有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)發(fā)光二極管包括兩個(gè)電極和位于它們之間的有機(jī)發(fā)射層。當(dāng)從一個(gè)電極注入的電子和從另一個(gè)電極注入的空穴在有機(jī)發(fā)射層中彼此結(jié)合以形成激子并且激子釋放能量時(shí),有機(jī)發(fā)光二極管發(fā)光。
[0003]有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置包括多個(gè)像素,所述多個(gè)像素包括作為自發(fā)射元件的有機(jī)發(fā)光二極管,在每個(gè)像素中,形成用于驅(qū)動(dòng)有機(jī)發(fā)光二極管的多個(gè)晶體管和一個(gè)或更多個(gè)電容器。所述多個(gè)晶體管基本上包括開關(guān)晶體管和驅(qū)動(dòng)晶體管。
[0004]有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置的布線圖案可以通過使用光刻工藝形成。曝光工藝(光刻工藝的一部分)中使用的曝光掃描儀的多個(gè)透鏡會(huì)在其端部彼此疊置,曝光量在透鏡的疊置部分會(huì)是不均勻的。在這種情況下,布線圖案會(huì)從待形成布線圖案的位置(例如,預(yù)定的位置)移位(例如,移動(dòng)預(yù)定的距離),并且會(huì)發(fā)生與形成在其下或其上的布線的疊置距離變化的覆蓋改變(overlay change) 0根據(jù)覆蓋改變,存儲(chǔ)電容可能改變,結(jié)果,在像素中流動(dòng)的電流是不均勻的并且會(huì)產(chǎn)生斑點(diǎn)。
[0005]在這個(gè)【背景技術(shù)】部分中公開的以上信息僅為了增強(qiáng)對(duì)本發(fā)明的背景的理解,因此它可能包含不形成本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在本國已知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0006]本發(fā)明的多個(gè)方面提供了可以減少(或防止)由于覆蓋改變?cè)斐傻陌唿c(diǎn)的有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置。
[0007]本公開的示例性實(shí)施例提供了一種有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置,所述有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置包括:基底;掃描線,位于基底上并被構(gòu)造為傳遞掃描信號(hào);數(shù)據(jù)線和驅(qū)動(dòng)電壓線,與掃描線交叉并被構(gòu)造為分別傳遞數(shù)據(jù)電壓和驅(qū)動(dòng)電壓;開關(guān)晶體管,與掃描線和數(shù)據(jù)線連接并且包括被構(gòu)造為輸出數(shù)據(jù)電壓的開關(guān)漏電極;驅(qū)動(dòng)晶體管,包括與開關(guān)漏電極連接的驅(qū)動(dòng)?xùn)烹姌O;存儲(chǔ)電容器,包括與驅(qū)動(dòng)?xùn)烹姌O連接的第一存儲(chǔ)電極和與驅(qū)動(dòng)電壓線連接的第二存儲(chǔ)電極;有機(jī)發(fā)光二極管,與驅(qū)動(dòng)晶體管的驅(qū)動(dòng)漏電極電連接。存儲(chǔ)電容器包括:連接器,其中,第二存儲(chǔ)電極的邊緣沿朝向第二存儲(chǔ)電極的中心的方向從第一存儲(chǔ)電極的邊緣偏離;存儲(chǔ)補(bǔ)償器,面對(duì)連接器。
[0008]存儲(chǔ)電容器還可以包括主部分,其中,第二存儲(chǔ)電極的邊緣與第一存儲(chǔ)電極的邊緣隔開主余量寬度,以沿遠(yuǎn)離第二存儲(chǔ)電極的中心的方向從第一存儲(chǔ)電極的邊緣偏離,在存儲(chǔ)補(bǔ)償器中,第二存儲(chǔ)電極的邊緣可以與第一存儲(chǔ)電極的邊緣隔開補(bǔ)償余量寬度,以沿朝向第二存儲(chǔ)電極的中心的方向從第一存儲(chǔ)電極的邊緣偏離。
[0009]主余量寬度可以是第一存儲(chǔ)電極的邊緣的工藝余量和第二存儲(chǔ)電極的邊緣的工藝余量的總和。
[0010]補(bǔ)償余量寬度可以具有從小于主余量寬度的1%的寬度至與主余量寬度相同的寬度的范圍。
[0011]存儲(chǔ)補(bǔ)償器可以包括第一存儲(chǔ)電極的第一切角部分和第二存儲(chǔ)電極的第二切角部分。
[0012]第二切角部分可以與第一切角部分隔開補(bǔ)償余量寬度,以沿朝向第二存儲(chǔ)電極的中心的方向從第一切角部分偏離。
[0013]存儲(chǔ)補(bǔ)償器可以在對(duì)角線上面對(duì)連接器。
[0014]存儲(chǔ)補(bǔ)償器可以包括第一存儲(chǔ)電極的第一角和第二存儲(chǔ)電極的第二角。
[0015]第二角可以與第一角隔開補(bǔ)償余量寬度,以沿朝向第二存儲(chǔ)電極的中心的方向從第一角偏離。
[0016]存儲(chǔ)補(bǔ)償器可以包括第一存儲(chǔ)電極的第一側(cè)和第二存儲(chǔ)電極的第二側(cè)。
[0017]第二側(cè)可以與第一側(cè)隔開補(bǔ)償余量寬度,以沿朝向第二存儲(chǔ)電極的中心的方向從第一側(cè)偏離。
[0018]連接器可以包括第一存儲(chǔ)電極的第三角和第二存儲(chǔ)電極的第三切角部分。
[0019]有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置還可以包括:半導(dǎo)體,位于基底上,并包括彼此隔開的開關(guān)晶體管的開關(guān)溝道和驅(qū)動(dòng)晶體管的驅(qū)動(dòng)溝道,驅(qū)動(dòng)溝道可以與驅(qū)動(dòng)?xùn)烹姌O疊置。
[0020]第一存儲(chǔ)電極可以與驅(qū)動(dòng)?xùn)烹姌O對(duì)應(yīng),第二存儲(chǔ)電極可以與數(shù)據(jù)線和驅(qū)動(dòng)電壓線位于同一層上。
[0021 ] 驅(qū)動(dòng)溝道可以具有至少一個(gè)彎曲的部分。
[0022]所述有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置還可以包括:補(bǔ)償晶體管,包括作為掃描線的一部分的補(bǔ)償柵電極以及半導(dǎo)體中的補(bǔ)償源電極和補(bǔ)償漏電極;第一數(shù)據(jù)連接器,與數(shù)據(jù)線位于同一層上并且連接第一存儲(chǔ)電極和補(bǔ)償漏電極。
[0023]第一數(shù)據(jù)連接器可以與第一存儲(chǔ)電極的第三角連接。
[0024]驅(qū)動(dòng)電壓線可以包括與數(shù)據(jù)線平行的第一驅(qū)動(dòng)電壓線和與數(shù)據(jù)線交叉的第二驅(qū)動(dòng)電壓線,第一驅(qū)動(dòng)電壓線可以與數(shù)據(jù)線位于同一層上,第二驅(qū)動(dòng)電壓線可以與掃描線位于同一層上。
[0025]根據(jù)本公開的示例性實(shí)施例,通過形成位于存儲(chǔ)電容器中以面對(duì)連接單元的存儲(chǔ)補(bǔ)償單元,當(dāng)形成第一存儲(chǔ)電極或第二存儲(chǔ)電極時(shí),即使由于曝光量的不均勻而發(fā)生覆蓋改變,存儲(chǔ)電容也可以基本上保持與之前相同。
[0026]另外,第二存儲(chǔ)電極以與驅(qū)動(dòng)電壓線和數(shù)據(jù)線的材料相同的材料形成并與數(shù)據(jù)線形成在同一層上,結(jié)果,可以減少至少一個(gè)掩模來制造有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置。
【附圖說明】
[0027]圖1是根據(jù)本發(fā)明的示例實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置的一個(gè)像素的等效電路圖。
[0028]圖2是施加到根據(jù)本發(fā)明的示例實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置中的一個(gè)像素的信號(hào)的時(shí)序圖。
[0029]圖3是示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的示例實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置中的多個(gè)晶體管和電容器的示圖。
[0030]圖4是圖3的詳細(xì)布局圖。
[0031]圖5是示出圖4的存儲(chǔ)電容器的放大布局圖。
[0032]圖6是示出當(dāng)根據(jù)本發(fā)明的示例實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置中發(fā)生第二存儲(chǔ)電極的覆蓋改變時(shí)的存儲(chǔ)電容器的放大布局圖。
[0033]圖7是沿線VI1-VII截取的圖4的有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置的剖視圖。
[0034]圖8是沿線VII1-VIII截取的圖4的有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置的剖視圖。
[0035]圖9是沿線IX-1X截取的圖4的有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置的剖視圖。
[0036]圖10是根據(jù)本發(fā)明的另一示例實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置的布局圖。
[0037]圖11是示出圖10的存儲(chǔ)電容器的放大布局圖。
[0038]圖12是示出當(dāng)圖11中發(fā)生第二存儲(chǔ)電極的覆蓋改變時(shí)的存儲(chǔ)電容器的放大布局圖。
[0039]圖13是根據(jù)本發(fā)明的又一示例實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置的布局圖。
[0040]圖14是示出當(dāng)圖13中發(fā)生第二存儲(chǔ)電極的覆蓋改變時(shí)的存儲(chǔ)電容器的放大布局圖。
【具體實(shí)施方式】
[0041]在下文中,將參照附圖對(duì)示例實(shí)施例進(jìn)行更詳細(xì)的描述,在附圖中,同樣的附圖標(biāo)記始終指示同樣的元件。然而,本發(fā)明可以以各種不同的形式實(shí)施,并且不應(yīng)該被解釋為僅限于在此示出的實(shí)施例。相反地,提供這些實(shí)施例作為示例,使得本公開將是徹底的和完整的,并將向本領(lǐng)域技術(shù)人員充分地傳達(dá)本發(fā)明的方面和特征。因此,可以不描述對(duì)于完全理解本發(fā)明的方面和特征的對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來說不必要的工藝、元件和技術(shù)。除非另有注釋,否則同樣的附圖標(biāo)記在附圖和書面描述中始終表示同樣的元件,因此,將不重復(fù)對(duì)其的描述。在附圖中,為了清晰起見,可以夸大元件、層、膜、面板和區(qū)域的相對(duì)尺寸和厚度。因此,附圖和描述在本質(zhì)上被認(rèn)為是說明性的而非限制性的。
[0042]將理解的是,盡管這里可以使用術(shù)語“第一”、“第二”、“第三”等來描述各種元件、組件、區(qū)域、層和/或部分,但是這些元件、組件、區(qū)域、層和/或部分不應(yīng)受這些術(shù)語限制。這些術(shù)語用于將一個(gè)元件、組件、區(qū)域、層或部分與另一元件、組件、區(qū)域、層或部分區(qū)分開。因此,在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下,以下描述的第一元件、組件、區(qū)域、層或部分可被稱作第二元件、組件、區(qū)域、層或部分。
[0043]這里可以使用空間相對(duì)術(shù)語(諸如“在……之下”、“在……下面”、“下面的”、“在……下方”、“在……上面”、“上面的”等)來易于解釋描述附圖中示出的一個(gè)元件或特征與另一個(gè)或多個(gè)元件或特征的關(guān)系。將理解的是,空間相對(duì)術(shù)語意圖包含除了在附圖中描述的方位之外的在使用或操作中的裝置的不同方位。例如,如果附圖中的裝置被翻轉(zhuǎn),則描述為“在”其他元件或特征“下面”或“之下”或“下方”的元件將隨后被定位為“在”所述其他元件或特征“上面”。因此,示例術(shù)語“在……下面”和“在……下方”可包含上面和下面兩種方位。裝置可被另外定位(例如,旋轉(zhuǎn)90度或在其他方位),并應(yīng)該相應(yīng)地解釋這里使用的空間相對(duì)描述符。
[0044]將理解的是,當(dāng)元件或?qū)颖环Q為“在”另一元件或?qū)印吧稀?、“連接到”另一元件或?qū)?、“結(jié)合到”另一元件或?qū)踊蛘摺芭c”另一元件或?qū)印斑B接”時(shí),該元件或?qū)涌赡苤苯釉谒隽硪辉驅(qū)由?、直接連接到所述另一元件或?qū)?、直接結(jié)合到所述另一元件或?qū)踊蛘咧苯优c所述另一元件或?qū)舆B接,或者可能存在一個(gè)或更多個(gè)中間元件或?qū)印A硗?,還將理解的是,當(dāng)元件或?qū)颖环Q為“在”兩個(gè)元件或?qū)印爸g”時(shí),該元件或?qū)涌赡苁莾蓚€(gè)元件或?qū)又g的唯一的元件或?qū)樱蛘咭部赡艽嬖谝粋€(gè)或更多個(gè)中間元件或?qū)印?br>[0045]在這里使用的術(shù)語僅為了描述具體實(shí)施例的目的,而并非意圖限制本發(fā)明。除非上下文另有清楚的指示,否則在此使用的單數(shù)形式也意圖包括復(fù)數(shù)形式。還將理解的是,當(dāng)在本說明書中使用術(shù)語“包括”、“包含”和其變形時(shí),表示存在敘述的特征、整體、步驟、操作、元件和/或組件,但不排除存在或添加一個(gè)或更多個(gè)其他特征、整體、步驟、操作、元件、組件和/或其組。如這里使用的,術(shù)語“和/或”包括一個(gè)或更多個(gè)相關(guān)列出項(xiàng)目的任意和全部組合。當(dāng)諸如“……中的至少一個(gè)(種)”的表述位于一列元件(要素)之后時(shí),修飾整列的元件(要素),而不是修飾列中的個(gè)別元件(要素)。
[0046]如這里使用的,術(shù)語“基本上”、“大約”和類似的術(shù)語被用作近似值的術(shù)語而不是程度的術(shù)語,并且意圖說明本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將認(rèn)可的測量值或計(jì)算值中的固有偏差。此外,當(dāng)描述本發(fā)明的實(shí)施例時(shí)使用的“可以”是指“本發(fā)明的一個(gè)或更多個(gè)實(shí)施例”。如這里使用的,術(shù)語“使用”和其變形可以被認(rèn)作分別與術(shù)語“利用”和其變形同義。另外,術(shù)語“示例性”意在指示例或圖示。
[0047]將理解的是,當(dāng)元件或?qū)颖环Q為“在”另一元件或?qū)印吧稀?、“連接到”另一元件或?qū)踊蛘摺敖Y(jié)合到”另一元件或?qū)訒r(shí),該元件可能直接在所述另一元件或?qū)由?、直接連接到所述另一元件或?qū)踊蛑苯咏Y(jié)合到所述另一元件或?qū)?,或者可能存在一個(gè)或更多個(gè)中間元件或?qū)印4送?,在整個(gè)說明書中,詞語“在……上”可意指放置在物體部分上或在物體部分下,但不在本質(zhì)上意指基于重力方向放置在物體部分的上側(cè)上。另外,也將理解的是,當(dāng)元件或?qū)颖环Q為“在”兩個(gè)元件或?qū)印爸g”時(shí),該元件或?qū)涌赡苁窃趦蓚€(gè)元件或?qū)又g的唯一的元件或?qū)?,或者也可能存在一個(gè)或更多個(gè)中間的元件或?qū)印?br>[0048]另外,在整個(gè)說明書中,詞語“在平面上”意指從頂部觀察目標(biāo)部分,詞語“在橫截面上”意指從側(cè)面觀察通過豎直切割目標(biāo)部分而形成的橫截面。
[0049]除非另有定義,否則在此使用的所有術(shù)語(包括技術(shù)術(shù)語和科學(xué)術(shù)語)具有與本發(fā)明所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員的一般理解的含義相同的含義。還將理解的是,除非這里明確定義,否則術(shù)語(諸如常用詞典中所定義的術(shù)語)應(yīng)被解釋為具有與它們?cè)谙嚓P(guān)領(lǐng)域和/或本說明書的上下文中的含義一致的含義,并且不應(yīng)該理想化或過于形式地被解釋。
[0050]這里描述的根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置和/或任何其他相關(guān)的裝置或組件可以利用任何合適的硬件、固件(例如,應(yīng)用型專用集成電路)、軟件或者軟件、固件和硬件的合適組合來實(shí)施。例如,有機(jī)發(fā)光二極管顯示裝置的各種組件可以形成在一個(gè)集成電路(IC)芯片上或在單獨(dú)的IC芯片上。此外,有機(jī)發(fā)光二極管