專利名稱：場(chǎng)致發(fā)光的顯示裝置,其制造方法,附著罩及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種使發(fā)光層的材料附著在場(chǎng)致發(fā)光(ElectroLuminescence以下簡(jiǎn)稱“EL”)元件上而制成的EL顯示裝置，其制造方法，附著時(shí)所用的附著罩及其制造方法。
背景技術(shù)：
近年，使用了EL元件的EL顯示裝置作為取代陰極射線管(Cathode Ray Tube)、液晶顯示器(Liquid Crystal Display)的顯示裝置受到了注目。另外，使用了薄膜晶體管(Thin FilmTransistor以下簡(jiǎn)稱“TFT”)作為驅(qū)動(dòng)EL元件的開關(guān)元件的EL顯示裝置也在研究中。
圖6是EL顯示裝置的象素附近的剖面圖。使用了TFT的EL顯示裝置的象素附近，如圖6所示，在包含TFT，表面具備陽(yáng)極(ITO)的基體上順序?qū)盈B霍爾輸送層，發(fā)光層，電子輸送層作為發(fā)光元件層，在此上面再形成陰極。發(fā)光層的形成在現(xiàn)有技術(shù)中是如下進(jìn)行的。
即，為了在已形成ITO的基體上所希望的區(qū)域上形成發(fā)光層，使具有與該所希望的區(qū)域相對(duì)應(yīng)的開口部的附著罩與其接觸，然后，為了在所希望的區(qū)域上形成發(fā)光層，使附著罩與基體的該位置合在一起。于是通過(guò)附著罩的開口部，來(lái)自作為附著物源的發(fā)光材料源的發(fā)光材料通過(guò)蒸鍍法被附著在該位置上。而該工序是在真空艙內(nèi)進(jìn)行的，未采用將基體吸附固定在支撐臺(tái)等上的機(jī)構(gòu)，所以基體上產(chǎn)生撓曲，存在與附著罩之間局部接觸的部位。

發(fā)明內(nèi)容
在上述發(fā)光層形成時(shí)，由于采用的附著罩與基體之間的局部接觸會(huì)對(duì)已形成的TFT，霍爾輸送層造成損害，即有產(chǎn)生黑點(diǎn)的可能，不是很理想。
本發(fā)明是基于以上情況而提出的，其目的在于提供一種EL顯示裝置、其制造方法，附著罩及其制造方法，使局部接觸對(duì)TFT、霍爾輸送層造成損害的可能性減少，降低黑點(diǎn)的發(fā)生率。
為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)的問(wèn)題，本發(fā)明為一種場(chǎng)致發(fā)光顯示裝置，在第1，第2電極之間形成發(fā)光層時(shí)，使具有用于使發(fā)光材料附著在所希望的發(fā)光區(qū)域上的開口部的附著罩接近上述形成了第1電極的基體，通過(guò)該開口部使來(lái)自發(fā)光材料源的發(fā)光材料附著，形成發(fā)光元件層，其特征是，在上述基體或上述附著罩的至少一方上具有與上記基體上的非發(fā)光區(qū)域接觸，在上述基體和附著罩之間保持指定間隔的突起部。
為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)的問(wèn)題，本發(fā)明為一種場(chǎng)致發(fā)光顯示裝置的制造方法，是制造在第1，第2電極之間形成發(fā)光層時(shí)，使具有用于使發(fā)光材料附著在所希望的發(fā)光區(qū)域上的開口部的附著罩接近上述形成了第1電極的基體，通過(guò)該開口部使來(lái)自發(fā)光材料源的發(fā)光材料附著，形成發(fā)光元件層的場(chǎng)致發(fā)光顯示裝置的方法，其特征是，在上述基體的非發(fā)光區(qū)域上設(shè)有使上述基體和附著罩之間保持指定間隔的突起部，在維持上述基體和附著罩之間的間隔的同時(shí)，使發(fā)光材料附著在基體上所希望的區(qū)域。
上述突起部既可以與各象素相對(duì)應(yīng)地設(shè)置，也可以設(shè)置在象素之間。另外，在上述基體上多面倒角形成多個(gè)顯示板時(shí)，上述突起部最好設(shè)置在上述顯示板之間。
為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)的問(wèn)題，本發(fā)明為一種場(chǎng)致發(fā)光顯示裝置，其特征是，是由上述任一種場(chǎng)致發(fā)光顯示裝置的制造方法制造的。
本發(fā)明的其他方式為一種附著罩的制造方法，是制造設(shè)置在發(fā)光材料源和成為發(fā)光材料的附著對(duì)象的基體之間，并且具有用于使上述發(fā)光材料附著在上述基體的所希望的發(fā)光區(qū)域上的開口部的附著罩的方法，其特征是，形成與上述基體之間保持指定間隔的突起部。
本發(fā)明的其他方式為一種附著罩，設(shè)置在發(fā)光材料源和成為發(fā)光材料的附著對(duì)象的基體之間，并且具有用于使上述發(fā)光材料附著在上述基體上所希望的發(fā)光區(qū)域上的開口部，其特征是，具有與基體之間保持指定間隔的突起部。


圖1為表示本發(fā)明第一實(shí)施例所涉及的EL顯示裝置的制造工序的說(shuō)明圖。
圖2為表示按每個(gè)象素設(shè)置突起部時(shí)突起部的設(shè)置位置的選例的說(shuō)明圖。
圖3為表示按指定象素?cái)?shù)設(shè)置突起部時(shí)突起部的設(shè)置位置的選例的說(shuō)明圖。
圖4為表示多面倒角時(shí)突起部的設(shè)置位置的選例的說(shuō)明圖。
圖5為表示本發(fā)明第二實(shí)施例所涉及的EL顯示裝置的制造狀態(tài)的說(shuō)明圖。
圖6為現(xiàn)有的EL顯示裝置的剖面圖。
圖7為表示現(xiàn)有的EL裝置中的基體、附著罩之間關(guān)系的說(shuō)明圖。
具體實(shí)施例方式
參照附圖對(duì)本發(fā)明的第一實(shí)施例進(jìn)行說(shuō)明。本發(fā)明的實(shí)施例所涉及的EL顯示裝置的制造方法中，如圖1(a)所示，在作為已形成TFT，ITO的基體的玻璃基片10上的發(fā)光區(qū)域以外的平坦的絕緣層處，例如可以使用光刻膠來(lái)形成突起部20(圖1(b))。在這里，發(fā)光區(qū)域相當(dāng)于ITO形成區(qū)域。使突起部20的形成高度為2～10μm之間。另外，若象上述那樣用光刻膠制成突起部分，即使是高度為2～10μm之間、例如4μm左右的突起部，也能夠可靠地以高精度形成。特別是4μm左右的高度，使用光刻膠很容易形成。另外，雖然突起部20的高度并不限于2～10μm之間，但其高度如果是陽(yáng)極和發(fā)光元件層的合計(jì)高度的10倍左右，則即使在玻璃基板發(fā)生彎曲與附著罩局部接觸的狀況下，由于突起部20也可以防止基體表面與附著罩的接觸。另外，考慮到以后的清洗，干燥等工序，為了不發(fā)生洗不干凈或液體殘留的情況，該突起部20最好做成圓錐形等具有斜度的形狀。
在這里，即使為了蒸鍍?cè)谡婵张撝惺垢街?0接近玻璃基片10或是玻璃基片10發(fā)生彎曲，僅通過(guò)附著罩30與玻璃基片10上形成的突起部20接觸(圖1(c))，玻璃基片10也不會(huì)與附著罩30接觸。
然后，將附著罩30移動(dòng)，使附著罩30的開口部與玻璃基片10上的所希望的發(fā)光位置合在一起，這時(shí)，由于至少在局部上附著罩30是與突起部20相接觸的，所以附著罩不易滑動(dòng)，可位于合適的位置上。
位置結(jié)合完了后，在由突起部20維持指定間隙的狀態(tài)下，通過(guò)附著罩30的開口部，從被附著物源(圖中未表示)來(lái)的被附著物按順序蒸鍍，例如順次蒸鍍、層疊霍爾輸送層，發(fā)光層，電子輸送層(圖1<d>)。然后再對(duì)個(gè)各個(gè)象素的共同陰極進(jìn)行蒸鍍。對(duì)突起部20，既可以去掉不要，也可以就這樣密封。也有霍爾輸送層，電子輸送層是整個(gè)象素共同形成的情況，這時(shí)，如圖所示霍爾輸送層在蒸鍍時(shí)就用不到附著罩30，在和發(fā)光層一樣地每個(gè)象素是獨(dú)立圖案的時(shí)候，采用圖示的附著罩30進(jìn)行蒸鍍。
下面，對(duì)如何很好地設(shè)置突起部20進(jìn)行說(shuō)明。突起部20既可以按象素設(shè)置，也可以按指定象素?cái)?shù)設(shè)置，在由數(shù)個(gè)顯示板構(gòu)成的多面倒角的情況下也可設(shè)在顯示板之間。
首先，對(duì)按象素設(shè)置突起部20的情況進(jìn)行說(shuō)明。圖2是EL顯示裝置的基體一側(cè)的表示象素附近的平面圖，通過(guò)這個(gè)例子圖示當(dāng)按象素設(shè)置突起部20時(shí)突起部20的合適位置。如圖2所示，顯示象素包括第一晶體管Tr1，電容C，第二晶體管Tr2和發(fā)出R、G、B等希望顏色的EL元件(圖中發(fā)光區(qū)域R)。在按象素設(shè)置突起部20時(shí)，在盡可能遠(yuǎn)離發(fā)光區(qū)域的位置，例如在電容附近(圖2中區(qū)域X)形成突起部20。即設(shè)置在發(fā)光區(qū)域R以外。另外，在按指定象素?cái)?shù)設(shè)置時(shí)，也可以在圖2的位置上形成突起部20，形成該突起部20的象素不是所有的象素，為指定象素即可。另外，象素之間的排列線(圖3的區(qū)域Y等)上有充分的空間時(shí)，可如圖3所示，在該排列線上以點(diǎn)狀形成突起部20。另外，在排列線上既可以是沿其排列線的帶狀，也可是帶狀在中途斷開。
而在采取多面倒角的場(chǎng)合，如圖4所示，由數(shù)個(gè)象素組成的顯示板12之間以將顯示板12包圍起來(lái)的方式排列突起部20。
通過(guò)本實(shí)施例中的EL顯示裝置的制造方法，可以防止玻璃基片10上已形成的層(TFT、陽(yáng)極、指定有機(jī)層)與附著罩30之間的局部接觸，這樣可降低損傷TFT、霍爾輸送層等的可能性，黑點(diǎn)的發(fā)生率也隨之將低。
還有，為了使基體與附著罩之間保持一定間隙，不在基體一側(cè)而在附著罩一側(cè)設(shè)置突起部也可以。所以，下面對(duì)在附著罩一側(cè)形成突起部的本發(fā)明的第二實(shí)施例進(jìn)行說(shuō)明。
在本實(shí)施例中，在設(shè)有將附著物附著在所希望的區(qū)域上的開口部的附著罩30上形成突起部31，該附著罩30上的突起部31既可以在附著罩30制成后在其他工序中用有機(jī)材料、例如抗腐劑等形成，也可以在制造附著罩30時(shí)一體形成。該突起部31與玻璃基片的彎曲相對(duì)應(yīng)地具有2～10μm的高度。考慮到清洗等工序，該突起部31最好做成圓錐等具有斜度的形狀。
另外，該突起部31的形成位置為當(dāng)附著罩30的開口部與玻璃基片10上的所希望的發(fā)光區(qū)域?qū)蠒r(shí)，與玻璃基片10上的非發(fā)光區(qū)域相接觸的位置。也就是說(shuō)，附著罩30的突起部31的形成位置要與目標(biāo)的玻璃基片相配合，是不盡相同的。但是，將這個(gè)接觸部位調(diào)整為第一實(shí)施例的圖2～4所示的位置效果較好。
下面，對(duì)利用了本實(shí)施例的附著罩的EL顯示裝置的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。如圖5所示，在真空艙中使附著罩30向其上已形成了TFT、EL元件的第一電極(ITO)的玻璃基片接近。這時(shí)，由于玻璃基片10的彎曲，玻璃基片10與附著罩30上的突起部31局部接觸。然后，便附著罩30的開口部與玻璃基片10上所希望的發(fā)光區(qū)域?qū)稀＿@樣，突起部31就與玻璃基片10上的不發(fā)光區(qū)域進(jìn)行接觸。
位置對(duì)合后，在由突起部31維持一定間隔的空隙的狀態(tài)下，通過(guò)附著罩30的開口部，來(lái)自附著物源(圖中未示出)的附著物按順序進(jìn)行蒸鍍，例如順序蒸鍍、層疊霍爾輸送層，發(fā)光層，電子輸送層。然后，取下附著罩30，形成陰極，對(duì)EL顯示裝置進(jìn)行密封。
當(dāng)使用本實(shí)施例的附著罩30制造EL顯示裝置時(shí)，通過(guò)突起部31可防止附著罩30與玻璃基片10上的表示區(qū)域與局部接觸，從而減少損傷TFT，霍爾輸送層的可能性，使黑點(diǎn)的發(fā)生率降低。
權(quán)利要求
1.一種場(chǎng)致發(fā)光顯示裝置，在第1，第2電極之間形成發(fā)光層時(shí)，使具有用于使發(fā)光材料附著在所希望的發(fā)光區(qū)域上的開口部的附著罩接近上述形成了第1電極的基體，通過(guò)該開口部使來(lái)自發(fā)光材料源的發(fā)光材料附著，形成發(fā)光元件層，其特征是，在上述基體或上述附著罩的至少一方上具有與上記基體上的非發(fā)光區(qū)域接觸，在上述基體和附著罩之間保持指定間隔的突起部。
2.一種場(chǎng)致發(fā)光顯示裝置的制造方法，是制造在第1，第2電極之間形成發(fā)光層時(shí)，使具有用于使發(fā)光材料附著在所希望的發(fā)光區(qū)域上的開口部的附著罩接近上述形成了第1電極的基體，通過(guò)該開口部使來(lái)自發(fā)光材料源的發(fā)光材料附著，形成發(fā)光元件層的場(chǎng)致發(fā)光顯示裝置的方法，其特征是，在上述基體的非發(fā)光區(qū)域上設(shè)有使上述基體和附著罩之間保持指定間隔的突起部，在維持上述基體和附著罩之間的間隔的同時(shí)，使發(fā)光材料附著在基體上所希望的區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的場(chǎng)致發(fā)光顯示裝置或其制造方法，其特征是，上述突起部是與各象素對(duì)應(yīng)地設(shè)置的。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的場(chǎng)致發(fā)光顯示裝置或其制造方法，其特征是，其特征是，上述突起部設(shè)置在象素之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的場(chǎng)致發(fā)光顯示裝置或其制造方法，其特征是，在上述基體上多面倒角形成多個(gè)顯示板時(shí)，上述突起部設(shè)置在上述顯示板之間。
6.一種場(chǎng)致發(fā)光顯示裝置，其特征是，是由權(quán)利要求2至5中任一項(xiàng)所述的場(chǎng)致發(fā)光顯示裝置的制造方法制造的。
7.一種附著罩，設(shè)置在發(fā)光材料源和成為發(fā)光材料的附著對(duì)象的基體之間，并且具有用于使上述發(fā)光材料附著在上述基體上所希望的發(fā)光區(qū)域上的開口部，其特征是，具有與基體之間保持指定間隔的突起部。
全文摘要
本發(fā)明提供可以防止附著罩和基體上的發(fā)光區(qū)域局部接觸,從而減小損傷組成發(fā)光元件層的TFT,霍爾輸送層的可能性,使黑點(diǎn)的發(fā)生率降低的EL顯示裝置,其制造方法,附著罩及其制造方法。在具有陰極陽(yáng)極之間形成有發(fā)光元件層的EL元件的EL顯示裝置中,在該裝置的基體(10)的發(fā)光區(qū)域以外的部分上形成柱部(20),由該柱部(20)保持與附著罩之間的間隙,蒸鍍形成霍爾輸送層,發(fā)光層,電子輸送層。
文檔編號(hào)G09F9/30GK1378094SQ02108078
公開日2002年11月6日 申請(qǐng)日期2002年3月27日 優(yōu)先權(quán)日2001年3月27日
發(fā)明者山田努, 西川龍司 申請(qǐng)人:三洋電機(jī)株式會(huì)社