專利名稱：一種四階魔方的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及魔方技術(shù)領(lǐng)域，更具體的說(shuō)涉及一種四階魔方。
技術(shù)背景現(xiàn)有技術(shù)下，魔方是一種通俗易懂，變換萬(wàn)千，想要玩好必須需要玩者能夠集中心 力，不斷思索才行，所以，現(xiàn)在魔方已經(jīng)成為了一種益智玩具，吸引了一批又一批玩家，其中 包括很多的未成年人，現(xiàn)有的魔方一般以拼圖案為主，其結(jié)構(gòu)比較簡(jiǎn)單，但是，作用比較單 一，只有游戲、動(dòng)手操作的功能，沒(méi)有教育功能。不能做到教育、游戲、動(dòng)手能力的開(kāi)發(fā)三者 的有機(jī)結(jié)合
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù) 的不足之處提供一種四階魔方，能夠克服現(xiàn)有 技術(shù)的不足之處，提供一種集教育、游戲與動(dòng)手能力的開(kāi)發(fā)于一體的四階魔方。本實(shí)用新型的技術(shù)解決措施如下一種四階魔方，由八個(gè)露出三個(gè)外表面的邊角模塊、二十四個(gè)露出兩個(gè)外表面的 棱邊模塊和二十四個(gè)露出一個(gè)外表面的中心模塊連接而成，所述中心模塊露出的外表面成 型有一凹槽，凹槽內(nèi)成型有兩個(gè)定位圓柱，一長(zhǎng)方體的第一拼字塊安裝在所述凹槽，所述第 一拼字塊一側(cè)面成型的兩個(gè)第一定位圓孔與所述定位圓柱過(guò)渡配合安裝，所述第一拼字 塊一表面成型有漢字偏旁或者部首刻痕；所述棱邊模塊兩個(gè)露出的外表面均成型有一凹槽，凹槽內(nèi)成型有兩個(gè)定位圓柱， 一長(zhǎng)方體的第二拼字塊安裝在所述凹槽內(nèi)，所述第二拼字塊一側(cè)面成型的兩個(gè)第二定位圓 孔與所述定位圓柱過(guò)渡配合安裝，所述第一拼字塊一表面成型有漢字偏旁或者部首刻痕；所述邊角模塊三個(gè)露出的外表面均成型有一凹槽，凹槽內(nèi)成型有兩個(gè)定位圓柱， 一長(zhǎng)方體的第三拼字塊安裝在所述凹槽內(nèi)，所述第三拼字塊一側(cè)面成型的兩個(gè)第三定位圓 孔與所述定位圓柱過(guò)渡配合安裝，所述第三拼字塊一表面成型有漢字偏旁或者部首刻痕。所述的一種四階魔方，所述第一拼字塊另一側(cè)面成型有兩個(gè)第四定位圓孔，并且 該側(cè)面也成型有漢字偏旁或者部首刻痕。所述的一種四階魔方，所述第二拼字塊另一側(cè)面成型有兩個(gè)第五定位圓孔，并且 該側(cè)面也成型有漢字偏旁或者部首刻痕。所述的一種四階魔方，所述第三拼字塊另一側(cè)面成型有兩個(gè)第六定位圓孔，并且 該側(cè)面也成型有漢字偏旁或者部首刻痕。本實(shí)用新型有益效果在于1)本實(shí)用新型在組成魔方的模塊外表面上安裝有具有漢字偏旁或者部首的拼字 塊，能夠使得相鄰的兩個(gè)模塊外表面拼成一個(gè)漢字，在鍛煉動(dòng)手能力和思考能力的同時(shí)，起 到了教育的目的。2)所使用的拼字塊兩個(gè)表面都具有漢字偏旁或者部首的刻痕，可以翻轉(zhuǎn)安裝，形成新的漢字，提高了魔方的利用率。


以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步的說(shuō)明圖1為本實(shí)用新型外形示意圖； 圖2為邊角模塊與拼字塊分解結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為邊角模塊與拼字快分解旋轉(zhuǎn)90度的結(jié)構(gòu)示意圖；；圖4為棱邊模塊與拼字塊的分解結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為中心模塊與拼字塊的分解結(jié)構(gòu)示意圖。I-邊角模塊101-凹槽102-定位圓柱2-棱邊模塊201-凹槽202-定位圓柱3-中心模塊301-凹槽302-定位圓柱4-第一拼字塊401-第一定位圓孔402-第四定位圓孔5-第二拼字塊501-第二定位圓孔502-第五定位圓孔6-第三拼字塊601-第三定位圓孔602-第六定位圓孔
具體實(shí)施方式
以下所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，并不因此而限定本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。見(jiàn)附圖1 5所示一種四階魔方，由八個(gè)露出三個(gè)外表面的邊角模塊1、二十四 個(gè)露出兩個(gè)外表面的棱邊模塊2和二十四個(gè)露出一個(gè)外表面的中心模塊3連接而成，所述 中心模塊301露出的外表面成型有一凹槽301，凹槽301內(nèi)成型有兩個(gè)定位圓柱302，一長(zhǎng) 方體的第一拼字塊4安裝在所述凹槽301內(nèi)，所述第一拼字塊4 一側(cè)面成型的兩個(gè)第一定 位圓孔401與所述定位圓柱302過(guò)渡配合安裝，所述第一拼字塊4 一表面成型有漢字偏旁 或者部首刻痕；所述棱邊模塊2兩個(gè)露出的外表面均成型有一凹槽201，凹槽201內(nèi)成型有兩個(gè)定 位圓柱202，一長(zhǎng)方體的第二拼字塊5安裝在所述凹槽201內(nèi)，所述第二拼字塊5 —側(cè)面成 型的兩個(gè)第二定位圓孔501與所述定位圓柱202過(guò)渡配合安裝，所述第一拼字塊4 一表面 成型有漢字偏旁或者部首刻痕；所述邊角模塊1三個(gè)露出的外表面均成型有一凹槽101，凹槽101內(nèi)成型有兩個(gè)定 位圓柱102，一長(zhǎng)方體的第三拼字塊6安裝在所述凹槽101內(nèi)，所述第三拼字塊6 —側(cè)面成 型的兩個(gè)第三定位圓孔601與所述定位圓柱102過(guò)渡配合安裝，所述第三拼字塊6 —表面 成型有漢字偏旁或者部首刻痕。所述第一拼字塊4另一側(cè)面成型有兩個(gè)第四定位圓孔402，并且該側(cè)面也成型有 漢字偏旁或者部首刻痕。所述第二拼字塊5另一側(cè)面成型有兩個(gè)第五定位圓孔502，并且該側(cè)面也成型有 漢字偏旁或者部首刻痕。所述第三拼字塊6另一側(cè)面成型有兩個(gè)第六定位圓孔602，并且該側(cè)面也成型有 漢字偏旁或者部首刻痕。[0033] 工作原 理在使用的時(shí)候相鄰模塊上安裝的第一、第二、第三拼字塊4、5、6在縱向 或者橫向方向上能夠拼成漢字。
權(quán)利要求一種四階魔方，由八個(gè)露出三個(gè)外表面的邊角模塊(1)、二十四個(gè)露出兩個(gè)外表面的棱邊模塊(2)和二十四個(gè)露出一個(gè)外表面的中心模塊(3)連接而成，其特征在于所述中心模塊(301)露出的外表面成型有一凹槽(301)，凹槽(301)內(nèi)成型有兩個(gè)定位圓柱(302)，一長(zhǎng)方體的第一拼字塊(4)安裝在所述凹槽(301)內(nèi)，所述第一拼字塊(4)一側(cè)面成型的兩個(gè)第一定位圓孔(401)與所述定位圓柱(302)過(guò)渡配合安裝，所述第一拼字塊(4)一表面成型有漢字偏旁或者部首刻痕；所述棱邊模塊(2)兩個(gè)露出的外表面均成型有一凹槽(201)，凹槽(201)內(nèi)成型有兩個(gè)定位圓柱(202)，一長(zhǎng)方體的第二拼字塊(5)安裝在所述凹槽(201)內(nèi)，所述第二拼字塊(5)一側(cè)面成型的兩個(gè)第二定位圓孔(501)與所述定位圓柱(202)過(guò)渡配合安裝，所述第一拼字塊(4)一表面成型有漢字偏旁或者部首刻痕；所述邊角模塊(1)三個(gè)露出的外表面均成型有一凹槽(101)，凹槽(101)內(nèi)成型有兩個(gè)定位圓柱(102)，一長(zhǎng)方體的第三拼字塊(6)安裝在所述凹槽(101)內(nèi)，所述第三拼字塊(6)一側(cè)面成型的兩個(gè)第三定位圓孔(601)與所述定位圓柱(102)過(guò)渡配合安裝，所述第三拼字塊(6)一表面成型有漢字偏旁或者部首刻痕。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種四階魔方，其特征在于所述第一拼字塊(4)另一側(cè)面 成型有兩個(gè)第四定位圓孔(402)，并且該側(cè)面也成型有漢字偏旁或者部首刻痕。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種四階魔方，其特征在于所述第二拼字塊(5)另一側(cè)面 成型有兩個(gè)第五定位圓孔(502)，并且該側(cè)面也成型有漢字偏旁或者部首刻痕。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種四階魔方，其特征在于所述第三拼字塊(6)另一側(cè)面 成型有兩個(gè)第六定位圓孔(602)，并且該側(cè)面也成型有漢字偏旁或者部首刻痕。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種四階魔方，由八個(gè)露出三個(gè)外表面的邊角模塊、二十四個(gè)露出兩個(gè)外表面的棱邊模塊和二十四個(gè)露出一個(gè)外表面的中心模塊連接而成，所述中心模塊露出的外表面成型有一凹槽，凹槽內(nèi)成型有兩個(gè)定位圓柱，一長(zhǎng)方體的拼字塊安裝在所述凹槽，所述拼字塊一側(cè)面成型的兩個(gè)定位圓孔與所述定位圓柱過(guò)渡配合安裝，所述拼字塊一表面成型有漢字偏旁或者部首刻痕；所述棱邊模塊兩個(gè)露出的外表面均成型有一凹槽，凹槽內(nèi)安裝有拼字塊；所述邊角模塊三個(gè)露出的外表面均成型有一凹槽，凹槽內(nèi)安裝有拼字塊，在鍛煉動(dòng)手能力和思考能力的同時(shí)，起到了教育的目的。
文檔編號(hào)G09B19/00GK201701731SQ20102012036
公開(kāi)日2011年1月12日 申請(qǐng)日期2010年3月1日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月1日
發(fā)明者李瀟瀟 申請(qǐng)人:李瀟瀟