專利名稱：檢測缺陷像素的方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種檢測方法，特別涉及一種部分或完全檢測空間光調(diào)制器中的缺陷像素的方法。
背景技術：
現(xiàn)代UV光刻法正尋求新的高度并行寫入構思。具有光學MEMS裝置的空間光調(diào)制器(SLM)提供上述可能性。必須特別關注SLM的處理紫外光(UV)、深紫外光(DUV)和極端紫外光(EUV)的能力。
SLM芯片可以包括頂部上具有幾百萬個獨立可尋址像素的DRAM型CMOS電路。由于鏡元件和尋址電極之間的靜電力而使得所述像素被偏轉。
為了實現(xiàn)良好性能的SLM芯片，幾乎每個像素都必須起作用，此外它們必須足夠相似地響應于所施加的電壓，使得能夠補償標定(calibration)差異。
先已通過使用白光干涉儀生成了缺陷像素的映射(map)。軟件自動識別單獨的像素并計算偏轉角。這樣的方法不僅能夠很好地發(fā)現(xiàn)制造誤差，也能發(fā)現(xiàn)操作期間的其他誤差。另一方面，由于高倍放大使得必須處理許多圖像，故上述方法相當慢。由于SLM芯片尺寸不斷增加，使得像素數(shù)量增加，進而必須分析越來越多的像素。優(yōu)選地，也必須以比現(xiàn)在所能實現(xiàn)的方法更快的方法來分析SLM芯片。因此，現(xiàn)有技術中需要一種更快的獲取特定SLM芯片中缺陷像素信息的方法。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的一個目的是提供一種能夠以減少的處理時間檢測空間光調(diào)制器中缺陷像素的方法。
通過檢測空間光調(diào)制器中一個或多個缺陷像素的方法獲得根據(jù)本發(fā)明第一方面的這個目的，所述方法包括步驟提供一種照射所述空間光調(diào)制器的電磁輻射源，在所述空間光調(diào)制器中設置基準圖案，照射所述空間光調(diào)制器，通過以檢測器配置檢測所述基準圖案的中繼圖像來確定所述空間光調(diào)制器中基準像素的位置，在所述空間光調(diào)制器中設置第一圖案，照射所述空間光調(diào)制器，以檢測器配置檢測所述第一圖案的中繼圖像，在所述空間光調(diào)制器中設置至少一個第二圖案，照射所述空間光調(diào)制器，檢測所述空間光調(diào)制器中所述至少一個第二圖案的中繼圖像，分析所述第一圖案和所述至少一個第二圖案的中繼圖像以檢測所述圖像與其理論圖像之間的差異。
在根據(jù)本發(fā)明的另一實施例中，所述第一和第二圖案為棋盤圖案，其中所述第一棋盤圖案是第二棋盤圖案的反轉。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例，通過CCD攝像機檢測中繼圖像。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，SLM像素的投影比CCD像素的大。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，在所述檢測器中不能分辨空間光調(diào)制器中的單個像素。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，檢測器與空間光調(diào)制器之間的空間濾波器用于變化所述檢測器的分辨度。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，通過至少兩次照射所述圖案和單獨檢測中繼圖像，能夠檢測所述第一和第二圖案中至少一個。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，所述第一和第二圖案中的至少一個僅包括未偏轉和完全偏轉的像素。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，所述完全偏轉的像素與衍射最大消光度相對應。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，所述棋盤圖案僅包括無偏轉和完全偏轉的像素。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，所述棋盤圖案僅包括無偏轉和部分偏轉的像素。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，所述完全偏轉的像素與衍射最大消光度相對應。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，所述部分偏轉的像素與衍射部分消光相對應。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，分別多次檢測所述第一和第二圖案，其中所述圖案中的像素被設定成在各次檢測前的具有不同偏轉度。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，所述僅包括完全偏轉和部分偏轉的像素。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，所述棋盤圖案包括處于第一部分偏轉狀態(tài)和第二部分偏轉裝狀態(tài)的像素。
本發(fā)明也涉及一種檢測包括多個像素元件的空間光調(diào)制器中至少一個缺陷像素的方法，其包括步驟通過所述檢測器檢測所述空間光調(diào)制器中像素的第一棋盤圖案的中繼圖像，通過所述檢測器檢測所述空間光調(diào)制器中像素的第二棋盤圖案的中繼圖像，分析所述第一和第二棋盤圖案的中繼圖像，以檢測所述檢測圖像和其理論圖像之間的差異，像素的第二棋盤圖案是第一棋盤圖案的反轉。
在根據(jù)本發(fā)明的另一實施例中，CCD攝像機檢測所述中繼圖像。
依然在根據(jù)本發(fā)明的另一實施例中，SLM像素比CCD像素大。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，在所述檢測器中不能分辨空間光調(diào)制器中的單個像素。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，檢測器與空間光調(diào)制器之間的空間濾波器用于變化所述檢測器的分辨度。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，通過至少兩次照射所述圖案以及單獨檢測中繼圖像，能夠檢測所述第一和第二圖案中至少一個。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，所述棋盤圖案僅包括無偏轉和完全偏轉的像素。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，所述棋盤圖案僅包括無偏轉和部分偏轉的像素。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，所述完全偏轉的像素與衍射最大消光度相對應。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，所述部分偏轉的像素與衍射部分消光相對應。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，分別多次檢測所述第一和第二圖案，其中所述圖案中的像素被設定成在各個檢測前具有不同偏轉度。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，所述棋盤圖案僅包括完全偏轉和部分偏轉的像素。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，所述棋盤圖案包括處于第一部分偏轉狀態(tài)和第二部分偏轉狀態(tài)的像素。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，進一步包括確定檢測器像素柵格中的SLM基準像素。
本發(fā)明也涉及一種檢測所述空間光調(diào)制器中至少一個缺陷像素的方法，其包括步驟使第一棋盤圖案的圖像不清晰，以使規(guī)則的棋盤圖像在檢測器平面成為均勻的背景，而缺陷像素在平面內(nèi)成為在所述均勻背景中的不規(guī)則并可由檢測器檢測。
仍在本發(fā)明的另一實施例中，進一步包括使得第二棋盤圖案的圖像不清晰，以使規(guī)則的棋盤圖案在檢測器平面處成為均勻的背景，并且缺陷像素在所述平面內(nèi)成為所述均勻背景中的不規(guī)則并可由檢測器檢測，其中第二圖案是所述第一圖案的反轉。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，所述檢測器為CCD攝像機。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，SLM像素在所述CCD上的投影比CCD像素大。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，所述棋盤圖案僅包括無偏轉和完全偏轉的像素。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，所述棋盤圖案僅包括無偏轉和部分偏轉的像素。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，所述完全偏轉的像素與衍射最大消光度相對應。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，所述部分偏轉的像素與衍射部分消光相對應。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，所述僅包括完全偏轉和部分偏轉的像素。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，所述棋盤圖案包括處于第一部分偏轉狀態(tài)和第二部分偏轉狀態(tài)的像素。
在根據(jù)本發(fā)明的又一實施例中，進一步包括在檢測器像素柵格中確定SLM基準像素。
本發(fā)明的進一步特征及其優(yōu)勢，根據(jù)下文給出的本發(fā)明優(yōu)選實施例的詳細描述以及圖1-10變得顯而易見，本發(fā)明的實施例僅作為說明的方式給出，而非是限定性的。


圖1示出了用于檢測缺陷SLM像素的測試部件。
圖2示出了在根據(jù)本發(fā)明測試程序的一個實施例基礎上的流程圖。
圖3示出了彼此中心對準的攝像機像素和SLM像素的透視圖。
圖4示出了彼此沒有對準的攝像機像素和SLM像素的透視圖。
圖5示出了從圖3中芯片像素到所述攝像機像素上的照射(illumination)。
圖6示出了從圖4中芯片像素到所述攝像機像素上的照射。
圖7示出了對于圖5中照射的攝像機輸出。
圖8示出了對于圖6中照射的攝像機輸出。
圖9示出了棋盤圖案。
圖10示出了棋盤圖案中關閉(off)的缺陷像素。
圖11示出了棋盤圖案中打開(on)的缺陷像素。
圖12示出了缺陷的空間截面圖像。
具體實施例方式
以下詳細說明參照圖。描述優(yōu)選實施例是用于說明本發(fā)明，而非限制本發(fā)明的范圍，本發(fā)明的范圍由權利要求予以限定。本領域技術人員應當理解以下描述中存在各種等同變化。
此外，參照模擬空間光調(diào)制器(SLM)描述優(yōu)選實施例。對于本領域技術人員而言，顯然還存在除模擬SLM之外的其他SLM也同樣適用的情況；例如，由德州儀器制造的諸如數(shù)字微鏡裝置DMD類的數(shù)字SLM。另外，SLM可以包括反射或透射像素。
本發(fā)明涉及一種檢測SLM中缺陷的方法。當使用所述空間光調(diào)制器(SLM)構圖加工元件時，這樣的方法是有用的。
圖1示出了用于檢測空間光調(diào)制器(SLM)中缺陷像素的光學測試部件。光學測試部件構造得與光刻圖案發(fā)生器相似。光學測試部件包括激光源110、光束均化和成形裝置120、反射鏡130、光束分離器150、空間光調(diào)制器140、傅立葉透鏡160、空間濾波器170、成像透鏡180和用于監(jiān)視空間像(aerialimage)的檢測裝置190。
激光源110可以是發(fā)射248nm DUV脈沖的準分子激光器。通過所述均化和成形裝置120均化并成形所述脈沖。所述裝置120包括使得平面波曝光SLM 140表面的光學器件。由于如果SLM像素的形狀為具有16微米長的側邊的矩形，模擬空間光調(diào)制器中SLM像素的偏轉角非常小，在百萬分之一弧度范圍內(nèi)，則SLM表面需要作為炫耀光柵。在具有偏轉像素的區(qū)域內(nèi)，光束被衍射至非零級(non-zero orders)并由孔或空間濾波器170所吸收。僅僅有非常少的漫射光到達相應區(qū)域內(nèi)的檢測裝置190。檢測裝置190可以是CCD攝像機。傅立葉透鏡160確保SLM上每個像素位置處的性能相同。對于具有無偏轉像素的平的區(qū)域，以零衍射級反射大多數(shù)光，并由空間濾波器170傳送并且由成像透鏡180聚焦而在CCD攝像機190中產(chǎn)生一個亮區(qū)。這由從圖1中的點142開始的實線表示。開始點142可以是空間光調(diào)制器中單個或多個像素元件。
偏轉的SLM像素，以更高的衍射級，如第一、第二、第三等的衍射級衍射不可忽略量的光束?？臻g濾波器170阻擋比預定衍射級高的衍射級，例如可以是第一衍射級。這由從圖1中的點144開始的虛線表示。點144可以表示偏轉狀態(tài)中的單個或多個像素。像素的偏轉將消除由于相消性干涉(destructive interference)而反射至零級的一定量的光。像素偏轉越多，則消除的光就越多(僅對于小的偏轉而言，最大量消光(extinction)之后會恢復一定強度)，并能實現(xiàn)一定的偏轉最大消光度。通過增加孔徑170的尺寸，圖像將更清晰并且棋盤圖案將不給出均勻的灰色背景。這種情況的原因是更高級別的衍射通過所述孔徑。孔徑170的增加也影響達到與較小孔徑170相同的消光度的偏轉度，較大的孔徑需要像素元件偏轉更多以便獲得相同大小的像素元件所給出的相同消光級。
選用光學縮小，使得一個SLM像素成像為大約2×2的攝像機像素(camera pixel)。由于空間濾波器，使得光學器件不能充分分辨(resolve)單個的像素。不能充分分辨具有16μm長的側邊的單個方形SLM像素的一個實施例，使用248nm照射波長，其在成像平面即檢測裝置190處具有0.009的數(shù)值孔徑NA，而在物體平面即空間光調(diào)制器140處具有0.0045的數(shù)值孔徑NA。而對于另一種縮小、像素尺寸和波長，所述NA將會不同。因此，例如“白色”背景中“黑色”像素這樣的一種圖像被成像為不清晰的暗點。攝像機內(nèi)圖像的外觀和峰值依賴于SLM像素與攝像機像素柵格之間的相對位置，參見圖3-8?？墒?，像素值總數(shù)幾乎獨立于這種相對排列。通過計算多個攝像機像素值的重心，能夠找出缺陷像素的位置。
圖3示出了與單個缺陷SLM像素320相對準的攝像機像素310。由于SLM像素的投影大小極有可能不是攝像機像素大小的整數(shù)倍，所以一些SLM像素對稱地落在攝像機像素上(并且圍繞攝像機像素)，而其他SLM像素的中心落在攝像機像素之間的邊界上。大多數(shù)SLM像素具有與攝像機像素柵格不對稱的任意位置。只要攝像機像素小于SLM像素，則不會影響本發(fā)明檢測方法的性能。
圖5示出了攝像機像素310上的缺陷SLM像素320的照射。如圖所示，照射的尺寸和形狀與SLM像素的實際尺寸不同。這是光學器件衍射和不能分辨單個像素的特性的結果。得到的結果是SLM像素的不清晰圖像，其比光學器件能夠分辨所述單個像素的情況影響更多的攝像機像素。通過比較檢測到的不同攝像機像素的照射，能夠容易地確定所述照射的重心。
圖4示出了當缺陷SLM像素420落在兩個攝像機像素410、420之間邊界上時的一個實例。
圖6示出了攝像機像素柵格上的缺陷SLM像素420的照射。如圖6所示，照射的尺寸和形狀等于圖5所示的，其差別僅僅在于所述攝像機像素柵格中所述照射的重心位置不同。
圖7示出了按照圖5中所示照射檢測裝置190時檢測裝置190的輸出。圖8示出了按照圖6中所示照射檢測裝置190時檢測裝置190的輸出。
利用坐標系變換，可計算出缺陷SLM像素的絕對位置。為了找出適于該坐標變換的參數(shù)，可在SLM芯片中寫入具有幾根直線的圖像。這些可使用對于噪聲和缺陷非常不靈敏的哈夫變換(Hough transformation)在CCD攝像機響應中識別出來。
商用CCD攝像機太小而不能一次獲取整個SLM芯片。CCD攝像機可包括1536×1024個像素，其僅能夠覆蓋部分的SLM像素，例如大約SLM像素的三分之一。因此，一次僅能測試部分的所述SLM。SLM安裝在滑動器上并轉換到不同的位置，并且每個位置的測試可以是重復的圖2示出了根據(jù)本發(fā)明測試程序的一個實施例的流程圖。缺陷像素可被分成多種類型。像素可能有問題或不響應于尋址信號。這可能是機械或電子的問題。SLM像素可以一直偏轉。其原因可以是像素貼到電極上，或是附接于所述像素上的鉸合件被永久損壞。所述像素對電磁輻射的反射弱。其原因可以是像素上的灰塵微粒、制造缺陷或激光對鏡的損壞。另外，相鄰像素之間的短路引起所述像素總是以相同的方式偏轉。
以上提及類型的缺陷可被本發(fā)明的步驟所發(fā)現(xiàn)，以最簡單的形式，其包括SLM每個位置的三個圖像。一個用作基準位置的圖像而另外兩個用作檢測缺陷像素?？砂凑找韵聦嵭蠸LM相對于CCD攝像機的定位。通過利用在芯片上寫入圖案的再現(xiàn)原理，可在黑色背景上規(guī)則地寫入白線。由于芯片附近背景是黑的，所以黑色背景上的白線比白色背景上的黑線更好。因此，不需要預處理消除芯片周圍背景。通過哈夫轉換可使得獨立于噪聲以固定(robust)的方式識別該線。根據(jù)線等式(1ine equation)，可計算一些參數(shù)，如交叉點、比例和角度。
根據(jù)具有空間濾波器170的成像光學器件的有限分辨力，沒有缺陷的棋盤圖案被傳送到攝像機中均勻的灰色背景中。單個的缺陷像素分別顯示為暗點或亮點。
棋盤圖案中單個無響應(responding)的像素將產(chǎn)生從背景中很容易辨認出的亮點。在反轉(inverted)的棋盤圖案中總是能發(fā)現(xiàn)可能的無響應的像素，其在棋盤圖案中被假定為平的(flat)。被錯誤偏轉或反射弱的像素類似地產(chǎn)生暗點。
圖2中所示的測試程序開始于芯片位置初始化210，其表示將檢測SLM芯片的特定區(qū)域。隨后，在220步驟中，于SLM芯片上寫入特征圖案用于位置識別。位置識別包括SLM芯片與CCD攝像機的對準。當所述對準完成時，開始SLM芯片的缺陷檢測。在步驟230中獲取棋盤圖案的圖像；在步驟240分析所述圖像。步驟250檢查是否每種棋盤圖案都已經(jīng)寫入到SLM芯片中。如果是，則到達比較是否執(zhí)行了單個分析結果的步驟260。如果否，則將下一個圖案寫入SLM芯片，步驟255。步驟270檢查是否檢測了SLM的每個位置。如果否，則在步驟275分析下一個位置。如果是，則由結果得出缺陷像素映像。
具有棋盤圖案的無缺陷SLM在攝像機中顯示均勻的灰色圖像，其中CCD攝像機在檢測器平面檢測所述SLM。所述檢測器平面與圖案發(fā)生器中圖像平面到所述空間光調(diào)制器的距離相等或等同距離，所述圖案發(fā)生器將空間光調(diào)制器用作可編程的調(diào)制盤/掩模。根據(jù)缺陷的類型，缺陷將顯示為污點，該污點比周圍更暗或更亮。在噪聲不均勻的情況中，污點可能隱蔽于所述噪聲中。倘若能夠知道噪聲的屬性(噪聲源、統(tǒng)計參數(shù)或確定性)，則能夠使用預處理以減少或消除所述噪聲的影響。時間平均化能夠減少統(tǒng)計參數(shù)。用于統(tǒng)計的或時變確定性的噪聲的濾波器依賴于噪聲類型。如果噪聲是確定性的并且是無時變的，則可以減去表征噪聲的基準圖像以形成討論中的噪聲圖像。理想的是采用一個填充整個圖像的基準鏡。
通過將SLM中的中繼圖案的理論圖像與檢測的圖像比較而執(zhí)行所述分析步驟。檢測圖像與理論圖像的偏差對應于缺陷像素。
圖9示出了典型的棋盤或棋盤圖案。當嘗試檢測缺陷像素時，棋盤圖案結合了一些優(yōu)勢。如果一個像素不具有其應當具有的數(shù)值，則五個像素點(缺陷像素及其相鄰像素)足以干擾CCD攝像機中呈現(xiàn)的亮度。棋盤圖案的另一優(yōu)勢是其相反圖案也為棋盤圖案，其意指僅需要兩個圖像來觀察給定電壓下的全部像素的性能。根據(jù)本發(fā)明的方法，能夠僅使用幾步測量就可找出全部的缺陷像素。一個實施例中，通過下述方式實現(xiàn)上述目的，即通過使得棋盤圖案及其反轉圖案的圖像不太清晰而使得規(guī)則的棋盤圖案成為檢測器平面中的均勻背景，而所有錯誤偏轉的或平的像素都將明顯突現(xiàn)于這個均勻的背景。
圖10示出了棋盤圖案中缺陷的像素1010。所述缺陷像素顯示為黑像素也就是說由于相鄰偏轉像素和這個像素之間的短路而引起的這個像素被完全偏轉，而這個缺陷像素應當是不偏轉的。
圖11示出了另一棋盤圖案中偏轉像素1110，其棋盤圖案為圖10中棋盤圖案的反轉圖案。應為黑色的偏轉的白色像素可能是僵直的而不能被偏轉。低反射率的反射鏡(4個黑色像素圍繞的灰色像素)，在CCD攝像機中被檢測為灰點。
圖9-11示出了棋盤圖案中的黑色像素和白色像素。可是，可用白色和灰色、黑色和灰色或淺灰色和深灰色的像素構成棋盤圖案。
圖12示出了灰色背景中所產(chǎn)生的缺陷像素的空間像的橫截面。水平線1220表示背景亮度，其可以是未受干擾的棋盤圖案的反映。應為黑色(參見圖11)的填充像素即白色像素，由曲線1230表示，而不足像素即應為白色(參見圖10)的黑色像素，由曲線1210表示。圖12中的不對稱是由于規(guī)則棋盤圖案僅為在50％的光振幅的零衍射級中的25％的光強度。
雖然參照優(yōu)選實施例及其以上詳細實例描述了本發(fā)明，但應當理解這些實例是說明性的而非限定性。本領域技術人員可以理解，可在本發(fā)明的精神及以下權利要求的范圍內(nèi)進行所述修改和組合。
權利要求
1.一種檢測空間光調(diào)制器中一個或多個缺陷像素的方法，其包括步驟提供一種照射所述空間光調(diào)制器的電磁輻射源，在所述空間光調(diào)制器中設置一基準圖案，照射所述空間光調(diào)制器，通過以檢測器設置檢測所述基準圖案的中繼圖像而確定所述空間光調(diào)制器中基準像素的位置，在所述空間光調(diào)制器中設置第一圖案，照射所述空間光調(diào)制器，以檢測器設置檢測所述第一圖案的中繼圖像，在所述空間光調(diào)制器中設置至少一個第二圖案，照射所述空間光調(diào)制器，檢測所述空間光調(diào)制器中所述至少一個第二圖案的中繼圖像，分析所述第一圖案和所述至少一個第二圖案的所述中繼圖像，以檢測所述圖像與其理論圖像之間的差異。
2.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中，所述第一和第二圖案為棋盤圖案，其中，所述第一棋盤圖案是第二棋盤圖案的反轉。
3.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中，通過CCD攝像機檢測所述中繼圖像。
4.根據(jù)權利要求3所述的方法，其中，SLM像素的投影比CCD像素大。
5.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中，在所述檢測器中不能分辨空間光調(diào)制器中的單個像素。
6.根據(jù)權利要求5所述的方法，其中，所述檢測器與空間光調(diào)制器之間的一空間濾波器用于變化所述檢測器的分辨度。
7.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中，通過至少兩次照射所述圖案并單獨檢測中繼圖像而檢測所述第一和第二圖案中的至少一個。
8.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中，所述第一和第二圖案中的至少一個僅包括無偏轉和完全偏轉的像素。
9.根據(jù)權利要求8所述的方法，其中，所述完全偏轉的像素與衍射最大消光度相對應。
10.根據(jù)權利要求2所述的方法，其中，所述棋盤圖案僅包括無偏轉和完全偏轉的像素。
11.根據(jù)權利要求2所述的方法，其中，所述棋盤圖案僅包括無偏轉和部分偏轉的像素。
12.根據(jù)權利要求10所述的方法，其中，所述完全偏轉的像素與衍射最大消光度相對應。
13.根據(jù)權利要求11所述的方法，其中，所述部分偏轉的像素與衍射的部分消光相對應。
14.根據(jù)權利要求2所述的方法，其中，分別多次檢測所述第一和第二圖案，其中，所述圖案中的像素被設定成各次檢測前具有不同偏轉度。
15.根據(jù)權利要求2所述的方法，其中，所述棋盤圖案僅包括完全偏轉和部分偏轉的像素。
16.根據(jù)權利要求2所述的方法，其中，所述棋盤圖案包括處于第一部分偏轉狀態(tài)和第二部分偏轉狀態(tài)的像素。
17.一種檢測包括多個像素元件的空間光調(diào)制器中的至少一個缺陷像素的方法，其包括步驟使用所述檢測器檢測所述空間光調(diào)制器中的像素的第一棋盤圖案的中繼圖像，使用所述檢測器檢測所述空間光調(diào)制器中的像素的第二棋盤圖案的中繼圖像，所述像素的第二棋盤圖案是所述第一棋盤圖案的反轉，分析所述第一和第二棋盤圖案的中繼圖像，以檢測所述檢測圖像和其理論圖像之間的差異。
18.根據(jù)權利要求17所述的方法，其中，由CCD攝像機檢測所述中繼圖像。
19.根據(jù)權利要求18所述的方法，其中，SLM像素的投影比CCD像素大。
20.根據(jù)權利要求17所述的方法，其中，在所述檢測器中不能分辨所述空間光調(diào)制器中的單個像素。
21.根據(jù)權利要求20所述的方法，其中，檢測器與空間光調(diào)制器之間的空間濾波器用于變化所述檢測器上的所述中繼圖像的分辨度。
22.根據(jù)權利要求17所述的方法，其中，通過至少兩次照射所述圖案并單獨檢測中繼圖像，而檢測所述第一和第二圖案中的至少一個。
23.根據(jù)權利要求17所述的方法，其中，所述棋盤圖案僅包括無偏轉和完全偏轉的像素。
24.根據(jù)權利要求17所述的方法，其中，所述棋盤圖案僅包括無偏轉和部分偏轉的像素。
25.根據(jù)權利要求23所述的方法，其中，所述完全偏轉的像素與衍射最大消光度相對應。
26.根據(jù)權利要求24所述的方法，其中，所述部分偏轉的像素與衍射部分消光相對應。
27.根據(jù)權利要求17所述的方法，其中，分別多次檢測所述第一和第二圖案，其中，所述圖案中的像素被設定成在各個檢測前具有不同偏轉度。
28.根據(jù)權利要求17所述的方法，其中，所述棋盤圖案僅包括完全偏轉和部分偏轉的像素。
29.根據(jù)權利要求17所述的方法，其中，所述棋盤圖案包括處于第一部分偏轉狀態(tài)和第二部分偏轉狀態(tài)的像素。
30.根據(jù)權利要求17所述的方法，其中，進一步包括步驟確定檢測器像素柵格中SLM基準像素。
31.一種檢測所述空間光調(diào)制器中至少一個偏轉像素的方法，其包括步驟使一第一棋盤圖案的圖像不清楚，以使規(guī)則的棋盤圖像在檢測器平面處成為均勻的背景，而缺陷像素在所述平面處成為所述均勻背景中的不規(guī)則并可由檢測器檢測。
32.根據(jù)權利要求31所述的方法，其中，進一步包括步驟使得第二棋盤圖案的圖像不清晰，以使規(guī)則的棋盤圖案在檢測器平面處成為均勻的背景，并且缺陷像素在所述平面處成為所述均勻背景中的不規(guī)則并可由檢測器檢測，其中，第二圖案是所述第一圖案的反轉。
33.根據(jù)權利要求31所述的方法，其中，所述檢測器為CCD攝像機。
34.根據(jù)權利要求33所述的方法，其中，SLM像素在所述CCD上的投影比CCD像素大。
35.根據(jù)權利要求31所述的方法，其中，所述棋盤圖案僅包括無偏轉和完全偏轉的像素。
36.根據(jù)權利要求31所述的方法，其中，所述棋盤圖案僅包括無偏轉和部分偏轉的像素。
37.根據(jù)權利要求35所述的方法，其中，所述完全偏轉的像素與衍射最大消光度相對應。
38.根據(jù)權利要求36所述的方法，其中，所述部分偏轉的像素與衍射部分消光相對應。
39.根據(jù)權利要求31所述的方法，其中，所述棋盤圖案僅包括完全偏轉和部分偏轉的像素。
40.根據(jù)權利要求17所述的方法，其中，所述棋盤圖案包括處于第一部分偏轉狀態(tài)和第二部分偏轉狀態(tài)的像素。
41.根據(jù)權利要求32所述的方法，其中，所述棋盤圖案僅包括無偏轉和完全偏轉的像素。
42.根據(jù)權利要求32所述的方法，其中，所述棋盤圖案僅包括無偏轉和部分偏轉的像素。
43.根據(jù)權利要求41所述的方法，其中，所述完全偏轉的像素與衍射最大消光度相對應。
44.根據(jù)權利要求42所述的方法，其中，所述部分偏轉的像素與衍射部分消光相對應。
45.根據(jù)權利要求32所述的方法，其中，所述棋盤圖案僅包括完全偏轉和部分偏轉的像素。
46.根據(jù)權利要求32所述的方法，其中，所述棋盤圖案包括處于第一部分偏轉狀態(tài)和第二部分偏轉狀態(tài)的像素。
47.根據(jù)權利要求31所述的方法，其中，進一步包括確定檢測器像素柵格中SLM基準像素。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種檢測包括多個像素元件的空間光調(diào)制器中至少一個缺陷像素的方法?？臻g光調(diào)制器對檢測器成像。由所述檢測器檢測所述空間光調(diào)制器中的像素的第一棋盤圖案的中繼圖像。由所述檢測器檢測所述空間光調(diào)制器中的像素的為第一棋盤圖案的反轉的第二棋盤圖案的中繼圖像。分析所述第一和第二圖像的中繼圖像以檢測所述檢測圖像與其理論圖像之間的差異。
文檔編號G09G3/34GK1723384SQ200480001745
公開日2006年1月18日 申請日期2004年1月14日 優(yōu)先權日2003年1月15日
發(fā)明者彼得·杜爾 申請人:麥克羅尼克激光系統(tǒng)公司