專利名稱：細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法、電子裝置的制造方法及其制造設(shè)備的制作方法
產(chǎn)業(yè)的應(yīng)用的領(lǐng)域本發(fā)明涉及用于顯示器，攝象器件，或照明裝置等，具有反射防止效果的光學(xué)元件，其它的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法，具有該細(xì)微結(jié)構(gòu)體的顯示器，攝象機，信息存儲器，光通信裝置，光信息處理裝置等的光學(xué)器件或電子裝置的制造方法。
已有技術(shù)液晶顯示器的表面通常由玻璃等的透明平面板保護。由于該平面板一般具有4％的反射率，反射來自周邊的照明光，與由液晶形成的像重合，使顯示質(zhì)量降低。特別是在于屋外，由太陽光照明的場合，平面板的反射光量很大，甚至看不到液晶的像。于是，作為解決該問題的方案，通過在平面板上蒸鍍氧化物，形成反射防止膜，由此減輕表面的反射率。
作為實現(xiàn)反射防止的再一種方法，人們知道稱為“莫氏環(huán)(蛾眼)”的細(xì)微結(jié)構(gòu)體(形狀)是有效的。莫氏環(huán)的稱呼源于述情況在1970年前后，在自然科學(xué)人員的之間，著眼于蛾的眼睛不反射光的性質(zhì)，在通過電子顯微鏡，觀察蛾的眼睛時，按照200nm的間距，全面地布設(shè)高度為200nm的圓錐狀的突起。該結(jié)構(gòu)有助于防止光的反射，顯然，必須要求波長的40％的高度的結(jié)構(gòu)體。該結(jié)構(gòu)在不依賴照射光的入射角度的情況下，在較寬的波長范圍內(nèi)，具有反射防止效果。
在激光繪圖裝置中，如果考慮在光致抗蝕層上形成莫氏環(huán)的場合，通常通過物鏡，會聚1條激光束，形成1個光點，在改變位置的同時，多次對其照射，由此進(jìn)行曝光，但是該光點尺寸(第1暗環(huán)的直徑)do表示為do＝1.22λ/NA。在這里，λs1激光的振蕩波長，NA表示物鏡的開口數(shù)量。
如果λ為351nm，NA為0.9，則do為476nm。由于光致抗蝕劑層的感光特性曲線的非線性，實際上形成的凸部形狀(或凹部形狀)的幅度減小到300nm，但是，按照此方式，對于形成莫氏環(huán)的結(jié)構(gòu)是不夠的。通過減小波長，可減小do，但是，具有制造設(shè)備變得復(fù)雜，尺寸增加的問題。
由于上述原因，在目前，通過使多個幅度較大的光束發(fā)生干涉，或通過電子束繪圖裝置，進(jìn)行繪圖，制作莫氏環(huán)。
本發(fā)明要解決的課題但是，為了防止反射，在通過蒸鍍方式形成反射防止膜的場合，必須要求大型的真空裝置，制造成本增加。
另外，通過單層的反射防止膜，波長依賴性較高，使可見光的全部波長區(qū)域難于具有反射防止效果。通過形成多層膜，可使多個波長具有反射防止效果，但是設(shè)計復(fù)雜，并且工序數(shù)量增加。
此外，如果相對特定的入射角的照明光，設(shè)計反射防止膜，則相對其它的入射角的照明光，反射防止的效果減小。
另外，為了形成莫氏環(huán)，按照使3個幅度較寬的光束發(fā)生干涉的方式進(jìn)行制造的方法具有下述問題，該問題指在大面積地形成結(jié)構(gòu)的場合，難于形成均勻的射束，或在曝光時因振動的影響，無法獲得對比度較高的干涉圖案。另外，在通過電子束曝光的場合，通常通過1條射束進(jìn)行掃描，由此，掃描時間變長。另外，由于電子束曝光裝置價格較高，故制造成本增加。
于是，本發(fā)明的目的在于提供一種可獲得更加細(xì)微的結(jié)構(gòu)體的制造方法。
此外，本發(fā)明的目的在于提供一種細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法，該方法形成對比度較高的干涉圖案，以更高的精度，制造莫氏環(huán)等的細(xì)微結(jié)構(gòu)體。
還有，本發(fā)明的目的在于提供一種能夠通過簡單的結(jié)構(gòu)，形成均勻的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法。
用于解決課題的技術(shù)方案為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法涉及下述制造方法，其中針對被處理部件，在相對地使激光束或電子束移動的同時，以間歇方式反復(fù)照射，對上述被處理部件進(jìn)行曝光，使其形狀變化，其特征在于采用分叉機構(gòu)和會聚機構(gòu)，在上述被處理部件上形成多個微小凸部或凹部形狀，該分叉機構(gòu)用于使1條射束分為多條射束，該會聚機構(gòu)用于使上述多個射束會聚于被處理部件并產(chǎn)生多個微小的射束點。
由于采用上述的方案，故可將射束分開，使這些射束發(fā)生干涉，形成其波長小于所采用的激光波長的多個射束點。
最好，還包括下述平行處理機構(gòu)，該平行處理機構(gòu)用于將上述多條射束轉(zhuǎn)換為平行地行進(jìn)的射束。由此，即使在改變(調(diào)整)分叉機構(gòu)和平行處理機構(gòu)之間的距離的情況下，仍獲得平行的多條射束，減小后續(xù)的會聚機構(gòu)(比如，透鏡)的會聚機構(gòu)或調(diào)整的負(fù)擔(dān)。
最好，將1條射束分為多條射束的分叉機構(gòu)為衍射光柵。由此，可較簡單地將射束分開。
最好，上述衍射光柵為相位型衍射光柵，該相位型衍射光柵包括針對上述1條射束，相移量不同的多種相移區(qū)域。
最好，在由Q表示上述相移區(qū)域的種類的場合，在通過不同種類的相移區(qū)域的射束之間產(chǎn)生的最大的相位差為2π(Q-1)/Q。
最好，上述衍射光柵為雙值的相位型衍射光柵，該相位型衍射光柵具有使所采用的射束，相對地產(chǎn)生π的相位差的2種相移區(qū)域。
最好，上述2種相移區(qū)域分別包括干涉條紋，四邊型和正三角形中的任何一種，上述相位型衍射光柵具有光柵圖案，在該光柵圖案中，按照同種的相移區(qū)域不相鄰的方式，使上述2種相移區(qū)域相互并列?？赏ㄟ^上述相位型衍射光柵，從1條射束，獲得2，4，6條射束。
最好，上述衍射光柵為具有3種相移區(qū)域的相位型衍射光柵，該3種相位型衍射光柵使所采用的射束，相對地產(chǎn)生-φ，0，+φ的相位差。
最好，上述3種相移區(qū)域分別呈六邊形狀的區(qū)域形狀，上述相位型衍射光柵包括蜂窩狀的光柵圖案，其中按照同種相移區(qū)域不相鄰的方式，使上述3種區(qū)域相互并列?？赏ㄟ^上述的相位型光柵，將1條射束分開，獲得3條射束。
最好，上述平行處理機構(gòu)為衍射光柵。由此，可射傾斜地射入衍射光柵的射束以相對衍射光柵面的角度，比如，沿該面的法線方向行進(jìn)。
最好，上述平行處理機構(gòu)為采用下述衍射光柵，該衍射光柵包括與上述多個射束相對應(yīng)的數(shù)量的，光柵方向不同的光柵區(qū)域。另外，在上述衍射光柵中，使該基板的基準(zhǔn)點位于使上述多條射束通過而形成于衍射光柵的表面上的射束點圖案的中心位置上，圍繞該基準(zhǔn)點，對應(yīng)于上述多條射束，設(shè)置各光柵區(qū)域。通過上述的方案，容易對多條射束進(jìn)行平行處理。
最好，上述會聚機構(gòu)為透鏡。由此，可將多條射束會聚于光致抗蝕劑層上，使其發(fā)生干涉，可獲得由多條微小的射束點形成的射束點組。
此外，為了解決上述課題，本發(fā)明的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法包括下述步驟射束點組形成步驟，在該步驟，采用激光束或電子束，獲得由微小的多個射束點形成的射束點組；曝光步驟，在該步驟，相對被處理部件，一邊改變上述射束點組的照射位置，一邊照射多次，形成照射的痕跡，在上述曝光步驟中，使1個射束點組的多個照射的痕跡的一部分與另一射束點組的多個照射痕跡的一部分重復(fù)，進(jìn)行多重曝光。
由于形成上述的方案，故可減小射束點組內(nèi)的各射束點的能量的差異的影響，可使照射痕跡的曝光量保持均勻。另外，可增加照射痕跡的能量(曝光量)。
在上述制造方法中，最好，上述射束點組形成步驟由下述步驟形成，該步驟包括將1條射束分為多條射束的分叉步驟；將上述多條射束會聚于上述被處理部件上的會聚步驟。由此，可形成微小的射束點。
在上述制造方法中，最好，上述射束點組形成步驟由下述步驟形成，該步驟包括將1條射束分為多條射束的分叉步驟；使上述多條射束相互保持平行地行進(jìn)的平行處理步驟；將上述多條射束會聚于上述被處理部件上的會聚步驟。由于添加有多條射束的平行處理步驟，故更加容易地實現(xiàn)后續(xù)的會聚處理。
在上述制造方法中，最好，上述1個射束點組和上述另一射束點組為沿上述照射位置的移動方向相鄰的射束點組。由此，伴隨照射位置的移動，可進(jìn)行多重曝光。
在上述制造方法中，最好，上述1個射束點組和上述另一射束點組為沿與上述照射位置的移動方向相垂直(或交叉)的方向相鄰的射束點組。由此，在在多排的范圍內(nèi)進(jìn)行曝光的場合，可在各列之間進(jìn)行多重曝光。
還有，本發(fā)明的制造方法包括射束點組形成步驟，在該步驟，采用激光束或電子束，獲得由微小的多個射束點形成的射束點組；曝光步驟，在該步驟，相對被處理部件，一邊改變上述射束點組的照射位置，一邊照射多次，形成照射的痕跡；在上述曝光步驟中，在1個射束點組的多個照射的痕跡的間隙中，形成另一射束點組的照射的痕跡，實現(xiàn)曝光。由此，可形成更加細(xì)微的圖案。
在上述制造方法中，最好，在使上述被處理部件旋轉(zhuǎn)的同時，沿半徑方向相對地移動上述射束點組，使微小的射束點的列呈螺旋線狀。由此，可以極快的速度，進(jìn)行細(xì)微的曝光處理。
在制造方法中，最好，上述微小的多個射束點采用相位型衍射光柵形成，該相位型衍射光柵具有干涉條紋，四邊形，正三角形，或六邊形的相移區(qū)域(單元)。由此，可形成所需圖案的正規(guī)的細(xì)微射束點。
最好，上述被處理部件為感光材料，上述照射的痕跡為形成于上述感光材料上的潛像?？蓪Ω泄獠牧线M(jìn)行顯影，將其用作細(xì)微結(jié)構(gòu)體，或用作掩模，將細(xì)微結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印到基板上。
再有，也可通過激光束，對上述被處理部件進(jìn)行細(xì)微加工(激光饒蝕(レ-ザアブレ-シヨン))。
本發(fā)明的電子裝置的制造方法涉及一種具有細(xì)微結(jié)構(gòu)體的電子裝置的制造方法，該方法包括上述細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造步驟；射束點組形成步驟，在該步驟，采用激光束或電子束，獲得由微小的多個射束點形成的射束點組；曝光步驟，在該步驟，相對被處理部件，一邊改變上述射束點組的照射位置，一邊照射多次，形成照射的痕跡，在上述曝光步驟中，使1個射束點組的多個照射的痕跡的一部分與另一射束點組的多個照射痕跡的一部分重復(fù)，實現(xiàn)多重曝光。
另外，本發(fā)明的電子裝置的制造方法涉及具有細(xì)微結(jié)構(gòu)體的電子裝置的制造方法，該方法包括上述細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造步驟；射束點形成步驟，在該步驟，采用激光束或電子束，獲得由微小的多個射束點形成的射束點組；曝光步驟，在該步驟，相對被處理部件，一邊改變上述射束點組的照射位置，一邊照射多次，形成照射的痕跡；在上述曝光步驟中，在1個射束點組的多個照射的痕跡的間隙中，形成另一射束點組的照射的痕跡，實現(xiàn)曝光。
此外，上述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的各制造方法可適合于局部，或全部具有細(xì)微結(jié)構(gòu)體的光學(xué)部件的制造方法。另外，上述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的各制造方法可適合于將局部，或全部具有細(xì)微結(jié)構(gòu)體的光學(xué)部件作為一個部件的光電裝置的制造方法。該光學(xué)部件包括莫氏環(huán)，暗點(フオトニツク)晶體。
還有，本發(fā)明的制造設(shè)備涉及對被處理部件照射激光束，形成細(xì)微結(jié)構(gòu)體，該制造設(shè)備包括發(fā)生激光束的光束源；調(diào)制器，該調(diào)制器對上述激光束進(jìn)行斷開連續(xù)處理；分叉機構(gòu)，該分叉機構(gòu)將經(jīng)調(diào)制的光束分為多個光束；聚光機構(gòu)，該聚光機構(gòu)將上述多條光束會聚，使它們干涉，在上述被處理部件上產(chǎn)生多個微小的光點。
最好，上述設(shè)備還包括平行處理機構(gòu)，該平行處理機構(gòu)使上述分叉的多個光束為相互保持平行的光束，使其射入上述聚光機構(gòu)。
最好，上述平行處理機構(gòu)為炫耀衍射光柵，在該衍射光柵中，使該基板的基準(zhǔn)點位于使上述多個光束通過而形成于衍射光柵的表面上的光點圖案的中心位置上，圍繞該基準(zhǔn)點，對應(yīng)于上述多個光束，設(shè)置各光柵區(qū)域。
最好，上述分叉機構(gòu)為相位型衍射光柵，該相位型衍射光柵具有針對上述經(jīng)調(diào)制的光束，相移量不同的多種相移區(qū)域。
最好，在由Q表示上述相移區(qū)域的種類的場合，在通過不同種類的相移區(qū)域的光束之間產(chǎn)生的最大的相位差為2π(Q-1)/Q。
附圖的簡要說明

圖1為表示本發(fā)明的實施例所采用的激光繪圖裝置的光學(xué)系統(tǒng)的圖；圖2為表示作為圖1的光學(xué)系統(tǒng)的組成部件的第1衍射光柵的圖案的圖；圖3為表示作為圖1的光學(xué)系統(tǒng)的組成部件的第2衍射光柵的圖案的圖；圖4為圖3的衍射光柵的剖視圖；圖5為說明形成于光致抗蝕劑面上的射束點間距的圖；圖6為說明形成于光致抗蝕劑面上的射束點的布置圖；圖7為上述激光繪圖裝置的具體的光路圖；圖8(a)為表示多重曝光的一個實例的圖，圖8(b)為表示該實例用的調(diào)制信號的圖；圖9為表示獲得細(xì)微結(jié)構(gòu)用的曝光方法的一個實例的圖；圖10為表示移動距離與射束點間距之間的關(guān)系的另一實例的圖；圖11為表示多重曝光的另一實例的圖；圖12為表示螺旋線的各種形式的圖；圖13為表示再一衍射格柵的一個實例的圖；圖14為表示還一衍射格柵的一個實例的圖；圖15為采用圖14的衍射格柵的場合的曝光形式的圖；圖16(a)為表示作為圖1的光學(xué)系統(tǒng)的組成部件的第1衍射格柵的另一圖案的圖；圖16(b)為表示作為圖1的光學(xué)系統(tǒng)的組成部件的第2衍射格柵的再一圖案實例的圖；圖17為說明射束點之間的相位差為2/3π時的射束組的曝光外形的說明圖；圖18為說明射束點之間的相位差為0時的射束組的曝光外形的說明圖19為說明采用3個射束點組，制作圓孔三角形光柵排列的結(jié)構(gòu)的實例的說明圖；圖20為說明光調(diào)制器的調(diào)制信號的實例的信號波形圖；圖21為說明暗點結(jié)晶的圖案實例的說明圖；圖22為說明感光材料的特性實例的說明圖；圖23為說明本發(fā)明的應(yīng)用實例的說明圖。
本發(fā)明的實施例下面參照附圖，對本發(fā)明的實施例進(jìn)行描述。
(1.曝光裝置的組成)圖1為表示本發(fā)明的實施例所采用的激光繪圖裝置的光學(xué)系統(tǒng)的圖。在該圖中，由作為激光光源的氣體激光器100振蕩的光束101沿圖示的z方向行進(jìn)，通過采用音響光學(xué)(AO)元件的音響光學(xué)調(diào)制器102對其進(jìn)行調(diào)制，然后，該光束到達(dá)衍射格柵103處。在這里，劃分為包括光束106和光束107的4條光束。此后，通過衍射格柵104，將4條光束轉(zhuǎn)換為平行行進(jìn)的光束，使其射入物鏡105。在這里，通過使4條光束會聚于一點，實現(xiàn)干涉，在涂敷于玻璃基板表面上的光致抗蝕劑層108上，形成小于波長的尺寸的，微小的多個射束點。對應(yīng)于AO調(diào)制器102的動作，借助滑動器和馬達(dá)使玻璃基板移動，由此，在光致抗蝕劑層108上，形成潛像。然后，通過顯影處理，可形成莫氏環(huán)的結(jié)構(gòu)。
衍射格柵103為在透明的平行平面板的一個面上形成有凹凸部的相位型的衍射格柵，圖2表示其圖案。該圖案由具有沿深度方向(z方向)不同的值的2個區(qū)域(相移區(qū)域)形成，它們分別呈現(xiàn)黑色部201和白色部202。通過衍射格柵103實現(xiàn)衍射的光束分為4條光束。x方向和y方向的圖案的各周期分別為相等的Pa。
透過黑色部201和白色部202的光按照光路長度不同，相位差為π的方式設(shè)計，由此，衍射效率最大。實際上，當(dāng)氣體激光器1000的光源波長由λ表示，形成該波長的衍射格柵103的材料的折射率由n表示，在將其放置于空氣中的場合，則二個區(qū)域的高差值ta表示為ta＝λ/2(n-1)
當(dāng)波長λ為351nm，折射率為1.48時，則ta＝365.6nm。
在由波動矢量表示折射光的場合，投影到該y x平面上時的波動矢量和z軸之間的夾角θd與周期Pa的關(guān)系為Pa＝λ/sinθd象圖3所示的那樣，通過衍射格柵103衍射，經(jīng)分叉而獲得4條光束在衍射格柵104的面上，分別射入射束點301，302，303，304的位置。這些射束點的圖案的中心位置與衍射光柵的中心位置(基準(zhǔn)點)O保持一致。圍繞該中心O，對應(yīng)4條光束，設(shè)置衍射光柵的各區(qū)域。在這里，射入射束點301和射束點303的光束處于相同相位，射入射束點302和射束點304的光束處于相同相位。另外，射束點301和射束點302的相應(yīng)光束的相位差，以及射束點303和射束點304的相應(yīng)光束的相位差分別為π。
衍射光柵104為在平行平面板的一個面上形成凹凸部的相位型的衍射光柵，其圖案由包括光柵區(qū)域300的4個光柵區(qū)域形成。
象圖4所示的那樣，光柵區(qū)域300的軸ω方向的截面呈鋸齒狀。當(dāng)由n表示形成衍射光柵104的材料的折射率時，該鋸齒狀的深度tb為tb＝λ/(n-1)此時，衍射效率最大。當(dāng)波長λ為351nm，折射率n為1.48時，則tb＝731nm。
另外，鋸齒形狀的周期Pb為Pb=Pa/(2)]]>此時，包括在這里發(fā)生衍射的光束106，107的4條光束全部相互保持平行地行進(jìn)。這4條光束通過物鏡105會聚，在光致抗蝕劑層108干涉，形成包括圖6所示的射束點505，506的4個微小的射束點(射束點組)。
這些微小的相互間距d可通過對透過衍射光柵104后的復(fù)振幅進(jìn)行傅立葉變換，精確地求出，但是對簡單的計算方法進(jìn)行說明。
象圖5所示的那樣，在光致抗蝕劑層108的表面上，形成衍射光柵104的透過后的復(fù)振幅的傅立葉空間，其坐標(biāo)由ξ軸，η軸表示。光束106，以及光束107在光致抗蝕劑層108的表面上，與焦點連接。在焦點附近，波陣面為平面，相應(yīng)的光束形成波陣面503，波陣面504。在光致抗蝕劑層108的表面的射束點505，506的位置，經(jīng)常2個波陣面相互增強。在射束點505，506的中點，經(jīng)常2個波陣面相互抵消，曝光強度為零。如果光束106和光束107的行進(jìn)方向與光致抗蝕劑層108的法線之間的夾角(入射角)由θ表示，則光束間距d表示為d＝λ/2sinθ當(dāng)比如，激光器100的振蕩波長λ為351nm，光束106，107的入射角θ分別為50度時，則光束間距d為229nm。
另外，當(dāng)采用NA表示射束間距d時，則表示為d＝(λ/2)/NA當(dāng)比如，激光器100的振蕩波長為351nm，物鏡的NA為0.59時，則d為300nm。
在包括射束點505，506的4個射束點處，對光致抗蝕劑層108的表面，相對ξ，η兩個方向，以d的2倍的間距，照射激光脈沖，由此形成潛像。通過對其進(jìn)行顯影，在光致抗蝕劑層108上，形成凸部或凹部形狀。這樣，可在基本上可見的區(qū)域，獲得反射防止的效果。此后，通過蝕刻處理，將光致抗蝕劑層108的形狀轉(zhuǎn)印到石英基板上?；?，也可對光致抗蝕劑層108的表面進(jìn)行鍍金處理，制造相同形狀的模具，采用該模具，對樹脂進(jìn)行模制，這樣批量生產(chǎn)反射防止板。
在本實施例中，有效防止反射的照射光為可見光，但是，為了對應(yīng)于所要求的波長區(qū)域，可對θ進(jìn)行調(diào)整。另外，通過平行平面，形成2種衍射光柵，但是并不限于此，也可在1塊平行平板的兩個表面，形成2種衍射光柵。
象這樣，通過衍射光柵，將光束分為多路，使這些光束發(fā)生干涉，由此可形成其波長小于所采用的激光波長的多個射束點，可容易形成細(xì)微結(jié)構(gòu)的莫氏環(huán)。
下面對本申請的另一本發(fā)明的實施例進(jìn)行描述。
在上述的實施例中，使從1條光束分叉，具有π的相位差的多條光束會聚，由此，產(chǎn)生微小的多個射束點。在該光束的分叉處，通過雙值的相位型衍射光柵，將光束分離為多條，通過鋸齒狀的衍射光柵，使該多條光束保持平行。
在這里，光束的分離的精度由衍射光柵的精度確定，但是，衍射光柵本身為細(xì)微結(jié)構(gòu)，不那么容易制作該衍射光柵。也難于按照使各射束的光量保持均勻的方式分離，在再次通過物鏡會聚光束時，多個相應(yīng)的微小射束點的尺寸不容易產(chǎn)生差別。還有，衍射光柵的安裝位置精度，即，衍射光柵上的射束點位置的正確性對相應(yīng)的光束的相位造成較大影響。如果各光束之間的相位差不為規(guī)定的值，則各微小的射束點是不均勻的。作為該情況等的結(jié)果，還考慮莫氏環(huán)結(jié)構(gòu)的突起形狀是不均勻的，反射防止效果的性能局部地，整體地降低的情況。
此外，莫氏環(huán)結(jié)構(gòu)中的突起體的間距由微小的射束點組的射束點之間的間距確定，但是該間距由分離的光束和透鏡的開口數(shù)量NA決定。設(shè)置于裝置中的物鏡的更換是復(fù)雜的，不能夠頻繁地更換該物鏡。為此，多個光束的間距(微小的射束點的間距)通過改變上述的2個衍射光柵103，104的距離而實現(xiàn)，每次必須進(jìn)行光束的調(diào)節(jié)。
于是，下面描述的發(fā)明提供下述制造方法，該方法可更加均勻地形成上述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體，另外通過較簡單的方案，獲得均勻的細(xì)微結(jié)構(gòu)體。
圖7為更加具體地實現(xiàn)圖1所示的激光繪圖裝置(曝光裝置)的細(xì)微加工體的制造設(shè)備。
象該圖所示的那樣，從波長351nm的激光發(fā)生器701射出的光束702由反射鏡703反射，射入音響光學(xué)調(diào)制器(AOM)704，進(jìn)行強度調(diào)制。在AOM704之后，設(shè)置作為圖案周期Pa＝18μm的兩種不同顏色相間的方格花紋的衍射光柵714和作為圖案周期Pb＝12.7μm的鋸齒狀衍射光柵715，平行地分離成4條光束。相互的衍射光柵的距離為4.5mm。4條平行地分離的光束通過反射鏡706，709反射，通過開口數(shù)量NA為0.9的物鏡710會聚，微小的射束點形成于涂敷有光致抗蝕劑的玻璃基板上。此時，考慮光束直徑，使分離的4條光束朝向物鏡射入，由此，有效NA約為0.6，射束點間距為0.3μm。玻璃基板712吸附于轉(zhuǎn)臺713上，物鏡710和反射鏡709放置于移動光學(xué)臺708上，它們在轉(zhuǎn)臺上旋轉(zhuǎn)的同時，沿半徑方向移動。按照轉(zhuǎn)臺713的旋轉(zhuǎn)速度為1m/s，軌距為0.6μm的方式，使移動光學(xué)臺708滑動，通過AOM704，以1.67MHz的矩形脈沖，對光束進(jìn)行調(diào)制，對涂敷于玻璃基板712上的光致抗蝕劑層進(jìn)行曝光，形成潛像。
象圖8所示的那樣，在該曝光時，通過AOM704對光束進(jìn)行調(diào)制，以便射束點組的一部分的射束點與相鄰的射束點組的一部分的射束點重合，實現(xiàn)多重曝光。即，每次照射(shot)的移動距離與射束點的間距相等，為0.3μm。
首先，象圖8(a)中的①所示的那樣，第1次照射(シヨツト)的4個射束點組跨過掃描基板的軌跡中心而實現(xiàn)曝光。接著，在沿軌跡方向移動0.3μm的第2次照射(shot)中，該圖中的②所示的4個射束點中的，左側(cè)的2個射束點與第1次照射(shot)的右側(cè)的2個射束點重合而實現(xiàn)曝光。另外，在第3次照射(shot)中，③所示的4個射束點中的，第2次照射(shot)的右側(cè)的2個與第3次照射(shot)的左側(cè)2個重合而實現(xiàn)曝光。在圖中，由二個同心的圓表示的數(shù)字的射束點為多重曝光的部分。在基板上的所需的范圍，反復(fù)地進(jìn)行這樣的多重曝光。
如果象這樣，進(jìn)行多重曝光，則可對多重方向(射束點組的移動方向)的1個射束點組內(nèi)的各射束點的光量的偏離值進(jìn)行平均化處理。
圖12說明徑向的軌距的設(shè)定和射束點組的多重關(guān)系。
象圖12(a)所示的那樣，在基板1每次旋轉(zhuǎn)的徑向的移動距離(軌距)為射束點組的徑向的射束點間距的2倍的場合，4個射束點不沿螺旋狀掃描的徑向重復(fù)，形成圖中所示的，實線與虛線的2個螺旋線狀。另外，實線表示射束點組中的，徑向內(nèi)側(cè)的2個射束點的軌跡。另外，虛線表示射束點組中的徑向外側(cè)的2個射束點的軌跡。
在圖12(b)中，射束點組的軌距與射束點間距相等，為0.3μm，不僅可沿周向，而且還可沿徑向，實現(xiàn)多重曝光。由此，除了最內(nèi)周和最外周，看上去，曝光軌跡呈1個螺旋狀。
圖12(c)表示軌距為射束點組的射束點間距的一半的0.15μm的實例。象圖9所示的那樣，按照第2周的軌跡的射束點進(jìn)入第1周的射束點之間的方式實現(xiàn)曝光，由此，可減小已曝光的射束點的間距。如果這樣地進(jìn)行曝光，可減小莫氏環(huán)結(jié)構(gòu)的突起的間距。
還有，每次照射(shot)的周向的移動距離，或旋轉(zhuǎn)1圈的半徑方向的移動距離，與射束點間距之間的關(guān)系不限于上述情況。在通過1次照射(shot)曝光的多個射束點中的2個沿移動方向并排時，如果相對該2個射束點之間的距離，每次照射(shot)的移動距離處于正的整數(shù)分之1的關(guān)系，則可實現(xiàn)多重曝光。正的整數(shù)分之1指1分之1，2分之1，3分之1等。
比如，象圖10(a)所示的那樣，如果每次照射(shot)的移動距離設(shè)定為射束點間距的3分之1，可實現(xiàn)多重曝光。
在也可不進(jìn)行多重曝光的場合，每次照射(shot)的周向的移動距離或旋轉(zhuǎn)1圈的半徑方向的移動距離，與射束點間距之間的關(guān)系也可自由地設(shè)定。比如，圖10(b)表示下述場合，在該場合，每次進(jìn)行圖10(a)中的示出1部分的1周的曝光的半徑方向的移動距離設(shè)定為射束點間距的3分之2。在圖中，在①所示的1周的曝光后，以射束點間距的3分之2，沿半徑方向錯開，進(jìn)行②的曝光。另外，再以其3分之2的尺寸，沿半徑方向錯開，進(jìn)行③的曝光。在反復(fù)進(jìn)行該動作的場合，在各周之間，不進(jìn)行多重曝光，如果觀看整個基板，則呈圖12(d)所示的那樣。
還有，作為多重曝光的方法，還包括有圖11那樣的方法。在本實例中，形成4條光束呈菱形布置的射束點組。
在圖11(a)所示的實例中，4條射束呈菱形設(shè)置，進(jìn)行曝光，由此看上去，出現(xiàn)3條軌跡，但是在該3條軌跡中，僅僅對正中的射束點進(jìn)行多重曝光。在圖中，實線的二個同心的圓所示的射束點與此相對應(yīng)。
另外，象圖11(b)所示的那樣，在第2軌跡中，將第1軌跡的外側(cè)的1條與第2軌跡的內(nèi)側(cè)的1條的軌跡重合。實線與虛線的二個同心的圓與此相對應(yīng)。反復(fù)進(jìn)行該動作，可進(jìn)行多重曝光。
圖13表示采用2個光束的射束點組的另一實例。在該實例中，也可采用該圖13(a)所示的干涉條紋的相位型衍射光柵103a，以及象圖13(b)所示的那樣，與其相對應(yīng)的鋸齒狀衍射光柵104b，以代替兩種不同顏色相間的方格花紋的衍射光柵103(參照圖2)和炫耀光柵104(參照圖4)，從而將光束102平行地分離為2條光束。該干涉條紋的相位型衍射光柵103a的圖案周期Pa為18μm。將進(jìn)行平行處理的鋸齒狀衍射光柵104a設(shè)置于AOM102之后，將光束102平行地分離為2條光束。
當(dāng)采用該射束點組的曝光的軌距為0.6μm時，射束點組的軌跡呈與圖12(a)相同的2條螺旋線狀。
此外，如果軌距與射束點組的射束點間距相同，為0.3μm，按照與前一軌跡的射束點重合的方式進(jìn)行多重曝光，則射束點組的痕跡呈與圖12(b)相同的1條螺旋線狀。
還有，如果軌距為射束點組的射束點間距的一半的0.15μm，則可與圖12(c)相同，進(jìn)行多重曝光，并且減小莫氏環(huán)結(jié)構(gòu)的突起的間距。另外，在通過射束點組呈脈沖狀進(jìn)行曝光的場合，可形成圓孔形狀。在通過射束點組連續(xù)地進(jìn)行曝光的場合，也可形成槽形狀。
圖14表示采用6條光束的射束點組的實例。采用圖14(a)所示的正三角形條紋的相位型衍射光柵103b，以及該圖14(b)所示的6個區(qū)域的鋸齒狀衍射光柵104b，以代替衍射光柵103和104。由此，可將光束103平行地分離為6條光束。在此場合，微小的射束點的位置關(guān)系為正六邊形。
象圖15所示的那樣，將設(shè)置于正六邊形的各頂點的6個光束點部分地重合，進(jìn)行多重曝光，由此，可對各位置進(jìn)行2次曝光。
圖16表示3條光束的射束點組的實例。在該實例中，采用衍射光柵103c和104c，以代替衍射光柵103和104。
象圖16(a)所示的那樣，衍射光柵103c的光柵圖案由呈蜂窩狀，按照正六邊形劃分的多個單元(單元區(qū)域)形成。各單元象圖示的那樣，按照相對透射光，產(chǎn)生3個等級的相對的相位差-φ，0，+φ(3個程度的深度)的任何一種的方式形成。另外，相鄰的單元按照形成不同的相位差的方式形成。在本實例中，由于作為相位差的等級的程度Q設(shè)定為3，深度的差的最大值2φ為2φ＝4π/3。當(dāng)由n表示衍射光柵的基板的折射率，由λ表示使用光源波長時，則相當(dāng)于2φ的實際的深度的差值h表示為h＝λ/2π(n-1)×2φ
如果1條光束101射入滿足此條件的光柵103c，則其分離為3條光束，射入衍射光柵104c。在衍射光柵104c上，3條光束的射束點分別位于正三角形的相應(yīng)頂點。
圖16(b)表示衍射光柵14c的圖案的實例。如該圖所示的那樣，衍射光柵104c這樣形成，按照中心角為120度的扇形的1個區(qū)域以頂點為中心而旋轉(zhuǎn)的方式并排有3個這樣的區(qū)域。各區(qū)域的光柵的截面呈鋸齒形狀。該形狀的最大深度的相位差為2π。射入該衍射光柵104c的3條光束的光形成平行光，射入物鏡105，在光致抗蝕劑層108上，形成由3個光束的射束點形成的射束點組。
當(dāng)由L表示衍射光柵103c與104c的間距，以r表示從物鏡105的中心射入物鏡的光束的距離時，則衍射光柵103c與衍射光柵104c的光柵周期表示為Pg＝λ/sin(tan-1(r/L))λL/r圖17表示下述場合的射束點組的光束外形，在該場合，到達(dá)光致抗蝕劑層108的3條光束之間的相位差為120度(2π/3)。在相位差為2π/3的場合，射束點位于正三角形的相應(yīng)頂點，在該位置，呈現(xiàn)曝光能量較高的峰值特性。
圖18表示3個光束之間的相位差為0的場合的射束點組的光束外形。象該圖所示的那樣，形成曝光能量的主光束位于六邊形的中心，而輔助光束位于六邊形的相應(yīng)頂點的外形。由于光束外形伴隨3個光束的相位差變化，故為了實現(xiàn)圖18所示的外形，必須正確地對相位差進(jìn)行調(diào)整。作為其中1種措施，具有通過使衍射光柵104c沿z方向和y方向移動，調(diào)整相位的方法。該方法利用通過調(diào)整衍射光柵104c和所射入的射束的位置關(guān)系，實現(xiàn)發(fā)生衍射的相位發(fā)生變化的效果。
圖19為說明采用上述的3個射束點組，制作圓孔三角光柵排列的結(jié)構(gòu)的方法的說明圖。
在本實例中，采用在射束點組的直線掃描或旋轉(zhuǎn)掃描的同時，以間歇方式調(diào)制光束的光強度的方式。在1個掃描軌跡(track)內(nèi)部，按照周期Ps進(jìn)行照射，軌距為 。另外，在奇數(shù)位的軌跡(比如，第n-1，n+1的痕跡)與偶數(shù)位的軌跡(比如，第n軌跡)中，使射束點組的照射位置以半個周期偏移。該位置偏移通過從圖中未示出的圖案發(fā)生器，供給光調(diào)制器102的控制信號實現(xiàn)。
圖20表示供給光調(diào)制圈102的控制信號的時序圖。象該圖所示的那樣，控制信號按照在奇數(shù)位的軌跡和偶數(shù)位的軌跡，照射(shot)時刻按照半個周期tp/2錯開的方式形成。
通過按照這樣的方法進(jìn)行射束點組的曝光，針對1個圓孔，以3個射束點進(jìn)行多重曝光，可消除各射束點的強度分布的不同造成的曝光量的差異，可形成均勻的圓孔。
上面描述的射束點組的曝光的方法通過適當(dāng)?shù)剡x擇多重曝光法，進(jìn)行細(xì)微圖案的曝光。通過下述方式，形成潛像，該方式為對光致抗蝕劑層108的表面，相對ξ，η兩個方向，以比如，d的1/2的間距，照射激光脈沖。通過對該潛像進(jìn)行顯影，形成凸部，凹部形狀。由此，突起間距為0.15μm，相對全部的，基本上為可見的區(qū)域，可獲得反射防止的效果。也可在此后，對表面進(jìn)行形成導(dǎo)體的處理，另外進(jìn)行電鑄處理，制造厚度為300μm的模具，采用該模具，對樹脂進(jìn)行模制，由此批量生產(chǎn)反射防止板。
在這里，對于反射防止有效的照射光為可見光，但是，通過調(diào)節(jié)比如，光束的入射角θ，可改變射束間距d，使其與所要求的波長區(qū)域相對應(yīng)。另外，如果具有適合曝光的其它的波長的激光，則采用該激光，改變λ，可改變光束間距d。
上述的曝光方式也可應(yīng)用于形成所謂的暗點的圖案的場合。
比如，象圖21所示的那樣，考慮下述場合，在該場合，在具有同一尺寸的圓孔的三角形光柵排列中，形成未按照一列形成圓孔的光柵缺陷。射束點組呈結(jié)網(wǎng)的正三角形狀。在形成均勻的圓孔光柵的場合，均勻的曝光量的照射良好，但是在形成光柵缺陷的場合，可通過對應(yīng)于照射的位置，調(diào)整曝光量的方式實現(xiàn)。在圖中給出在各正三角形中，多重曝光的相對的曝光量。在各圓孔中，具有3次的射束點照射，在光柵缺陷部，曝光量的總和為1，其它的部位的相應(yīng)值為3。
在這里，采用圖22所示的感光材料(光致抗蝕劑)的靈敏性的非線性，在光柵缺陷部，曝光量為1，圓孔的深度為0，不形成圓孔。這樣的，圖案的形成可用作光波導(dǎo)管，光學(xué)分波器等的各種光學(xué)器件。另外，這樣的光學(xué)器件還用于光通信裝置，光信息處理裝置，光信息存儲器等中。
上述這樣的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法可適合于各種電子部件和裝置的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造。另外，通過該制造方法獲得的細(xì)微結(jié)構(gòu)體可用于各種電子部件和裝置。
最好，比如，象圖23所示的那樣，用于反射型液晶顯示器用的反射板中的凹凸結(jié)構(gòu)的形成采用上述細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法等的，液晶裝置，有機EL裝置，包含這些裝置的顯示器，以及攝象器件(裝置)等的電子裝置，便攜式電話機，便攜式信息設(shè)備等的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的結(jié)構(gòu)。
另外，在本實施例中，通過不同的平行平面板，實現(xiàn)2種的衍射光柵，但是，并不限于此，顯然可在一塊平行平面板的兩面，形成2種的衍射光柵。
本發(fā)明的效果如果象上面描述的方式采用本發(fā)明，通過衍射光柵，將射束分離，使這些射束干涉，可形成其波長小于所采用的激光波長的多個射束點，可容易形成莫氏環(huán)這樣的細(xì)微結(jié)構(gòu)。
此外，在通過衍射光柵，將射束分開時，即使在各射束的功率(power)不一致的情況下，通過對微小射束點進(jìn)行多重曝光，使各射束點位置的曝光功率(power)保持均勻，可均勻地形成莫氏環(huán)形狀這樣的細(xì)微結(jié)構(gòu)體。由此，可提高莫氏環(huán)的反射防止效果。
還有，由于使射束點組的每次照射(shot)或1周的移動距離小于射束點間距，故可減小莫氏環(huán)的突起的間距，可制造具有相對更短波長的光，具有反射防止效果的器件。
再有，最好還簡化小曝光裝置的光學(xué)系統(tǒng)的復(fù)雜的調(diào)節(jié)操作。
權(quán)利要求
1.一種細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法，其中針對被處理部件，在相對地使激光束或電子束移動的同時，以間歇方式反復(fù)照射，對上述被處理部件進(jìn)行曝光，使其形狀變化，采用分叉機構(gòu)和會聚機構(gòu)，在上述被處理部件上形成多個微小凸部或凹部形狀，該分叉機構(gòu)用于使1條射束分為多條射束，該會聚機構(gòu)用于將上述多條射束會聚于上述被處理部件并產(chǎn)生多個微小的射束點。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于還包括下述平行處理機構(gòu)，該平行處理機構(gòu)用于將上述多條射束分別轉(zhuǎn)換為平行地行進(jìn)的射束。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于上述分叉機構(gòu)為衍射光柵。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制造方法，其特征在于上述衍射光柵為相位型衍射光柵，該相位型衍射光柵包括針對上述1條射束，相移量不同的多種相移區(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法，其特征在于在由Q表示上述相移區(qū)域的種類的場合，在通過不同種類的相移區(qū)域的射束之間產(chǎn)生的最大的相位差為2π(Q-1)/Q。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法，其特征在于上述衍射光柵為雙值的相位型衍射光柵，該相位型衍射光柵具有使所采用的射束，相對地產(chǎn)生π的相位差的2種相移區(qū)域。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法，其特征在于上述2種相移區(qū)域分別包括干涉條紋，四邊型和正三角形中的任何一種，上述相位型衍射光柵具有光柵圖案，在該光柵圖案中，按照同種的相移區(qū)域不相鄰的方式，使上述2種相移區(qū)域相互并列。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法，其特征在于上述衍射光柵為具有3種相移區(qū)域的相位型衍射光柵，該3種相位型衍射光柵使所采用的射束，相對地產(chǎn)生-φ，0，+φ的相位差。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法，其特征在于上述3種相移區(qū)域分別呈六邊形狀的區(qū)域形狀，上述相位型衍射光柵包括蜂窩狀的光柵圖案，其中按照同種相移區(qū)域不相鄰的方式，使上述3種區(qū)域相互并列。
10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法，其特征在于上述平行處理機構(gòu)為衍射光柵。
11.根據(jù)權(quán)利要求2所述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法，其特征在于上述平行處理機構(gòu)為采用下述衍射光柵，該衍射光柵包括與上述多個射束相對應(yīng)的數(shù)量的，光柵方向不同的光柵區(qū)域。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法，其特征在在于在上述衍射光柵中，使該基板的基準(zhǔn)點位于使上述多條射束通過而形成于衍射光柵的表面上的射束點圖案的中心位置上，圍繞該基準(zhǔn)點，對應(yīng)于上述多條射束，設(shè)置各光柵區(qū)域。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法，其特征在于上述會聚機構(gòu)為透鏡。
14.一種細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法，該方法包括下述步驟射束點組形成步驟，在該步驟，采用激光束或電子束，獲得由微小的多個射束點形成的射束點組；曝光步驟，在該步驟，相對被處理部件，一邊改變上述射束點組的照射位置，一邊照射多次，形成照射的痕跡；在上述曝光步驟中，使1個射束點組的多個照射的痕跡的一部分與另外射束點組的多個照射痕跡的一部分重復(fù)，進(jìn)行多重曝光。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法，其特征在于上述射束點組形成步驟包括將1條射束分為多條射束的分叉步驟；將上述多條射束會聚于上述被處理部件上的會聚步驟。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法，其特征在于上述射束點組形成步驟包括將1條射束分為多條射束的分叉步驟；使上述多條射束相互保持平行地行進(jìn)的平行處理步驟；將上述多條射束會聚于上述被處理部件上的會聚步驟。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法，其特征在于上述1個射束點組和上述另一射束點組為沿上述照射位置的移動方向相鄰的射束點組。
18.根據(jù)權(quán)利要求14所述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法，其特征在于上述1個射束點組和上述另一射束點組為沿與上述照射位置的移動方向相垂直的方向相鄰的射束點組。
19.一種細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法，該方法包括下述步驟射束點組形成步驟，在該步驟，采用激光束或電子束，獲得由微小的多個射束點形成的射束點組；曝光步驟，在該步驟，相對被處理部件，一邊改變上述射束點組的照射位置，一邊照射多次，形成照射的痕跡；在上述曝光步驟中，在1個射束點組的多個照射的痕跡的間隙中，形成另一射束點組的照射的痕跡，實現(xiàn)曝光。
20.根據(jù)權(quán)利要求14或19所述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法，其特征在于在使上述被處理部件旋轉(zhuǎn)的同時，沿半徑方向相對地移動上述射束點組，使微小的多個射束點的照射的痕跡呈螺旋線狀。
21.根據(jù)權(quán)利要求14或19所述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法，其特征在于上述微小的多個射束點采用相位型衍射光柵形成，該相位型衍射光柵具有干涉條紋，四邊形，正三角形，或六邊形的相移區(qū)域。
22.根據(jù)權(quán)利要求14或19所述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法，其特征在于上述被處理部件為感光材料，上述照射的痕跡為形成于上述感光材料上的潛像。
23.根據(jù)權(quán)利要求14或19所述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法，其特征在于上述照射的痕跡通過激光饒蝕方式形成。
24.一種電子裝置的制造方法，該電子裝置具有細(xì)微結(jié)構(gòu)體，上述細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造工序包括射束點組形成步驟，在該步驟，采用激光束或電子束，獲得由微小的多個射束點形成的射束點組；曝光步驟，在該步驟，相對被處理部件，一邊改變上述射束點組的照射位置，一邊照射多次，形成照射的痕跡；在上述曝光步驟中，使1個射束點組的多個照射的痕跡的一部分與另外射束點組的多個照射痕跡的一部分重復(fù)，實現(xiàn)多重曝光。
25.一種電子裝置的制造方法，該電子裝置包括細(xì)微結(jié)構(gòu)體，上述細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造工序包括射束點形成步驟，在該步驟，采用激光束或電子束，獲得由微小的多個射束點形成的射束點組；曝光步驟，在該步驟，相對被處理部件，一邊改變上述射束點組的照射位置，一邊照射多次，形成照射的痕跡；在上述曝光步驟中，在1個射束點組的多個照射的痕跡的間隙中，形成另外射束點組的照射的痕跡，實現(xiàn)曝光。
26.一種細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造設(shè)備，該細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造設(shè)備對被處理部件照射激光束，形成細(xì)微結(jié)構(gòu)體，該制造設(shè)備包括發(fā)生激光束的光束源；調(diào)制器，該調(diào)制器對上述激光束進(jìn)行斷開連續(xù)處理；分叉機構(gòu)，該分叉機構(gòu)將經(jīng)調(diào)制的光束分為多個光束；聚光機構(gòu)，該聚光機構(gòu)將上述多條光束會聚，使它們干涉，在上述被處理部件上產(chǎn)生多個微小的光點。
27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造設(shè)備，其特征在于該設(shè)備還包括平行處理機構(gòu)，該平行處理機構(gòu)使上述分叉的多個光束為相互保持平行的光束，使其射入上述聚光機構(gòu)。
28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造設(shè)備，其特征在于上述平行處理機構(gòu)為炫耀衍射光柵，在該衍射光柵中，使該基板的基準(zhǔn)點位于使上述多個光束通過而形成于衍射光柵的表面上的光點圖案的中心位置上，圍繞該基準(zhǔn)點，對應(yīng)于上述多個光束，設(shè)置各光柵區(qū)域。
29.根據(jù)權(quán)利要求26所述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造設(shè)備，其特征在于上述分叉機構(gòu)為相位型衍射光柵，該相位型衍射光柵具有針對上述經(jīng)調(diào)制的光束，相移量不同的多種相移區(qū)域。
30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造設(shè)備，其特征在于在由Q表示上述相移區(qū)域的種類的場合，在通過不同種類的相移區(qū)域的光束之間產(chǎn)生的最大的相位差為2π(Q-1)/Q。
全文摘要
本發(fā)明的課題在于提供一種可獲得細(xì)微結(jié)構(gòu)體的制造方法。針對被處理部件(108),在相對地使激光束或電子束(101)移動的同時,以間歇方式反復(fù)照射,對上述被處理部件進(jìn)行曝光,使其形狀變化。此時,采用分叉機構(gòu)(103),平行處理機構(gòu)(104)和會聚機構(gòu)(105),在上述被處理部件(108)上形成多個微小凸部或凹部形狀,該分叉機構(gòu)(103)用于使1條射束(108)分為多條射束(106,107),該平行處理機構(gòu)(104)用于將多個射束轉(zhuǎn)換為平行地行進(jìn)的射束,該會聚機構(gòu)(105)用于將多條射束會聚于被處理部件(108)并產(chǎn)生多個微小的射束點。
文檔編號G03F1/26GK1385758SQ0212171
公開日2002年12月18日 申請日期2002年3月22日 優(yōu)先權(quán)日2001年3月22日
發(fā)明者長坂公夫, 宮前章, 加瀨谷浩康 申請人:精工愛普生株式會社