頭的所述液體；以及撓性構(gòu)件，其將所述第一儲(chǔ)液室的內(nèi)部空間分離成用于儲(chǔ)存所述液體的第一室和用于儲(chǔ)存工作液的第二室，其中，所述壓印設(shè)備還包括:第二儲(chǔ)液室，用于儲(chǔ)存要供給至所述第二室的工作液，其中所述第二儲(chǔ)液室以所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)所儲(chǔ)存的工作液的液面位于所述排出口面的下方的方式配置;第一流路，其允許所述第二室和所述第二儲(chǔ)液室彼此連通;氣泡去除單元，用于去除所述第一流路內(nèi)產(chǎn)生的氣泡；以及形成單元，用于使襯底的被所述頭排出所述液體的表面和模具的形成有凹凸圖案的表面彼此接觸，以在所述襯底的所述表面上形成與所述模具的所述凹凸圖案相對(duì)應(yīng)的圖案。
[0013]本發(fā)明的另一目的是提供一種組件制造方法，用于通過(guò)使用壓印設(shè)備來(lái)制造包括襯底的組件，所述壓印設(shè)備包括:頭，其具有形成有用以排出液體的排出口的排出口面;第一儲(chǔ)液室，用于儲(chǔ)存要供給至所述頭的所述液體;撓性構(gòu)件，其將所述第一儲(chǔ)液室的內(nèi)部空間分離成用于儲(chǔ)存所述液體的第一室和用于儲(chǔ)存工作液的第二室;第二儲(chǔ)液室，用于儲(chǔ)存要供給至所述第二室的工作液，其中所述第二儲(chǔ)液室以所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)所儲(chǔ)存的工作液的液面位于所述排出口面的下方的方式配置;第一流路，其允許所述第二室和所述第二儲(chǔ)液室彼此連通；以及氣泡去除單元，用于去除所述第一流路內(nèi)產(chǎn)生的氣泡，所述組件制造方法包括以下步驟:通過(guò)所述頭向襯底的表面施加所述液體;使所述襯底的被所述頭排出所述液體的表面和模具的形成有凹凸圖案的表面彼此接觸，以在所述襯底的所述表面上形成與所述模具的所述凹凸圖案相對(duì)應(yīng)的圖案；以及對(duì)形成了所述圖案的所述襯底進(jìn)行處理。
[0014]通過(guò)以下參考附圖對(duì)典型實(shí)施例的說(shuō)明，本發(fā)明的其它特征將變得明顯。
【附圖說(shuō)明】
[0015]圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的液體排出設(shè)備的概念圖。
[0016]圖2是示出第一實(shí)施例中的部分消耗了第一儲(chǔ)液室的第一室內(nèi)的墨的狀態(tài)的概念圖。
[0017]圖3是示出第一實(shí)施例中的從第三儲(chǔ)液室向第二儲(chǔ)液室補(bǔ)給工作液的狀態(tài)的概念圖。
[0018]圖4是示出第一實(shí)施例中的用于向第二儲(chǔ)液室補(bǔ)給工作液的控制的流程圖。
[0019]圖5是示出根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例的壓印設(shè)備的概念圖。
[0020]圖6是示出根據(jù)本發(fā)明的第三實(shí)施例的液體排出設(shè)備的概念圖。
[0021]圖7是示出第三實(shí)施例中的在第一流路中發(fā)生了氣泡的狀態(tài)的概念圖。
[0022 ]圖8是示出圖7所示的氣泡移動(dòng)的中間狀態(tài)的概念圖。
[0023]圖9是示出圖7所示的氣泡最終釋放到第二儲(chǔ)液室中的狀態(tài)的概念圖。
[0024]圖10是示出用于去除第一流路內(nèi)的氣泡的控制的流程圖。
[0025]圖11是根據(jù)本發(fā)明的第四實(shí)施例的液體排出設(shè)備的概念圖。
[0026]圖12是示出根據(jù)本發(fā)明的第五實(shí)施例的液體排出設(shè)備的概念圖。
[0027]圖13是示出根據(jù)本發(fā)明的第五實(shí)施例的變形例的液體排出設(shè)備的概念圖。
[0028]圖14是示出根據(jù)本發(fā)明的第六實(shí)施例的壓印設(shè)備的概念圖。
[0029]圖15是示出傳統(tǒng)的噴墨設(shè)備的說(shuō)明圖。
【具體實(shí)施方式】
[0030]現(xiàn)在將根據(jù)附圖來(lái)詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。
[0031]第一實(shí)施例
[0032]以下將參考圖1、2、3和4來(lái)說(shuō)明第一實(shí)施例。注意，在本實(shí)施例中，將噴墨記錄設(shè)備(以下稱為“排出設(shè)備”)作為本發(fā)明的液體排出設(shè)備的示例來(lái)進(jìn)行說(shuō)明。此外，本實(shí)施例的排出設(shè)備中所使用的“墨”是構(gòu)成本發(fā)明的排出設(shè)備中所使用的“液體”的示例。液體可以包括光固化性液體。
[0033]圖1是示出根據(jù)本實(shí)施例的排出設(shè)備(液體排出設(shè)備)的概念圖。
[0034]如圖1所示，在本實(shí)施例中，排出設(shè)備100主要包括:頭I，用于排出墨(液體)；第一儲(chǔ)液室2，用于儲(chǔ)存墨；以及第二儲(chǔ)液室3，用于儲(chǔ)存工作液。此外，排出設(shè)備100包括:輸送部件92，用于輸送記錄介質(zhì)91 ；以及支持部93，用于支持輸送部件92 ；等等。注意，記錄介質(zhì)91由吸引部件(未示出)吸引并保持在輸送部件92上。
[0035]第一儲(chǔ)液室2包括處于大致密封狀態(tài)的長(zhǎng)方體狀的殼體20，并且在殼體20的底部上安裝有頭I。第一儲(chǔ)液室2不包括大氣連通口。注意，頭I在殼體20的底面包括設(shè)置有排出口(未示出)的排出口面10。
[0036]在殼體20的內(nèi)部，設(shè)置有具有撓性的撓性膜8(撓性構(gòu)件)，并且該撓性膜8將第一儲(chǔ)液室2分離成第一室21和第二室22。第一室21與殼體20的底部所設(shè)置的頭I的內(nèi)部連通并且儲(chǔ)存要供給至頭I的墨。另一方面，第二室22經(jīng)由流路Tl與第二儲(chǔ)液室3連通并且儲(chǔ)存要從第二儲(chǔ)液室3供給的工作液。
[0037]注意，在本實(shí)施例中，第一室21充滿墨并且第二室22充滿工作液。第一室21內(nèi)的墨(液體)是預(yù)先封入的。
[0038]另一方面，第一儲(chǔ)液室2被配置為相對(duì)于設(shè)備主體可移除，并且在消耗了第一儲(chǔ)液室2內(nèi)的墨(液體)的情況下，可以用新的儲(chǔ)液室更換第一儲(chǔ)液室2。因此，第一儲(chǔ)液室不必配備有用于向第一室21補(bǔ)給墨的補(bǔ)給機(jī)構(gòu)(例如，補(bǔ)給開(kāi)口)，并且此外，不太可能使第一儲(chǔ)液室2內(nèi)的墨(液體)與外部相接觸，由此還防止了通過(guò)補(bǔ)給操作而混入雜質(zhì)。
[0039]此外，在如以下所述的本實(shí)施例中，為了更加穩(wěn)定地維持頭I內(nèi)的負(fù)壓，采用密度與第一室21內(nèi)的墨的密度大致相等的液體作為第二室22內(nèi)的工作液。此外，工作液是不可壓縮物質(zhì)，并且例如，可以使用諸如水等的液體以及凝膠化物質(zhì)作為工作液。
[0040]流路Tl的與第二儲(chǔ)液室3相連接的一端(下端)不是配置在第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的工作液的液面以上。此外，流路Tl被配置成充滿工作液。
[0041]如圖1所示，在第二儲(chǔ)液室3的上部設(shè)置有大氣連通口31，以使得第二儲(chǔ)液室3向大氣開(kāi)放。為了在第二儲(chǔ)液室3向大氣開(kāi)放的狀態(tài)下始終維持頭I內(nèi)的負(fù)壓的狀態(tài)，第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的工作液的液面的位置B配置在頭I的排出口面10的位置A的下方。即，在本實(shí)施例的排出設(shè)備100中，利用排出口面10的位置A與儲(chǔ)存工作液的第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液體的位置B之間的高度差(水頭差H)來(lái)維持頭I內(nèi)的負(fù)壓的狀態(tài)。
[0042]圖2示出部分消耗了第一儲(chǔ)液室2的第一室21內(nèi)的墨的狀態(tài)的概念圖。
[0043]如圖2所示，在消耗了第一儲(chǔ)液室2(第一室21)內(nèi)的墨的情況下，利用毛細(xì)管力從第二儲(chǔ)液室3向第二室22供給工作液。因此，第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的工作液的液面下降，并且位置A和位置B之間的水頭差H發(fā)生波動(dòng)。
[0044]在本實(shí)施例中，排出設(shè)備100包括調(diào)整單元4，其中該調(diào)整單元4用于以第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的工作液的液面的位置落在預(yù)定范圍內(nèi)的方式進(jìn)行調(diào)整，以使得維持頭I內(nèi)的負(fù)壓落在預(yù)定范圍內(nèi)。
[0045]具體地，調(diào)整單元4包括:液面檢測(cè)單元5，用于檢測(cè)第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面的位置；以及補(bǔ)給部件6，用于向第二儲(chǔ)液室3補(bǔ)給工作液。
[0046]液面檢測(cè)單元5包括在第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的下限位置傳感器5A和上限位置傳感器5B。下限位置傳感器5A和上限位置傳感器5B是以頭I內(nèi)的壓力(負(fù)壓)落在預(yù)定范圍內(nèi)的方式配置成的。注意，下限位置傳感器5A和上限位置傳感器5B是光學(xué)傳感器。
[0047]維持第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面落在預(yù)定范圍內(nèi)(下限位置Lo和上限位置Hi之間)，由此維持頭I內(nèi)的負(fù)壓落在預(yù)定范圍內(nèi)。換句話說(shuō)，除非第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面下降至下限位置Lo以下，否則頭I內(nèi)的負(fù)壓不會(huì)超過(guò)預(yù)定范圍的上限并且排出口的彎月面不太可能被破壞。另一方面，除非液面上升至上限位置Hi以上，否則頭I內(nèi)的負(fù)壓不會(huì)超過(guò)預(yù)定范圍的下限并且不太可能從頭I泄漏墨。
[0048]補(bǔ)給部件6包括:第三儲(chǔ)液室61，用于儲(chǔ)存工作液;流路62，用于使第二儲(chǔ)液室3與第三儲(chǔ)液室61相連接；以及栗63，其配置于流路62，并且用于從第三儲(chǔ)液室61向第二儲(chǔ)液室3供給工作液(進(jìn)給液體)。注意，與第二儲(chǔ)液室3相同，第三儲(chǔ)液室61包括大氣連通口611，并且向大氣開(kāi)放。此外，栗63除在用于向第二儲(chǔ)液室3補(bǔ)給工作液的補(bǔ)給操作期間以外停止，并且流路62也處于斷開(kāi)狀態(tài)。
[0049]圖3是示出用于從第三儲(chǔ)液室向第二儲(chǔ)液室補(bǔ)給工作液的狀態(tài)的概念圖。
[0050]如圖3所示，在下限位置傳感器5A檢測(cè)到第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面下降至下限位置Lo的情況下，使補(bǔ)給部件6(栗63)進(jìn)行工作，以從第三儲(chǔ)液室向第二儲(chǔ)液室補(bǔ)給工作液并且使第二儲(chǔ)液室內(nèi)的液面恢復(fù)為下限位置Lo以上。在檢測(cè)到第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面再次達(dá)到上限位置Hi的情況下，栗63停止。因此，可以維持頭I內(nèi)的負(fù)壓落在預(yù)定范圍內(nèi)。
[0051]圖4是示出用于從第三儲(chǔ)液室向第二輸液室補(bǔ)給工作液的控制的流程圖。
[0052]如圖4所示，在開(kāi)始從頭I排出墨的情況下(SI)，基于液面檢測(cè)單元5的檢測(cè)結(jié)果來(lái)開(kāi)始用于從第三儲(chǔ)液室向第二儲(chǔ)液室補(bǔ)給工作液的補(bǔ)給控制。即，與頭I的排出操作的開(kāi)始同時(shí)，第二儲(chǔ)液室3內(nèi)所安裝的下限位置傳感器5A開(kāi)始第二儲(chǔ)液室內(nèi)的液面的檢測(cè)(監(jiān)測(cè))
[52]。
[0053]在步驟S2中，在下限位置傳感器5A檢測(cè)到第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面下降至下限位置Lo的情況下，驅(qū)動(dòng)栗63以從第三儲(chǔ)液室61向第二儲(chǔ)液室3進(jìn)給工作液(S3)。
[0054]在步驟S3中，在從第三儲(chǔ)液室61向第二儲(chǔ)液室3供給工作液的情況下，第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面上升。在上限位置傳感器5B檢測(cè)到第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面上升至上限位置Hi的情況下(S4)，使栗63停止(S5)并且補(bǔ)給控制完成。
[0055]在步驟S4中，注意，在上限位置傳感器5B尚未檢測(cè)到第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面上升至上限位置Hi的情況下，過(guò)程返回至步驟S3以繼續(xù)栗63所進(jìn)行的液體進(jìn)給操作。
[0056]如上所述，在本實(shí)施例中，使第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面配置于排出口面10的下方，并且此外，利用調(diào)整單元4調(diào)整第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面以落在預(yù)定范圍內(nèi)，由此可以穩(wěn)定地將頭I內(nèi)的壓力控制為落在預(yù)定范圍(負(fù)壓)內(nèi)。因此，可以有效地抑制來(lái)自頭I的墨的泄漏。此夕卜，還可以穩(wěn)定地從頭I排出墨。
[0057]具體地，在本實(shí)施例中，第一儲(chǔ)液室2(第一室21和第二室22)充滿密度彼此接近的墨和工作液，由此即使向殼體20施加了沖擊，也有效地抑制了振動(dòng)。因此，頭I內(nèi)的壓力幾乎不受振動(dòng)影響，使得可以穩(wěn)定地維持頭I的內(nèi)部處于負(fù)壓的狀態(tài)。
[0058]注意，在本實(shí)施例中，與氣體相比，第二室22中要填充的工作液幾乎不受環(huán)境溫度和壓力的變化影響。因此，即使排出設(shè)備100周圍的溫度或壓力發(fā)生波動(dòng)，由于工作液的容積幾乎沒(méi)有發(fā)生波動(dòng)，因此可以確定地抑制與第一室21連通的頭I內(nèi)的墨的壓力。
[0059]以下將說(shuō)明與排出設(shè)備100的撓性膜8(撓性構(gòu)件)有關(guān)的詳情。
[0060]如圖2所示，在本實(shí)施例中，撓性膜8與殼體的頂面、底面和兩個(gè)側(cè)面分別相連接，并且在沿著沿垂直方向的方向(縱方向)上設(shè)置在殼體20內(nèi)。利用該配置，在殼體20內(nèi)，第一室21和第二室22是以左右分割的方式形成的。
[0061 ]在消耗了第一儲(chǔ)液室2的第一室21內(nèi)的墨的情況下，撓性膜8發(fā)生變形，第一室21的容積縮小，并且第二室22的容積擴(kuò)大。因此，從第二儲(chǔ)液室3經(jīng)由流路Tl向第二室22供給容積與第一室21中所消耗的墨的容積相等的工作液。在這種情形下，如圖2所示，撓性膜8沿著水平方向從左向右移動(dòng)。
[0062]換句話說(shuō)，盡管第一儲(chǔ)液室2內(nèi)所儲(chǔ)存的墨和工作液之間的容積比因墨消耗而發(fā)生波動(dòng)，但由于工作液與墨的密度大致相同，因此第一儲(chǔ)液室2的重心大致保持不變。因此，在位于殼體20的下部的頭I內(nèi)可以維持穩(wěn)定的負(fù)壓。
[0063]具體地，在本實(shí)施例中，撓性膜8沿著垂直方向配置，以使得即使采用在密度方面與墨不同的工作液，第一儲(chǔ)液室2(液體)的重心由于墨消耗也僅在水平方向上發(fā)生偏移，并且在高度方向上幾乎沒(méi)有發(fā)生偏移。
[0064]作為對(duì)比，在撓性膜8配置在水平方向上的情況下，伴隨著墨的消耗，第一儲(chǔ)液室2的重心在高度方向上發(fā)生偏移。在撓性膜8配置在垂直方向上的情況下，與撓性膜8配置在水平方向上的情況相比，穩(wěn)定地維持了頭I內(nèi)的負(fù)壓。因此，撓性膜8(撓性構(gòu)件)配置在垂直方向上會(huì)帶來(lái)可用的工作液的選項(xiàng)增加以便于設(shè)計(jì)的效果。例如，在使用密度與第一儲(chǔ)液室2內(nèi)的液體不同的工作液的情況下，可以使用密度相對(duì)于該液體的密度落在80 %?120 %的范圍內(nèi)的工作液。
[0065]注意，撓性膜8不必沿著垂直方向配置，并且可以沿著沿垂直方向的方向(縱方向)配置。即，即使在撓性膜8沿著縱方向配置的情況下，第一儲(chǔ)液室2的重心因墨消耗而在高度方向上發(fā)生的偏移量也很小，并且可以相對(duì)穩(wěn)定地維持頭I內(nèi)的負(fù)壓。
[0066]注意，在本實(shí)施例中，盡管說(shuō)明了撓性膜8與殼體的頂面、底面和側(cè)面相連接并且殼體被形成為分割成第一室21和第二室22的示例，但其它配置結(jié)構(gòu)也是可以的。例如，可以以儲(chǔ)存墨的第一室21被儲(chǔ)存工作液的第二室22大致包圍的方式將撓性膜8安裝在殼體20中。即，可以以儲(chǔ)存墨的第一室21(空間)被撓性膜8圍繞的方式將撓性膜8安裝在殼體20中。
[0067]此外，本實(shí)施例中所使用的撓性膜8優(yōu)選選擇從液體接觸性等的觀點(diǎn)適合墨(第一室中所儲(chǔ)存的液體)的特性的構(gòu)件。
[0068]在本實(shí)施例中，盡管說(shuō)明了排出墨的噴墨記錄設(shè)備作為液體排出設(shè)備的示例，但可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行適當(dāng)修改，并且本發(fā)明例如還適用于排出諸如導(dǎo)電液體或UV固化性液體等的液體的液體排出設(shè)備。
[0069]在本實(shí)施例中，盡管說(shuō)明了頭I安裝在第一儲(chǔ)液室2的殼體20的下部并且與其一體化的結(jié)構(gòu)，但頭I和第一儲(chǔ)液室2可以是單獨(dú)配置的，并且頭I和第一儲(chǔ)液室2(第一室21)可以利用連接管彼此連接。
[0070]在本實(shí)施例中，盡管第一儲(chǔ)液室(第二室22)經(jīng)由流路Tl與第二儲(chǔ)液室3相連接，但第一儲(chǔ)液室2和第二儲(chǔ)液室3可被配置為通過(guò)在流路Tl中設(shè)置接頭部而彼此可分離(可移除)。
[0071]在本實(shí)施例中，盡管使殼體20的容積為500ml、使第一室21內(nèi)的墨的初始量約為400ml、并且使第二室22內(nèi)的工作液的初始量約為100ml，但可以適當(dāng)?shù)馗淖冞@些量。
[0072]例如，可以設(shè)置成如下:使殼體20的容積為400ml，使第一室21內(nèi)的墨的初始量也為400ml，并且在初始狀態(tài)下使工作液為接近O的最小值。即，在空氣的混入可忽略的情況下，在初始狀態(tài)下可能不將工作液填充到第二室22中。
[0073]在本實(shí)施例中，第一儲(chǔ)液室2(頭I)安裝在滑架(未示出)上，并且連同該滑架的移動(dòng)一起排出墨以進(jìn)行記錄操作。即使在第一儲(chǔ)液室2正移動(dòng)的情況下，第一儲(chǔ)液室2的內(nèi)部空間也充滿墨和工作液，由此抑制了撓性膜8的搖動(dòng)。因此，不太可能在頭I內(nèi)發(fā)生壓力波動(dòng)，并且減輕了來(lái)自頭I的墨泄漏。
[0074]在本實(shí)施例中，盡管利用光學(xué)傳感器作為液面檢測(cè)單元5，但例如液面檢測(cè)單元5可被配置為包括第二儲(chǔ)液室5內(nèi)所設(shè)置的電極對(duì)，并且通過(guò)電極和液面之間的接觸來(lái)檢測(cè)電極之間的電氣變化。
[0075]此外，液面檢測(cè)單元5可被配置為通過(guò)利用靜電電容型傳感器來(lái)檢測(cè)第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面位置。并且液面檢測(cè)單元5可被配置為在第二儲(chǔ)液室3內(nèi)包括浮子，以通過(guò)檢測(cè)浮子的位置來(lái)檢測(cè)液面。
[0076]在本實(shí)施例中，盡管例示了注射栗、管栗、隔膜栗或齒輪栗等作為栗63，但還可以采用適合排出設(shè)備100的性能的栗。例如，在第三儲(chǔ)液室61定義密封空間的情況下，第三儲(chǔ)液室61可被配置成通過(guò)對(duì)第三儲(chǔ)液室61的內(nèi)部加壓來(lái)向第二儲(chǔ)液室3供給工作液。
[0077]此外，在第二儲(chǔ)液室3和第三儲(chǔ)液室61之間存在液面的高度差、并且流路62的一端在第二儲(chǔ)液室3的工作液內(nèi)延伸的情況下，即使在工作液的供給停止期間，也要求流路62處于斷開(kāi)狀態(tài)。在這種情況下，可以使用能夠在停止期間使流路斷開(kāi)的栗，并且流路62的上述一端還可以配置于第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的工作液的液面上方的位置。可選地，可以單獨(dú)配置能夠使流路62斷開(kāi)的閥。
[0078]第二實(shí)施例
[0079]以下將利用圖5來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的第二實(shí)施例。注意，圖5是示出根據(jù)本實(shí)施例的壓印設(shè)備的概念圖。
[0080]如圖5所示，本發(fā)明的壓印設(shè)備200主要包括液體排出設(shè)備100A和圖案形成部(形成單元)900。
[0081 ]注意，液體排出設(shè)備10A基本具有與第一實(shí)施例的排出設(shè)備100相同的結(jié)構(gòu)。注意，在本實(shí)施例中，在第一儲(chǔ)液室2的第一室21中儲(chǔ)存有光固化性抗蝕劑，并且從與第一室21連通的頭I向以下要說(shuō)明的晶圓襯底91A(基板)排出該抗蝕劑。另一方面，在第二室22中填充有密度與該抗蝕劑接近的工作液。
[0082]注意，盡管抗蝕劑包括光固化性樹(shù)脂，但抗蝕劑可包括其它光固化性材料(液體)。此外，在本實(shí)施例中，使用寬度為ΙΟμπι?200μπι的鋁多層膜作為撓性膜8。諸如鋁多層膜等的材料適合撓性構(gòu)件，這是因?yàn)樵摬牧舷鄬?duì)于抗蝕劑穩(wěn)定且具有液體和氣體均難以滲透的性質(zhì)。
[0083]圖案形成部900主要包括模具94和曝光單元(光照射單元)95。此外，圖案形成部900還包括使模具94上下移動(dòng)的移動(dòng)部件96。
[0084]注意，模具94由第一保持部97經(jīng)由移動(dòng)部件96來(lái)保持，并且曝光單元95由第二保持部98來(lái)保持。此外，模具94由透光性石英材料構(gòu)成，并且在一個(gè)表面(下表面)側(cè)形成有槽狀的精細(xì)圖案(凹凸圖案)。曝光單元95配置于模具94的上方，以隔著模具94照射以下要說(shuō)明的晶圓襯底91Α上的抗蝕劑(圖案)并使其固化。
[0085]圖案形成部900被配置為使襯底91Α的利用頭I排出液體的表面和模具94的形成有凹凸圖案的表面彼此接觸，以在襯底91Α的表面上形成與模具的凹凸圖案相對(duì)應(yīng)的圖案。
[0086]以下將說(shuō)明用于通過(guò)使用本實(shí)施例的壓印設(shè)備200來(lái)在晶圓襯底91Α的表面上形成圖案的形成步驟。
[0087]在本實(shí)施例中，晶圓襯底的抗蝕劑排出至(施加至)的上表面和模具的形成有凹凸圖案的下表面彼此抵接，并且在晶圓襯底的上表面上形成與模具的下表面上所形成的凹凸圖案相對(duì)應(yīng)的圖案。
[0088]具體地，從液體排出設(shè)備100A的頭I向晶圓襯底91A的上表面排出(施加)抗蝕劑，以形成預(yù)定圖案(施加步驟)。
[0089]隨后，利用輸送部件92將施加有(形成有)抗蝕劑(圖案)的晶圓襯底91A輸送至模具94的下方。
[0090]利用移動(dòng)部件96使模具94向下下降，并且模具94的下表面壓到晶圓襯底91A的上表面上所形成的抗蝕劑(圖案)上。由此，將抗蝕劑壓入并填充到構(gòu)成模具94的下表面上所形成的凹凸圖案的、槽狀的精細(xì)圖案中(圖案形成步驟)。
[0091]在抗蝕劑填充到精細(xì)圖案中的狀態(tài)下，從曝光單元95隔著透光性模具94向抗蝕劑照射紫外線，由此在晶圓襯底91A的表面上形成由抗蝕劑形成的圖案(處理步驟)。
[0092]在形成了圖案之后，利用移動(dòng)部件96使模具94上升，并且晶圓襯底91A上所形成的圖案與模具94彼此分離。針對(duì)晶圓襯底91A的圖案形成步驟完成。
[0093]與第一實(shí)施例相同，在本實(shí)施例中，第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面配置于排出口面10的下方，并且此外，利用調(diào)整單元4調(diào)整第二儲(chǔ)液室內(nèi)的液面以落在預(yù)定范圍內(nèi)，由此可以穩(wěn)定地控制頭I內(nèi)的壓力落在預(yù)定范圍(負(fù)壓)內(nèi)。因此，可以有效地抑制來(lái)自頭I的抗蝕劑(液體)的泄漏。此外，可以穩(wěn)定地從頭I排出抗蝕劑。
[0094]此外，在本實(shí)施例中，由于第一儲(chǔ)液室2內(nèi)的空間充滿密度彼此接近的抗蝕劑和工作液，因此即使向殼體20施加了沖擊，也有效地抑制了振動(dòng)。因此，頭I內(nèi)的壓力幾乎不受振動(dòng)影響，由此可以穩(wěn)定地維持頭I的內(nèi)部處于負(fù)壓的狀態(tài)。
[0095]此外，在本實(shí)施例中，與氣體相比，第二室22中要填充的工作液幾乎不受環(huán)境溫度和壓力的變化影響。因此，即使壓印設(shè)備200周圍的溫度或壓力發(fā)生波動(dòng)，由于工作液的容積幾乎沒(méi)有發(fā)生波動(dòng)，因此可以確定地抑制與第一室21連通的頭I內(nèi)的抗蝕劑的壓力波動(dòng)。
[0096]本發(fā)明的壓印設(shè)備例如可用于例如用于制造諸如半導(dǎo)體集成電路元件和液晶顯示元件等的器件的半導(dǎo)體制造設(shè)備和納米壓印設(shè)備等。
[0097]可以通過(guò)使用本發(fā)明的壓印設(shè)備來(lái)制造組件。
[0098]組件制造方法可以包括用于通過(guò)使用壓印設(shè)備(頭)來(lái)向襯底(晶圓、玻璃板和膜狀襯底等)排出(施加)抗蝕劑的步驟。
[0099]此外，還可以包括圖案形成步驟，其中在該圖案形成步驟中，襯底的抗蝕劑排出至(施加至)的表面和模具的形成有凹凸圖案的表面彼此抵接，以在襯底的表面上形成與模具的凹凸圖案相對(duì)應(yīng)的圖案。
[0100]此外，還可以包括處理步驟，其中該處理步驟用于對(duì)形成有圖案的襯底進(jìn)行處理。注意，還可以包括用于對(duì)襯底進(jìn)行蝕刻的蝕刻處理步驟作為用于對(duì)襯底進(jìn)行處理的處理步驟。
[0101]注意，在制造諸如圖案化介質(zhì)(記錄介質(zhì))和光學(xué)元件等的器件(組件)的情況下，優(yōu)選除蝕刻處理以外的加工處理。
[0102]與傳統(tǒng)的組件制造方法相比，根據(jù)本發(fā)明的組件制造方法，提高了組件的性能、質(zhì)量和生產(chǎn)率，并且還可以降低生產(chǎn)成本。
[0103]第三實(shí)施例
[0104]以下將參考圖6、7、8、9和10來(lái)說(shuō)明第三實(shí)施例。注意，在本實(shí)施例中，將噴墨記錄設(shè)備(以下稱為“排出設(shè)備”)作為本發(fā)明的液體排出設(shè)備的示例來(lái)進(jìn)行說(shuō)明。此外，本實(shí)施例的排出設(shè)備中所使用的“墨”是構(gòu)成本發(fā)明的排出設(shè)備中所使用的“液體”的示例。
[0105]圖6是示出根據(jù)本實(shí)施例的排出設(shè)備(液體排出設(shè)備)的概念圖。
[0106]如圖6所示，在本實(shí)施例中，排出設(shè)備100主要包括:頭I，用于排出墨(液體)；第一儲(chǔ)液室2，用于儲(chǔ)存墨；以及第二儲(chǔ)液室3，用于存儲(chǔ)工作液。此外，排出設(shè)備100包括:輸送部件92，用于輸送記錄介質(zhì)91 ；以及支持部93，用于支持輸送部件92 ；等等。注意，記錄介質(zhì)91由吸引部件(未示出)吸引并保持在輸送部件92上。
[0107]第一儲(chǔ)液室2包括處于大致密封狀態(tài)的長(zhǎng)方體狀的殼體20，并且在殼體20的底部上安裝有頭I。第一儲(chǔ)液室2不包括大氣連通口。注意，頭I在殼體20的底面包括設(shè)置有排出口(未示出)的排出口面10。
[0108]在殼體20的內(nèi)部，設(shè)置有具有撓性的撓性膜8(撓性構(gòu)件)，并且該撓性膜8將第一儲(chǔ)液室2分離成第一室21和第二室22。第一室21與殼體20的底部所設(shè)置的頭I的內(nèi)部連通并且儲(chǔ)存要供給至頭I的墨。另一方面，第二室22經(jīng)由第一流路Tl與第二儲(chǔ)液室3連通并且儲(chǔ)存要從第二儲(chǔ)液室3供給的工作液。第一流路和第二室在與第二流路和第二室連接的位置相比更低的位置處連接。
[0109]注意，在本實(shí)施例中，第一室21充滿墨并且第二室22充滿工作液。第一室21內(nèi)的墨(液體)是預(yù)先封入的。
[0110]另一方面，第一儲(chǔ)液室2被配置為相對(duì)于設(shè)備主體可移除，并且在消耗了第一儲(chǔ)液室2內(nèi)的墨(液體)的情況下，可以用新的儲(chǔ)液室更換第一儲(chǔ)液室2。因此，第一儲(chǔ)液室不必配備有用于向第一室21補(bǔ)給墨的補(bǔ)給機(jī)構(gòu)(例如，補(bǔ)給開(kāi)口)，并且此外，不太可能使第一儲(chǔ)液室內(nèi)的墨(液體)與外部相接觸，由此還防止了通過(guò)補(bǔ)給操作而混入雜質(zhì)。
[0111]此外，在本實(shí)施例中，除第一流路Tl外，在第二室22和第二儲(chǔ)液室3之間還設(shè)置有第二流路T2。即，第二室22和第二儲(chǔ)液室3經(jīng)由并置的第一流路Tl和第二流路T2彼此相連接。
[0112]第一流路Tl和第二流路T2的與第二儲(chǔ)液室3相連接的一端(下端)不是配置在第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的工作液的液面以上。此外，第一流路Tl和第二流路T2被配置成充滿工作液。
[0113]在本實(shí)施例中，第一流路Tl和第二流路T2是由管等配置成的。此外，通過(guò)在第一流路Tl的中部和第二流路T2的中部分別設(shè)置接頭部，第二儲(chǔ)液室3和第一儲(chǔ)液室2可被配置成彼此可分離(可移除)。
[0114]此外，如圖6所示，在本實(shí)施例中，在第二流路T2上設(shè)置開(kāi)閉閥72，并且在除以下要說(shuō)明的氣泡去除操作(控制)期間以外，開(kāi)閉閥72處于關(guān)閉狀態(tài)以使第二流路T2遮斷。
[0115]另一方面，在第一流路Tl上設(shè)置有循環(huán)栗71(循環(huán)單元)，并且該循環(huán)栗71可以使工作液在包括第一流路Tl、第二室22、第二流路T2和第二儲(chǔ)液室3的循環(huán)流路中循環(huán)移動(dòng)。注意，循環(huán)栗71也可以設(shè)置在第二流路T2上，并且也可以設(shè)置在第一流路和第二流路這兩者上。此外，循環(huán)栗71以及第二流路T2構(gòu)成以下要說(shuō)明的氣泡去除單元7。
[0116]循環(huán)栗71需要具有栗功能，并且還可以采用注射栗、管栗、隔膜栗或齒輪栗等。注意，在循環(huán)栗71的驅(qū)動(dòng)停止期間，第一流路Tl需要處于開(kāi)放狀態(tài)，使得在使用在驅(qū)動(dòng)停止期間不能連通的栗的情況下，還可以單獨(dú)添加諸如旁路流路和開(kāi)閉閥等的結(jié)構(gòu)。
[0117]注意，在本實(shí)施例中，如以下所述，為了更加穩(wěn)定地維持頭I內(nèi)的負(fù)壓，采用密度與第一室21內(nèi)的墨的密度大致相等的液體作為第二室22內(nèi)的工作液。此外，工作液是不可壓縮性物質(zhì)，并且例如，可以使用諸如水等的液體以及凝膠化物質(zhì)作為工作液。
[0118]如圖6所示，在第二儲(chǔ)液室3的上部設(shè)置有大氣連通口31，以使得第二儲(chǔ)液室3向大氣開(kāi)放。為了在第二儲(chǔ)液室3向大氣開(kāi)放的狀態(tài)下始終維持頭I內(nèi)的負(fù)壓的狀態(tài)，第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的工作液的液面的位置B配置在頭I的排出口面10的位置A的下方。即，在本實(shí)施例的排出設(shè)備100中，利用排出口面10的位置A與儲(chǔ)存工作液的第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液體的位置B之間的高度差(水頭差H)來(lái)維持頭I內(nèi)的負(fù)壓的狀態(tài)。
[0119]在消耗了第一儲(chǔ)液室2(第一室21)內(nèi)的墨的情況下，利用毛細(xì)管力從第二儲(chǔ)液室3向第二室22供給工作液。因此，第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的工作液的液面下降，并且位置A和位置B之間的水頭差H發(fā)生波動(dòng)。
[0120]在本實(shí)施例中，排出設(shè)備100包括調(diào)整單元4，其中該調(diào)整單元4用于以第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的工作液的液面的位置落在預(yù)定范圍內(nèi)的方式進(jìn)行調(diào)整，以使得維持頭I內(nèi)的負(fù)壓落在預(yù)定范圍內(nèi)。
[0121 ]具體地，調(diào)整單元4包括:液面檢測(cè)單元5，用于檢測(cè)第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面的位置；以及補(bǔ)給部件6，用于向第二儲(chǔ)液室3補(bǔ)給工作液。
[0122]液面檢測(cè)單元5包括在第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的下限位置傳感器5A和上限位置傳感器5B。下限位置傳感器5A和上限位置傳感器5B是以頭I內(nèi)的壓力(負(fù)壓)落在預(yù)定范圍內(nèi)的方式配置成的。注意，下限位置傳感器5A和上限位置傳感器5B是光學(xué)傳感器。
[0123]維持第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面落在預(yù)定范圍內(nèi)(下限位置Lo和上限位置Hi之間)，以維持頭I內(nèi)的負(fù)壓落在該預(yù)定范圍內(nèi)。換句話說(shuō)，除非第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面下降至下限位置Lo以下，否則頭I內(nèi)的負(fù)壓不會(huì)超過(guò)預(yù)定范圍的上限，并且排出口的彎月面不太可能被破壞。另一方面，除非液面上升至上限位置Hi以上，否則頭I內(nèi)的負(fù)壓不會(huì)超過(guò)預(yù)定范圍的下限，并且不太可能從頭I泄漏墨。
[0124]補(bǔ)給部件6包括:第三儲(chǔ)液室61，用于儲(chǔ)存工作液;流路62，用于使第二儲(chǔ)液室3與第三儲(chǔ)液室61相連接；以及栗63，其配置于流路62，并且用于從第三儲(chǔ)液室61向第二儲(chǔ)液室3供給工作液(進(jìn)給液體)。注意，與第二儲(chǔ)液室3相同，第三儲(chǔ)液室61包括大氣連通口611，并且向大氣開(kāi)放。此外，栗63除在用于向第二儲(chǔ)液室3補(bǔ)給工作液的補(bǔ)給操作期間以外停止，并且流路62也處于斷開(kāi)狀態(tài)。
[0125]此外，在下限位置傳感器5A檢測(cè)到第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面下降至下限位置Lo的情況下，使補(bǔ)給部件6 (栗63)進(jìn)行工作，以從第三儲(chǔ)液室向第二儲(chǔ)液室補(bǔ)給工作液并且使第二儲(chǔ)液室內(nèi)的液面恢復(fù)為下限位置Lo以上。在檢測(cè)到第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面再次達(dá)到上限位置Hi的情況下，栗63停止。因此，可以維持頭I內(nèi)的負(fù)壓落在預(yù)定范圍內(nèi)。
[0126]以下將說(shuō)明用于從第三儲(chǔ)液室向第二輸液室補(bǔ)給工作液的控制。
[0127]在開(kāi)始從頭I排出墨的情況下，基于液面檢測(cè)單元5的檢測(cè)結(jié)果來(lái)開(kāi)始用于從第三儲(chǔ)液室向第二儲(chǔ)液室補(bǔ)給工作液的補(bǔ)給控制。即，與頭I的排出操作的開(kāi)始同時(shí)，第二儲(chǔ)液室3內(nèi)所安裝的下限位置傳感器5A開(kāi)始第二儲(chǔ)液室內(nèi)的液面的檢測(cè)(監(jiān)測(cè))。
[0128]注意，在下限位置傳感器5A檢測(cè)到第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面下降至下限位置Lo的情況下，驅(qū)動(dòng)栗63以從第三儲(chǔ)液室61向第二儲(chǔ)液室3進(jìn)給工作液。
[0129]此外，在從第三儲(chǔ)液室61向第二儲(chǔ)液室3供給工作液的情況下，第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面上升。在上限位置傳感器5B檢測(cè)到第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面上升至上限位置Hi的情況下，使栗63停止并且補(bǔ)給控制完成。
[0130]S卩，直到上限位置傳感器5B檢測(cè)到第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面達(dá)到上限位置Hi為止，利用栗63繼續(xù)液體進(jìn)給操作。
[0131]如上所述，在本實(shí)施例中，使第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面配置于排出口面10的下方，并且此外，利用調(diào)整單元4調(diào)整第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面以落在預(yù)定范圍內(nèi)，由此可以穩(wěn)定地將頭I內(nèi)的壓力控制為落在預(yù)定范圍(負(fù)壓)內(nèi)。因此，可以有效地抑制來(lái)自頭I的墨泄漏。此夕卜，還可以穩(wěn)定地從頭I排出墨。
[0132]具體地，在本實(shí)施例中，第一儲(chǔ)液室2(第一室21和第二室22)充滿密度彼此接近的墨和工作液，以使得即使向殼體20施加了沖擊，也有效地抑制了振動(dòng)。因此，頭I內(nèi)的壓力幾乎不受振動(dòng)影響，使得可以穩(wěn)定地維持頭I的內(nèi)部處于負(fù)壓的狀態(tài)。
[0133]注意，在本實(shí)施例中，與氣體相比，第二室22中要填充的工作液幾乎不受環(huán)境溫度和壓力的變化影響。因此，即使排出設(shè)備100周圍的溫度或壓力發(fā)生波動(dòng)，由于工作液的容積幾乎沒(méi)有發(fā)生波動(dòng)，因此也可以確定地抑制與第一室21連通的頭I內(nèi)的墨的壓力。
[0134]以下將說(shuō)明與排出設(shè)備100的撓性膜8(撓性構(gòu)件)有關(guān)的詳情。
[0135]如圖6所示，在本實(shí)施例中，撓性膜8與殼體的頂面、底面和兩個(gè)側(cè)面分別相連接，并且在沿著沿垂直方向的方向(縱方向)設(shè)置在殼體20內(nèi)。利用該配置，在殼體20內(nèi)，第一室21和第二室22是以左右分割的方式形成的。
[0136]在消耗了第一儲(chǔ)液室2的第一室21內(nèi)的墨的情況下，撓性膜8發(fā)生變形，第一室21的容積縮小，并且第二室22的容積擴(kuò)大。因此，從第二儲(chǔ)液室3經(jīng)由第一流路Tl向第二室22供給容積與第一室21中所消耗的墨的容積相等的工作液。在這種情形下，如圖6所示，撓性膜8沿著水平方向從左向右移動(dòng)。
[0137]換句話說(shuō)，盡管第一儲(chǔ)液室2內(nèi)所儲(chǔ)存的墨和工作液之間的容積比因墨消耗而發(fā)生波動(dòng)，但由于工作液與墨的密度大致相同，因此第一儲(chǔ)液室2的重心大致保持不變。因此，在位于殼體20的下部的頭I內(nèi)可以維持穩(wěn)定的負(fù)壓。
[0138]具體地，在本實(shí)施例中，撓性膜8沿著垂直方向配置，以使得即使采用密度與墨不同的工作液，第一儲(chǔ)液室2(液體)的重心由于墨消耗也僅在水平方向上發(fā)生偏移，并且在高度方向上幾乎沒(méi)有發(fā)生偏移。
[0139]作為對(duì)比，在撓性膜8配置在水平方向上的情況下，伴隨著墨的消耗，第一儲(chǔ)液室2的重心在高度方向上發(fā)生偏移。與撓性膜8配置在水平方向上的情況相比，在撓性膜8配置在垂直方向上的情況下，穩(wěn)定地維持了頭I內(nèi)的負(fù)壓。因此，撓性膜8(撓性構(gòu)件)配置在垂直方向上會(huì)帶來(lái)可用的工作液的選項(xiàng)增加以便于設(shè)計(jì)的效果。例如，在使用密度與第一儲(chǔ)液室2內(nèi)的液體不同的工作液的情況下，可以使用密度相對(duì)于該液體的密度落在80 %?120 %的范圍內(nèi)的工作液。
[0140]注意，撓性膜8不必沿著垂直方向配置，并且可以沿著沿垂直方向的方向(縱方向)配置。即，即使在撓性膜8沿著縱方向配置的情況下，第一儲(chǔ)液室2的重心因墨消耗而在高度方向上發(fā)生的偏移量也很小，并且可以相對(duì)穩(wěn)定地維持頭I內(nèi)的負(fù)壓。
[0141]注意，在本實(shí)施例中，盡管說(shuō)明了撓性膜8與殼體的頂面、底面和側(cè)面相連接并且殼體被形成為分割成第一室21和第二室22的示例，但其它配置結(jié)構(gòu)也是可以的。例如，可以以儲(chǔ)存墨的第一室21被儲(chǔ)存工作液的第二室22大致包圍的方式將撓性膜8安裝在殼體20中。即，可以以儲(chǔ)存墨的第一室21(空間)被撓性膜8圍繞的方式將撓性膜8安裝在殼體20中。[0142 ]此外，本實(shí)施例中所使用的撓性膜8優(yōu)選選擇從液體接觸性等的觀點(diǎn)適合墨(第一室中所儲(chǔ)存的液體)的特性的構(gòu)件。
[0143]在本實(shí)施例中，盡管將排出墨的噴墨記錄設(shè)備作為液體排出設(shè)備的示例進(jìn)行說(shuō)明，但可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行適當(dāng)修改，并且本發(fā)明例如還可應(yīng)用于排出諸如導(dǎo)電性液體或UV固化性液體等的液體的液體排出設(shè)備。
[0144]在本實(shí)施例中，盡管說(shuō)明了頭I安裝在第一儲(chǔ)液室2的殼體20的下部并且與其一體化的結(jié)構(gòu)，但頭I和第一儲(chǔ)液室2可以是單獨(dú)配置成的，并且頭I和第一儲(chǔ)液室2(第一室21)可以利用連接管彼此連接。
[0145]在本實(shí)施例中，盡管使殼體20的容積為500ml、使第一室21內(nèi)的墨的初始量約為400ml、并且使第二室22內(nèi)的工作液的初始量約為100ml，但可以適當(dāng)?shù)馗淖冞@些量。
[0146]例如，可以設(shè)置成如下:使殼體20的容積為400ml，使第一室21內(nèi)的墨的初始量也為約400ml，并且在初始狀態(tài)下使工作液為接近O的最小值。即，在空氣的混入可忽略的情況下，在初始狀態(tài)下可能不將工作液填充到第二室22中。
[0147]在本實(shí)施例中，第一儲(chǔ)液室2(頭I)安裝在滑架(未示出)上，并且連同該滑架的移動(dòng)一起排出墨以進(jìn)行記錄操作。即使在第一儲(chǔ)液室2正移動(dòng)的情況下，第一儲(chǔ)液室2的內(nèi)部空間也充滿墨和工作液，由此抑制了撓性膜8的搖動(dòng)。因此，不太可能在頭I內(nèi)發(fā)生壓力波動(dòng)，并且減輕了來(lái)自頭I的墨泄漏。
[0148]在本實(shí)施例中，盡管利用光學(xué)傳感器作為液面檢測(cè)單元5，但例如液面檢測(cè)單元5可被配置為包括設(shè)置在第二儲(chǔ)液室5內(nèi)的電極對(duì)，并且通過(guò)電極和液面之間的接觸來(lái)檢測(cè)電極之間的電氣變化。
[0149]此外，液面檢測(cè)單元5可被配置為通過(guò)利用靜電電容型傳感器來(lái)檢測(cè)第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面位置。并且液面檢測(cè)單元5可被配置為在第二儲(chǔ)液室3內(nèi)包括浮子，以通過(guò)檢測(cè)浮子的位置來(lái)檢測(cè)液面。
[0150]在本實(shí)施例中，盡管例示了注射栗、管栗、隔膜栗或齒輪栗等作為栗63，但可以采用適合排出設(shè)備100的性能的栗。例如，在第三儲(chǔ)液室61定義密封空間的情況下，第三儲(chǔ)液室61可被配置成通過(guò)對(duì)第三儲(chǔ)液室61的內(nèi)部加壓來(lái)向第二儲(chǔ)液室3供給工作液。
[0151]此外，在第二儲(chǔ)液室3和第三儲(chǔ)液室61之間存在液面的高度差、并且流路62的一端在第二儲(chǔ)液室3的工作液內(nèi)延伸的情況下，即使在工作液的供給停止期間，也要求流路62處于斷開(kāi)狀態(tài)。在這種情況下，可以使用能夠在停止期間使流路斷開(kāi)的栗，并且流路62的上述一端還可以配置于第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的工作液的液面上方的位置?？蛇x地，可以單獨(dú)配置能夠使流路62斷開(kāi)的閥。
[0152]以下將說(shuō)明本實(shí)施例的氣泡去除單元7。
[0153]圖7是示出本實(shí)施例中的在第一流路中產(chǎn)生了氣泡25的狀態(tài)的概念圖。如圖7所示，大氣中的空氣滲透構(gòu)成第一流路Tl的管的管壁，并且在第一流路Tl的內(nèi)壁面中形成氣泡25。這些氣泡25隨時(shí)間的經(jīng)過(guò)而沉積并生長(zhǎng)，并且第一流路Tl的流路阻抗增大。
[0154]在由于氣泡25的存在因而第一流路Tl的流路阻抗增大的情況下，工作液難以從第二儲(chǔ)液室3向第二室22流動(dòng)，而這使頭I的排出性能劣化。此外，存在如下可能性:由于在流路Tl內(nèi)存在氣泡25，因此頭I的排出口面10與第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面之間的水頭差變?yōu)椴环€(wěn)定狀態(tài)，并且不再能穩(wěn)定地維持頭I內(nèi)的負(fù)壓。
[0155]在本實(shí)施例中，排出設(shè)備100包括氣泡去除單元7，利用氣泡去除單元7定期去除流路內(nèi)的氣泡25，并且可以抑制由于氣泡的生長(zhǎng)所引起的流路阻抗的增大。
[0156]具體地，本實(shí)施例的氣泡去除單元7主要包括第二流路T2和能夠通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)移動(dòng)來(lái)使液體移動(dòng)的循環(huán)栗(循環(huán)單元)71。通過(guò)在第二流路T2(開(kāi)閉閥72)的打開(kāi)狀態(tài)下驅(qū)動(dòng)循環(huán)栗71，第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的工作液經(jīng)由第一流路Tl和第二流路Τ2進(jìn)行循環(huán)。利用該配置，第一流路Tl內(nèi)的包含氣泡25的工作液可以移動(dòng)至第二儲(chǔ)液室3，使得氣泡25可以釋放到第二儲(chǔ)液室3中。
[0157]注意，盡管在本實(shí)施例中循環(huán)單元包括循環(huán)栗71，但可以采用其它結(jié)構(gòu)作為循環(huán)單元。例如，循環(huán)單元可以包括止回閥和活塞栗的組合。
[0158]圖8示出利用氣泡去除單元7使氣泡25移動(dòng)的中間狀態(tài)。圖9示出氣泡25最終釋放到第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的狀態(tài)。
[0159]如圖8和9所示，第一流路Tl內(nèi)的包含氣泡25的工作液通過(guò)循環(huán)栗71的驅(qū)動(dòng)而從第一流路Tl向第二室22移動(dòng)，并且進(jìn)一步向與第二室22的上部相連接的第二流路Τ2移動(dòng)。此夕卜，包含氣泡25的工作液最終經(jīng)由第二流路Τ2移動(dòng)(釋放)到第二儲(chǔ)液室3內(nèi)。注意，第二儲(chǔ)液室3經(jīng)由大氣連通口 31向大氣開(kāi)放。
[0160]以下將說(shuō)明用于去除流路內(nèi)的氣泡的控制。圖10是示出用于去除第一流路Tl內(nèi)的氣泡25的控制的流程圖。
[0161]注意，利用計(jì)時(shí)器等控制氣泡去除操作以定期進(jìn)行。即，在經(jīng)過(guò)了預(yù)定時(shí)間的情況下，判斷為在第一流路內(nèi)產(chǎn)生氣泡并且利用氣泡去除單元7進(jìn)行氣泡去除操作(控制)。
[0162]如圖10所示，在開(kāi)始?xì)馀萑コ刂频那闆r下，將第二流路Τ2上配置的開(kāi)閉閥72從關(guān)閉狀態(tài)切換為打開(kāi)狀態(tài)(Sll)。
[0163]在第二流路Τ2已處于連通狀態(tài)之后，驅(qū)動(dòng)循環(huán)栗71以使工作液進(jìn)行循環(huán)(S12)。即，通過(guò)驅(qū)動(dòng)循環(huán)栗71，從第二儲(chǔ)液室3經(jīng)由第一流路Tl向第二室22供給工作液，并且從第二室22經(jīng)由第二流路Τ2向第二儲(chǔ)液室3回收工作液。因此，工作液按第二儲(chǔ)液室3、第一流路Tl、第二室22、第二流路Τ2和第二儲(chǔ)液室3的順序進(jìn)行循環(huán)。
[0164]通過(guò)利用循環(huán)栗71使工作液循環(huán)，第一流路Tl中發(fā)生的氣泡連同工作液的流動(dòng)一起向第二儲(chǔ)液室3移動(dòng)并被排出。
[0165]注意，在利用循環(huán)栗71使工作液循環(huán)了預(yù)定時(shí)間(例如，5分鐘)之后，判斷為去除了第一流路Tl內(nèi)的氣泡并且停止循環(huán)栗71(S13)。并且，將開(kāi)閉閥72從打開(kāi)狀態(tài)切換為關(guān)閉狀態(tài)(S14)且氣泡去除控制完成。
[0166]此外，為了防止氣泡去除操作對(duì)頭I的排出操作產(chǎn)生影響，優(yōu)選在不進(jìn)行頭I的排出操作的時(shí)間段內(nèi)進(jìn)行氣泡排出操作。此外，為了抑制頭內(nèi)的壓力，還可以將循環(huán)栗7的工作液進(jìn)給速度設(shè)置為預(yù)定速度以下。另外，在不進(jìn)行頭I的排出操作的時(shí)間段短的情況下，氣泡去除操作還可以在不進(jìn)行排出操作的時(shí)間段內(nèi)分多次進(jìn)行。
[0167]在利用循環(huán)栗71使工作液進(jìn)行了循環(huán)之后，將開(kāi)閉閥72關(guān)閉，使得即使在第二流路Τ2內(nèi)氣泡25正移動(dòng)(存在氣泡25)，氣泡也沒(méi)有從第二流路Τ2流入第二室22。
[0168]如上所述，通過(guò)利用循環(huán)栗7(循環(huán)單元)使第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的工作液經(jīng)由第一流路Tl、第二室22和第二流路T2進(jìn)行循環(huán)，可以去除包括流路Tl的流路內(nèi)的氣泡。由此，可以防止第一流路Tl的流路阻抗增大，并且可以維持頭I的排出性能。此外，維持頭I的排出口面10與第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面之間的水頭差處于穩(wěn)定狀態(tài)，由此可以穩(wěn)定地維持頭I內(nèi)的負(fù)壓。
[0169]第四實(shí)施例
[0170]以下將利用圖11來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的第四實(shí)施例。
[0171]注意，在本實(shí)施例中，與第三實(shí)施例相同，將噴墨記錄設(shè)備(以下稱為“排出設(shè)備”)作為液體排出設(shè)備的示例進(jìn)行說(shuō)明。
[0172]圖11是示出根據(jù)本實(shí)施例的液體排出設(shè)備的概念圖。如圖11所示，本實(shí)施例的排出設(shè)備100基本與第三實(shí)施例相同，但不同之處在于氣泡去除單元7。
[0173]S卩，在本實(shí)施例中，氣泡去除單元7還包括連接流路Τ3，其中該連接流路Τ3使第一流路Tl的中部與第二流路Τ2的中部相連接。
[0174]在開(kāi)閉閥72從關(guān)閉狀態(tài)切換為打開(kāi)狀態(tài)之后，通過(guò)驅(qū)動(dòng)循環(huán)栗71，使第一流路Tl內(nèi)的包含氣泡25的工作液從第一流路Tl向連接流路Τ3和第二室22移動(dòng)。并且這些工作液在通過(guò)了連接流路Τ3和第二室22之后，在第二流路Τ2中合流。此外，包含氣泡25的工作液經(jīng)由第二流路Τ2最終移動(dòng)(釋放)到第二儲(chǔ)液室3。
[0175]如上所述，在本實(shí)施例中，在使第一流路Tl內(nèi)的包含氣泡的工作液移動(dòng)時(shí)，可以利用連接流路Τ3減少通過(guò)第二室22的工作液的量，并且可以穩(wěn)定地維持頭I的負(fù)壓。
[0176]具體地，如果連接流路Τ3的流路直徑被設(shè)置得大于第一流路Tl和第二流路Τ2的流路直徑，則與向第二室22側(cè)相比，第一流路Tl內(nèi)的工作液更容易向連接流路Τ3側(cè)流動(dòng)，由此可以減輕對(duì)第二室22(頭I側(cè))內(nèi)的壓力的影響。
[0177]此外，可以通過(guò)使連接流路Τ3與第一流路Tl相連接的位置配置于比第二儲(chǔ)液室3側(cè)更靠近第二室22側(cè)的位置，來(lái)更容易地排出第一流路Tl內(nèi)的氣泡。
[0178]第五實(shí)施例
[0179]以下將利用圖12和13來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的第五實(shí)施例。
[0180]注意，在本實(shí)施例中，與第四實(shí)施例相同，將噴墨記錄設(shè)備(以下稱為“排出設(shè)備”)作為液體排出設(shè)備的示例進(jìn)行說(shuō)明。
[0181]圖12是示出根據(jù)本實(shí)施例的液體排出設(shè)備的概念圖。圖13是示出根據(jù)本實(shí)施例的變形例的液體排出設(shè)備的概念圖。
[0182]如圖12所示，本實(shí)施例的排出設(shè)備100與第四實(shí)施例基本相同，但不同之處在于氣泡去除單元7。
[0183]具體地，在本實(shí)施例中，氣泡去除單元7包括分支流路Τ20，其中該分支流路Τ20是從第一流路Tl的分支點(diǎn)73分支出的，并且使第一流路Tl與第二儲(chǔ)液室3相連接。
[0184]在開(kāi)閉閥72已從關(guān)閉狀態(tài)切換為打開(kāi)狀態(tài)之后，通過(guò)驅(qū)動(dòng)循環(huán)栗71使第一流路Tl內(nèi)的包含氣泡25的工作液從第一流路Tl向分支流路Τ20移動(dòng)。并且該工作液僅通過(guò)分支流路Τ20，然后向第二儲(chǔ)液室3移動(dòng)(釋放)。
[0185]如上所述，在本實(shí)施例中，在使流路內(nèi)的工作液流動(dòng)時(shí)，該工作液沒(méi)有通過(guò)第二室22，由此可以穩(wěn)定地維持第二室22(頭I側(cè))內(nèi)的壓力。
[0186]與第四實(shí)施例相同，通過(guò)使分支部的位置配置于比第二儲(chǔ)液室3側(cè)更靠近第二室22側(cè)的位置，可以更容易地排出第一流路Tl內(nèi)的氣泡。
[0187]此外，如圖12所示，使分支流路T20的與分支部73相連接的一端T21的流路直徑大于第一流路Tl的流路直徑，以使得在使工作液進(jìn)行循環(huán)時(shí)，第一流路Tl內(nèi)的工作液更容易地從分支部73向分支流路T20側(cè)流動(dòng)。由此，在更大程度上減輕了向第二室22側(cè)傳遞的壓力的影響。
[0188]另一方面，如圖13所示的變形例那樣，可以在分支部73和第二室22之間的第一流路Tl上附加設(shè)置開(kāi)閉閥74。利用該配置，在進(jìn)行氣泡去除操作時(shí)，通過(guò)使開(kāi)閉閥74關(guān)閉，在更大程度上減輕了第一流路內(nèi)的氣泡25向第二儲(chǔ)液室的進(jìn)入。此外，可以在更大程度上減輕要從第一流路Tl向第二室22側(cè)傳遞的壓力的影響，并且可以更加穩(wěn)定地維持頭I側(cè)的壓力。
[0189]具體地，設(shè)置開(kāi)閉閥74使得能夠防止第一流路Tl內(nèi)的氣泡25混入第一儲(chǔ)液室2中，由此在需要對(duì)工作液加壓或減壓的情況下，可以減輕氣泡所引起的阻尼效果的影響。例如，這在通過(guò)對(duì)工作液加壓來(lái)對(duì)頭I的排出口進(jìn)行清潔操作的情況下是有效的。
[0190]第六實(shí)施例
[0191]以下將利用圖14來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的第六實(shí)施例。注意，圖14是示出根據(jù)本實(shí)施例的壓印設(shè)備的概念圖。
[0192]如圖14所示，本發(fā)明的壓印設(shè)備200主要包括液體排出設(shè)備100A和圖案形成部(形成單元)900。
[0193]注意，液體排出設(shè)備100A基本具有與第三實(shí)施例的排出設(shè)備100相同的結(jié)構(gòu)。注意，在本實(shí)施例中，在第一儲(chǔ)液室2的第一室21中儲(chǔ)存有光固化性抗蝕劑，并且從與第一室21連通的頭I向以下要說(shuō)明的晶圓襯底91A(基板)排出該抗蝕劑。另一方面，在第二室22中填充有密度與該抗蝕劑接近的工作液。
[0194]注意，盡管抗蝕劑包括光固化性樹(shù)脂，但抗蝕劑還可包括其它光固化性材料(液體)。此外，在本實(shí)施例中，使用寬度為ΙΟμπι?200μπι的鋁多層膜作為撓性膜8。諸如鋁多層膜等的材料適合撓性構(gòu)件，這是因?yàn)樵摬牧舷鄬?duì)于抗蝕劑穩(wěn)定且具有液體和氣體均難以滲透的性質(zhì)。
[0195]圖案形成部900主要包括模具94和曝光單元(光照射單元)95。此外，圖案形成部900還包括使模具94上下移動(dòng)的移動(dòng)部件96。
[0196]注意，模具94由第一保持部97經(jīng)由移動(dòng)部件96來(lái)保持，并且曝光單元95由第二保持部98來(lái)保持。此外，模具94具有透光性石英材料，并且在一個(gè)表面(下表面)側(cè)形成有槽狀的精細(xì)圖案(凹凸圖案)。曝光單元95配置于模具94的上方，以隔著模具94照射以下要說(shuō)明的晶圓襯底91Α上的抗蝕劑(圖案)并使其固化。
[0197]以下將說(shuō)明用于通過(guò)使用本實(shí)施例的壓印設(shè)備200來(lái)在晶圓襯底91Α的表面上形成圖案的形成步驟。
[0198]在本實(shí)施例中，晶圓襯底的抗蝕劑排出至(施加至)的上表面和模具的形成有凹凸圖案的下表面彼此抵接，并且在晶圓襯底的上表面上形成與模具的下表面上所形成的凹凸圖案相對(duì)應(yīng)的圖案。
[0199]具體地，從液體排出設(shè)備100Α的頭I向晶圓襯底9Α的上表面排出(施加)抗蝕劑，以形成預(yù)定圖案(施加步驟)。
[0200]隨后，利用輸送部件92將施加有(形成有)抗蝕劑(圖案)的晶圓襯底91Α輸送至模具94的下方。
[0201]利用移動(dòng)部件96使模具94向下下降，并且模具94的下表面壓到晶圓襯底91A的上表面上所形成的抗蝕劑(圖案)上。由此，將抗蝕劑壓入并填充到構(gòu)成模具94的下表面上所形成的凹凸圖案的、槽狀的精細(xì)圖案中(圖案形成步驟)。
[0202]在抗蝕劑填充到精細(xì)圖案中的狀態(tài)下，從曝光單元95隔著透光性模具94向抗蝕劑照射紫外線，以使得在晶圓襯底91A的表面上形成由抗蝕劑形成的圖案(處理步驟)。
[0203]在形成了圖案之后，利用移動(dòng)部件96使模具94上升，并且晶圓襯底91A上所形成的圖案與模具94彼此分離。針對(duì)晶圓襯底91A的圖案形成步驟完成。
[0204]與第三實(shí)施例相同，在本實(shí)施例中，第二儲(chǔ)液室3內(nèi)的液面配置于排出口面10的下方，并且此外，利用調(diào)整單元4調(diào)整第二儲(chǔ)液室內(nèi)的液面以落在預(yù)定范圍內(nèi)，由此可以穩(wěn)定地控制頭I內(nèi)的壓力落在預(yù)定范圍(負(fù)壓)內(nèi)。因此，可以有效地抑制來(lái)自頭I的抗蝕劑(液體)的泄漏。此外，可以穩(wěn)定地從頭I排出抗蝕劑。
[0205]此外，在本實(shí)施例中，由于第一儲(chǔ)液室2內(nèi)的空間充滿密度彼此接近的抗蝕劑和工作液，因此即使向殼體20施加了沖擊，也有效地抑制了振動(dòng)。因此，頭I內(nèi)的壓力幾乎不會(huì)受到振動(dòng)影響，由此可以穩(wěn)定地維持頭I的內(nèi)部處于負(fù)壓的狀態(tài)。
[0206]此外，在本實(shí)施例中，與氣體相比，第二室22中要填充的工作液幾乎不會(huì)受到環(huán)境溫度和壓力的變化影響。因此，即使壓印設(shè)備200周圍的溫度或壓力發(fā)生波動(dòng)，由于工作液的容積幾乎沒(méi)有發(fā)生波動(dòng)，因此可以確定地抑制與第一室21連通的頭I內(nèi)的抗蝕劑的壓力波動(dòng)。
[0207]本發(fā)明的壓印設(shè)備例如可用于例如用于制造諸如半導(dǎo)體集成電路元件和液晶顯示元件等的器件的半導(dǎo)體制造設(shè)備和納米壓印設(shè)備等。
[0208]可以通過(guò)使用本發(fā)明的壓印設(shè)備來(lái)制造組件。
[0209]組件制造方法可以包括用于通過(guò)使用壓印設(shè)備(頭)來(lái)向襯底(晶圓、玻璃板和膜狀襯底等)排出(施加)抗蝕劑的步驟。
[0210]此外，還可以包括圖案形成步驟，其中在該圖案形成步驟中，襯底的抗蝕劑排出至(施加至)的表面和模具的形成有凹凸圖案的表面彼此抵接，以在襯底的表面上形成與模具的凹凸圖案相對(duì)應(yīng)的圖案。
[0211]此外，還可以包括處理步驟，其中該處理步驟用于對(duì)形成有圖案的襯底進(jìn)行處理。注意，還可以包括用于對(duì)襯底進(jìn)行蝕刻的蝕刻處理步驟作為用于對(duì)襯底進(jìn)行處理的處理步驟。
[0212]注意，在制造諸如圖案化介質(zhì)(記錄介質(zhì))和光學(xué)元件等的器件(組件)的情況下，優(yōu)選除蝕刻處理以外的加工處理。
[0213]與傳統(tǒng)的組件制造方法相比，根據(jù)本發(fā)明的組件制造方法，提高了組件的性能、質(zhì)量和生產(chǎn)率，并且還可以降低生產(chǎn)成本。
[0214]根據(jù)本發(fā)明，可以穩(wěn)定地維持頭內(nèi)的壓力，并且可以在更大程度上抑制來(lái)自頭的泄漏。
[0215]盡管已經(jīng)參考典型實(shí)施例說(shuō)明了本發(fā)明，但是應(yīng)該理解，本發(fā)明不限于所公開(kāi)的典型實(shí)施例。所附權(quán)利要求書的范圍符合最寬的解釋，以包含所有這類修改、等同結(jié)構(gòu)和功會(huì)K。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種液體排出設(shè)備，包括: 頭，其具有形成有用以排出液體的排出口的排出口面； 第一儲(chǔ)液室，用于儲(chǔ)存要供給至所述頭的所述液體；以及 撓性構(gòu)件，其將所述第一儲(chǔ)液室的內(nèi)部空間分離成用于儲(chǔ)存所述液體的第一室和用于儲(chǔ)存工作液的第二室， 其中，所述液體排出設(shè)備還包括: 第二儲(chǔ)液室，其與所述第二室連通，并且用于儲(chǔ)存要供給至所述第二室的工作液，其中所述第二儲(chǔ)液室以所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)所儲(chǔ)存的工作液的液面位于所述排出口面的下方的方式配置；以及 調(diào)整單元，用于在所述第二儲(chǔ)液室向大氣開(kāi)放的狀態(tài)下，以使所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)的工作液的液面的位置落在預(yù)定范圍內(nèi)的方式進(jìn)行調(diào)整。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體排出設(shè)備，其中， 所述調(diào)整單元包括液面檢測(cè)單元，所述液面檢測(cè)單元用于檢測(cè)所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)的工作液的液面的位置。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液體排出設(shè)備，其中， 所述調(diào)整單元還包括:第三儲(chǔ)液室，用于儲(chǔ)存工作液;流路，用于使所述第二儲(chǔ)液室與所述第三儲(chǔ)液室相連接;栗，其配置于所述流路中，并且用于從所述第三儲(chǔ)液室向所述第二儲(chǔ)液室供給工作液。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體排出設(shè)備，其中， 所述撓性構(gòu)件在沿著垂直方向的方向上配置在所述第一儲(chǔ)液室內(nèi)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體排出設(shè)備，其中， 所述第一室內(nèi)的所述液體是預(yù)先填充并封入的，以及 所述第一儲(chǔ)液室被配置成在消耗了所述第一室內(nèi)的所述液體的情況下能夠更換。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體排出設(shè)備，其中， 所述第一室的容積隨著從所述頭排出所述液體而減小。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的液體排出設(shè)備，其中， 所述第二室的容積隨著從所述頭排出所述液體而增大。8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的液體排出設(shè)備，其中， 所述液面檢測(cè)單元包括:上限位置傳感器，用于檢測(cè)所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)的工作液的液面的上限位置；以及下限位置傳感器，用于檢測(cè)所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)的工作液的液面的下限位置，以及 基于所述上限位置傳感器和所述下限位置傳感器的檢測(cè)結(jié)果來(lái)對(duì)所述栗進(jìn)行控制。9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的液體排出設(shè)備，其中， 所述液體的密度不同于所述工作液的密度。10.—種壓印設(shè)備，包括: 頭，其具有形成有用以排出液體的排出口的排出口面； 第一儲(chǔ)液室，用于儲(chǔ)存要供給至所述頭的所述液體；以及 撓性構(gòu)件，其將所述第一儲(chǔ)液室的內(nèi)部空間分離成用于儲(chǔ)存所述液體的第一室和用于儲(chǔ)存工作液的第二室， 其中，所述壓印設(shè)備還包括: 第二儲(chǔ)液室，其與所述第二室連通，并且用于儲(chǔ)存要供給至所述第二室的工作液，其中所述第二儲(chǔ)液室以所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)所儲(chǔ)存的工作液的液面位于所述排出口面的下方的方式配置； 調(diào)整單元，用于在所述第二儲(chǔ)液室向大氣開(kāi)放的狀態(tài)下，以使所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)的工作液的液面的位置落在預(yù)定范圍內(nèi)的方式進(jìn)行調(diào)整；以及 形成單元，用于使襯底的被所述頭排出所述液體的表面和模具的形成有凹凸圖案的表面彼此接觸，以在所述襯底的所述表面上形成與所述模具的所述凹凸圖案相對(duì)應(yīng)的圖案。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的壓印設(shè)備，其中， 所述液體包括光固化性液體，以及 所述形成單元包括照射單元，所述照射單元用于對(duì)所述襯底上所形成的所述圖案進(jìn)行照射以使該圖案固化。12.—種組件制造方法，用于通過(guò)使用壓印設(shè)備來(lái)制造包括襯底的組件，所述壓印設(shè)備包括: 頭，其具有形成有用以排出液體的排出口的排出口面； 第一儲(chǔ)液室，用于儲(chǔ)存要供給至所述頭的所述液體； 撓性構(gòu)件，其將所述第一儲(chǔ)液室的內(nèi)部空間分離成用于儲(chǔ)存所述液體的第一室和用于儲(chǔ)存工作液的第二室； 第二儲(chǔ)液室，其與所述第二室連通，并且用于儲(chǔ)存要供給至所述第二室的工作液，其中所述第二儲(chǔ)液室以所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)所儲(chǔ)存的工作液的液面位于所述排出口面的下方的方式配置；以及 調(diào)整單元，用于在所述第二儲(chǔ)液室向大氣開(kāi)放的狀態(tài)下，以使所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)的工作液的液面的位置落在預(yù)定范圍內(nèi)的方式進(jìn)行調(diào)整， 所述組件制造方法包括以下步驟: 通過(guò)所述頭向襯底的表面施加所述液體； 使所述襯底的被所述頭排出所述液體的表面和模具的形成有凹凸圖案的表面彼此接觸，以在所述襯底的所述表面上形成與所述模具的所述凹凸圖案相對(duì)應(yīng)的圖案；以及對(duì)形成了所述圖案的所述襯底進(jìn)行處理。13.一種液體排出設(shè)備，包括: 頭，其具有形成有用以排出液體的排出口的排出口面； 第一儲(chǔ)液室，用于儲(chǔ)存要供給至所述頭的所述液體；以及 撓性構(gòu)件，其將所述第一儲(chǔ)液室的內(nèi)部空間分離成用于儲(chǔ)存所述液體的第一室和用于儲(chǔ)存工作液的第二室， 其中，所述液體排出設(shè)備還包括: 第二儲(chǔ)液室，用于儲(chǔ)存要供給至所述第二室的工作液，其中所述第二儲(chǔ)液室以所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)所儲(chǔ)存的工作液的液面位于所述排出口面的下方的方式配置； 第一流路，其允許所述第二室和所述第二儲(chǔ)液室彼此連通；以及 氣泡去除單元，用于去除所述第一流路內(nèi)產(chǎn)生的氣泡。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的液體排出設(shè)備，其中， 所述氣泡去除單元包括: 第二流路，其允許所述第二儲(chǔ)液室和所述第二室彼此連通；以及循環(huán)單元，用于使所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)的工作液經(jīng)由所述第一流路、所述第二室和所述第二流路進(jìn)行循環(huán)。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的液體排出設(shè)備，其中， 所述循環(huán)單元包括所述第一流路和所述第二流路中的至少一個(gè)流路中所設(shè)置的循環(huán)栗O16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的液體排出設(shè)備，其中， 所述循環(huán)單元設(shè)置在所述第一流路中。17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的液體排出設(shè)備，其中， 所述第二流路與所述第二室的上部相連接，以及 所述第一流路和所述第二室在與所述第二流路和所述第二室相連接的位置相比更低的位置處連接。18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的液體排出設(shè)備，其中， 所述循環(huán)栗是在不進(jìn)行用以從所述頭排出液體的排出操作的時(shí)間段內(nèi)被驅(qū)動(dòng)的。19.根據(jù)權(quán)利要求15所述的液體排出設(shè)備，其中，還包括開(kāi)閉閥，所述開(kāi)閉閥用于使所述第二流路連通或斷開(kāi)， 其中，在驅(qū)動(dòng)所述循環(huán)栗的情況下，所述開(kāi)閉閥處于打開(kāi)狀態(tài)，并且在不驅(qū)動(dòng)所述循環(huán)栗的情況下，所述開(kāi)閉閥處于關(guān)閉狀態(tài)。20.根據(jù)權(quán)利要求14所述的液體排出設(shè)備，其中，還包括連接流路，所述連接流路用于使所述第一流路的中部與所述第二流路的中部相連接， 其中，所述連接流路的流路直徑大于所述第一流路和所述第二流路的流路直徑。21.根據(jù)權(quán)利要求13所述的液體排出設(shè)備，其中， 所述氣泡去除單元包括: 分支流路，其是從所述第一流路的分支部分支出的，并且用于使所述第一流路與所述第二儲(chǔ)液室相連接；以及 循環(huán)單元，用于使所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)的工作液通過(guò)所述第一流路和所述分支流路進(jìn)行循環(huán)。22.一種壓印設(shè)備，包括: 頭，其具有形成有用以排出液體的排出口的排出口面； 第一儲(chǔ)液室，用于儲(chǔ)存要供給至所述頭的所述液體；以及 撓性構(gòu)件，其將所述第一儲(chǔ)液室的內(nèi)部空間分離成用于儲(chǔ)存所述液體的第一室和用于儲(chǔ)存工作液的第二室， 其中，所述壓印設(shè)備還包括: 第二儲(chǔ)液室，用于儲(chǔ)存要供給至所述第二室的工作液，其中所述第二儲(chǔ)液室以所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)所儲(chǔ)存的工作液的液面位于所述排出口面的下方的方式配置； 第一流路，其允許所述第二室和所述第二儲(chǔ)液室彼此連通； 氣泡去除單元，用于去除所述第一流路內(nèi)產(chǎn)生的氣泡；以及 形成單元，用于使襯底的被所述頭排出所述液體的表面和模具的形成有凹凸圖案的表面彼此接觸，以在所述襯底的所述表面上形成與所述模具的所述凹凸圖案相對(duì)應(yīng)的圖案。23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的壓印設(shè)備，其中， 所述液體包括光固化性液體，以及 所述形成單元包括照射單元，所述照射單元用于對(duì)所述襯底上所形成的所述圖案進(jìn)行照射以使所述圖案固化。24.—種組件制造方法，用于通過(guò)使用壓印設(shè)備來(lái)制造包括襯底的組件，所述壓印設(shè)備包括: 頭，其具有形成有用以排出液體的排出口的排出口面； 第一儲(chǔ)液室，用于儲(chǔ)存要供給至所述頭的所述液體； 撓性構(gòu)件，其將所述第一儲(chǔ)液室的內(nèi)部空間分離成用于儲(chǔ)存所述液體的第一室和用于儲(chǔ)存工作液的第二室； 第二儲(chǔ)液室，用于儲(chǔ)存要供給至所述第二室的工作液，其中所述第二儲(chǔ)液室以所述第二儲(chǔ)液室內(nèi)所儲(chǔ)存的工作液的液面位于所述排出口面的下方的方式配置； 第一流路，其允許所述第二室和所述第二儲(chǔ)液室彼此連通；以及 氣泡去除單元，用于去除所述第一流路內(nèi)產(chǎn)生的氣泡， 所述組件制造方法包括以下步驟: 通過(guò)所述頭向襯底的表面施加所述液體； 使所述襯底的被所述頭排出所述液體的表面和模具的形成有凹凸圖案的表面彼此接觸，以在所述襯底的所述表面上形成與所述模具的所述凹凸圖案相對(duì)應(yīng)的圖案；以及對(duì)形成了所述圖案的所述襯底進(jìn)行處理。
【文檔編號(hào)】B41J11/00GK106042642SQ201610206780
【公開(kāi)日】2016年10月26日
【申請(qǐng)日】2016年4月5日 公開(kāi)號(hào)201610206780.4, CN 106042642 A, CN 106042642A, CN 201610206780, CN-A-106042642, CN106042642 A, CN106042642A, CN201610206780, CN201610206780.4
【發(fā)明人】荒木義雅, 高橋祐一, 新井剛, 三田裕, 石橋達(dá)
【申請(qǐng)人】佳能株式會(huì)社