本實(shí)用新型涉及教學(xué)用品領(lǐng)域,具體涉及一種趣味轉(zhuǎn)盤詞匯講解裝置。
背景技術(shù):
英語詞匯難記一直是學(xué)習(xí)英語的人感到困難的事,詞匯是語言文字的基本要素,詞匯積累量及理解程度對英語水平的提高有很大影響,而英語中詞匯的釋義常常一詞多意,也增加了學(xué)習(xí)記憶難度,記住這些詞匯和釋義,也是學(xué)習(xí)英語時既困難又重要的事。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
為解決現(xiàn)有技術(shù)的問題,本實(shí)用新型提供了一種加深學(xué)生理解認(rèn)識,增加學(xué)習(xí)趣味性的趣味轉(zhuǎn)盤詞匯講解裝置。
為了達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案:一種趣味轉(zhuǎn)盤詞匯講解裝置,包括底座,底座上部固定有支撐桿,所述支撐桿上端設(shè)置轉(zhuǎn)軸,轉(zhuǎn)軸中部設(shè)置定位標(biāo),轉(zhuǎn)軸底部設(shè)置底轉(zhuǎn)盤,底轉(zhuǎn)盤上設(shè)置中轉(zhuǎn)盤,中轉(zhuǎn)盤上設(shè)置上轉(zhuǎn)盤,上轉(zhuǎn)盤等間距設(shè)置第一標(biāo)示線,中轉(zhuǎn)盤等間距設(shè)置第二標(biāo)示線,底轉(zhuǎn)盤等間距設(shè)置第三標(biāo)示線,底轉(zhuǎn)盤直徑大于中轉(zhuǎn)盤直徑,中轉(zhuǎn)盤直徑大于上轉(zhuǎn)盤直徑。
優(yōu)選的所述上轉(zhuǎn)盤包括設(shè)置有第一凹槽的第一上半轉(zhuǎn)盤,第二上半轉(zhuǎn)盤通過設(shè)置于第一凹槽內(nèi)的第一凸棱與第一上半轉(zhuǎn)盤相連,中轉(zhuǎn)盤包括設(shè)置有第二凹槽的第一中半轉(zhuǎn)盤,第二中半轉(zhuǎn)盤通過設(shè)置于第二凹槽內(nèi)的第二凸棱與第一中半轉(zhuǎn)盤相連,底轉(zhuǎn)盤包括設(shè)置有第三凹槽的第一底半轉(zhuǎn)盤,第二底半轉(zhuǎn)盤通過設(shè)置于第三凹槽內(nèi)的第三凸棱與第一底半轉(zhuǎn)盤相連。
優(yōu)選的所述底轉(zhuǎn)盤邊緣上設(shè)置第一標(biāo)寫槽,中轉(zhuǎn)盤邊緣上設(shè)置第二標(biāo)寫槽,上轉(zhuǎn)盤邊緣上設(shè)置第三標(biāo)寫槽。
優(yōu)選的所述支撐桿為伸縮桿。
優(yōu)選的所述支撐桿中部設(shè)置有書寫板。
本實(shí)用新型使得教學(xué)效果理想,加深學(xué)生對詞匯的理解認(rèn)識,增加學(xué)習(xí)趣味性,三轉(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu)上轉(zhuǎn)盤可以標(biāo)寫前綴,中轉(zhuǎn)盤可以標(biāo)寫詞根,底轉(zhuǎn)盤上標(biāo)寫由前綴詞根組成的單詞的注釋,將底轉(zhuǎn)盤和中轉(zhuǎn)盤以及上轉(zhuǎn)盤涉及該單詞的標(biāo)寫部調(diào)至定位標(biāo)指向處,三轉(zhuǎn)盤也可以講解前綴詞根后綴組成的單詞,使得學(xué)生在動手操作轉(zhuǎn)盤中不僅深刻認(rèn)識復(fù)雜單詞的組成和解釋,更能加深認(rèn)識,增加學(xué)習(xí)趣味性,轉(zhuǎn)盤可拆裝結(jié)構(gòu)便于從轉(zhuǎn)軸上取出轉(zhuǎn)盤從而方便更改轉(zhuǎn)盤上的內(nèi)容,也便于將三轉(zhuǎn)盤變?yōu)閮赊D(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu),講解構(gòu)成簡單的單詞及解釋,增加裝置的使用靈活性,也便于清洗裝置,伸縮桿可調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤高度,方便操作講解,標(biāo)寫槽的設(shè)置便于內(nèi)容的填寫,可以將內(nèi)容寫入標(biāo)寫槽,也可標(biāo)寫槽分別設(shè)置不同底色,方便分別,加深記憶,書寫板用于書寫詞匯及相關(guān)內(nèi)容,通過手寫做到手腦口并用加深記憶。
附圖說明
圖1是本實(shí)用新型趣味轉(zhuǎn)盤詞匯講解裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是本實(shí)用新型趣味轉(zhuǎn)盤詞匯講解裝置的轉(zhuǎn)盤側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3是本實(shí)用新型趣味轉(zhuǎn)盤詞匯講解裝置的上轉(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4是本實(shí)用新型趣味轉(zhuǎn)盤詞匯講解裝置的中轉(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu)示意圖。
圖5是本實(shí)用新型趣味轉(zhuǎn)盤詞匯講解裝置的底轉(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面通過實(shí)施例對本實(shí)用新型做進(jìn)一步詳細(xì)說明,實(shí)施例僅用來說明本實(shí)用新型,并不限制本實(shí)用新型的范圍。
如圖1、2、3、4、5所示的趣味轉(zhuǎn)盤詞匯講解裝置,包括底座23,底座23上部固定有支撐桿7,支撐桿7上端設(shè)置轉(zhuǎn)軸5,轉(zhuǎn)軸5為水平方向,轉(zhuǎn)軸5中部設(shè)置定位標(biāo)6,轉(zhuǎn)軸5底部設(shè)置底轉(zhuǎn)盤,底轉(zhuǎn)盤上設(shè)置中轉(zhuǎn)盤,中轉(zhuǎn)盤上設(shè)置上轉(zhuǎn)盤,上轉(zhuǎn)盤等間距設(shè)置第一標(biāo)示線10,中轉(zhuǎn)盤等間距設(shè)置第二標(biāo)示線9,底轉(zhuǎn)盤等間距設(shè)置第三標(biāo)示線8,第一標(biāo)示線10和第二標(biāo)示線9以及第三標(biāo)示線8數(shù)量一致,均分所在的轉(zhuǎn)盤面積,使得底,中,上部轉(zhuǎn)盤在能使得標(biāo)示線重合,底轉(zhuǎn)盤直徑大于中轉(zhuǎn)盤直徑,中轉(zhuǎn)盤直徑大于上轉(zhuǎn)盤直徑。三轉(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu)上轉(zhuǎn)盤可以標(biāo)寫前綴,中轉(zhuǎn)盤可以標(biāo)寫詞根,底轉(zhuǎn)盤上標(biāo)寫由前綴詞根組成的單詞的注釋,將底轉(zhuǎn)盤和中轉(zhuǎn)盤以及上轉(zhuǎn)盤涉及該單詞的標(biāo)寫部調(diào)至定位標(biāo)指向處,三轉(zhuǎn)盤也可以講解前綴詞根后綴組成的單詞,使得學(xué)生在動手操作轉(zhuǎn)盤中不僅深刻認(rèn)識復(fù)雜單詞的組成和解釋,更能加深認(rèn)識,增加學(xué)習(xí)趣味性。
上轉(zhuǎn)盤包括設(shè)置有第一凹槽17的第一上半轉(zhuǎn)盤2,第二上半轉(zhuǎn)盤14通過設(shè)置于第一凹槽17內(nèi)的第一凸棱18與第一上半轉(zhuǎn)盤2相連,中轉(zhuǎn)盤包括設(shè)置有第二凹槽19的第一中半轉(zhuǎn)盤3,第二中半轉(zhuǎn)盤15通過設(shè)置于第二凹槽19內(nèi)的第二凸棱20與第一中半轉(zhuǎn)盤3相連,底轉(zhuǎn)盤包括設(shè)置有第三凹槽21的第一底半轉(zhuǎn)盤4,第二底半轉(zhuǎn)盤16通過設(shè)置于第三凹槽21內(nèi)的第三凸棱22與第一底半轉(zhuǎn)盤4相連,轉(zhuǎn)盤可拆裝結(jié)構(gòu)便于從轉(zhuǎn)軸上取出轉(zhuǎn)盤從而方便更改轉(zhuǎn)盤上的內(nèi)容,也便于將三轉(zhuǎn)盤變?yōu)閮赊D(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu),講解構(gòu)成簡單的單詞及解釋,增加裝置的使用靈活性,也便于清洗裝置。
底轉(zhuǎn)盤邊緣上設(shè)置第一標(biāo)寫槽13,中轉(zhuǎn)盤邊緣上設(shè)置第二標(biāo)寫槽12,上轉(zhuǎn)盤邊緣上設(shè)置第三標(biāo)寫槽11,標(biāo)寫槽的設(shè)置便于內(nèi)容的填寫,可以將內(nèi)容寫入標(biāo)寫槽,也可標(biāo)寫槽分別設(shè)置不同底色,方便分別,加深記憶。
支撐桿7為伸縮桿,可調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤高度,方便操作講解。
支撐桿7中部設(shè)置有書寫板24,用于書寫詞匯及相關(guān)內(nèi)容,通過手寫做到手腦口并用加深記憶。
通過轉(zhuǎn)動書寫默讀等動作寓學(xué)于樂,在動手中加深記憶,因為轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動的隨機(jī)性,而三個轉(zhuǎn)盤的組合性也給使用者帶來了豐富多樣的學(xué)習(xí)內(nèi)容,如可以在底轉(zhuǎn)盤上確定釋義或音標(biāo)內(nèi)容,然后在中轉(zhuǎn)盤上設(shè)置音標(biāo)或釋義,在上轉(zhuǎn)盤盤上設(shè)置單詞或詞匯內(nèi)容,這樣就給使用者帶來了很好的學(xué)習(xí)體驗,而不是填鴨式的學(xué)習(xí)苦惱,調(diào)動學(xué)生的學(xué)習(xí)積極性,學(xué)習(xí)效果得到提高,激發(fā)學(xué)生的學(xué)習(xí)興趣。
以上所述,僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,并非是對本實(shí)用新型作其它形式的限制,任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員可能利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容加以變更或改型為等同變化的等效實(shí)施例。但是凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案內(nèi)容,依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對以上實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與改型,仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的保護(hù)范圍。