專利名稱：光學(xué)元件的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于作為彩色液晶設(shè)備元件的濾色鏡的光學(xué)元件的制造方法，這種液晶設(shè)備常用于彩色電視機(jī)、個人計算機(jī)等，或具有多個發(fā)光層的使用噴墨系統(tǒng)的全色顯示器的電致發(fā)光元件。
背景技術(shù)：
最近幾年對液晶顯示器、特別是彩色液晶顯示器的需求不斷增加，以保持與包括便攜式個人電腦的個人計算機(jī)領(lǐng)域的技術(shù)進(jìn)步同步。然而，由于濾色鏡在總的制造成本中起重要的作用，為了進(jìn)一步增大需求，已經(jīng)進(jìn)一步降低了彩色液晶顯示器的成本，特別是它們包括的濾色鏡的成本。
目前已經(jīng)提出了不同的技術(shù)來試圖滿足上述需要，并且滿足提高濾色鏡性能的需要，然而至今沒有發(fā)現(xiàn)滿意的解決辦法。首先，下面概括討論制造濾色鏡的已知方法。
首先，是染色的方法。在染色方法中，在透明的基底上形成溶水聚合物材料層的染色層，并使用照相平版印刷術(shù)進(jìn)行產(chǎn)生圖形的操作，以形成所需的圖形，然后將其浸入染色池中以獲得彩色圖形。重復(fù)上述操作步驟三次，以產(chǎn)生包括R(紅)、G(綠)、B(藍(lán))三種顏色的不同顏色部分的彩色層。
第二，是顏料擴(kuò)散方法，近幾年已花費巨大努力進(jìn)行了研究。在顏料擴(kuò)散方法中，在透明的基底上形成擴(kuò)散狀態(tài)的包含顏料的感光樹脂層，然后進(jìn)行形成圖形的操作，以形成單一顏色圖形。重復(fù)上述操作步驟三次，以產(chǎn)生包含R、G、B不同顏色部分的有色層。
第三，是電沉積方法。這種方法，形成在透明基底上的透明電極形成圖形，并將其浸入含有顏料、樹脂和電解液的電沉積著色溶液中，以電沉積第一種顏色。重復(fù)這種步驟三次，以產(chǎn)生包含R、G、B不同顏色部分的有色層，然后烘干。
第四種方法，顏料分散在熱固性樹脂中，并印刷。通過使用R、G、B三種不同的顏色重復(fù)三次，隨后熱固樹脂來產(chǎn)生彩色層。在上述任何方法中，通常在彩色層上形成一個保護(hù)層。
上述所有方法的共同點是需要重復(fù)R、G、B同樣的步驟三次，因而增加了成本。此外，包含大量步驟的上述任何方法都有低產(chǎn)出的問題。另外，在電沉積方法中，由電沉積形成的圖形的分布是非常有限的，因此該方法幾乎不能用在形成TFT型液晶元件(使用TFT(薄膜晶體管)作為開關(guān)元件的采用有源矩陣驅(qū)動方法中)。
印刷方法伴隨著低分辨率的問題，因此，幾乎不能應(yīng)用到有細(xì)間距的圖形的形成。
為了避免上述已知的問題，已作了很大的努力來研制一種使用噴墨系統(tǒng)制造濾色鏡的的方法。使用噴墨系統(tǒng)的制造方法具有制造過程簡單和制造成本低的優(yōu)點。
此外，噴墨系統(tǒng)不僅適用于制造濾色鏡而且用于制造電發(fā)光元件。
電致發(fā)光元件包括包含熒光組織或無機(jī)化合物的薄膜，這種熒光組織或有機(jī)化合物是被夾在陰極和陽極中間，并在電子或空穴射入薄膜再次混合時產(chǎn)生激子，因此通過在釋放激子時激發(fā)的熒光或磷光使物質(zhì)發(fā)光。因此，將熒光物質(zhì)用于帶有形成在基底中有TFT元件的基底上的電發(fā)光元件而產(chǎn)生發(fā)光層，可以形成電發(fā)光元件。
噴墨系統(tǒng)在包括濾色鏡和電發(fā)光元件的光學(xué)元件的制造中得到應(yīng)用，這是由于它具有如上所述的制造方法簡單和制造成本低的優(yōu)點。然而，使用噴墨系統(tǒng)制造光學(xué)元件伴隨著“顏色混合”和“空白區(qū)”問題，這是噴墨系統(tǒng)特有的。這些問題將在下面制造濾色鏡時進(jìn)行討論。
當(dāng)不同顏色的墨在任何兩個顯示不同顏色的相鄰象素(有色區(qū)域)之間混合時，產(chǎn)生“顏色混合”問題。在制造濾色鏡的方法中，使用適當(dāng)材料的黑色矩陣作為分隔壁，通過將墨加到黑色矩陣相應(yīng)的開口形成有色部分，需要施加的墨大于開口容量幾倍至十幾倍的量。如果墨包含例如色素劑的固體成分和高濃度的硬質(zhì)成分，要施加的墨的容量相對要小，黑色矩陣作為分隔壁起到滿意的作用，并能使墨充分保留在開口中，這樣任何施加的墨不流出黑色矩陣到與墨不同顏色的相鄰的有色部分。然而，另一方面，如果墨包含的僅是低濃度的固體成分，因此要施加大量的墨，施加的墨流出黑色矩陣，與相鄰位置處的有色部分的其他墨混合。特別是，由于要限制墨的粘性，使它能從噴墨頭的噴嘴平穩(wěn)地射出，并限制包含在墨中的固體成分的濃度，需要特殊的較為復(fù)雜的技術(shù)來避免顏色混合的問題。
已經(jīng)提出這樣的技術(shù)，即通過在有色部分和分隔壁之間應(yīng)用墨的吸濕性來避免顏色混合的問題。例如，日本專利待公開申請59-75205描述了一種形成抗擴(kuò)散圖形的方法，使用低吸濕性材料，來阻止墨流到不是目標(biāo)的區(qū)域。然而上述專利文件沒有特別教導(dǎo)如何形成這種圖形。另一方面，日本專利待公開申請4-123005公開了為防止不同顏色混合而形成分隔壁的方法，是通過使高抗水性和抗油性的硅樹脂橡膠層形成圖形。此外，日本專利待公開申請5-241011和日本專利待公開申請5-241012還描述了在起遮光層作用的黑色矩陣上形成硅樹脂橡膠層的方法，這樣使用分隔壁起到防止顏色混合的目的。
在上述任何方法中，施加墨的程度超過分隔壁的高度，墨被分隔壁的抗墨表面層阻止，因此，墨不會流過分隔壁到任何相鄰有色部分，有效地防止了發(fā)生顏色混合的危險。
附圖3A和3B示意性地概括說明了發(fā)生在已知的光學(xué)元件制造方法中的顏色混合問題。參考圖3A和3B，黑色矩陣33形成在透明基底31上，作為分隔壁。圖3A和3B中，參考標(biāo)號36表示墨，如果黑色矩陣33的上表面是抗墨性的，施加的墨保留在黑色矩陣33的正當(dāng)開口，不會流到圖3B所示的任何相鄰有色部分。然而，如果黑色矩陣33的上表面是低抗墨性的，施加的墨36能擴(kuò)散出矩陣，弄濕后面，與圖3A所示的施加到相鄰開口的墨混合。
一般，氟化物比硅化合物更具抗墨性。例如，日本專利待公開申請2000-35511公開了在遮光部分上形成陽極型保護(hù)層圖形、并將抗墨化學(xué)劑施加到圖形上的方法。它還公開了使用氟化物作為抗墨化學(xué)劑。然而采用已提出的方法，需要在形成有色部分之后，除去形成在遮光部分的陽極型保護(hù)層，在除去保護(hù)層圖形時產(chǎn)生象素分解、分離和增大的問題。
作為使樹脂層表面氟化的一種方法，《日本化學(xué)協(xié)會雜志》(the Journal ofthe Japan Society of Chemistry)1985(10)，pp.1916-1923提出一種通過將氟化物反應(yīng)氣體轉(zhuǎn)換成等離子體來處理該氟化物活性氣體的方法。日本專利待公開申請11-271753和日本專利待公開申請11-32974公開了將上述方法應(yīng)用到濾色鏡的技術(shù)。根據(jù)這些專利文件，將分隔壁作成多層結(jié)構(gòu)，下層具有墨親和性、上層使用包含氟化物的氣體進(jìn)行等離子處理而與墨沒有親和性。
然而，根據(jù)上述任何引用的專利文件，需將分隔壁作成具有多層的結(jié)構(gòu)，以便多次重復(fù)照相平板印刷過程，使總的過程復(fù)雜，因而提高了制造成本，降低了生產(chǎn)的出產(chǎn)率。
另一方面，在施加的墨不能充分和均勻地擴(kuò)散到有分隔壁包圍的區(qū)域時，通常出現(xiàn)“空白區(qū)”問題，并由于顏色分布不均勻和低顏色對比度而最終出現(xiàn)有缺陷的顯示效果。
附圖4A和4B示意性說明了空白區(qū)。圖4A和4B中與圖3A和3B中相同的元件由相同的參考標(biāo)號相應(yīng)地表示。圖4A和4B中，參考標(biāo)號38表示空白區(qū)。
最近幾年，在TFT型液晶元件的濾色鏡技術(shù)領(lǐng)域中，通常將黑色矩陣33的開口作成具有復(fù)雜的截面和具有多個角，以保護(hù)TFT抗外部光和/或獲得大的孔徑比及亮的顯示圖像，那么，出現(xiàn)了施加的墨36不能滿意地擴(kuò)散到圖4A所示的角的問題。此外，由于通常使用包含用保護(hù)層的照象平版印刷方法來形成黑色矩陣33，包含在保護(hù)層中的污染物會粘到透明基底31的表面，阻止施加的墨36滿意地擴(kuò)散。另外，如果與透明基底31的表面相比，黑色矩陣33的側(cè)面有很好抗墨性，以圖4B所示的方式由黑色矩陣的側(cè)面阻止墨36，這樣墨36和黑色矩陣33的接觸區(qū)域顯示為褪色的顏色。
為了解決顏色混合問題和空白區(qū)問題，日本專利待公開申請9-203803提出使用處理成顯示與墨親和性的基底。使由黑色矩陣(突出部分)包圍的區(qū)域(凹部)呈現(xiàn)相對于水小于20°的接觸角。作為使基底具有墨親和性的方法，專利文件教導(dǎo)使用溶水均化劑或溶水表面活性劑。該文件進(jìn)一步披露了用抗墨處理劑預(yù)處理突出部分表面的技術(shù)，以使表面抗墨。特別是，它描述了使用含氟硅烷耦合劑作為抗墨處理劑，以及用于涂層目的的氟型溶劑。根據(jù)上述專利文件，通過下述方法使只有突出部分的頂面作成抗墨性，且側(cè)面不是，(1)通過使用兩種不同材料的層，使每個突出部分有這種特性；(2)通過用保護(hù)層而不是突出區(qū)域覆蓋透明基底的區(qū)域。并只對突出部分的頂面進(jìn)行抗墨處理；或(3)通過在透明基底上形成保護(hù)層，對整個表面進(jìn)行抗墨處理，接著采用照象平版印刷處理將保護(hù)層形成圖形來形成突出部分。
日本專利待公開申請9-230129也公開了一種用能量射線輻射透明基底、使凹部區(qū)域具有親墨性的技術(shù)。另外，根據(jù)上述專利文件，用感光材料在玻璃基底上形成突出部分，只在突出部分的頂面進(jìn)行抗墨處理，用抗墨處理劑對整個表面進(jìn)行處理，接著在照象平版印刷處理時使感光材料形成圖形。此后，對突出部分和凹部都進(jìn)行處理，或者選擇處理突出部分或凹部區(qū)域。通過能量射線輻射的方法使它們具有對墨的親和性。
然而，使用上述任何方法，由于對突出部分的表面進(jìn)行抗墨處理和隨后對凹部區(qū)域進(jìn)行處理以具有墨的親和性，在處理墨親和性的過程中，減小了突出部分表面的抗墨性。因此，很難對透明基底表面和黑色矩陣的側(cè)面提供足夠的墨親和性，同時使黑色矩陣的頂面具有滿意的抗墨性。另外，日本專利待申請公開2000-18771提出了通過用氟化物的氣體等離子體處理分隔壁，使分隔壁具有抗墨性的技術(shù)，由于在處理墨的親和性后進(jìn)行抗墨性處理，墨不會浸濕分隔壁，也不會擴(kuò)散到施加墨的區(qū)域，結(jié)果增加了空白區(qū)的問題。
在使用噴墨系統(tǒng)的方法制造電致發(fā)光元件時，同樣產(chǎn)生上述問題。特別是，當(dāng)使用相應(yīng)發(fā)出R、G和B光的有機(jī)半導(dǎo)體材料作為墨時，通過將墨施加到由分隔壁包圍的相應(yīng)區(qū)域而形成象素(發(fā)光層)，發(fā)光層在墨與相鄰的發(fā)光層混合的區(qū)域不能發(fā)出所需亮度水平的所需顏色的光。此外，當(dāng)電致發(fā)光元件作成具有單一發(fā)光層時，所有由分隔壁包圍的象素區(qū)域都充滿等量的墨。因此，如果墨從一個象素區(qū)域流到相鄰的象素區(qū)域，出現(xiàn)象素區(qū)域之間墨量方面不一致的問題，接著出現(xiàn)亮度分布不均勻。此外，如果墨不能滿意地擴(kuò)散到分隔壁包圍的每個區(qū)域，發(fā)光層和分隔壁的邊界區(qū)域也不能提供足夠的發(fā)光亮度水平。在以下制造電致發(fā)光元件的描述中，為了方便，相鄰發(fā)光層之間墨的混合指的是“顏色混合”，沿著發(fā)光層和分隔壁的邊界區(qū)域指的是“空白區(qū)”，這個區(qū)域在發(fā)光亮度方面出現(xiàn)不一致的問題。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的是提供一種步驟簡單、成本低的制造例如濾色鏡或電致發(fā)光元件的光學(xué)元件的方法，該方法使用沒有上述已知問題的噴墨系統(tǒng)，因此該方法能以高生產(chǎn)率提供可靠的光學(xué)元件。特別是，本發(fā)明的目的是提供由分隔壁包圍的平象素區(qū)域，有效地防止顏色混合，其中，施加的墨能滿意地擴(kuò)散到每個象素區(qū)域中。本發(fā)明的另一個目的是提供一種適于顯示優(yōu)質(zhì)顏色圖象的液晶元件，該液晶元件包括根據(jù)本發(fā)明制造方法生產(chǎn)的光學(xué)元件。
根據(jù)本發(fā)明，通過提供一種光學(xué)元件的制造方法來實現(xiàn)上述的目的，該光學(xué)元件包括至少多個形成在基底上的象素，和相應(yīng)設(shè)在相鄰象素之間的分隔壁，所述方法包括步驟在基底上形成樹脂混合物的分隔壁；用包含有至少從氧、氬和氦選出的氣體的空氣等離子體對帶有分隔壁的基底執(zhí)行輻射干蝕刻處理；用包含有至少氟原子的氣體等離子體對受到所述干蝕刻處理的基底執(zhí)行輻射等離子體處理；用噴墨系統(tǒng)的方法將墨施加到由分隔壁包圍的區(qū)域來形成象素。
針對本發(fā)明目的，“墨”一詞一般指當(dāng)干燥和硬化后顯示一個或多于一個光學(xué)或電學(xué)功能特性的任何液體，因此，它不限于傳統(tǒng)的顏色材料。


圖1A、1B、1C、1D、1E、1F、1G和1H是本發(fā)明光學(xué)元件的示意平面圖，說明根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)元件制造方法的實施例的不同步驟。
圖2A、2B、2C、2D、2E、2F、2G和2H是對應(yīng)圖1A、1B、1C、1D、1E、1F、1G和1H的相應(yīng)的示意剖面圖。
圖3A和3B是對采用噴墨系統(tǒng)制造光學(xué)元件的已知方法出現(xiàn)的顏色混合問題的示意和概念性的說明。
圖4A和4B是對采用噴墨系統(tǒng)制造光學(xué)元件的已知方法出現(xiàn)的空白區(qū)問題的示意和概念性的說明。
圖5是對用在本發(fā)明的制造方法中的等離子體發(fā)生器的結(jié)構(gòu)的概括說明。
圖6是對用在本發(fā)明的制造方法中的另一種等離子體發(fā)生器的結(jié)構(gòu)的概括說明。
圖7A和7B是在用墨后立即看到的由本發(fā)明制造方法產(chǎn)生的象素的示意剖面圖。
圖8A和8B是在用墨后立即看到的由已知制造方法產(chǎn)生的象素的示意剖面圖。
圖9是作為本發(fā)明光學(xué)元件實施例所制備的電致發(fā)光元件的示意剖面圖。
圖10是作為本發(fā)明光學(xué)元件另一個實施例所制備的濾色鏡的示意剖面圖。
圖11是本發(fā)明液晶元件的實施例的剖面圖。
具體實施例方式
根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)元件的制造方法，特征在于，在使帶有分隔壁的基底干蝕刻處理和等離子態(tài)處理步驟后，通過采用噴墨系統(tǒng)的方法將墨施加到由分隔壁包圍的區(qū)域來形成象素。由本發(fā)明的制造方法制造的光學(xué)元件可以是典型的濾色鏡或電致發(fā)光元件。下面參考說明本發(fā)明優(yōu)選實施例的附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的光學(xué)元件。
圖10是本發(fā)明光學(xué)元件實施例的剖面圖，是一個濾色鏡。
參考圖10，該實施例包括透明基底101，一個起分隔壁作用的黑色矩陣102，起象素作用的有色部分103和必要時提供的保護(hù)層104。當(dāng)使用本發(fā)明的濾色鏡制備液晶時，由透明的導(dǎo)電材料、如ITO(銦錫氧化物)制成的透明導(dǎo)電膜形成在有色部分103或設(shè)置在有色部分103上的保護(hù)層104上，以驅(qū)動液晶。
圖11是使用圖10所示的濾色鏡形成的液晶元件實施例的部分剖面圖。液晶元件除了圖10說明的元件外還包括共用的電極(透明導(dǎo)電膜)107，一個定位膜108，液晶109，一個相對的基底111，象素電極112和定位膜113，上述元件分別由相同的參考標(biāo)號表示并將被進(jìn)一步說明。
通過面對面安排濾色鏡的基底101和相對基底111，將液晶109注入基底之間的間隙，并密封地封住組件來制備顏色液晶元件。液晶元件的基底111內(nèi)表面帶有TFT(未顯示)、和以矩陣形式安排的象素電極112。另一方面，在濾色鏡側(cè)的基底101內(nèi)表面帶有濾色鏡的有色部分103，R、G和B的位置是以這種方式設(shè)置的，即均勻地排列在相應(yīng)象素電極112的對面位置，透明的共用電極107形成在其上。此外，兩個基底上分別帶有以預(yù)定方向定位液晶分子的定位膜108、113?；妆舜酥g面對面間隔(未顯示)地設(shè)置，并通過密封材料(未顯示)連接。然后，將液晶109填充到分開基底的間隙中。
當(dāng)液晶元件是透射型時，基底111和象素電極112由透明材料形成，一個偏振板連接到每個基底的外表面。接著，使用通常由熒光燈和散射板混合形成的背光顯示圖象，使液晶化合物起到改變背光投射率的光學(xué)快門的作用。在液晶元件是反射型時，基底111或象素電極112由具有光反射作用的材料形成，或反射層形成在基底111上，及偏振板設(shè)置在透明基底101的外部，以使反射光射入濾色鏡側(cè)并顯示圖象。
圖9是本發(fā)明光學(xué)元件另一個實施例制備的有機(jī)電致發(fā)光元件(后文指的是EL元件)的示意剖面圖。參考圖9，EL元件包括一個驅(qū)動基底91、分隔壁92、用作象素的發(fā)光層93、透明電極94和金屬層96。注意為了簡化，圖9只顯示了單個象素。
驅(qū)動基底91上帶有TFT(未顯示)、接線膜和絕緣膜，使驅(qū)動基底顯示多層結(jié)構(gòu)，在金屬層96和為相應(yīng)發(fā)光層93設(shè)置的透明電極94之間的象素基礎(chǔ)上，向象素施加電壓。驅(qū)動基底91由已知的薄膜處理方法來制備。
只要將發(fā)光材料填充到分隔壁限定的每個空間，對本發(fā)明的有機(jī)EL元件的結(jié)構(gòu)沒有特殊限制，其中分隔壁由樹脂混合物制成并設(shè)置在一對電極、或一個陽極和一個陰極之間，至少有一極是透明或半透明。此外，可以用已知的任何結(jié)構(gòu)作為EL元件，可以或不用在不同的方面改進(jìn)。
多層結(jié)構(gòu)可以是以下任何一種(1)電極(陰極)/發(fā)光層/空穴注入層/電極(陽極)(2)電極(陽極)/發(fā)光層/電子注入層/電極(陰極)(3)電極(陽極)/空穴注入層/發(fā)光層/電子注入層/電極(陰極)(4)電極(陽極或陰極)/發(fā)光層/電極(陰極或陽極)具有任何上述所列多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)化合物層可用作本發(fā)明的EL元件。
在上述所列多層結(jié)構(gòu)中，(1)和(2)指的是兩層結(jié)構(gòu)，(3)和(4)相應(yīng)指的是三層和單層結(jié)構(gòu)。根據(jù)本發(fā)明的有機(jī)EL元件可以基本上有這些結(jié)構(gòu)中之一，可以替換為通過混合任何這些結(jié)構(gòu)而獲得的結(jié)構(gòu)，每一層是多種的。此外，將其與濾色鏡混合可以實現(xiàn)全有色顯示。根據(jù)本發(fā)明對于有機(jī)EL元件的分布、大小、材料和制造方法沒有任何特殊限制，因此，可以根據(jù)有機(jī)EL元件的應(yīng)用對其適當(dāng)?shù)叵拗啤?br> 而且，根據(jù)本發(fā)明對有機(jī)EL元件的發(fā)光層的發(fā)光材料沒有特殊的限制，因此可用任何適當(dāng)?shù)牟牧献鳛榘l(fā)光層。然而，低分子量的熒光材料或高分子量(聚合的)的熒光材料可以優(yōu)選為發(fā)光層，及優(yōu)選使用聚合熒光物質(zhì)用于本發(fā)明。
根據(jù)本發(fā)明能用作有機(jī)EL元件發(fā)光層的低分子量有機(jī)化合物包括但不限于萘及其衍生物、蒽及其衍生物、二萘嵌苯及其衍生物、聚甲基型，氧雜蒽型、香豆素型和藍(lán)色素型顏色物質(zhì)、8-羥基喹啉金屬混合物及其衍生物，芳香胺、四苯基環(huán)戊脘二烯及其衍生物以及四苯基丁二烯及其衍生物。特別是，包括那些日本待公開專利申請57-51781和日本待公開專利申請59-194393中的所述的已知材料可用作本發(fā)明的目的。
根據(jù)本發(fā)明能用作有機(jī)EL元件發(fā)光層的高分子量的有機(jī)化合物包括但不限于聚亞苯基亞乙烯、多丙炔、多羥基噻吩和多羥基芴。
當(dāng)聚合熒光物質(zhì)用作本發(fā)明有機(jī)EL元件發(fā)光層時，可以是隨機(jī)的、塊狀的或接枝的共聚物或具有象隨機(jī)共聚物的任何一種中間結(jié)構(gòu)的聚合體，其中隨機(jī)共聚體部分顯示塊共聚體的特性。從獲得顯示高熒光亮的聚合熒光物質(zhì)的觀點看，顯示塊共聚體特性或接枝或塊共聚體特性的隨機(jī)共聚物優(yōu)選于使用完全隨機(jī)共聚物。由于本發(fā)明有機(jī)EL元件利用薄膜發(fā)射的光，使用固態(tài)聚合體熒光物質(zhì)用于本發(fā)明的目地。
能優(yōu)選用作選擇的共聚體熒光物質(zhì)的溶劑包括氯仿、亞甲基氯化物、二氯甲乙烷、四氫呋喃、甲苯和二甲苯。聚合熒光物質(zhì)通常溶解0.1wt％或更多的這種溶劑中，盡管這個比率可能根據(jù)聚合熒光物質(zhì)的結(jié)構(gòu)和分子量而改變。
根據(jù)本發(fā)明可以在包含發(fā)光材料層和有機(jī)EL元件的陰極之間附加設(shè)置電子轉(zhuǎn)移層。然后，將電子轉(zhuǎn)移材料單獨用在電子轉(zhuǎn)移層\或作為與空穴轉(zhuǎn)移材料和發(fā)光材料的混合物，起到將陰極注入的電子轉(zhuǎn)移到發(fā)光材料的作用。對于電子轉(zhuǎn)移材料沒有特殊的限制，這樣，可以選擇適當(dāng)?shù)囊阎幕衔铩?br> 能用作本發(fā)明目的的電子轉(zhuǎn)移材料的例子包括硝基氟潤滑脂，蒽醌二甲烷衍生物，二苯基苯醌衍生物，硫吡喃二氧化物衍生物，雜環(huán)四羥基酐和碳二亞胺。
用作本發(fā)明目的的電子轉(zhuǎn)移材料的例子另外包括上述所列的用于形成發(fā)光層的材料亞芴基甲烷衍生物，蒽醌二甲烷衍生物，蒽酮衍生物，含氧二吡唑衍生物，以及8-羥基喹啉的金屬混合物及其衍生物。
下面，描述制備本發(fā)明有多層結(jié)構(gòu)的有機(jī)EL元件的典型方法。形成在一般由透明玻璃或透明塑料制成的透明基底上的透明或半透明電極用作每一對電極，該電極包括本發(fā)明有機(jī)EL元件的陽極和陰極。
在本發(fā)明發(fā)光元件中，發(fā)光層一般以薄膜的形式與適當(dāng)膠合樹脂混合來實現(xiàn)。用作本發(fā)明目的的膠合樹脂可從大量不同的粘性樹脂中選擇。這樣的粘性樹脂無限制地包括多乙烯基咔唑樹脂，多磷酸鹽樹脂，聚脂樹脂，聚烯丙基樹脂，丁縮醛樹脂，聚脂樹脂，聚乙烯基乙縮醛樹脂，二烯丙基酞酸鹽樹脂，丙烯酸樹脂甲基丙烯酸樹脂，苯酚樹脂，環(huán)氧樹脂，硅樹脂，聚砜樹脂和尿素樹脂。任何這種樹脂可單獨使用或以兩個共聚物或多于兩個樹脂物質(zhì)的形式使用。顯示高功函數(shù)的材料優(yōu)選用作陽極。能優(yōu)選用作陽極材料的例子包括鎳、金、鉑、鈀、硒、錸、銥、它們的合金，錫氧化物、銥錫氧化物(ITO)和銅碘化物。此外導(dǎo)電聚合物，例如多聚(3-甲基噻吩)、聚亞苯基硫化物和聚吡咯也用作陽極的備選材料。
另一方面，顯示小的功函數(shù)的材料優(yōu)選用作陰極。陰極的后選材料包括銀、石墨、錫、鎂、鋁、鈣、錳、銦、鉻和它們的合金。
現(xiàn)在，參考附圖描述制造本發(fā)明光學(xué)元件的方法。
圖1A至1H和圖2A至2H是本發(fā)明光學(xué)元件的示意圖，說明本發(fā)明制造光學(xué)元件的方法實施例的不同步驟。注意下面描述的步驟(a)至(h)對應(yīng)圖1A至1H和圖2A至2H。圖1A至1H是光學(xué)元件的示意平面圖，圖2A至2H是元件的剖面圖。所有附圖中，參考標(biāo)號1、2、3、4、5、6和7相應(yīng)表示基底、樹脂混合層、分隔壁、分隔壁限定的開口、噴墨頭和象素。步驟(a)取一個基底?；?是在制造如圖10所示的濾色鏡時的透明基底101。它典型是玻璃基底，可以替換使用塑料基底。后者顯示滿意的透明水平，也為形成的液晶元件機(jī)械強度的需要。
當(dāng)制造圖9所示的EL元件時，基底1是其上帶有透明電極94的驅(qū)動基底91。如果光從基底側(cè)入射，如玻璃基底的透明基底用作驅(qū)動基底91?；變?yōu)先受表面處理，如等離子處理、UV處理或耦合處理，以使發(fā)光層93在隨后的步驟容易粘貼。步驟(b)樹脂混合層2形成在基底1上，以產(chǎn)生分隔壁3。本發(fā)明光學(xué)元件的分隔壁3對應(yīng)圖10所示的濾色鏡的黑色矩陣102和圖9所示的電致發(fā)光元件的分隔壁92。當(dāng)制造濾色鏡時，分隔壁3優(yōu)選制成起到遮擋圖10所示相鄰象素之間的光的遮光層102的作用。然后，以圖10所示的黑色矩陣的形式或以黑色條紋形式實現(xiàn)分隔壁3。在制造EL元件時，分隔壁3可以起到遮光層的作用。
能用作形成本發(fā)明目的的分隔壁3的樹脂混合物(組合物)的實例包括感光樹脂和非感光樹脂，如環(huán)氧樹脂、丙烯酸樹脂、包括聚胺酰亞胺的聚酰亞胺樹脂、尿素樹脂，聚脂樹脂和聚乙烯聚合物樹脂。然而，考慮到用作分隔壁的樹脂混合物在高于250°溫度時優(yōu)選為抗熱性，優(yōu)選使用環(huán)氧樹脂、丙烯酸樹脂和聚酰亞胺樹脂。
當(dāng)把分隔壁3制成起遮光層作用時，使用分散有遮光劑的黑色混合物制備樹脂混合物層2。然后，將炭黑優(yōu)選用作遮光劑，以得到分隔壁3的高度抗墨性和適當(dāng)?shù)谋砻娲植诙?。用于本發(fā)明的目的，使用接觸方法制備碳黑，也可使用熔爐方法或熱力方法，接觸方法是指槽法炭黑、滾筒炭黑或盤法炭黑，熔爐方法是指天然氣爐黑或油爐黑，熱力方法是指熱裂法炭黑、或乙炔黑。特別是，用于本發(fā)明的目的，優(yōu)選使用槽法炭黑、天然氣爐黑或油爐黑。如果必要，可增加R、G和B混合色素。商業(yè)用的抗黑劑可替代用于本發(fā)明的目的。并且，如果必要，可將遮光層制成高抗電力。
通過自旋涂層、滾動涂層，條形涂層、噴灑涂層、浸漬涂層和印刷選擇適當(dāng)?shù)姆椒ㄐ纬蓸渲旌蠈?。步驟(c)當(dāng)感光材料用于樹脂混合層2時，分隔壁3形成由照相平版印刷術(shù)方法在樹脂混合層2形成圖形的多個開口4。當(dāng)使用無感光材料用作樹脂混合層2時，通過使用光阻材料作掩膜的濕或干刻蝕方法或除去方法形成樹脂混合層2圖形，來形成分隔壁3。步驟(d)現(xiàn)在帶有分隔壁3的基底1受到干刻蝕處理。特別是引入包含至少氧、氬和氦的氣體，只要適當(dāng)，在基底1受到減壓或大氣壓的空氣等離子體輻射時，基底1受到減壓或大氣壓力等離子體處理。
由于干刻蝕處理的結(jié)果，除去了在形成分隔壁3的過程中粘接到基底1表面的污物，清潔表面以在隨后的步驟提高墨6的吸濕度(親和性)，將墨6滿意地擴(kuò)散到開口4中。此外，由于等離子體處理的結(jié)果，分隔壁的表面層做得較粗糙，以提高抗墨性。步驟(e)在干刻蝕步驟之后，用包含至少氟原子的氣體的氣氛中的等離子體輻射基底1。由于等離子體處理結(jié)果，在引入的氣體中的氟和/或一種或多于一種氟的混合物穿透到分隔壁3的表面層，以提高分隔壁3表面層的抗墨性。
特別是，當(dāng)分隔壁3由包含炭黑的樹脂混合物形成時，分隔壁顯示高度抗墨性。這可能是由于在步驟(d)干刻蝕處理的結(jié)果，炭黑暴露在分隔壁3的表面，因此，氟或氟化物在該步驟的等離子體處理中粘接到炭黑上。所以，本發(fā)明分隔壁3優(yōu)選包含炭黑。
在該步驟引入的至少包含氟原子的氣體可以是從CF4、CHF3、C2F6、SF6、C3F8、C5F8選擇出的一種或多于一種的鹵素。特別是，最優(yōu)選為使用C5F8(八氟環(huán)戊烷)，因為它的臭氧破壞力為零，如果與其他氣體(CF45萬年，C4F83200年)比較，它在空氣中的壽命周期短到0.89年。因此，它顯示出地球升溫系數(shù)90(假設(shè)CO2＝2,100年的累計值)，遠(yuǎn)小于任何已知類似的氣體(CF46500、C4F88700)，因此，對于保護(hù)臭氧層和行星環(huán)境是高度有效的。因而，本發(fā)明高度優(yōu)選C5F8。
如果必要，在該步驟引進(jìn)的氣體可以另外包含氧、氬和/或氦。用于本發(fā)明的目的，使用從上述所列的CF4、CHF3、C2F6、SF6、C3F8、C5F8選擇出的一種或多于一種的鹵素和O2的混合氣體控制該步驟實現(xiàn)的抗墨性程度。O2的混合率優(yōu)選30％減更少。當(dāng)在混合氣體中O2的混合率超過30％時，O2的氧化反應(yīng)占優(yōu)勢，減少增進(jìn)抗墨力的效力，并能損壞樹脂。
在該步驟產(chǎn)生等離子體使用的方法和前面的干刻蝕步驟包括低頻放電方法、高頻放電方法和微波放電方法?？梢赃m當(dāng)選擇等離子體輻射的壓力、氣體流動率、放電頻率、處理時間和其他條件。
圖5和6概括說明用在本發(fā)明光學(xué)元件制造方法的干刻蝕步驟和等離子體步驟的等離子體發(fā)生器。圖5和圖6中，參考標(biāo)號51、52、53和54分別代表上電極、下電極、要被處理的基底和高頻電源。使用任何一種所述的等離子體發(fā)生器，以彼此平行設(shè)置的板的形式向兩個電極施加高頻電壓，以產(chǎn)生等離子體。圖5顯示陰極耦合型等離子體發(fā)生器，圖6顯示陽極耦合型等離子體發(fā)生器。采用任何類型，通過控制壓力、氣體流動率、放電頻率、處理時間和其他條件，以所需的方式控制分隔壁3的抗墨性和表面粗糙度以及對基底1表面的墨的親和性。
在圖5和6的等離子體發(fā)生器中，圖5所示的陰極耦合性等離子體發(fā)生器在用于干蝕刻步驟時，可用于減少干蝕刻處理時間，因此，這是它的優(yōu)點。另一方面，圖6所示的陽極耦合型等離子體發(fā)生器的優(yōu)點是，它不會不必要地?fù)p壞基底1。因此，可以依賴于基底1和分隔壁3的材料適當(dāng)選擇干蝕刻步驟的等離子體發(fā)生器和等離子體處理步驟的等離子體發(fā)生器。
根據(jù)本發(fā)明，在等離子體處理步驟后的分隔壁3表面的抗墨度優(yōu)選為，純水的接觸角度不小于110°。很容易發(fā)生顏色混合，因此，在接觸角度小于110°時，不能以高速率施加墨。特別是，在制造濾色鏡時，如果接觸角度小于110°，很難制造高顏色純度的濾色鏡。采用已知的方法，很難將分隔壁3表面的抗墨度提高到高于110°，如果使用高抗墨度的PTFE(聚四氟乙烯)，可稍微小于110°。
根據(jù)本發(fā)明，當(dāng)分隔壁3由包含發(fā)黑的樹脂混合物制成，并受到干蝕刻處理和隨后的等離子體處理步驟，可使分隔壁3表面的抗墨度小于110°，為達(dá)到本發(fā)明目的，接觸角度優(yōu)選小于120°，并不大于135°。假設(shè)分隔壁3表面的抗墨度不大于135°，即使以低速率施加墨，也能阻止產(chǎn)生空白區(qū)的問題。
基底1表面的墨親和度優(yōu)選為，純水的接觸角度不大于20°。在純水的接觸角度不大于20°時，墨能濕潤并滿意地擴(kuò)散到基底1的表面，因此，即使如果分隔壁3表面顯示高抗墨度，也沒有空白區(qū)出現(xiàn)。特別是，純水的接觸角度相對于基底的表面不大于10°。
本發(fā)明的發(fā)明者發(fā)現(xiàn)，空白區(qū)的出現(xiàn)不僅依賴于分隔壁3表面的抗墨度和基底1表面的墨親和性，還依賴于分隔壁3頂表面和側(cè)表面的粗糙度。由噴墨方法施加到開口4的墨6填充到由分隔壁3限定的凹口，且墨6的擴(kuò)散趨勢受到分隔壁3頂表面和附近的表面抗墨性的抑制，如圖7A和8A所示。以高速率施加的墨由于包含了熱處理步驟硬化的結(jié)果而減少了容量。如果分隔壁3表面非常粗糙，能大尺寸地接觸墨，一旦墨6與分隔壁3的側(cè)表面接觸，不管分隔壁3表面的抗墨性如何，都能容易地接觸。因此，在如圖7B所示墨6完全硬化時，象素7的表面容易變平。
另一方面，如果分隔壁3的表面平坦且光滑，墨6的表面從原始位置落下，并由于硬化而減小了容量以及圖8B所示的抗墨表面，墨被分隔壁3的側(cè)表面抵抗。因此，象素7表現(xiàn)為濾色鏡沿著外周為低密度，和EL元件亮度降低。
由于以上原因，分隔壁3表面的算術(shù)平均偏差(Ra)優(yōu)選為不小于3nm。另一方面，分隔壁3圖形的線性度受到負(fù)面影響，由分隔壁3限定的開口改變尺寸，在平均值偏差(Ra)超過50nm時，很難有大的口徑比率。因此，為實現(xiàn)本發(fā)明目的，分隔壁3表面平均值偏差(Ra)優(yōu)選在3nm和50nm之間，更優(yōu)選為4nm和20nm。因此，防止空白區(qū)出現(xiàn)，并沒有對分隔壁3的圖形分布有負(fù)影響，且象素表面平坦。
根據(jù)本發(fā)明，通過由包含炭黑的樹脂混合物形成分隔壁3、和適當(dāng)選擇干蝕刻步驟和等離子體處理步驟的條件來控制分隔壁3表面的粗糙度。換言之，表面粗糙度根據(jù)等離子體發(fā)生的方法、電極分開的距離、氣體類型、RF能量和干蝕刻步驟的處理時間和等離子體處理步驟的時間而改變。特別是，通過控制RF能量和處理時間實現(xiàn)滿意的表面粗糙度。表面粗糙度也根據(jù)等離子體發(fā)生的方法、電極分開的距離、氣體類型、RF能量和選擇的等離子體處理步驟的處理時間條件、特別重要的氣體種類而改變。例如，當(dāng)使用CF4和O2的混合氣體時比僅使用包含氟原子CF4氣體時，表面粗糙度更顯著。表面粗糙度也根據(jù)混合氣體中O2的混合比率改變?？紤]到抗墨性和上述的O2的氧化反應(yīng)，O2的混合比率優(yōu)選不大于30％，更優(yōu)選在10和20％之間。
如上指出，由于干蝕刻步驟和等離子體處理步驟，只有分隔壁3制成顯示適當(dāng)水平的表面粗糙度，基底1的表面在由分隔壁3包圍的暴露區(qū)域顯示墨親和性。步驟(f)從噴墨記錄系統(tǒng)的噴墨頭5將R、G和B的墨6施加到由基底1的分隔壁3(開口4)包圍的區(qū)域。使用電熱換能器作為能量產(chǎn)生元件的氣泡噴墨型的噴墨頭或使用壓電元件作為能量產(chǎn)生元件的壓電噴墨型噴墨頭用作本發(fā)明的目的。在濾色鏡情況時，墨6包含硬化后產(chǎn)生相應(yīng)有色部分的R、G和B顏料。另一方面，在EL元件情況下，墨6包含產(chǎn)生發(fā)光層的相應(yīng)材料，這些發(fā)光層在硬化后施加電壓適于發(fā)出光。在任何一種情況下，墨6優(yōu)選包含至少一種硬化成分、水和一種溶劑?，F(xiàn)在，將更詳細(xì)地描述根據(jù)本發(fā)明的制造方法用于制造濾色鏡的墨混合物。(1)顏料染料型和色素型顏料都可用于本發(fā)明目的的墨。然而，當(dāng)使用色素時，為了在墨中均勻地散布色素，必須加散布劑以減少總的固態(tài)含量中顏料的含量比率。由于這個原因，優(yōu)選使用染料型顏料用于本發(fā)明的目的。以等于或小于添加的硬化成分的比率添加顏料，這些將在后文進(jìn)行描述。(2)硬化成分考慮到在隨后步驟的處理阻力和可靠性，墨優(yōu)選包含一種或多于一種交叉連接單體和/或聚合體成分，通過熱處理或光輻射導(dǎo)致的硬化固定顏料。特別是，考慮到隨后步驟的熱阻力，優(yōu)選使用可硬化的樹脂混合物用于本發(fā)明的目的。例如，用于本發(fā)明目的的基本樹脂材料包括具有例如羥基組、羧基組、烷氧基組和氨基混合物組的丙烯酸樹脂和硅樹脂；例如羥基丙烷基纖維素、羥基乙荃纖維素、甲基纖維素、羧基甲基纖維素和它們重組的物質(zhì)的纖維素衍生物；以及例如多乙烯基吡咯、多乙烯基酒精和多乙烯基乙縮醛的乙烯基聚合件。也使用交叉連接劑(交聯(lián)劑)和/或光致引發(fā)劑，通過光輻射或熱處理硬化基本樹脂材料。用于本發(fā)明目的的交聯(lián)劑的特殊例子包括象甲基三聚氰胺的三聚氰胺衍生物。光致引發(fā)劑的例子包括重鉻酸鹽、二疊氮化物混合物，基本形啟發(fā)器、陽離子啟發(fā)器和陰離子引發(fā)劑?？墒褂脙煞N或多于兩種不同的電致引發(fā)劑的混合物或電致引發(fā)劑和感光劑的混合用于本發(fā)明目的。
(3)溶劑水和有機(jī)溶劑的混合優(yōu)選用作本發(fā)明目的的墨介質(zhì)。不是包含不同離子的水而是離子交換水(去電離水)優(yōu)選用作溶劑。
用于本發(fā)明目的的有機(jī)溶劑的例子包括具有例如甲基酒精的1到4碳原子的烷酒精、乙荃酒精、n-丙基酒精、異丙基酒精、n-丁基酒精、副丁基酒精和特丁基酒精；例如二甲基甲酰胺和二甲基乙酰胺的氨基化合物；例如丙酮、二丙酮酒精的酮和酮酒精，象四氫呋喃和二氧雜環(huán)乙烷的醚，象具有2到4碳原子烯組的烯乙二醇，如乙烯乙二醇，如丙烯乙二醇，如丁烯乙二醇，硫二酐醇，己烯乙二醇，和二乙烯乙二醇；丙三醇；多羥基酒精的低烷醚，如乙烯乙二醇單甲基醚，二乙烯乙二醇甲基醚和三乙烯乙二醇單甲基醚；N-甲基2-吡咯和2-吡咯。
如果必要，可以使用兩種或多于兩種有不同沸點的有機(jī)溶劑代替單一溶劑和表面活性劑，可添加除泡沫劑和/或防腐劑來制造具有所需物理特性值的墨。步驟(g)-(h)在這些步驟中，進(jìn)行可能包含熱處理和/或光輻射處理的必要處理操作，從墨6中除去溶劑來硬化后者，產(chǎn)生象素7。
在濾色鏡情況下，如果必要，如上所述形成保護(hù)層和/或透明的導(dǎo)電膜。用作保護(hù)層的材料包括光致型、熱硬化型和光熱硬化型材料。保護(hù)層也可替換為由蒸發(fā)和噴鍍制成的無機(jī)膜制成。換言之，可以使用任何能保留濾光器必要的透明度，并經(jīng)受住透明電導(dǎo)膜形成處理和隨后的定位膜形成處理。透明電導(dǎo)膜可不需要插入保護(hù)層，直接形成在有色部分。
在用等離子體(上述步驟e)輻射干蝕刻基底的等離子體處理后，和在對分隔壁3包圍(上述步驟f)的區(qū)域施加處理之前，基底表面受到與水接觸的水處理。由于水處理的結(jié)果，即使在每個區(qū)域僅施加少量的墨，分隔壁3的開口4中的墨將滿意地擴(kuò)散。
用在該處理中的水優(yōu)選為純水。只要基底完全與水接觸，接觸基底的方法不受到任何限制。因此，基底1可以浸漬在水中或沐浴在水中。然而，如果基底1上的圖形顯示復(fù)雜的分布，基底優(yōu)選浸入水中，并同時用超聲波輻射或在稍微高壓下用水滴沐浴基底，以便使形成分隔壁3的邊界區(qū)域和開口4、角和其他微小區(qū)域與水滿意地接觸。
從改善開口4的表面條件考慮，與基底1接觸的水的溫度優(yōu)選為較高，從加熱水的費用和經(jīng)濟(jì)影響考慮優(yōu)選為20°和60°之間。
該處理的結(jié)果，暴露在分隔壁3的開口4的區(qū)域中，存在基底1表面的氟化物的數(shù)量減少一半，基底1表面的粗糙度比處理以前更加顯著。
在這個處理中基底1和水接觸后，如果加熱基底并在高于100°以上干燥，能減小墨擴(kuò)散的影響。因此，優(yōu)選在低于100°的溫度進(jìn)行加熱處理。例1(黑色矩陣的形成)將包含炭黑的黑色光致抗蝕劑(V-259BK抗蝕劑，可從Shinnittetsu Kagaku得到)施加到玻璃基底(#1737，由Corning得到)，并受到預(yù)定的曝光處理，顯影和快速烘干，以制備具有2μm膜厚度的黑色矩陣圖形(分隔壁)，及尺寸為75μm×225μm的長方形開口。(制備墨)使用包含以下顯示的容量比率的丙烯酸共聚物熱硬化成分，來制備具有下列混合物的R、G和B墨。
熱硬化成分:
甲基甲基丙烯酸鹽 50重量份羥基乙荃甲基丙烯酸鹽 30重量份N甲基丙烯酰胺 20重量份R墨:
C.I酸橙色148 3.5重量份C.I酸紅色289 0.5重量份二乙烯乙二醇 30重量份乙烯乙二醇20重量份離子交換水40重量份引用的硬化成分6重量份G墨C.I酸黃色23 2重量份鋅酞箐染料磺胺制劑2重量份二乙烯乙二醇 30重量份乙烯乙二醇20重量份離子交換水40重量份引用的硬化成分6重量份B墨C.I正藍(lán)色199 4重量份二乙烯乙二醇 30重量份乙烯乙二醇20重量份離子交換水40重量份引用的硬化成分6重量份(干蝕刻)帶有黑色矩陣的玻璃基底(黑色矩陣基底)在以下條件受到干蝕刻處理，使用陰極耦合-平行板型等離子體處理系統(tǒng)。
使用的氣體O2氣體流動速率 80sccm壓力 8PaRF功率150W處理時間 30sec(等離子體處理)在上述干蝕刻處理后，在以下條件下在相同系統(tǒng)中黑色矩陣基底受到等離子體處理。
使用的氣體CF4氣體流動速率 80sccm壓力 50PaRF功率150W
處理時間30sec(抗墨性評價)使用對液晶玻璃的自動清潔/處理觀察設(shè)備(由Kyowa Kaimen KK生產(chǎn))觀察等離子體處理的黑色矩陣基底相對于純水的接觸角度。測量精細(xì)圖形周圍5mm寬度邊緣中黑色矩陣表面的接觸角度，同時測量沒有存在黑色矩陣圖形的邊緣外的玻璃基底表面的接觸角度。測量的對純水的接觸角度如下玻璃基底表面6°黑色矩陣表面126°(表面粗糙度的評價)與測量相對純水的接觸角度一樣，使用接觸型表面粗糙度儀“FP-20“(由Tecnor制造)，以平均粗糙度(Ra)的形式測量5mm寬度邊緣內(nèi)的黑色矩陣的表面粗糙度。結(jié)果，黑色矩陣表面的平均粗糙度(Ra)等于4.4nm。(制備有色部分)通過具有放電電容為20pl的噴墨頭的噴墨記錄系統(tǒng)，將上述的R、G和B墨施加到等離子體處理的黑色矩陣基底。隨后，基底受到90℃熱處理10分鐘，然后在230℃放30分鐘，熱硬化墨，和產(chǎn)生有色部分(象素)。熱硬化處理的結(jié)果，制成濾色鏡。為了使它們顯示不同施加墨的量，在每個開口從200至800pl范圍內(nèi)，以每100pl改變施加墨的容量，來制成總共七個樣本的濾色鏡。(評價顏色混合、空白區(qū)和有色部分的表面平面度)通過光學(xué)顯微鏡觀察制備的濾色鏡樣本來評價顏色混合和空白區(qū)。使用評價表面粗糙度所用的表面粗糙度儀的方法來評價帶有每個開300pl墨的樣本。特別是確定每個有色部分中心離玻璃基底的高度dt與有色部分的邊緣離玻璃表面的高度差db的高度差(dt-db)評價有色部分的平面度，當(dāng)-0.5μm≤(dt-db)≤0.5μm時平坦，(dt-db)＜-0.5μm為凹部，(dt-db)＞0.5μm時為突起。
結(jié)果，濾色鏡樣本沒有顯示任何顏色混合，也沒有空白區(qū)，有色部分表現(xiàn)為平坦表面。例2濾色鏡樣本除了使用“CK-S171X抗蝕劑”(從富士膠片公司得到)用作包含炭黑的黑色矩陣外，如例1一樣制造。在等離子體處理步驟后，黑色矩陣相對于純水顯示以下接觸角度。
玻璃基底表面 5°黑色矩陣基底表面128°黑色矩陣的表面平均粗糙度(Ra)是10.3nm。該例子的濾色鏡樣本沒有顯示任何顏色混合，也沒有空白區(qū)，有色部分表現(xiàn)為平坦表面。例3濾色鏡樣本除了在干蝕刻處理引入氬氣外，如例1一樣制造。在等離子體處理步驟后，黑色矩陣相對于純水顯示以下接觸角度玻璃基底表面8°黑色矩陣基底表面 132°黑色矩陣的表面平均粗糙度(Ra)是6.8nm。該例子的濾色鏡樣本沒有顯示任何顏色混合也沒有空白區(qū)，有色部分表現(xiàn)為平坦表面。例4濾色鏡樣本除了在等離子體處理步驟引入分別以64sccm和16sccm的流動速率的CF4氣和O2氣外，如例1一樣制造。在等離子體處理步驟后，黑色矩陣相對于純水顯示以下接觸角度玻璃基底表面7°黑色矩陣基底表面 133°黑色矩陣表面的平均粗糙度(Ra)是5.2nm。該例子的濾色鏡樣本沒有顯示任何顏色混合，也沒有空白區(qū)，有色部分表現(xiàn)為平坦表面。例5濾色鏡樣本除了在等離子體處理步驟引入C5F8氣外，如例1一樣制造。在等離子體處理步驟后，黑色矩陣相對于純水顯示以下接觸角度；玻璃基底表面6°黑色矩陣基底表面 129°黑色矩陣表面的平均粗糙度(Ra)是3.8nm。該例子的濾色鏡樣本沒有顯示任何顏色混合，也沒有空白區(qū)，有色部分表現(xiàn)為平坦表面。例6濾色鏡樣本除了如例2中使用相同抗蝕劑形成黑色矩陣、如例3中以相同方式執(zhí)行干蝕刻步驟以及如例4中以相同方式執(zhí)行等離子體處理步驟外，如例1一樣制造。在等離子體處理步驟后，黑色矩陣相對于純水顯示以下接觸角度
玻璃基底表面7°黑色矩陣基底表面 134°黑色矩陣表面的平均粗糙度(Ra)是18.3nm。該例子的濾色鏡樣本沒有顯示任何顏色混合，也沒有空白區(qū)，有色部分表現(xiàn)為平坦表面。例7濾色鏡樣本除了如例1中的黑色抗蝕劑由“CT-2000L”(從富士膠片公司得到)代替外，如例1一樣制造，CT-2000L是不包含炭黑的感光樹脂。在等離子體處理步驟后，黑色矩陣相對于純水顯示以下接觸角度玻璃基底表面6°黑色矩陣基底表面 102°黑色矩陣表面的平均粗糙度(Ra)是1.5nm。
在該例子的所有濾色鏡樣本沒有觀察到空白區(qū)。只有少數(shù)帶有600pl或更多墨開口的樣本顯示嚴(yán)重的顏色混合。有色部分只稍微突出，突出的程度在實際應(yīng)用中不會產(chǎn)生問題。比較例1除了不進(jìn)行干蝕刻處理和等離子體處理步驟外，如例1制造濾色鏡樣本。獲得的黑色矩陣基底相對于純水顯示以下的接觸角度玻璃基底表面62°黑色矩陣基底表面 78°黑色矩陣表面的平均粗糙度(Ra)是2.0nm。以該比較例制造的濾色鏡樣本在所有有色部分顯示空白區(qū)。在每個開口帶有400pl或更多墨的樣本中觀察到顏色混合由于空白區(qū)不可能評價有色部分的表面粗糙度。比較例2除了不進(jìn)行干蝕刻處理外，如例1制造濾色鏡樣本。在等離子體處理步驟后，獲得的黑色矩陣基底相對于純水顯示以下的接觸角度玻璃基底表面23°黑色矩陣基底表面 97°黑色矩陣表面的平均粗糙度(Ra)是3.5nm。以該比較例制造的濾色鏡樣本顯示沒有空白區(qū)。有色部分的表面上平坦的。然而，在每個開口帶有600pl或更多墨的樣本中觀察到顏色混合。
表1概括地顯示了上述例子和比較例的結(jié)果。例8使用TFT驅(qū)動基底。該基底包括由薄膜處理方法形成的配線膜和絕緣膜的多層結(jié)構(gòu)。然后，通過對TFT驅(qū)動基底濺射的方法使ITO膜形成為厚度40mm的每個象素(發(fā)光層)的透明電極，并使用照相平版印刷術(shù)方法使膜進(jìn)行形成圖形的操作，以產(chǎn)生顯示預(yù)定分布的象素。
然后，形成用于填充發(fā)光層的分隔壁。施加透明的感光樹脂“CT-2000L”(從富士膠片公司得到)，并使其受到預(yù)定的曝光處理、顯影和快速烘干以產(chǎn)生具有0.4μm膜厚度的透明矩陣圖形和在ITO透明電極上設(shè)置的尺寸為75μm×225μm的長方形開口。此后，在如例1所用的相同條件下，使用O2進(jìn)行干蝕刻處理和用CF4進(jìn)行等離子體處理步驟。ITO透明電極的表面和透明矩陣圖形分別對純水顯示以下接觸角度。
ITO透明電極17°透明矩陣圖形 101°在基底上分隔壁限定的空間填充有發(fā)光層。對于發(fā)光層，電子轉(zhuǎn)移2-5雙(5-三元醇丁基-2-苯唑)-噻吩(閃耀峰450nm，形成起電子轉(zhuǎn)移發(fā)藍(lán)光的有色物質(zhì)的混合物的發(fā)光中心，后文指“BBOT”)以重量30％和空穴轉(zhuǎn)移基質(zhì)混合物多-N-乙烯基咔唑(分子量150,000，可從Kanto Kagaku得到，后文指“PVK)溶解在二氯乙烷中，這樣電子轉(zhuǎn)移顏色物質(zhì)的分子分散到空穴轉(zhuǎn)移基質(zhì)混合物中。使用噴墨系統(tǒng)將還包含0.015mol％Nile紅的PVK-BBOT的二氯乙烷溶劑和另一種發(fā)光中心混合物一起填充到由透明樹脂分隔壁限定的空間，然后干燥，制成200nm厚的發(fā)光層。象素(發(fā)光層)彼此隔離，包含所述述發(fā)光材料的溶液不移出分隔壁。此外，通過真空蒸發(fā)Mg∶Ag(10∶1)的方法形成厚度為200nm的MgAg陰極。將18V電壓施加到制備的EL元件的每個象素，證實元件以480cd/m2的比率發(fā)出均勻的白光。例9(黑色矩陣的形成)將包含炭黑“CK-S171抗蝕劑“(可從富士膜公司得到)的黑色光阻施加到玻璃基底(#1737，可從Corning得到)，并使其受到預(yù)定的曝光處理，顯影和快速烘干以制成具有2μm膜厚度和有75μm×225μm尺寸的長方形開口的黑色矩陣圖形(分隔壁)。(表面粗糙度的評價)在黑色矩陣形成前，使用“NanoScope IIIa AFM Dimension 3000 StageSystem”(由Digital Instrument制造)觀察用于形成黑色矩陣的玻璃基底。結(jié)果，發(fā)現(xiàn)黑色矩陣的表面平均粗糙度等于0.231nm。(干蝕刻)帶有黑色矩陣的玻璃基底(黑色矩陣基底)在與例1相同的條件下受到等離子體處理。(等離子體處理)在上述干蝕刻處理后，在與例1相同的條件下在相同的系統(tǒng)中受到等離子體處理步驟。(抗墨性評價)如例1相同，觀察等離子體處理的黑色矩陣基底相對于純水的接觸角度。相對于純水的接觸角度如下玻璃基底表面6°黑色矩陣表面126°(表面粗糙度評價)如例1一樣觀察黑色矩陣的表面粗糙度。結(jié)果，發(fā)現(xiàn)黑色矩陣表面的平均粗糙度(Ra)等于4.4nm。
再如例1，在等離子體處理后評價玻璃基底的表面粗糙度，發(fā)現(xiàn)玻璃基底的表面平均粗糙度(Ra)是0.222nm。(擴(kuò)散性能的評價)在等離子體處理后，評價黑色矩陣基底墨的擴(kuò)散性能。從噴墨頭將上述B墨以20pl施加到每個開口，通過光學(xué)顯微鏡觀察黑色矩陣，發(fā)現(xiàn)墨滴有50μm直徑。將施加的墨留在基底一會，發(fā)現(xiàn)墨滴沒有浸濕周圍的壁，也沒有擴(kuò)散。(水處理)在等離子體處理后，黑色矩陣受到水處理。特別是，黑色矩陣在以下處理條件下沉浸于超聲波純水中。
純水溫度30℃超聲波頻率 40KHz
處理時間2min干燥溫度90℃干燥時間2min(抗墨性評價)在水處理之后，再觀察黑色矩陣基底的表面抗墨性，通過觀察與水處理前觀察的相同位置相對于純水的接觸角度，看是否受到水處理的損壞。相對于純水的接觸角度如下玻璃基底表面7°黑色矩陣表面124°(墨擴(kuò)散性能的評價)在水處理后，使用與水處理前相同的方法評價黑色矩陣基底的墨擴(kuò)散性能。通過光學(xué)顯微鏡觀察黑色矩陣墨滴的直徑，發(fā)現(xiàn)墨滴完全浸濕周圍的壁，并完全擴(kuò)散到相應(yīng)的開口，每個墨滴的周圍幾乎不能識別。玻璃基底表面的平均粗糙度(Ra)是0.794nm。(玻璃基底表面上氟化物的評價)通過“TFS-2000”(由TOF-SIMS PHI EVANS制造)觀察玻璃基底表面三個位置的氟化物量的變化，三個位置包括(1)形成黑色矩陣前的玻璃基底表面的一個位置，(2)在等離子體處理后沒有發(fā)現(xiàn)黑色矩陣的地方的黑色矩陣邊緣外的玻璃基底表面區(qū)域的一個位置，(3)在水處理后沒有發(fā)現(xiàn)黑色矩陣的黑色矩陣邊緣外的玻璃基底表面的一個位置。通過Si+標(biāo)準(zhǔn)化的方式評價氟化物的變化(例如，假設(shè)Si+值是100)。結(jié)果，在位置(2)的CaF+，SrF+和BaF+的Si+標(biāo)準(zhǔn)化值分別是161.7、69.0和102.3，而所有在位置(1)和位置(3)的值低于1。另一方面，在位置(2)CF3+的Si+標(biāo)準(zhǔn)化值是42.2，而在位置(1)和位置(3)的值低于1。
如果與水處理前的值比較，根據(jù)BaF+的Si+標(biāo)準(zhǔn)化值比率，水處理后的玻璃基底上的氟化物量是0.052％。(制備有色部分)通過帶有放電電容20pl噴墨頭的噴墨打印系統(tǒng)將上述的R、G和B墨施加到水處理的黑色矩陣基底。直到每個開口帶有40pl墨。隨后，基底在90°受到熱處理10分鐘，然后在230°熱硬化30分鐘，制成有色部分(象素)(有色部分的空白區(qū)和平面度的評價)通過光學(xué)顯微鏡觀察空白區(qū)，評價制備的濾色鏡樣本。使用評價表面粗糙度的表面粗糙度測量儀評價每個開口帶有40pl墨的樣本。特別是確定每個有色部分中心高度離玻璃表面的高度dt與有色部分的邊緣離玻璃表面的高度db的高度差(dt-db)，評價有色部分的平面度-0.5μm≤(dt-db)≤0.5μm為平坦，(dt-db)＜-0.5μm為凹部，(dt-db)＞0.5μm為突起結(jié)果，濾色鏡樣本沒有顯示任何顏色混合，也沒有空白區(qū)，有色部分表現(xiàn)為平坦表面。例10除了“V-259BKIS”(可從Shinnittetsu Kagaku得到)用作包含炭黑的黑色阻抗劑外，如例9制備濾色鏡樣本。在水處理步驟后，黑色矩陣基底表面相對于純水顯示以下的接觸角度。
玻璃基底表面5°黑色矩陣表面128°同樣評價墨的擴(kuò)散特性，發(fā)現(xiàn)20pl墨已經(jīng)滿意地浸濕了每個開口的內(nèi)部并擴(kuò)散到周圍。黑色矩陣表面的平均粗糙度(Ra)是10.3nm，玻璃基底表面的平均粗糙度是0.743nm。如果與水處理前比，根據(jù)BaF+的Si+標(biāo)準(zhǔn)化值比率，水處理后的玻璃基底上的氟化物量是0.042％。濾色鏡樣本沒有顯示任何空白區(qū)，有色部分表現(xiàn)為平坦表面。例11濾色鏡樣本除了在等離子體處理步驟引入分別以64sccm和16sccm的流動速率的CF4氣和O2氣外，如例9一樣制造。在等離子體處理步驟后，黑色矩陣相對于純水顯示以下接觸角度玻璃基底表面7°黑色矩陣基底表面 133°水處理前玻璃基底表面的平均粗糙度(Ra)是0.217nm。
也評價墨的擴(kuò)散特性，發(fā)現(xiàn)20pl墨已經(jīng)滿意地浸濕了每個開口的內(nèi)部并擴(kuò)散到周圍。黑色矩陣表面的平均粗糙度(Ra)是5.2nm，玻璃基底表面的平均粗糙度是0.761nm。如果與水處理前的值比，根據(jù)BaF+的Si+標(biāo)準(zhǔn)化值比率，水處理后的玻璃基底上的氟化物量是0.048％。濾色鏡樣本沒有顯示任何空白區(qū)，有色部分表現(xiàn)為平坦表面。例12濾色鏡樣本除了如例9中的黑色抗蝕劑由“CT-2000L(從富士膠片公司得到)代替外，如例9一樣制造，CT-2000L是不包含炭黑的感光樹脂。在水處理步驟后，黑色矩陣基底相對于純水顯示以下接觸角度玻璃基底表面6°矩陣圖形表面 62°也評價墨的擴(kuò)散特性，發(fā)現(xiàn)20pl墨已經(jīng)滿意地浸濕了每個開口的內(nèi)部并擴(kuò)散到周圍。黑色矩陣表面的平均粗糙度(Ra)是1.5nm，玻璃基底表面的平均粗糙度是0.787nm。如果與水處理前的值比，根據(jù)BaF+的Si+標(biāo)準(zhǔn)化值比率，水處理后的玻璃基底上的氟化物量是0.045％。
濾色鏡樣本沒有顯示任何空白區(qū)，有色部分僅稍微突出，且有色部分的邊界和矩陣圖形顯示稍微低的密度，但在實際應(yīng)用中不會產(chǎn)生問題，例13濾色鏡樣本除了用于水處理的純水的溫度保持在50℃，和處理時間等于30see外，如例9一樣制造。在水處理步驟后，黑色矩陣基底相對于純水顯示以下接觸角度玻璃基底表面8°黑色矩陣基底表面 124°同樣評價墨的擴(kuò)散特性，發(fā)現(xiàn)20pl墨已經(jīng)滿意地浸濕了每個開口的內(nèi)部并擴(kuò)散到周圍。黑色矩陣表面的平均粗糙度(Ra)是10.5nm，玻璃基底表面的平均粗糙度是0.735nm。如果與水處理前的值比，根據(jù)BaF+的Si+標(biāo)準(zhǔn)化值比率，水處理后的玻璃基底上的氟化物量是0.041％。濾色鏡樣本沒有顯示任何空白區(qū)，有色部分表現(xiàn)為平坦表面。例14濾色鏡樣本除了使等離子體處理的基底受到使用純水沐浴清潔系統(tǒng)的水處理外，如例9一樣制造。沐浴時間是30sec，純水溫度是35℃。在這里使用例9中的干燥條件。在水處理步驟后，黑色矩陣基底相對于純水顯示以下接觸角度玻璃基底表面7°黑色矩陣基底表面 126°
同樣評價墨的擴(kuò)散特性，發(fā)現(xiàn)20pl墨已經(jīng)滿意地浸濕了每個開口的內(nèi)部并擴(kuò)散到周圍。黑色矩陣表面的平均粗糙度(Ra)是12.3nm，玻璃基底表面的平均粗糙度是0.771nm。如果與水處理前的值比，根據(jù)BaF+的Si+標(biāo)準(zhǔn)化值比率，水處理后的玻璃基底上的氟化物量是0.045％。濾色鏡樣本沒有顯示任何空白區(qū)，有色部分表現(xiàn)為平坦表面。例15濾色鏡樣本除了使等離子體處理的基底受到使用高壓噴灑清潔系統(tǒng)的水處理外，如例9一樣制造。用于高壓噴灑的是純水。選擇噴灑壓力為6.86×106N/m2(70kgf/cm2)。在這里使用例9中的干燥條件。在水處理步驟后，黑色矩陣基底相對于純水顯示以下接觸角度玻璃基底表面5°黑色矩陣基底表面 124°同樣評價墨的擴(kuò)散性，發(fā)現(xiàn)20pl墨已經(jīng)滿意地浸濕了每個開口的內(nèi)部并擴(kuò)散到周圍。黑色矩陣表面的平均粗糙度(Ra)是9.9nm，玻璃基底表面的平均粗糙度是0.748nm。如果與水處理前的值比，根據(jù)BaF+的Si+示準(zhǔn)化值比率，水處理后的玻璃基底上的氟化物量是0.044％。濾色鏡樣本沒有顯示任何空白區(qū)，有色部分表現(xiàn)為平坦表面。例16使用TFT驅(qū)動基底。該基底包括由薄膜處理方法形成的配線膜和絕緣膜的多層結(jié)構(gòu)。然后，通過對TFT驅(qū)動基底濺射的方法使ITO膜形成的每個象素(發(fā)光層)厚度為40nm的透明電極，并使用照相平版印刷術(shù)方法使膜進(jìn)行形成圖形的操作，以產(chǎn)生顯示預(yù)定分布的象素。
然后，形成用于填充發(fā)光層的分隔壁。施加透明的感光樹脂“CT-2000L“(從富士膠片公司得到)，并使其受到預(yù)定的曝光處理、顯影和快速烘干以產(chǎn)生具有0.4μm膜厚度的透明矩陣圖形和在ITO透明電極上設(shè)置的尺寸為75μm×225μm的長方形開口。此后，在如例1所用的相同條件下，使用O2對基底進(jìn)行干蝕刻處理和用CF4進(jìn)行等離子體處理步聚。如評價例1的玻璃表面粗糙度一樣，評價ITO透明基底的表面粗糙底，發(fā)現(xiàn)平均粗糙度(Ra)等于31.5nm。然后，基底表面受到水處理。ITO透明電極的表面和透明矩陣圖形分別對純水顯示以下接觸角度。
ITO透明電極17°透明矩陣圖形 61°為了評價墨的擴(kuò)散特性，當(dāng)將20pl墨施加到ITO透明電極時，發(fā)現(xiàn)墨已經(jīng)滿意地浸濕了ITO電極并擴(kuò)散到周圍。矩陣圖形表面的平均粗糙度(Ra)是2.35nm，ITO透明電極表面的平均粗糙度是32.1nm。如果與水處理前的值比，根據(jù)CF3+的Si+標(biāo)準(zhǔn)化值比率，水處理后的ITO透明電極表面的氟化物量是0.041％。
通過噴墨記錄系統(tǒng)將墨施加到分隔壁限定的開口內(nèi)部。對于墨，電子轉(zhuǎn)移2-5雙(5-三元醇丁基-2-苯唑)-噻吩(閃爍峰450nm，形成為電子轉(zhuǎn)移發(fā)藍(lán)光顏色物質(zhì)混合物的發(fā)光中心，后文指“BBOT”)以重量30％和空穴轉(zhuǎn)移基質(zhì)混合物多-N-乙烯基咔唑(分子量150,000，可從Kanto Kagaku得到，后文指“PVK)溶解在二氯乙烷溶劑中，以使電子轉(zhuǎn)移顏色物質(zhì)的分子分散到空穴轉(zhuǎn)移基質(zhì)混合物中。還包含O.015mol％Nile紅的PVK-BBOT的二氯乙烷溶劑作為另一形成混合物的溶解的發(fā)光中心，通過噴墨系統(tǒng)填充到由透明樹脂分隔壁限定的空間，然后干燥以產(chǎn)生200nm厚發(fā)光層。象素(發(fā)光層)彼此之間絕緣，包含所述發(fā)光材料的溶液不離開分隔壁。
此外，由Mg∶Ag(10∶1)的真空蒸發(fā)形成厚度為200nm的MgAg陰極。將18V的電壓施加到制備的EL元件的每個象素，以證實元件以480cd/m2的比率發(fā)出均勻的白光。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明，提供一種制造象濾色鏡或EL元件的方法，上述元件包含沒有顏色混合問題、空白區(qū)且以低成本簡單方法可到有色部分密度均勻的象素，該方法能以高產(chǎn)出提供可靠的光學(xué)元件。因此，現(xiàn)在可提供適于顯示優(yōu)質(zhì)有色圖像的液晶元件，和包括根據(jù)本發(fā)明制造方法以低成本制造的光學(xué)濾光器。
表1

權(quán)利要求
1.一種光學(xué)元件的制造方法，該光學(xué)元件包括至少多個形成在基底上的多個象素，和分別設(shè)在相鄰象素之間的分隔壁，所述方法包括步驟在基底上形成樹脂混合物的分隔壁；用包含有至少從氧、氬和氦選出的氣體的氣氛中的等離子體輻射帶有所述分隔壁的基底執(zhí)行干蝕刻處理；用包含有至少氟原子的氣氛中的等離子體輻射受到所述干蝕刻處理的基底執(zhí)行等離子體處理步驟；和用噴墨系統(tǒng)的方法將墨施加到由分隔壁包圍的區(qū)域來形成象素。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的制造光學(xué)元件的方法，其中，分隔壁的表面粗糙度在等離子體處理步驟后比所述干蝕刻處理前大。
3.根據(jù)權(quán)利要求1制造光學(xué)元件的方法，其中，所述分隔壁由包含炭黑的樹脂混合物形成。
4.根據(jù)權(quán)利要求3制造光學(xué)元件的方法，其中，在所述的等離子體處理后分隔壁表面的算術(shù)平均值偏差(Ra)在3nm和50nm之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求3制造光學(xué)元件的方法，其中，在所述等離子體處理后，分隔壁表面相對于純水的接觸角度不小于110°，基底相對于純水的接觸角度不大于20°。
6.根據(jù)權(quán)利要求1制造光學(xué)元件的方法，其中，在等離子體處理過程中引入的是從CF4、SF6、CHF3、C2F6、C3F8和C5F8選出的至少一種鹵素氣體。
7.根據(jù)權(quán)利要求1制造光學(xué)元件的方法，其中，在等離子體處理過程中引入的是從CF4、SF6、CHF3、C2F6、C3F8、C5F8選出的鹵素氣體和O2氣的至少一種混合物，O2氣的混合比率不大于30％。
8.根據(jù)權(quán)利要求1制造光學(xué)元件的方法，其中，所述墨包含至少一種硬化成分、水和一種有機(jī)溶劑。
9.根據(jù)權(quán)利要求1制造光學(xué)元件的方法，其中，所述方法適于制造一種濾色鏡，其所述基底是透明基底和所述分隔壁由黑色矩陣提供。
10.根據(jù)權(quán)利要求1制造光學(xué)元件的方法，其中，所述方法適于制造所述象素由發(fā)光層形成的電致發(fā)光元件，所述電致發(fā)光元件包括一對電極，將發(fā)光層夾在中間。
11.根據(jù)權(quán)利要求1制造光學(xué)元件的方法，其中，在用等離子體輻射所述于蝕刻的基底的所述等離子體處理步驟后，該等離子體處理過的基底經(jīng)歷水處理步驟。
全文摘要
一種光學(xué)元件包括至少多個形成在基底上的象素,和分別設(shè)在相鄰象素之間的分隔壁,該光學(xué)元件是通過包含以下步驟的方法制造的:在基底上形成樹脂混合物的分隔壁;用包含有至少從氧、氬和氦選出的氣體的氣氛中的等離子體對帶有分隔壁的基底執(zhí)行輻射干蝕刻;用包含有至少氟原子的氣氛中的等離子體對受到所述干蝕刻處理的基底執(zhí)行輻射等離子體處理;用噴墨系統(tǒng)的方法將墨施加到由分隔壁包圍的區(qū)域來形成象素。
文檔編號G02B5/20GK1336567SQ0112592
公開日2002年2月20日 申請日期2001年6月1日 優(yōu)先權(quán)日2000年6月2日
發(fā)明者岡田健, 高野勝彥, 坂本淳一, 芝昭二, 巖田研逸, 谷內(nèi)洋, 西田武人, 岡田良克 申請人:佳能株式會社