專利名稱：一種薄膜結構及薄膜結構的形成方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種薄膜結構，且特別涉及一種適用于模內(nèi)裝飾技術的薄膜結 構及其形成方法。
背景技術：
現(xiàn)代的產(chǎn)品在產(chǎn)品表面上有著更多樣化的設計。不論是造型、色彩、圖案 都有著各式各樣的組合。其中在圖案的配置上，愈來愈講究不同的視覺效果。
在產(chǎn)品上形成圖案的過程，通常是以模內(nèi)裝飾技術(In-Mold Decoration; IMD)來進行。此作法利用一預先將圖案形成于一薄膜上，在產(chǎn)品，如塑料產(chǎn) 品射出成形后進行合模，僅將圖案轉印于產(chǎn)品表面上而不將薄膜留于產(chǎn)品表 面。
但產(chǎn)品表面常具有凹凸不平的部份，在合模時，極有可能在凹凸的邊緣處 將薄膜擠壓變形而產(chǎn)生皺折。皺折將進一步使原本平坦的圖案因此而受擠壓改 變形狀，而破壞了原本設計的圖案。

發(fā)明內(nèi)容
因此本發(fā)明的目的在提供一種薄膜結構，包含 一圖案部份； 一透明部份; 一邊界，位于一圖案部份及一透明部份的交界處；以及多數(shù)個小孔，形成于一 邊界周圍的透明部份上。
本發(fā)明的另一目的是在提供一種薄膜結構的形成方法，其中包含下列步 驟提供一薄膜；圖案化薄膜，形成一圖案部份、 一透明部份及一邊界于薄膜 上，其中一邊界為一圖案部份及一透明部份的交界；以及形成多數(shù)個小孔于一 邊界周圍的透明部份上。
本發(fā)明的優(yōu)點和效果為提供一種薄膜結構及一種薄膜結構的形成方法，使 薄膜結構的圖案部份在模具內(nèi)與物體壓合時，能夠避免皺折產(chǎn)生，而提升圖案 轉印的良率。在參閱圖式及隨后描述的實施方式后，技術領域具有通常知識者便可了解 本發(fā)明的目的，以及本發(fā)明的技術手段及實施態(tài)樣。
以下結合附圖和具體實施例對本發(fā)明進行詳細描述，但不作為對本發(fā)明的 限定。


圖1A為本發(fā)明的第一實施例的薄膜結構的俯視圖； 圖1B為本發(fā)明的第一實施例的物體表面的一立體圖1C為本發(fā)明的第一實施例的薄膜結構及物體表面接合后的一立體以及
圖2為本發(fā)明的第二實施例的薄膜結構的形成方法的一流程圖。
具體實施例方式
本發(fā)明的第一實施例如圖1A所示，為一薄膜結構l的俯視圖。薄膜結構 l包含二圖案部份10、 12; 二透明部份ll、 13;以及三個邊界]5、 17、 19。 其中邊界15為圖案部份10及透明部份11的交界，邊界17為圖案部份10及 透明部份13的交界，邊界19為圖案部份12及透明部份13的交界。圖案部份 經(jīng)由一透明薄膜的圖案化制程形成，可包含不同顏色區(qū)塊的圖樣。圖案部份 10于邊界15及17上各有四個轉角10a、 10b、…、10g、 10h。圖案部份12 于邊界19上具有四個轉角19a、 19b、 19c、 19d。對應四個轉角10a、 10b、 10c、 10d處旁的透明部份11上，具有多數(shù)個小孔lla、 llb、 llc、 lld。對應四個 轉角10e、 10f 、 10g、 10h及四個轉角19a、 19b、 19c、 19d旁的透明部份13 上分別具有多數(shù)個小孔13a、 13b、…、13g、 13h。須注意的是，于其它實施 例中，亦可在實驗測試后，得知容易產(chǎn)生皺折的邊界位置形成小孔，而避免鈹 折的產(chǎn)生，并不限于本實施例的轉角位置，本領域技術人員，當可輕易改變小 孔設置的最佳位置。而小孔的形狀，于本實施例中為一圓形，于其它實施例中， 亦可改變?yōu)槿绶叫巍⑷切位蛱菪蔚雀鞣N形狀。
薄膜結構1可接合于一物體表面2。同時參考圖1B，為物體表面2的一立 體圖。物體表面2具有二凹陷部20、 22、三個不連續(xù)處21、 23、 25，不連續(xù) 處21在凹陷部20與物體表面2交界，不連續(xù)處23、 25在凹陷部22與物體表面2交界。當薄膜結構1與物體表面2接合時，如圖1C所示，圖案部份IO、 12恰好分別環(huán)繞凹陷部20、 22，而透明部份ll、 13則分別恰好對應于凹陷部 20、 22，邊界15、 17、 19則對應不連續(xù)處21、 23、 25。
當薄膜結構1的圖案將在置入一模具(未繪示)而轉印于物體表面2時， 將如圖1C所示接合，但此時將受到模具的擠壓而易使薄膜結構1形變。但薄 膜結構l上的小孔lla、 llb、 llc、 11d及13a、 13b、…、13g、 13h，將提供 一空間，使薄膜結構1將受到的擠壓力往小孔釋放。如此一來，可以維持薄膜 結構1的圖案部份10不致因模具的擠壓力造成形變而破壞轉印至物體表面2 的圖案。因此，由本發(fā)明的第一實施例的薄膜結構l的設計，可以大幅地提升 轉印過程的良率。
本發(fā)明的第二實施例為一種薄膜結構的形成方法。首先執(zhí)行步驟301，提 供一薄膜；執(zhí)行步驟302，圖案化薄膜，形成一圖案部份、 一透明部份及一邊 界于薄膜上，其中一邊界為一圖案部份及一透明部份的交界；執(zhí)行步驟303， 形成多數(shù)個小孔于一邊界周圍的透明部份上。
本發(fā)明的優(yōu)點為提供一種薄膜結構及一種薄膜結構的形成方法，使薄膜結 構的圖案部份在模具內(nèi)與物體壓合時，能夠避免鈹折產(chǎn)生，而提升圖案轉印的 良率。
當然，本發(fā)明還可有其它多種實施例，在不背離本發(fā)明精神及其實質的情 況下，熟悉本領域的技術人員當可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應的改變和變形，但 這些相應的改變和變形都應屬于本發(fā)明所附的權利要求的保護范圍。
權利要求
1.一種薄膜結構，其特征是，包含一圖案部份；一透明部份；一邊界，位于上述圖案部份及上述透明部份的交界處；以及多數(shù)個小孔，形成于上述邊界周圍的透明部份上。
2. 根據(jù)權利要求1所述的薄膜結構，其特征是，其中上述邊界具有一轉角， 上述這些小孔位于上述轉角周圍的透明部份上。
3. 根據(jù)權利要求1所述的薄膜結構，其特征是，其中上述薄膜結構可接合 于一物體表面，上述圖案部份環(huán)繞于上述物體表面的一凹陷部設置，上述透明 部份對應于上述凹陷部設置。
4. 根據(jù)權利要求3所述的薄膜結構，其特征是，其中上述邊界對應上述物 體表面及上述凹陷部間的一不連續(xù)處。
5. —種薄膜結構的形成方法，其特征是，其中包含下列步驟 提供一薄膜；圖案化上述薄膜，形成一圖案部份、 一透明部份及一邊界于上述薄膜上， 其中上述邊界為上述圖案部份及上述透明部份的交界；以及 形成多數(shù)個小孔于上述邊界周圍的透明部份上。
6. 根據(jù)權利要求5所述的形成方法，其特征是，其中上述圖案部份于上述 邊界具有一轉角，上述這些小孔位于上述轉角周圍的透明部份上。
7. 根據(jù)權利要求5所述的形成方法，其特征是，其中上述薄膜結構可接 合于一物體表面，上述圖案部份環(huán)繞于上述物體表面的一凹陷部設置，上述透 明部份對應于上述凹陷部設置。
8. 根據(jù)權利要求7所述的形成方法，其特征是，其中上述邊界對應上述物 體表面及上述凹陷部間的一不連續(xù)處。
全文摘要
一種薄膜結構及薄膜結構的形成方法。方法包含下列步驟提供一薄膜；圖案化薄膜，形成一圖案部份、一透明部份于薄膜上，其中一圖案部份及一透明部份的交界處為一邊界；以及形成多數(shù)個小孔于一邊界周圍的透明部份上，形成薄膜結構。
文檔編號B44C1/165GK101524942SQ20081000653
公開日2009年9月9日 申請日期2008年3月6日 優(yōu)先權日2008年3月6日
發(fā)明者張木財, 施崇棠, 陳富明 申請人:華碩電腦股份有限公司