專利名稱：氣體激光印章雕刻機的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及激光技術(shù)在印章雕刻領(lǐng)域中的應(yīng)用。
自古以來，印章就不僅是群體的權(quán)力象征，也是個人的獨特信物。就其雕刻工藝的漫長發(fā)展過程來看，有兩次較大的變革第一次變革是從個體手工雕刻發(fā)展為機械化制作或模壓生產(chǎn)，它將印章雕刻由個人操作推向了集體化、產(chǎn)業(yè)化；第二次變革是八十年代原子印章制作技術(shù)的出現(xiàn)，它使得印章雕刻走向了規(guī)范化和社會化，這是一次重要的工藝變革。
但是，原子印章的制作仍需要龐大的成套設(shè)備，眾多的操作人員，復(fù)雜的工藝流程，較高的技術(shù)要求和生產(chǎn)成本，而且還存在廢液排放、污染環(huán)境等問題。電腦原子印章制作系統(tǒng)的出現(xiàn)，雖然解決了原子印章制作時菲林(FILM)制作的工藝問題，簡化了部分工序，但是現(xiàn)行工藝存在的問題仍然沒有得到根本性解決。
激光雕刻技術(shù)的出現(xiàn)，給印章雕刻業(yè)帶來了第三次重大的技術(shù)變革，它是集激光技術(shù)、計算機技術(shù)、數(shù)控技術(shù)于一體，并與印章雕刻生產(chǎn)實際相結(jié)合的產(chǎn)物。YAG激光雕刻機的出現(xiàn)是這種技術(shù)的象征，它跨越了原子制作中的繁瑣加工工序，從設(shè)計到制作，一步完成，大大縮短了印章的制作周期，降低了生產(chǎn)成本，提高了印章制作的效率和質(zhì)量。
CO2激光印章雕刻機是在YAG激光雕刻機的基礎(chǔ)上，經(jīng)過不斷改進而開發(fā)的新技術(shù)，改進的主要表現(xiàn)在于所使用的激光雕刻光源的不同。
本實用新型的目的是采用連續(xù)CO2激光器替代脈沖YAG固體激光器，且與光學系統(tǒng)和導(dǎo)軌一同安裝在工作臺上成為一體。
本實用新型的任務(wù)是通過以下技術(shù)方案完成的。CO2激光器1與光學系統(tǒng)的全反射鏡2、3、4和透鏡5及XY坐標系統(tǒng)的導(dǎo)軌8、9一同安裝在工作臺7上構(gòu)成一整機。全反射鏡3固定在導(dǎo)軌9的一端，該端在固定導(dǎo)軌8的滑槽內(nèi)動配合，全反射鏡4與導(dǎo)軌9相連接，且可沿導(dǎo)軌9移動。
以下結(jié)合附圖詳細說明本實用新型的技術(shù)內(nèi)容


圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)原理示意圖。
從
圖1的配置來看，CO2激光器1、光學系統(tǒng)及X－Y導(dǎo)軌8、9及工作臺7上是組合成一體的。CO2激光器1用來產(chǎn)生高功率密度的激光光束，其波長為10.6um；光學系統(tǒng)由全反射鏡2、3、4與透鏡5組成，用來實現(xiàn)激光束從激光光源到印章材料表面的光束傳輸和聚焦；X－Y導(dǎo)軌8、9及工作臺7用來實現(xiàn)激光束在印章材料雕刻表面的二維移動。
本實用新型所產(chǎn)生的積極效果是1.整機成本降低，結(jié)構(gòu)更加緊湊；2.CO2激光光束的高質(zhì)量，使印章制作質(zhì)量進一步提高；3.CO2激光器的高效率，使整機的耗能降低；
4.CO2激光器采用封離式結(jié)構(gòu)，兩個諧振腔與激光管在制作時就封裝在一起，而不像YAG激光器，兩個諧振腔與工作物質(zhì)棒分離，因此，CO2激光印章雕刻機不存在YAG激光雕刻機在使用時激光腔的精密調(diào)節(jié)問題，從而大大簡化了激光印章雕刻機的操作，同時減少了配套調(diào)光儀器。
以下結(jié)合附圖列舉最佳實施例
圖1是本實用新型的最佳實施圖。
見
圖1，氣體激光印章雕刻機，是采用CO2激光器1作激光雕刻光源，用微機直接輸入各種字符或借助于光電掃描儀進行各種圖案、手寫體文字的輸入；印章制作排版軟件用來設(shè)計各種標準和非標準的公、私章，并配有簡，繁各種字體的漢字庫，字體和字號的大小可任意選擇。微機通過發(fā)生指令信號，控制CO2激光器1發(fā)生激光束，該激光束經(jīng)全反射鏡2、3、4及凸透鏡5組成的光學系統(tǒng)，聚焦于印章材料的表面，同時微機控制全反射鏡3和4的移動，使激光束在X和Y兩方向作組合運動，通過激光與印章材料6的特殊相互作用(化學效應(yīng)、刻蝕效應(yīng)、汽化效應(yīng)等)就可以在印章材料6上刻出所需要的印章。
其中印章材料6置于工作臺7的表面上，全反射鏡3固定在導(dǎo)軌9的一端，全反射鏡4與導(dǎo)軌9相連接并沿導(dǎo)軌9移動，導(dǎo)軌8與導(dǎo)軌9相互垂直，微機發(fā)出的控制指令，控制全反射鏡3與導(dǎo)軌9一起沿導(dǎo)軌8在X方向運動，全反射鏡4沿導(dǎo)軌9在Y方向移動。
權(quán)利要求1.一種氣體激光印章雕刻機由微機、氣體激光器(1)和光學系統(tǒng)的全反射鏡(2)、(3)、(4)、透鏡(5)；X-Y坐標系統(tǒng)相互垂直的導(dǎo)軌(8)、(9)所組成，其特征是所述的氣體激光器(1)是CO2激光器，與光學系統(tǒng)的全反射鏡(2)、(3)、(4)、透鏡(5)及X-Y坐標系統(tǒng)的導(dǎo)軌(8)、(9)一同安裝在工作臺(7)上，且構(gòu)成一整機。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體激光印章雕刻機，其特征是所述的光學系統(tǒng)中全反射鏡(3)固定在導(dǎo)軌(9)的一端，該端在固定導(dǎo)軌(8)的滑槽內(nèi)動配合，全反射鏡(4)與導(dǎo)軌(9)相連接，且可沿導(dǎo)軌(9)移動。
專利摘要本實用新型涉及一種CO
文檔編號B44B3/00GK2178642SQ9323599
公開日1994年10月5日 申請日期1993年12月23日 優(yōu)先權(quán)日1993年12月23日
發(fā)明者孟廣君, 王傳富, 黃欣明, 王又青, 孟全奎, 庫庚 申請人:孟廣君