專利名稱：工藝盤底座的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及工藝品擺設(shè)件，尤其涉及一種工藝盤底座。
背景技術(shù)：
現(xiàn)在通用的工藝盤底座一般只放置一個(gè)工藝盤，但是，成套的工藝盤，如“四季如春”，“八仙過(guò)?！保笆ぁ钡?，一套工藝盤包括多個(gè)單獨(dú)工藝盤，每個(gè)工藝盤上的內(nèi)容是相互關(guān)聯(lián)的，因?yàn)槊總€(gè)底座只放置一盤，如果底座不夠，多出來(lái)的盤子沒有被確定的地方存放，容易造成失手打碎；如果將所有的工藝盤都擺設(shè)出來(lái)，又非常的占用空間。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種可擺放多個(gè)工藝盤的工藝盤底座。為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是一種工藝盤底座，包括支撐底座，所述支撐底座上設(shè)有多個(gè)放置工藝盤的底槽，所述底槽圍繞所述支撐底座的中心分布； 所述支撐底座上設(shè)有立柱，所述立柱位于所述支撐底座的中心位置，所述立柱的頂端設(shè)有用于支撐工藝盤的后支撐裝置。作為一種改進(jìn)，所述后支撐裝置包括多個(gè)單向支撐，每個(gè)所述單向支撐與相應(yīng)的一個(gè)所述底槽相對(duì)應(yīng)。由于采用了上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型可以圍繞所述支撐底盤的中心擺放多個(gè)工藝盤，解決了一個(gè)底座只能擺放一個(gè)工藝盤的難題，使同一系列或相同主題的工藝盤可以同時(shí)擺放且大大節(jié)省了空間。
以下結(jié)合附圖
和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明。附圖是本實(shí)用新型工藝盤底座實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖中10-支撐底座；11-底槽；20-立柱；30-后支撐裝置；31-單向支撐。
具體實(shí)施方式
如圖所示，工藝盤底座包括支撐底座10，支撐底座10上設(shè)有多個(gè)放置工藝盤的底槽11，這些底槽11圍繞所述支撐底座10的中心分布；支撐底座上10設(shè)有立柱20，該立柱 20位于所述支撐底座10的中心位置，立柱20的頂端設(shè)有用于支撐工藝盤的后支撐裝置 30。后支撐裝置30包括多個(gè)單向支撐31，每個(gè)單向支撐31與相應(yīng)的一個(gè)底槽11相對(duì)應(yīng)。由于采用了上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型可以圍繞所述支撐底盤的中心擺放多個(gè)工藝盤，解決了一個(gè)底座只能擺放一個(gè)工藝盤的難題，使同一系列或相同主題的工藝盤可以同時(shí)擺放且大大節(jié)省了空間。[0013] 以上顯示和描述了本實(shí)用新型的基本原理和主要特征和本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本實(shí)用新型不受上述實(shí)施例的限制，在不脫離本實(shí)用新型精神和范圍的前提下，本實(shí)用新型還會(huì)有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實(shí)用新型范圍內(nèi)。本實(shí)用新型要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界定。
權(quán)利要求1.一種工藝盤底座，包括支撐底座，其特征在于，所述支撐底座上設(shè)有多個(gè)放置工藝盤的底槽，所述底槽圍繞所述支撐底座的中心分布；所述支撐底座上設(shè)有立柱，所述立柱位于所述支撐底座的中心位置，所述立柱的頂端設(shè)有用于支撐工藝盤的后支撐裝置。
2.如權(quán)利要求1所述的工藝盤底座，其特征在于，所述后支撐裝置包括多個(gè)單向支撐， 每個(gè)所述單向支撐與相應(yīng)的一個(gè)所述底槽相對(duì)應(yīng)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種工藝盤底座，包括支撐底座，所述支撐底座上設(shè)有多個(gè)放置工藝盤的底槽，所述底槽圍繞所述支撐底座的中心分布；所述支撐底座上設(shè)有立柱，所述立柱位于所述支撐底座的中心位置，所述立柱的頂端設(shè)有用于支撐工藝盤的后支撐裝置。由于采用了上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型可以圍繞所述支撐底盤的中心擺放多個(gè)工藝盤，解決了一個(gè)底座只能擺放一個(gè)工藝盤的難題，使同一系列或相同主題的工藝盤可以同時(shí)擺放且大大節(jié)省了空間。
文檔編號(hào)B44C5/00GK202016357SQ20112005895
公開日2011年10月26日 申請(qǐng)日期2011年3月2日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月2日
發(fā)明者劉文杰, 魏?，?申請(qǐng)人:山東科技職業(yè)學(xué)院