本發(fā)明涉及一種利用太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)軌跡進(jìn)行場(chǎng)地日照遮擋分析的工具。

背景技術(shù)：

由于地球的自轉(zhuǎn)，站在地球上的人們所看到的太陽(yáng)運(yùn)動(dòng)軌跡是每天東升日落，這實(shí)際上是一種相對(duì)運(yùn)動(dòng)，稱之為太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)。因?yàn)榫暥鹊年P(guān)系，每個(gè)緯度的太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)軌跡是不一樣的。

在建筑領(lǐng)域，經(jīng)常利用太陽(yáng)的視運(yùn)動(dòng)來(lái)分析建筑物的日照情況。

目前中國(guó)的光伏電站建設(shè)越來(lái)越多。光伏電站是依靠太陽(yáng)光照射來(lái)發(fā)電的，因此擬安裝光伏電站的場(chǎng)地周邊的物體不能對(duì)場(chǎng)地造成遮擋，阻礙太陽(yáng)光的照射。因此，如何確定場(chǎng)地是否被周邊物體遮擋是光伏電站勘測(cè)中的一個(gè)重要問題?，F(xiàn)有進(jìn)行擬建光伏電站場(chǎng)地遮擋分析的方法一般是建立計(jì)算機(jī)模型，通過(guò)計(jì)算機(jī)進(jìn)行仿真分析，這種方法雖然精確度很好，但耗時(shí)較長(zhǎng)、效率較低，尤其是現(xiàn)在中小型分布式光伏項(xiàng)目越來(lái)越多，工期越來(lái)越緊張?；蛘卟捎萌缣?yáng)測(cè)量師(sunsurveyor)等手機(jī)app進(jìn)行觀測(cè)，但因手機(jī)鏡頭角度較窄的原因，在app中無(wú)法進(jìn)行太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)軌跡的全景顯示，非專業(yè)技術(shù)人員難以操作使用。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是提供一種簡(jiǎn)單低廉的，可直觀快速的用于判斷擬建光伏電站的場(chǎng)地日照遮擋情況的工具，并且該工具能全面展示所在地太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)軌跡。

本發(fā)明的太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)軌跡儀，包括一基片1和一透明塑料軌跡片2；基片1上下兩邊各設(shè)置有左右對(duì)稱的兩個(gè)翼片；左翼片51的左邊與基片相連，右翼片52的右邊與基片相連；左翼片51的右端與右翼片52的左端連接在一起；基片1的中部設(shè)置有一透明觀測(cè)窗口區(qū)3；透明觀測(cè)窗口區(qū)3的四邊各設(shè)置有一個(gè)向內(nèi)的舌片4；透明塑料軌跡片2卡在基片1上四個(gè)向內(nèi)的舌片4內(nèi)。

在基片1上左右對(duì)稱的一對(duì)翼片中的一個(gè)翼片上遠(yuǎn)離與基片1連接端的另一端設(shè)置有插口61，另一個(gè)翼片上遠(yuǎn)離與基片1連接端的另一端設(shè)置有對(duì)應(yīng)的朝向連接端的插片62；插片62插在插口61中。

在透明觀測(cè)窗口區(qū)3的豎邊設(shè)置有太陽(yáng)高度角刻度線71，在透明觀測(cè)窗口的底邊設(shè)置有太陽(yáng)方位角刻度線72。

翼片與基片1相連處設(shè)置有折痕8；左側(cè)上下兩個(gè)左翼片51的折痕線處于太陽(yáng)方位角-90°刻度線上，右側(cè)上下兩個(gè)右翼片52的折痕線處于太陽(yáng)方位角90°刻度線上。

軌跡片2上印制有某一緯度的太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)軌跡圖9，太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)軌跡圖9的高度角和方位角分別與基片1上的高度角刻度線71和方位角刻度線72相對(duì)應(yīng)。

本發(fā)明也可直接在透明觀測(cè)窗口區(qū)3上印制太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)軌跡圖9，這樣就不需要軌跡片2了。

本發(fā)明采用兩個(gè)簡(jiǎn)單的塑料片，利用塑料片的易彎折及可設(shè)置插口的特性，提供了一種簡(jiǎn)單低廉的，可直觀快速的用于判斷擬建光伏電站的場(chǎng)地遮擋情況的工具，并且該工具能全面展示所在地太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)軌跡。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明的基片平面示意圖。

圖2為本發(fā)明北緯40°太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)軌跡基片平面示意圖。

圖3為本發(fā)明的使用狀態(tài)參考圖。

圖中：基片1、軌跡片2、觀測(cè)窗口區(qū)3、舌片4、左翼片51、右翼片52、插口61、插片62、太陽(yáng)高度角刻度線71、太陽(yáng)方位角刻度線72、折痕8、太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)軌跡圖9。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步說(shuō)明。

本發(fā)明包括一透明塑料片制作的基片1。在基片1上下兩邊各設(shè)置有左右對(duì)稱的兩個(gè)翼片，這兩個(gè)翼片均是在基片1上切割而來(lái)。左翼片51的左邊與基片相連，右翼片52的右邊與基片相連。在翼片與基片1的相連處壓有折痕8。左翼片51的右端切割有插口61，右翼片的左端切割有朝向右側(cè)的插片62，插片62插在插口61中。在基片1的中部設(shè)置有透明觀測(cè)窗口區(qū)3，透明觀測(cè)窗口區(qū)3的四邊各設(shè)置有一個(gè)向內(nèi)的舌片4。在透明觀測(cè)窗口區(qū)3的豎邊設(shè)置有太陽(yáng)高度角刻度線71，在透明觀測(cè)窗口的底邊設(shè)置有太陽(yáng)方位角刻度線72。

本發(fā)明還包括透明塑料軌跡片2，軌跡片2上印制有某一緯度的太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)軌跡圖9。

本發(fā)明軌跡片2的四個(gè)邊卡在基片1上四個(gè)向內(nèi)的舌片內(nèi)。軌跡片2上的太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)軌跡圖9的高度角和方位角分別與基片1上的高度角刻度線71和方位角刻度線72相對(duì)應(yīng)。本發(fā)明基片1上的折痕8分別與太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)軌跡圖的-90°和90°方位角相對(duì)應(yīng)。

手持彎曲好的本發(fā)明底部，處于北半球時(shí)，將方位角0°朝向正南方，-90°朝向東方，90°朝向西方。在下側(cè)兩翼片的中間部分豎線與方位角0°線的交叉點(diǎn)處為觀察點(diǎn)，眼睛處于觀測(cè)點(diǎn)處，透過(guò)軌跡片2就可以觀察到前方及左右方向的物體是否與軌跡片2上的太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)軌跡圖有重疊，重疊處就是該觀測(cè)處被該物體遮擋的日期段及時(shí)間段。

本發(fā)明的另一種實(shí)施方式是直接在透明觀測(cè)窗口區(qū)3上印制太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)軌跡圖9，這樣就不需要軌跡片2了，也就不需要在基片上設(shè)置舌片了。但因?yàn)槊恳粋€(gè)緯度的太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)軌跡圖不一樣，此種實(shí)施方式比前一種實(shí)施方式增加了很多成本。

任何利用塑料片單體的切割方式形成的連接機(jī)構(gòu)組成的太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)軌跡觀測(cè)儀器都在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。

技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)軌跡儀，用于場(chǎng)地日照遮擋分析。包括基片和透明塑料軌跡片；基片上下兩邊各設(shè)置有左右對(duì)稱的兩個(gè)翼片；左翼片的左邊與基片相連，右翼片的右邊與基片相連；左右兩翼片連接在一起；基片中部設(shè)有透明觀測(cè)窗口區(qū)；透明觀測(cè)窗口區(qū)的四邊各設(shè)置有一個(gè)向內(nèi)的舌片；軌跡片卡在基片上的舌片內(nèi)。在透明觀測(cè)窗口區(qū)的豎邊設(shè)置有太陽(yáng)高度角刻度線，在透明觀測(cè)窗口的底邊設(shè)置有太陽(yáng)方位角刻度線。軌跡片上印制有某一緯度的太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)軌跡圖，太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)軌跡圖的高度角和方位角分別與基片上的高度角刻度線和方位角刻度線相對(duì)應(yīng)。翼片與基片相連處設(shè)置有折痕；左右兩側(cè)的折痕分別處于太陽(yáng)視運(yùn)動(dòng)軌跡圖的?90°和90°方位角線上。

技術(shù)研發(fā)人員：劉峰
受保護(hù)的技術(shù)使用者：劉峰
技術(shù)研發(fā)日：2017.03.29
技術(shù)公布日：2017.07.14