層金屬鍍層；由吸收層、低折射率介質(zhì)層和反射層依次堆疊形成的鍍層，其中吸收層與基材2相接觸；高折射率介質(zhì)層鍍層；由高折射率介質(zhì)層、低折射率介質(zhì)層和高折射率介質(zhì)層依次堆疊形成的多介質(zhì)層鍍層；以及由吸收層、高折射率介質(zhì)層和反射層依次堆疊形成的鍍層，其中，吸收層與基材2相接觸。在根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式中，高折射率介質(zhì)層指的是折射率大于等于1.7的介質(zhì)層，其材料可以是ZnS、TiN、Ti02、T1、Ti203、Ti305、Ta205、Nb205、Ce02、Bi203、Cr203、Fe203、Hf02、ZnO等，低折射率介質(zhì)層指的是折射率小于1.7的介質(zhì)層，其材料可以是MgF2、Si02等。金屬鍛層或反射層的材料可以是Al、Cu、N1、Cr、Ag、Fe、Sn、Au、Pt等金屬或其混合物和合金；吸收層材料可以是Cr、N1、Cu、Co、T1、V、W、Sn、S1、Ge等金屬或其混合物和合金。
[0035]優(yōu)選地,反射層5可以選擇液晶光變層、光變油墨層、多層介質(zhì)干涉膜、或其它由油墨、顏料或染料形成的帶有顏色的反射層。
[0036]優(yōu)選地，反射層5中還可以形成有鏤空?qǐng)D案，其中所述鏤空?qǐng)D案可以為宏觀圖案、微文字、精細(xì)線條等，從而能夠?qū)崿F(xiàn)更好的防偽效果。優(yōu)選地，反射層5可以依附于能夠按需求對(duì)反射光進(jìn)行調(diào)制的浮雕結(jié)構(gòu)，所述浮雕結(jié)構(gòu)包括平面、曲面形狀結(jié)構(gòu)或它們的任意組合，例如，反射層5可以是鋸齒型、平面微反射鏡型、正弦型反射面，采用這樣的反射層5的優(yōu)勢(shì)在于能夠提供所述浮雕結(jié)構(gòu)與反射層5共同提供的光學(xué)防偽特征，同時(shí)能夠控制采樣合成所形成的再現(xiàn)圖像的觀察角度。
[0037]例如，圖4示出了根據(jù)本發(fā)明的反射層5依附于鋸齒型微結(jié)構(gòu)的光學(xué)防偽元件1的剖面圖。入射光從位于基材2的第一表面上的微浮雕結(jié)構(gòu)入射至位于基材2的第二表面上的反射層5后的出射方向由鋸齒型反射層5的斜面傾角β決定。鋸齒形反射層5的一個(gè)優(yōu)勢(shì)是能夠控制采樣合成再現(xiàn)圖像的觀察角度，同時(shí)提供了鋸齒形微結(jié)構(gòu)與反射層5共同提供的光學(xué)防偽特征。
[0038]另外，位于所述光學(xué)防偽元件1的基材2的第二表面上的用于調(diào)制反射層5的表面微結(jié)構(gòu)的原版可以通過(guò)與制作包含微透鏡陣列3和微圖文陣列4的表面微結(jié)構(gòu)相同的制作方法來(lái)實(shí)現(xiàn)。在后續(xù)批量復(fù)制中可例如采用紫外固化材料澆鑄工藝完成。
[0039]優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)防偽元件1的微浮雕結(jié)構(gòu)和/或反射層5上可以涂布保護(hù)層或粘結(jié)層，例如圖5所示為在光學(xué)防偽元件1的帶有微透鏡陣列3和微圖文陣列4的表面涂布保護(hù)層6的示例。形成保護(hù)層或粘結(jié)層的目的是保護(hù)本發(fā)明的實(shí)施方式的光學(xué)防偽元件1不受外界環(huán)境影響或基于應(yīng)用的考慮將根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的光學(xué)防偽元件1與防偽產(chǎn)品粘結(jié)在一起。所述保護(hù)層或粘結(jié)層可以覆蓋其所涂布的表面的部分或全部。當(dāng)保護(hù)層或粘結(jié)層與根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的微浮雕結(jié)構(gòu)直接接觸時(shí)，所述保護(hù)層或粘結(jié)層的折射率小于微浮雕結(jié)構(gòu)的折射率，并且兩者的折射率的差值大于或等于0.3。需要說(shuō)明的是，在實(shí)際應(yīng)用中當(dāng)所述保護(hù)層或粘結(jié)層與本發(fā)明的實(shí)施方式的微浮雕結(jié)構(gòu)直接接觸時(shí)，由于形成微浮雕結(jié)構(gòu)的材料與其表面的保護(hù)層或粘結(jié)層的折射率差值通常小于形成微浮雕結(jié)構(gòu)的材料與空氣之間的折射率差，這樣將對(duì)作為聚焦元件的微透鏡有更高的要求，例如包括微透鏡底面直徑需更小，微透鏡高度需更高。
[0040]優(yōu)選地，所述保護(hù)層或粘結(jié)層至少是半透明的。
[0041]優(yōu)選地，所述保護(hù)層或粘結(jié)層具有增加顏色效果的功能，從而提高采樣合成再現(xiàn)圖像的表現(xiàn)力。可例如采用油墨、顏料、染料、液晶、熒光材料等形成具有顏色效果的功能，可例如通過(guò)涂布、印刷、噴墨、染色、沉積等方式實(shí)施。
[0042]圖6a、圖6b分別為正面觀察和傾斜觀察時(shí)，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的光學(xué)防偽元件1中選擇的覆蓋在微透鏡陣列3表面的微圖文陣列4為由在微透鏡陣列3的微透鏡表面及微透鏡間的間隙中形成的凹結(jié)構(gòu)所組成。所述凹結(jié)構(gòu)可以組成例如圖2或圖3中所示的微圖文陣列4的形式，當(dāng)然也可以根據(jù)設(shè)計(jì)需求，所述凹結(jié)構(gòu)可以是由多個(gè)微圖文單元構(gòu)成的非周期陣列、隨機(jī)性陣列、周期性陣列、局部周期性陣列或它們的任意組合。
[0043]圖7a、圖7b分別為正面觀察和傾斜觀察時(shí)，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)防偽元件1的微透鏡陣列3中的微透鏡單元選擇為菲涅耳透鏡組成微透鏡陣列3時(shí)的光學(xué)防偽元件1的剖面圖。微圖文陣列4形成于微透鏡陣列的表面。菲涅耳透鏡陣列作為微透鏡陣列3其與球面微透鏡陣列相比的部分優(yōu)勢(shì)在于其為實(shí)現(xiàn)相同的焦距以及在具有相同的微透鏡底面直徑的情況下具有更小的透鏡高度，從而使得微圖文陣列的位置相對(duì)地更加逼近于無(wú)起伏的平面，有利于微透鏡陣列對(duì)微圖文陣列的高質(zhì)量成像，另外菲涅耳透鏡的相對(duì)較低的透鏡高度也有利于光學(xué)防偽元件1的整體厚度更薄。
[0044]圖8a、圖8b分別為正面觀察和傾斜觀察時(shí)，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)防偽元件1采用亞微米光柵填充例如圖2或圖3所示的微圖文單元或其背景時(shí)形成的微圖文陣列4覆蓋在微透鏡單元3上的光學(xué)防偽元件1的剖面圖。所述亞微米光柵為周期為250nm-400nm的一維或二維光柵，優(yōu)選地，可在所述微圖文陣列4上沉積高折射率材料(折射率大于1.7，例如ZnS)或沉積依次堆疊的高低折射率材料(例如:高折射率-低折射率-高折射率疊層結(jié)構(gòu))從而使得相應(yīng)的沉積層與亞微米光柵結(jié)合提供顏色特征，其機(jī)理與具體特征包含在中國(guó)專利CN101368352及中國(guó)專利CN102514443中，從而使得微透鏡陣列3對(duì)微圖文陣列4的莫爾放大圖像為帶有顏色的圖像。優(yōu)選地，所述亞微米光柵還可以替換為其它具有衍射、非衍射、或散射等功能的表面微結(jié)構(gòu)。
[0045]下面結(jié)合圖9a_9d對(duì)根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)防偽元件1的有益效果作進(jìn)一步的說(shuō)明。圖9a-9d示意性地示出了由球面微透鏡7、橢球面微透鏡8、柱面微透鏡9、諧衍射微透鏡10、平面衍射微透鏡11、菲涅耳波帶片12組成的在平面內(nèi)隨機(jī)排列的微透鏡陣列3和相對(duì)應(yīng)的微圖文陣列4所組成的微浮雕結(jié)構(gòu)的平面俯視圖(圖9a)、立體結(jié)構(gòu)示意圖(圖9b)和人眼觀察到的采樣合成再現(xiàn)圖像示意圖(圖9c和9d)。圖9a-9d中的“a、b、c、d、e、f”的實(shí)心和空心字符示意并象征性地代表微圖文陣列3的微圖文單元(或稱像素)，為敘述方便，并未示出在透鏡表面覆蓋的微圖文單元。其中圖9c和9d示意性地分別示出了在觀察角度μ和V下人眼所觀察到的再現(xiàn)圖像13和再現(xiàn)圖像14，而忽略其它觀察角度下所對(duì)應(yīng)的微圖文陣列情況以及再現(xiàn)圖像情況。圖9c和9d還分別針對(duì)μ和V兩個(gè)觀察角度標(biāo)明了從微圖文透射的光線被微透鏡收集的路徑。
[0046]圖9a_9d的示例可以進(jìn)一步說(shuō)明以下幾點(diǎn):
[0047](1)微透鏡陣列3中的微透鏡單元的選取可以是多樣的，可選取折射型和衍射型微透鏡中的一種或幾種的結(jié)合。
[0048](2)微透鏡陣列3和微圖文陣列4均可以是非周期性的或隨機(jī)排列的。
[0049](3)微透鏡陣列3和微圖文陣列4之間存在著相應(yīng)的對(duì)應(yīng)關(guān)系，以實(shí)現(xiàn)相應(yīng)的再現(xiàn)圖像。圖9a_9d中示意性地給出