專利名稱：光薄膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明一般涉及一種光薄膜，特別涉及一種在所選波長具有最大透射率的選擇厚度的光薄膜。
背景技術(shù)：
光薄膜一般用于封閉光掩膜或標(biāo)線，通過在集成電路的制造過程中防止灰塵或其它顆粒到達(dá)光掩膜圖案的焦面而防止光掩膜表面受到顆粒污染。由于在光過程中所使用的紅外線、電磁輻射等等在到達(dá)晶片表面之前通過該薄膜和光掩膜，因此該薄膜的光學(xué)特性特別重要。由于被該薄膜的吸收或反射所造成的傳輸損耗減少了到達(dá)晶片表面的可用光的量并且延長了所需的曝光時間。這降低效率并降低制造成本。隨著集成電路部件的不斷小型化，采用更短波長的光。當(dāng)前一般使用的波長是365nm，其對應(yīng)于汞頻譜的I線，由KrF準(zhǔn)分子受激輻射激光器所產(chǎn)生的248nm以及由ArF準(zhǔn)分子受激輻射激光器所產(chǎn)生的193nm波長的功能。
最好，在這些波長的薄膜透射率應(yīng)當(dāng)大于照射光的99％。在實(shí)踐中，希望使用單種薄膜用于所有這三個波長。這消除了對于某個特定的波長使用錯誤的薄膜這種情況的可能性。一種薄膜在這三個波長處具有高透射率是非常理想的。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個主要目的是提供一種用于防止光掩膜、標(biāo)線等等受到顆粒污染的薄膜。
本發(fā)明的另一個目的是提供一種對193nm、248nm和365nm波長的光具有至少99％的透射率的薄膜。
總而言之，本發(fā)明提供一種特別適用于保護(hù)光掩膜、標(biāo)線等等的光薄膜。光薄膜包括在193nm、248nm和365nm波長處具有寬的透射率峰值的隔膜，在上述波長處具有至少99％的透射率。該隔膜由無定型的含氟聚合物所制成，其具有選自0.275±0.01μm，0.55±0.015μm，0.82±0.02μm以及1.05±0.02μm的厚度，最好為0.826μm。
附圖簡述從下文結(jié)合附圖的詳細(xì)描述和所附權(quán)利要求中本發(fā)明的其它目的和特定將變得更加清楚，其中

圖1為根據(jù)本發(fā)明的薄膜的俯示圖，該薄膜安裝到固定于光膜薄上的薄膜框架上。
圖2為沿著圖1的線2-2截取的部分截面視圖。
圖3為示出根據(jù)本發(fā)明作為用于薄膜的波長的一個函數(shù)的透射率的示意圖。
具體實(shí)施例方式
下面詳細(xì)描述在附圖中示出的本發(fā)明的實(shí)施例?，F(xiàn)在轉(zhuǎn)到該圖，在這些圖中，相同的參考編號表示相同的參考部件，圖1和2示出特別適用于保護(hù)光掩膜表面或標(biāo)線受到顆粒污染并且防止顆粒到達(dá)光掩膜圖案的焦平面的薄膜。薄膜10安裝到固定于光掩膜或標(biāo)線14上的框架12上，在該框架12中包圍該光掩膜圖案(未示出)。根據(jù)該光掩膜的結(jié)構(gòu)和使用該薄膜的光刻設(shè)備的限制，該框架的形狀和附加到該框架的薄膜受到相當(dāng)大的變化。
特別如圖2中所示，該薄膜包括光隔膜10。該光隔膜由硝化纖維、醋酸纖維素、無定型含氟聚合物或者其它適合的深紫外線薄膜這樣的材料所制成。通過適當(dāng)?shù)倪x擇該薄膜的厚度，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)可以在所選擇的光波長處獲得最大的透射率。對于具有選自0.275±0.01μm，0.55±0.015μm，0.82±0.02μm以及1.05±0.02μm的厚度的含氟聚合物薄膜，在193nm波長處出現(xiàn)第一透射率峰值，在248nm波長處出現(xiàn)第二透射率峰值，以及在365nm波長處出現(xiàn)第三透射率峰值。這分別對應(yīng)于汞燈的I線，以及對應(yīng)于KrF和ArF準(zhǔn)分子受激幅射激光器的波長電磁輻射。圖3示出作為用于具有0.826μm厚度的無定型含氟聚合物的波長的一個函數(shù)的透射率。在對應(yīng)于上述波長的21、22和23處的峰值相對較寬。但是，在這些波長處，該薄膜透射大于入射電磁輻射的99％的光線。在由圖3中的三個箭頭21、22和23所示的波長處，對于無定型含氟聚合物0.826μm厚的薄膜的透射率分別為99.495，99.607和99.681。
本發(fā)明提供一種特別適用于受到汞燈的I線、KrF和ArF準(zhǔn)分子受激幅射激光器發(fā)射波長的光線照射的光掩膜圖案。
上述本發(fā)明的具體實(shí)施例的描述用于解釋和說明的目的。它們不是窮盡或把本發(fā)明限于所公開的具體形式；顯然在考慮到上文的教導(dǎo)可以作出多種變型和改變。該實(shí)施例被選擇和描述以更好地說明本發(fā)明的原理和它們的實(shí)際應(yīng)用，從而使得本領(lǐng)域中的其它技術(shù)人員可以更好地通過各種變型運(yùn)用本發(fā)明和各實(shí)施例，以適合特別的使用。本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求及其等價表述所限制。
權(quán)利要求
1.一種光薄膜，其中包括具有所選擇厚度的隔膜，使其在193nm、248nm和365nm波長處具有至少連續(xù)的第一、第二和第三極大透射率峰值的波長透射率圖案，所述極大透射率是照射到所述薄膜的三種波長中的任何一種波長的電池輻射的至少99％的透射率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光薄膜，其中該隔膜具有選自0.275±0.01μm，0.55±0.015μm，0.82±0.02μm以及1.05±0.02μm的厚度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光薄膜，其中該薄膜的厚度為0.826μm，并且該薄膜由無定型的含氟聚合物所制成。
全文摘要
一種用于光刻中的薄膜,其具有所選擇的厚度使得對193nm、248nm和365nm波長的光具有至少99%的透射率。
文檔編號G03F1/62GK1365010SQ02101529
公開日2002年8月21日 申請日期2002年1月9日 優(yōu)先權(quán)日2001年1月9日
發(fā)明者喬治·N·郭 申請人:因科工業(yè)公司