專利名稱：掩模圖形制成方法及半導(dǎo)體裝置的制造方法
相關(guān)申請(qǐng)的交叉參考本申請(qǐng)基于在先的日本專利申請(qǐng)No.2001-375025和No.2002-271546，并要求以它們?yōu)榛A(chǔ)的優(yōu)先權(quán)，日本專利申請(qǐng)No.2001-375025的申請(qǐng)日為2001.9.29，日本專利申請(qǐng)No.2002-271546的申請(qǐng)日為2002.9.18，它們的全部?jī)?nèi)容在此被結(jié)合作為參考。
特別是，為了實(shí)現(xiàn)微細(xì)加工，在最重要的光刻和蝕刻工藝中，配置在所形成的圖形的周邊的其它圖形設(shè)計(jì)環(huán)境對(duì)所述圖形的尺寸精度產(chǎn)生很大影響。因此，為了減小這些影響，以加工后的尺寸形成所需圖形的方式，特開平9-319067號(hào)公報(bào)、和SPIE Vol.2322(1994)374(Large Area OpticalProximity Corretion using Pattern Based Correction，D.M.Newmark et.al)中公開了在預(yù)先設(shè)計(jì)的圖形上附加輔助圖形的光近似效果修正(OPCOptical Proximity Correction)或過(guò)程近似效果修正(PPCProcessProximity Correction)技術(shù)等(以下稱為PPC技術(shù))。
PPC技術(shù)大致分為兩種技術(shù)以修正值為基礎(chǔ)并因此標(biāo)準(zhǔn)化的、根據(jù)該標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行圖形修正的標(biāo)準(zhǔn)基礎(chǔ)PPC技術(shù)；和在通過(guò)掩模、光刻、蝕刻工藝之后的晶片上形成可預(yù)測(cè)精加工形狀的模型，利用模擬器計(jì)算出修正值的模型基礎(chǔ)PPC技術(shù)。在標(biāo)準(zhǔn)基礎(chǔ)PPC技術(shù)中，可以進(jìn)行高速的修正，但是難以進(jìn)行高精度的修正，在模擬基礎(chǔ)PPC技術(shù)中，可以進(jìn)行高精度修正，但是由于必須進(jìn)行光學(xué)模擬等復(fù)雜計(jì)算，需要花費(fèi)修正值計(jì)算時(shí)間，掩模制造周轉(zhuǎn)時(shí)間(TATturn around time)惡化。
為了減少修正值計(jì)算時(shí)間，在上述公知的例子中，提出了以下方法，用以減少修正值計(jì)算時(shí)間。在圖11中表示出了所述方法的一個(gè)例子。
步驟S501在設(shè)計(jì)布局中設(shè)定基準(zhǔn)點(diǎn)，切出以該基準(zhǔn)點(diǎn)為中心的一定大小的區(qū)域。在上述特開平9-319067號(hào)公報(bào)中，記述為“根據(jù)周圍的布局”確定該基準(zhǔn)點(diǎn)，在SPIE中，記述為“根據(jù)角或線段(corner or line segment)”確定該基準(zhǔn)點(diǎn)。
步驟S502調(diào)用存儲(chǔ)有包含在區(qū)域內(nèi)的邊緣坐標(biāo)組(以下稱為修整環(huán)境)、和與該修正環(huán)境對(duì)應(yīng)的修正值的數(shù)據(jù)庫(kù)(以下，將該數(shù)據(jù)庫(kù)成為修正值庫(kù))，在該修正值庫(kù)中檢索是否與在步驟S501中切出的修正值環(huán)境相一致。
步驟S503如果在一致的情況下，參照對(duì)應(yīng)存儲(chǔ)的修正值進(jìn)行修正。
步驟S504如果在存在不一致情況下，則利用由多項(xiàng)式表示光學(xué)模擬、過(guò)程模擬、或修正值的數(shù)學(xué)式等，計(jì)算修正值。而且，這時(shí)的修正環(huán)境和對(duì)應(yīng)的修正值被追加到修正值庫(kù)中。
對(duì)于全部基準(zhǔn)點(diǎn)，進(jìn)行上述步驟S501～S504的處理，最終制成掩模圖形。
在該修正方法中，由于將分別與每次出現(xiàn)的修正環(huán)境對(duì)應(yīng)的修正值存儲(chǔ)在修正值庫(kù)中，所以如果再次出現(xiàn)相同的環(huán)境則不必再進(jìn)行修正值計(jì)算。結(jié)果，由于可以盡可能將需要時(shí)間的模擬次數(shù)限制的較少，所以可以減少掩模圖形制造的時(shí)間。
在實(shí)際的裝置開發(fā)中，最初制成了以裝置特性測(cè)定和工藝流程設(shè)計(jì)為目的的小規(guī)模設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)，根據(jù)該數(shù)據(jù)進(jìn)行掩模制造。然后，開發(fā)出批量生產(chǎn)用產(chǎn)品，進(jìn)而，制成由該產(chǎn)品派生出來(lái)的產(chǎn)品(成為派生品)。在這些小規(guī)模數(shù)據(jù)、批量生產(chǎn)用產(chǎn)品和派生品中使用的圖形庫(kù)的種類，不必全都不同而是存在許多重復(fù)的圖形種類。并且，在裝置開發(fā)時(shí)，隨著主要的掩模、光刻、蝕刻等微細(xì)加工工藝的條件變化，常常要對(duì)掩模進(jìn)行改版。
在這種情況下，在進(jìn)行現(xiàn)有的掩模圖形處理的情況下，在如下所述的方面中，要考慮到掩模制造的TAT延遲問(wèn)題。首先，在開始制造掩模圖形時(shí)的修正值庫(kù)中，由于不包含邊緣坐標(biāo)組和與其對(duì)應(yīng)的修正值，所以通過(guò)模擬對(duì)輸入的邊緣坐標(biāo)組求出修正值的比例非常高。這樣，設(shè)計(jì)圖形的規(guī)模越大，模擬的修正環(huán)境數(shù)也增大，成為掩模制造的TAT惡化的原因。
并且，在現(xiàn)有方法中，在掩模改版時(shí)，有必要再次以新的規(guī)則制成修正值庫(kù)，鑒于上述情況，對(duì)于有效使用修正值庫(kù)的方法的記述并未包括全部情況。
如上所述，在開始制造掩模時(shí)，在修正值庫(kù)中未輸入邊緣坐標(biāo)組和與其對(duì)應(yīng)的修正值，通過(guò)模擬計(jì)算出修正值的比例大，存在形成掩模圖形的TAT惡化的問(wèn)題。
并且，在現(xiàn)有方法中，在掩模改版時(shí)，有必要再次以新的規(guī)則制成修正值庫(kù)，鑒于上述情況，對(duì)于有效使用修正值庫(kù)的方法的記述并未包括全部情況。
(1)根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)例子，由設(shè)計(jì)圖形生成掩模圖形的掩模圖形制成方法，包括直到前述設(shè)計(jì)圖形的設(shè)計(jì)結(jié)束為止，制成修正庫(kù)，該修正庫(kù)記錄有由前述設(shè)計(jì)圖形的邊緣坐標(biāo)組、和用于修正前述邊緣坐標(biāo)組的修正值組組成的對(duì)，獲得設(shè)計(jì)結(jié)束后的設(shè)計(jì)圖形的第一個(gè)邊緣坐標(biāo)組，將對(duì)應(yīng)于與第一個(gè)邊緣坐標(biāo)組一致的邊緣坐標(biāo)組的修正值組記錄到前述修正庫(kù)中，或從該修正庫(kù)中調(diào)出，在無(wú)記錄的情況下，通過(guò)根據(jù)預(yù)先確定的修正參數(shù)進(jìn)行的模擬，計(jì)算出第一邊緣坐標(biāo)組的修正值組，將由第一邊緣坐標(biāo)組和修正值組構(gòu)成的對(duì)追加記錄到前述修正庫(kù)中，在有記錄的情況下，從前述修正庫(kù)中讀取對(duì)應(yīng)的修正值組，根據(jù)計(jì)算出的修正值組、或讀出的修正值組中的任何一個(gè)，對(duì)設(shè)計(jì)圖形進(jìn)行修正，生成掩模圖形。
(2)根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)例子，由設(shè)計(jì)圖形生成掩模圖形的掩模圖形制成方法，包括準(zhǔn)備記錄邊緣坐標(biāo)組、和用于修正前述邊緣坐標(biāo)組的修正值組的修正庫(kù)，獲得第一設(shè)計(jì)結(jié)束后的設(shè)計(jì)圖形的第一邊緣坐標(biāo)組，將與第一邊緣坐標(biāo)組一致的邊緣坐標(biāo)組記錄到前述修正庫(kù)中，或從該修正庫(kù)中調(diào)出，在無(wú)記錄的情況下，通過(guò)根據(jù)預(yù)先確定的修正圖形進(jìn)行的模擬，計(jì)算出第一邊緣坐標(biāo)組的修正值組，將由第一邊緣坐標(biāo)組和修正值組構(gòu)成的對(duì)追加到前述修正庫(kù)中，在有記錄的情況下，從前述修正庫(kù)中讀出對(duì)應(yīng)的修正值組，根據(jù)計(jì)算出的修正值組、或者讀出的修正值組的任何一個(gè)對(duì)第一設(shè)計(jì)圖形進(jìn)行修正，生成第一掩模圖形，獲得與第一設(shè)計(jì)圖形不同的第二設(shè)計(jì)圖形的第二邊緣坐標(biāo)組，
與第二邊緣坐標(biāo)組一致的邊緣坐標(biāo)組被記錄到前述修正庫(kù)中，或從該修正庫(kù)中調(diào)出，在無(wú)記錄的情況下，通過(guò)根據(jù)預(yù)先確定的修正參數(shù)進(jìn)行的模擬，計(jì)算出第二邊緣坐標(biāo)組的修正值組，將由第二邊緣坐標(biāo)組和修正值組構(gòu)成的對(duì)追加記錄到前述修正庫(kù)中，在有記錄的情況下，從前述修正庫(kù)中讀取對(duì)應(yīng)的修正值組，根據(jù)計(jì)算出的修正值組、或讀出的修正值組中的任何一個(gè)，對(duì)第二設(shè)計(jì)圖形進(jìn)行修正，生成第二掩模圖形。
(3)根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)例子，由設(shè)計(jì)圖形生成掩模圖形的掩模圖形制成方法，包括準(zhǔn)備設(shè)計(jì)圖形，準(zhǔn)備修正圖形，準(zhǔn)備記錄有由邊緣坐標(biāo)組和用于修正邊緣坐標(biāo)組的修正值組構(gòu)成的對(duì)的第一修正庫(kù)，獲得前述設(shè)計(jì)圖形的邊緣坐標(biāo)組，由記錄在第一修正庫(kù)中的信息、以及采用前述修正參數(shù)進(jìn)行的模擬，制成記錄有由與前述獲得的邊緣坐標(biāo)組一致的邊緣坐標(biāo)組和修正值組構(gòu)成的對(duì)的第二修正庫(kù)，采用記錄在前述第二修正庫(kù)中的邊緣坐標(biāo)組和修正值組，對(duì)前述設(shè)計(jì)圖形進(jìn)行修正，并生成掩模圖形。
圖2是用于說(shuō)明根據(jù)第一個(gè)實(shí)施形式的掩模圖形的制成方法的流程圖。
圖3是用于說(shuō)明根據(jù)第一個(gè)實(shí)施形式的掩模圖形制成方法的流程圖。
圖4是表示根據(jù)第一個(gè)實(shí)施形式的掩模圖形制成方法的原理的圖示。
圖5是表示根據(jù)第二個(gè)實(shí)施形式的修正值庫(kù)編輯工具的概括結(jié)構(gòu)的框圖。
圖6是表示根據(jù)第四個(gè)實(shí)施形式的掩模數(shù)據(jù)形成裝置的概括結(jié)構(gòu)的框圖。
圖7是表示根據(jù)第四個(gè)實(shí)施形式的掩模數(shù)據(jù)形成方法的流程圖。
圖8是表示根據(jù)第四個(gè)實(shí)施形式的掩模數(shù)據(jù)形成之后的處理的流程圖。
圖9是表示設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的修正時(shí)間的圖示。
圖10是表示根據(jù)第五個(gè)實(shí)施形式的掩模生成系統(tǒng)的概括結(jié)構(gòu)的圖示。
圖11是用于說(shuō)明現(xiàn)有的掩模圖形制成方法的流程圖。
發(fā)明的詳細(xì)說(shuō)明下面，參照


本發(fā)明的實(shí)施形式。
(第一個(gè)實(shí)施形式)現(xiàn)在，說(shuō)明本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施形式。首先，在圖1中表示隨著現(xiàn)有裝置的開發(fā)過(guò)程的掩模圖形修正處理方法。通常，存儲(chǔ)裝置、邏輯運(yùn)算裝置等的開發(fā)是按照?qǐng)D1中箭頭所示的方向進(jìn)行的。最初，制成小規(guī)模的測(cè)試樣品，該測(cè)試樣品的主要作用是測(cè)試工藝流程結(jié)構(gòu)和裝置的基本特性。在對(duì)該測(cè)試樣品進(jìn)行基本評(píng)估之后，開始制造產(chǎn)品裝置。
因此，圖1是表示根據(jù)本發(fā)明第一個(gè)實(shí)施形式的掩模圖形制成裝置的概括結(jié)構(gòu)圖。圖2～3是表示根據(jù)本發(fā)明第一個(gè)實(shí)施形式的掩模圖形制成方法的流程圖。圖4是表示根據(jù)本發(fā)明第一個(gè)實(shí)施形式的掩模圖形制成方法的原理的圖示。
在此，圖1是表示根據(jù)本發(fā)明第一個(gè)實(shí)施形式的掩模圖形修正處理方法的圖示。
(步驟S101)首先，開始設(shè)計(jì)測(cè)試樣品。
(步驟S102)
在測(cè)試樣品的設(shè)計(jì)結(jié)束之前，制成修正值庫(kù)112。在修正值庫(kù)112中，對(duì)根據(jù)裝置種類、層(layer)的種類、工藝參數(shù)等分類的各種修正值庫(kù)文件進(jìn)行管理。在生成測(cè)試樣品掩模圖形的情況下，在修正值庫(kù)112中，沒(méi)有數(shù)據(jù)。但是，在測(cè)試樣品的設(shè)計(jì)結(jié)束之前，優(yōu)選將由邊緣坐標(biāo)組和與邊緣坐標(biāo)組對(duì)應(yīng)的修正值組構(gòu)成的修正信息輸入到修正值庫(kù)112中。在測(cè)試樣品設(shè)計(jì)結(jié)束之前制成與邊緣坐標(biāo)組對(duì)應(yīng)的修正值組的方法的例子，有以下四種。
第一種制成方法在設(shè)計(jì)中或者設(shè)計(jì)結(jié)束前預(yù)先獲得測(cè)試參數(shù)中使用的圖形組。計(jì)算出與該圖形組的邊緣坐標(biāo)對(duì)應(yīng)的修正值組。
第二種制成方法預(yù)先從設(shè)計(jì)者處獲得在配線圖形設(shè)計(jì)中使用的標(biāo)準(zhǔn)單元或宏單元等模塊信息。對(duì)應(yīng)于獲得的模塊圖形，預(yù)先進(jìn)行模擬，求出與各模塊圖形的邊緣坐標(biāo)對(duì)應(yīng)的修正值組。
第三種制成方法設(shè)計(jì)者在進(jìn)行布局設(shè)計(jì)時(shí)，存在為了預(yù)測(cè)在晶片上的精加工形狀，利用小規(guī)模的圖形進(jìn)行數(shù)據(jù)處理和光刻模擬的情況。在這種情況下，由設(shè)計(jì)者回收在該數(shù)據(jù)處理時(shí)制成的庫(kù)文件。
第四種制成方法以滿足本代的設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)(D.R.design rule)的方式，收縮在前一代中使用的設(shè)計(jì)資產(chǎn)(設(shè)計(jì)布局)，制成預(yù)測(cè)在本代中使用的設(shè)計(jì)資產(chǎn)的設(shè)計(jì)布局。根據(jù)該設(shè)計(jì)布局制成在數(shù)據(jù)處理時(shí)使用的庫(kù)文件。
第一種制成方法，若設(shè)計(jì)者事先同意，獲得在設(shè)計(jì)中/設(shè)計(jì)結(jié)束前的數(shù)據(jù)比較容易。第二種制成方法，是在對(duì)每個(gè)模塊進(jìn)行設(shè)計(jì)的邏輯裝置等中的有效方法。
并且，今后，當(dāng)光刻工藝的困難程度增加時(shí)，由設(shè)計(jì)者自身進(jìn)行設(shè)計(jì)，同時(shí)，有必要根據(jù)模擬結(jié)果判斷該圖形是否可在晶片上形成。在設(shè)想這種設(shè)計(jì)形態(tài)的情況下，由于利用小規(guī)模數(shù)據(jù)頻繁地反復(fù)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理和光刻模擬，所以，這時(shí)通過(guò)回收生成的庫(kù)文件，可以預(yù)知包含在測(cè)試樣品中的圖形組。
進(jìn)而，在第四種制成方法中，通過(guò)將本代的設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)和在前一代中使用的設(shè)計(jì)布局輸入到稱為封裝工具的工具中，可以將前一代的設(shè)計(jì)布局轉(zhuǎn)換成滿足本代的設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)布局。通過(guò)采用該工具，設(shè)計(jì)者在設(shè)計(jì)布局之前，可以在一定程度上準(zhǔn)備預(yù)測(cè)在本代中使用的設(shè)計(jì)布局。從所預(yù)測(cè)的設(shè)計(jì)布局，可以預(yù)測(cè)在本代中使用和希望的圖形組。
(步驟S103)測(cè)試樣品的布局結(jié)束之后，將測(cè)試樣品的設(shè)計(jì)圖形(第一設(shè)計(jì)圖形)111a的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)到設(shè)計(jì)圖形/掩模圖形存儲(chǔ)部111中。
(步驟S104)掩模圖形制成裝置100的基準(zhǔn)點(diǎn)設(shè)定部101在測(cè)試樣品的設(shè)計(jì)圖形111a的規(guī)定位置上設(shè)定基準(zhǔn)點(diǎn)。切出以各基準(zhǔn)點(diǎn)為中心的一定大小的區(qū)域。在此，切出的區(qū)域是從修正對(duì)象點(diǎn)到達(dá)近似效果的范圍?；鶞?zhǔn)點(diǎn)對(duì)應(yīng)于周圍的布局、是對(duì)應(yīng)于角部和邊部進(jìn)行設(shè)定的。
(步驟S105)關(guān)于步驟S104中設(shè)定的全部基準(zhǔn)點(diǎn)，確定是否進(jìn)行修正。在關(guān)于全部基準(zhǔn)點(diǎn)不需要進(jìn)行修正的情況下，轉(zhuǎn)到步驟S106。在關(guān)于全部基準(zhǔn)點(diǎn)需要進(jìn)行修正的情況下，轉(zhuǎn)到步驟S112。
(步驟S106)掩模圖形制成裝置100的邊緣坐標(biāo)組計(jì)算部102求出包含在切出的區(qū)域中的圖形邊緣坐標(biāo)位置。以下，將求出的坐標(biāo)位置的集合稱為邊緣坐標(biāo)組。
(步驟S107)下面，掩模圖形制成裝置100的修正庫(kù)參照部103，參照存儲(chǔ)有由對(duì)應(yīng)于該邊緣坐標(biāo)組的修正值組構(gòu)成的修正信息的修正庫(kù)112，在該修正庫(kù)112中檢索是否有與在步驟S106中求出的邊緣坐標(biāo)組一致的邊緣坐標(biāo)組。
(步驟S108)當(dāng)在修正庫(kù)112中存在邊緣坐標(biāo)組的情況下，修正庫(kù)參照部103從修正庫(kù)112中獲得與邊緣坐標(biāo)組對(duì)應(yīng)的修正值組。
(步驟S109)
修正庫(kù)參照部103，將邊緣坐標(biāo)組和獲得的修正值組轉(zhuǎn)移給掩模圖形制成裝置100的邊緣移動(dòng)部104。而且，邊緣移動(dòng)部104，根據(jù)轉(zhuǎn)移的修正值組，移動(dòng)包含存儲(chǔ)在設(shè)計(jì)圖形/掩模圖形存儲(chǔ)部111中的測(cè)試樣品的設(shè)計(jì)圖形111a中的邊緣坐標(biāo)組的邊的邊緣部。
(步驟S110)當(dāng)在修正庫(kù)112中沒(méi)有邊緣坐標(biāo)組的情況下，掩模圖形制成裝置100的修正值組計(jì)算部105，在修正參數(shù)113的條件下，利用光學(xué)模擬、或采用以多項(xiàng)式表示修正值的數(shù)學(xué)式等的OPC、及過(guò)程模擬、或采用以多項(xiàng)式表示修正值的數(shù)學(xué)式等的PPC，計(jì)算出與邊緣坐標(biāo)組對(duì)應(yīng)的修正值組。修正參數(shù)113由光學(xué)參數(shù)、以及工藝參數(shù)構(gòu)成。另外，在過(guò)程近似效果不存在問(wèn)題的情況下，不必進(jìn)行過(guò)程近似效果修正，可以只進(jìn)行光近似效果修正。
(步驟S111)掩模圖形制成裝置100的邊緣坐標(biāo)組、修正值組記錄部106，在修正值庫(kù)112中追加步驟S110中新求出的修正值組、和與其對(duì)應(yīng)的邊緣坐標(biāo)組。然后，順次進(jìn)行步驟S107～S109。
(步驟S112)當(dāng)對(duì)應(yīng)于各基準(zhǔn)點(diǎn)進(jìn)行以上處理，實(shí)施對(duì)應(yīng)于所有基準(zhǔn)點(diǎn)的光近似效果修正和過(guò)程近似效果修正時(shí)，結(jié)束測(cè)試樣品的掩模圖形(第一掩模圖形)的制作。
(步驟S113、S114、S115)采用形成的掩模圖形制作掩模，采用制成的掩模形成測(cè)試樣品(S113)。對(duì)該測(cè)試樣品進(jìn)行工藝流程構(gòu)成和裝置的基本特性評(píng)估(S114)。而且，進(jìn)行產(chǎn)品裝置的設(shè)計(jì)(S115)。
(步驟S116)如果產(chǎn)品裝置的設(shè)計(jì)結(jié)束，則將產(chǎn)品裝置的設(shè)計(jì)圖形(第二設(shè)計(jì)圖形)111b存儲(chǔ)在設(shè)計(jì)圖形/掩模圖形存儲(chǔ)部111中。
(步驟S117)
基準(zhǔn)點(diǎn)設(shè)定部101，根據(jù)存儲(chǔ)在設(shè)計(jì)圖形存儲(chǔ)部111中的產(chǎn)品裝置設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)111a，在產(chǎn)品裝置的設(shè)計(jì)圖形111b的任意位置上設(shè)置多個(gè)基準(zhǔn)點(diǎn)。切出以各基準(zhǔn)點(diǎn)為中心的一定大小的區(qū)域。在此，切出的區(qū)域是從修正對(duì)象點(diǎn)到達(dá)近似效果的范圍?；鶞?zhǔn)點(diǎn)對(duì)應(yīng)于周圍的布局、是對(duì)應(yīng)于角部和邊部進(jìn)行設(shè)定的。
(步驟S118)關(guān)于在步驟S117中設(shè)定的所有基準(zhǔn)點(diǎn)，確定是否進(jìn)行修正。在關(guān)于全部基準(zhǔn)點(diǎn)不需要進(jìn)行修正的情況下，轉(zhuǎn)到步驟S119。在關(guān)于全部基準(zhǔn)點(diǎn)需要進(jìn)行修正的情況下，轉(zhuǎn)到步驟S125。
(步驟S119)邊緣坐標(biāo)組計(jì)算部102求出包含在以各基準(zhǔn)點(diǎn)為中心切出的區(qū)域中的圖形的邊緣坐標(biāo)位置。
(步驟S120)下面，修正庫(kù)參照部103，參照存儲(chǔ)有與該邊緣坐標(biāo)組對(duì)應(yīng)的修正值組的修正庫(kù)112，在該修正庫(kù)112中檢索是否有與在步驟S119中求出的邊緣坐標(biāo)組一致的邊緣坐標(biāo)組。
(步驟S121)當(dāng)在修正庫(kù)S112中存在邊緣坐標(biāo)組的情況下，修正庫(kù)參照部103從修正庫(kù)112中獲得與邊緣坐標(biāo)組對(duì)應(yīng)的修正值組。
(步驟S122)修正庫(kù)參照部103，將邊緣坐標(biāo)組和獲得的修正值組轉(zhuǎn)移給邊緣移動(dòng)部104。而且，邊緣移動(dòng)部104，根據(jù)轉(zhuǎn)移的修正值組，移動(dòng)包含存儲(chǔ)在設(shè)計(jì)圖形/掩模圖形存儲(chǔ)部111中的產(chǎn)品裝置的設(shè)計(jì)圖形111a中的邊緣坐標(biāo)組的邊的邊緣部。
(步驟S123)當(dāng)在修正庫(kù)112中沒(méi)有邊緣坐標(biāo)組的情況下，修正值組計(jì)算部105，在修正參數(shù)113的條件下，利用光學(xué)模擬、或采用以多項(xiàng)式表示修正值的數(shù)學(xué)式等的OPC、及過(guò)程模擬、或采用以多項(xiàng)式表示修正值的數(shù)學(xué)式等的PPC，計(jì)算出與邊緣坐標(biāo)組對(duì)應(yīng)的修正值組。
(步驟S124)邊緣坐標(biāo)組、修正值組記錄部106，在修正值庫(kù)112中追加步驟S123中新求出的修正值組、和與其對(duì)應(yīng)的邊緣坐標(biāo)組。然后，順次進(jìn)行步驟S120～S122。
(步驟S125)當(dāng)對(duì)應(yīng)于各基準(zhǔn)點(diǎn)進(jìn)行以上處理，實(shí)施對(duì)應(yīng)于所有基準(zhǔn)點(diǎn)的光近似效果修正和過(guò)程近似效果修正時(shí)，結(jié)束產(chǎn)品裝置的掩模圖形的制作。
然后，根據(jù)制成的掩模圖形進(jìn)行實(shí)際的掩模制造。其后，采用制造的掩模，對(duì)形成于半導(dǎo)體裝置的制造過(guò)程中的半導(dǎo)體基片上的抗蝕劑膜等(被加工膜)進(jìn)行曝光，采用公知的方法制造半導(dǎo)體裝置。
在上述掩模圖形制成方法中，由于包含在測(cè)試樣品中的邊緣坐標(biāo)組的一部分和與其對(duì)應(yīng)的修正值組被預(yù)先存儲(chǔ)在修正庫(kù)112中，所以可以減少用于計(jì)算修正值組的模擬次數(shù)。
而且，當(dāng)形成產(chǎn)品裝置的掩模數(shù)據(jù)時(shí)，參照修正庫(kù)112進(jìn)行修正。進(jìn)而，在測(cè)試樣品的掩模數(shù)據(jù)形成之后的修正庫(kù)112中，對(duì)應(yīng)于測(cè)試樣品的坐標(biāo)組的修正值組被全部存儲(chǔ)起來(lái)。因此，如現(xiàn)有技術(shù)那樣，由于以新的規(guī)則進(jìn)行修正，所以減少了因模擬而造成的修正值組的計(jì)算次數(shù)。
進(jìn)而，在制成產(chǎn)品裝置用的掩模之后，在存在對(duì)掩模的改版、或者制造派生產(chǎn)品裝置的情況下，通過(guò)采用形成產(chǎn)品裝置的掩模數(shù)據(jù)之后的修正庫(kù)112制成掩模數(shù)據(jù)，可以縮短掩模數(shù)據(jù)的制作時(shí)間。
若以該方法進(jìn)行修正，則由于在修正庫(kù)文件中順次存儲(chǔ)有關(guān)于修正圖形的信息和所述修正，所以在形成新的掩模數(shù)據(jù)時(shí)，由于模擬而引起的修正值組計(jì)算的次數(shù)驟減。因此，制作掩模所需的時(shí)間可以大幅度地減少。
(第二個(gè)實(shí)施形式)如第一個(gè)實(shí)施形式所說(shuō)明的那樣，由數(shù)據(jù)庫(kù)管理修正庫(kù)文件，通過(guò)根據(jù)修正的程度獲得該庫(kù)文件并進(jìn)行掩模圖形的修正，可以減少由于模擬而造成的修正值計(jì)算時(shí)間，可以減少掩模圖形的修正處理時(shí)間。但是，實(shí)際上，修正庫(kù)112中存儲(chǔ)的修正值組有必要隨著工藝的變更而改變。測(cè)試樣品修正時(shí)使用的修正參數(shù)對(duì)于產(chǎn)品也相同的情況幾乎是不存在，因此，有必要采用與測(cè)試樣品時(shí)不同的制造產(chǎn)品時(shí)的修正參數(shù)，計(jì)算出修正值組。
因此，我們開發(fā)了一種修正庫(kù)112的編輯工具。圖5中表示修正庫(kù)編輯工具的概括情況。圖5是表示根據(jù)本發(fā)明第二個(gè)實(shí)施形式的修正庫(kù)編輯工具的概括結(jié)構(gòu)的框圖。
修正庫(kù)編輯工具200由具有與掩模圖形制成裝置100的修正值組計(jì)算部105相同功能的修正值組計(jì)算部201、和修正值組改寫部202構(gòu)成。當(dāng)修正參數(shù)114輸入到修正庫(kù)編輯工具200中時(shí)，修正值組計(jì)算部201順次從修正庫(kù)112中讀取邊緣坐標(biāo)組，對(duì)應(yīng)于讀出的各邊緣坐標(biāo)組分別計(jì)算出各自的修正值組。存儲(chǔ)在修正庫(kù)112中的修正值組，被修正值組改寫部202改寫成新計(jì)算出的修正值組。
采用該修正庫(kù)編輯工具200，可以對(duì)包含在測(cè)試樣品、產(chǎn)品裝置中的修正圖形的邊緣坐標(biāo)組的每一個(gè)，計(jì)算出適用于新工藝的修正值組。
通過(guò)采用該修正庫(kù)編輯工具200，由于在開始掩模圖形修正處理之前，可以離線地僅將庫(kù)文件編輯到最新的修正值組中，所以，不必進(jìn)行在掩模圖形修正處理中花費(fèi)時(shí)間的模擬，可以減少掩模圖形修正處理時(shí)間和提高掩模形成的TAT。并且，若修正庫(kù)編輯工具200的編輯作業(yè)由多個(gè)CPU、多個(gè)計(jì)算機(jī)并行處理，則可以進(jìn)一步高速地編輯修正庫(kù)。
這樣，可以對(duì)應(yīng)于工藝和修正參數(shù)的變化改寫修正庫(kù)，在工藝發(fā)生變化的情況下也可以在非常短的時(shí)間內(nèi)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理。
另外，也可以不必改寫修正庫(kù)112的修正值組，對(duì)邊緣坐標(biāo)組追加新計(jì)算出的修正值組。
(實(shí)施形式3)因此，在第一個(gè)實(shí)施形式中，修正DRAM層的金屬層。首先，修正測(cè)試樣品，保存通過(guò)修正制成的庫(kù)文件。而且，在采用由測(cè)試樣品制成產(chǎn)品數(shù)據(jù)的庫(kù)文件的情況下、和不采用該庫(kù)文件的情況下，分別進(jìn)行修正，分別計(jì)算出數(shù)據(jù)處理時(shí)間。結(jié)果發(fā)現(xiàn)，有庫(kù)文件的情況下的修正時(shí)間比沒(méi)有庫(kù)文件的情況下的修正時(shí)間縮短至1/10倍的程度。
進(jìn)而，對(duì)于本代派生品也以相同的方法進(jìn)行修正。若在過(guò)去，有必要從零開始制作庫(kù)，數(shù)據(jù)處理非常費(fèi)時(shí)，但是，對(duì)于派生品，對(duì)應(yīng)于母產(chǎn)品的庫(kù)文件已經(jīng)存在，由于多數(shù)時(shí)候采用通用的圖形組，所以可以非?？焖俚剡M(jìn)行補(bǔ)正，因此對(duì)于派生品也也非常有效。
(實(shí)施形式4)圖6是表示根據(jù)本發(fā)明第四個(gè)實(shí)施形式的掩模數(shù)據(jù)形成裝置的概括結(jié)構(gòu)的框圖。圖7是表示根據(jù)本發(fā)明第四個(gè)實(shí)施形式的掩模數(shù)據(jù)形成方法的流程圖。
以下，對(duì)掩模數(shù)據(jù)的形成方法進(jìn)行說(shuō)明，并同時(shí)對(duì)掩模數(shù)據(jù)形成裝置的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。
(步驟S301)在測(cè)試樣品的布局結(jié)束后，輸入圖形的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)301。并且，還輸入掩模條件、光刻條件、顯影條件、蝕刻條件等修正參數(shù)302。
(步驟S302)準(zhǔn)備第一修正庫(kù)311。在第一修正庫(kù)311中，存儲(chǔ)一組以上的由邊緣坐標(biāo)組和與該邊緣坐標(biāo)組對(duì)應(yīng)的修正值組構(gòu)成的修正信息。在第一修正庫(kù)311中，對(duì)根據(jù)裝置的種類、層的種類、修正參數(shù)、掩模工藝、光刻工藝、蝕刻工藝以及光近似效果修正等進(jìn)行分類的各個(gè)修正庫(kù)文件進(jìn)行管理。
(步驟S303)基準(zhǔn)點(diǎn)設(shè)定部321在從設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)301獲得的圖形的規(guī)定位置上設(shè)定基準(zhǔn)點(diǎn)。切出以各基準(zhǔn)點(diǎn)為中心的一定大小的區(qū)域。在此，切出的區(qū)域是從基準(zhǔn)點(diǎn)到達(dá)近似效果的的范圍?；鶞?zhǔn)點(diǎn)對(duì)應(yīng)于周圍的布局、是對(duì)應(yīng)于角部和邊部進(jìn)行設(shè)定的。
(步驟S304)邊緣坐標(biāo)組計(jì)算部322求出包含在切出的區(qū)域中的圖形邊緣坐標(biāo)位置。以下，將求出的坐標(biāo)位置的集合稱為邊緣坐標(biāo)組。
(步驟S305)制成記錄步驟S304中求出的邊緣坐標(biāo)組的坐標(biāo)組庫(kù)303。記錄在坐標(biāo)組庫(kù)303中的邊緣坐標(biāo)組僅是在步驟S304中求出的邊緣坐標(biāo)組。
(步驟S306)從坐標(biāo)組庫(kù)303讀取一個(gè)邊緣坐標(biāo)組。
(步驟S307)下面，庫(kù)過(guò)濾器323，參照存儲(chǔ)有對(duì)應(yīng)于該邊緣坐標(biāo)組的修正值組的第一修正庫(kù)311，在該第一修正庫(kù)311中檢索是否有與在步驟S306中讀出的邊緣坐標(biāo)組一致的邊緣坐標(biāo)組。在沒(méi)有一致的邊緣坐標(biāo)組的情況下，轉(zhuǎn)到步驟S309。這時(shí)，在參照第一修正庫(kù)311時(shí)，參照設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)、和與層對(duì)應(yīng)的修正庫(kù)文件。
(步驟S308)在步驟S307的檢索結(jié)果為第一修正庫(kù)311中存在邊緣坐標(biāo)組的情況下，庫(kù)過(guò)濾器323從第一修正庫(kù)311中獲取與邊緣坐標(biāo)組對(duì)應(yīng)的修正值組。在獲得修正值組之后進(jìn)行步驟S310。
(步驟S309)在步驟S307的檢索結(jié)果為在第一修正庫(kù)311中沒(méi)有邊緣坐標(biāo)組的情況下，修正值組計(jì)算部324，在修正參數(shù)302的條件下，利用光學(xué)模擬、或采用以多項(xiàng)式表示修正值的數(shù)學(xué)式等的OPC、及過(guò)程模擬、或采用以多項(xiàng)式表示修正值的數(shù)學(xué)式等的PPC，計(jì)算出與邊緣坐標(biāo)組對(duì)應(yīng)的修正值組。另外，在過(guò)程近似效果不存在問(wèn)題的情況下，不必進(jìn)行過(guò)程近似效果修正，可以只進(jìn)行光近似效果修正。在計(jì)算出修正值組之后，轉(zhuǎn)到步驟S310。
(步驟S310)調(diào)查是否形成了記錄有由邊緣坐標(biāo)組和修正值組構(gòu)成的組的第二修正庫(kù)。在未制成第二修正庫(kù)的情況下，轉(zhuǎn)到步驟S312。在制成第二修正庫(kù)的情況下，轉(zhuǎn)到步驟S311。
(步驟S311)
在調(diào)查的結(jié)果為已經(jīng)制成第二修正庫(kù)的情況下，由步驟S308或步驟S309將所獲得或計(jì)算出的修正值組與邊緣坐標(biāo)組的組合追加記錄到第二修正庫(kù)312中。記錄之后，轉(zhuǎn)到步驟S313。
(步驟S312)在調(diào)查結(jié)果為尚未制成第二修正庫(kù)的情況下，制成第二修正庫(kù)312。而且，將獲得或計(jì)算出的修正值組與邊緣坐標(biāo)組的組合記錄、制成第二修正庫(kù)3121。制成第二修正庫(kù)312之后，轉(zhuǎn)到步驟S313。
(步驟S313)比較第二修正庫(kù)312和坐標(biāo)組庫(kù)303，調(diào)查是否有未記錄到第二修正庫(kù)312中的坐標(biāo)組。在存在未記錄到第二修正庫(kù)312中的邊緣坐標(biāo)組的情況下，返回到步驟S306。在沒(méi)有未記錄到第二修正庫(kù)312中的邊緣坐標(biāo)組的情況下，轉(zhuǎn)到步驟S314。
(步驟S314)掩模數(shù)據(jù)形成部325，根據(jù)記錄在第二修正庫(kù)312中的修正值組，對(duì)前述設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)301進(jìn)行修正，形成掩模數(shù)據(jù)304。生成的掩模數(shù)據(jù)304被轉(zhuǎn)移給處理委托單元。
下面，參照?qǐng)D8說(shuō)明掩模數(shù)據(jù)形成之后的處理。
(步驟S401)首先，合并第一修正庫(kù)311的記錄數(shù)據(jù)和第二修正庫(kù)312的記錄數(shù)據(jù)。
(步驟S402)從合并的庫(kù)中去掉重復(fù)的邊緣坐標(biāo)組，制成第三修正庫(kù)。
另外，該處理也可以通過(guò)將由步驟S309中新計(jì)算出的修正值組、和邊緣坐標(biāo)組構(gòu)成的修正信息逐次追加記錄到第一修正庫(kù)中來(lái)進(jìn)行。
如果在有關(guān)掩模修正的參數(shù)(掩模、光刻、蝕刻等)發(fā)生變化的情況下，對(duì)存儲(chǔ)在修正庫(kù)中的修正值組進(jìn)行換算，按照下述方式處理。
圖9中表示對(duì)六個(gè)ASIC裝置(A～F)的接觸孔層，采用未利用庫(kù)的情況(現(xiàn)有方法1)、利用庫(kù)的現(xiàn)有修正方法(現(xiàn)有方法2)、以及利用庫(kù)的本實(shí)施形式所示方法進(jìn)行修正時(shí)的修正時(shí)間。修正時(shí)間以未利用庫(kù)的現(xiàn)有方法1的修正時(shí)間為標(biāo)準(zhǔn)。修正是從產(chǎn)品A到F按照字母順序進(jìn)行的，該修正在現(xiàn)有方法中表示，對(duì)庫(kù)原樣加以利用的情況下的修正時(shí)間；在本方法中，表示生成從庫(kù)中去除對(duì)隨后的產(chǎn)品沒(méi)有用處的環(huán)境的庫(kù)、利用該新庫(kù)的情況的修正時(shí)間。
如圖9所示，現(xiàn)有方法2的修正時(shí)間，從產(chǎn)品B到D比現(xiàn)有方法1的修正時(shí)間短。但是，在產(chǎn)品E、F的情況下，現(xiàn)有方法2的修正時(shí)間比現(xiàn)有方法1的修正時(shí)間長(zhǎng)。其原因是，由于對(duì)于產(chǎn)品E、F的修正中不使用的環(huán)境存在庫(kù)中，所以只從庫(kù)中提取對(duì)產(chǎn)品E、F有用的環(huán)境所需的時(shí)間增加。本方法的修正時(shí)間比現(xiàn)有方法1、2的修正時(shí)間短。可以以相當(dāng)于其它現(xiàn)有方法10％左右的修正時(shí)間進(jìn)行處理，對(duì)于掩模的形成非常有效。
通常，OPC工具具有用于改變?cè)O(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的分層結(jié)構(gòu)的分層處理工具。圖形的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)首先被輸入到分層處理工具中，并且在進(jìn)行規(guī)定的分層處理之后，輸入OPC工具。分層處理的一個(gè)例子是轉(zhuǎn)換成完全沒(méi)有設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)分層結(jié)構(gòu)的平面數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)等的處理。
在分層處理工具中，在進(jìn)行分層處理之后，設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)被分割成適當(dāng)大小的幾個(gè)區(qū)域(單元)。而且，將各單元輸入到OPC工具中。利用OPC工具對(duì)輸入的每個(gè)單元進(jìn)行處理。這時(shí)，每次進(jìn)行各單元的處理時(shí)均通過(guò)讀入修正庫(kù)來(lái)檢索邊緣坐標(biāo)組，并且每次處理結(jié)束時(shí)均有必要輸出修正庫(kù)。
當(dāng)輸入、輸入次數(shù)少時(shí)，可以不考慮輸入、輸出所需的時(shí)間。當(dāng)單元的數(shù)目增加時(shí)，向OPC工具的修正庫(kù)輸入、輸出次數(shù)達(dá)到100次以上。這樣，就增大到了不能不考慮庫(kù)的輸入、輸出時(shí)間的程度。
在本方法中，預(yù)先去除了存儲(chǔ)在庫(kù)中的對(duì)修正沒(méi)有作用的邊緣坐標(biāo)，制成高效率的修正庫(kù)(第二修正庫(kù))。而且，通過(guò)使用高效率的修正庫(kù)，可以縮短修正庫(kù)的輸入、輸出時(shí)間。結(jié)果，與現(xiàn)有方法相比可以縮短修正時(shí)間。
另外，“單元數(shù)增加”，可以表述為“設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的規(guī)模增大”。
并且，采用本實(shí)施形式所示的方法，在處理前可以在何種程度上為設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)準(zhǔn)備有效的第一修正庫(kù)是非常重要的。作為該準(zhǔn)備方法，可以主要考慮派生品種和母產(chǎn)品種類。在具有同樣設(shè)計(jì)規(guī)則的多個(gè)裝置(派生品種)的情況下，生成的庫(kù)對(duì)于各個(gè)裝置是有效的。因此，通過(guò)反復(fù)進(jìn)行庫(kù)的再利用，可以使該庫(kù)成長(zhǎng)。
并且，在象母產(chǎn)品那樣以新的規(guī)則開發(fā)的裝置的情況下，不象派生品那樣存在有效的庫(kù)。在這種情況下，有必要采用其它方法預(yù)先生成庫(kù)。其中一個(gè)方法是，如第一個(gè)實(shí)施形式所示那樣，在邏輯裝置的情況下，從標(biāo)準(zhǔn)單元或宏單元等的模塊預(yù)先生成庫(kù)，該庫(kù)可以高速進(jìn)行使用所述標(biāo)準(zhǔn)單元或宏單元的裝置的修正。并且，在特許申請(qǐng)2001-375025號(hào)中提出了從設(shè)計(jì)中的布局預(yù)先制成庫(kù)的方法。例如，可以舉出在由光刻模擬引起的布局檢驗(yàn)的同時(shí)，生成庫(kù)的方法。
并且，從生成設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的過(guò)程中，求出修正庫(kù)的生成。通常，為了對(duì)設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)進(jìn)行最終的檢驗(yàn)，進(jìn)行利用設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)(DRC)的檢驗(yàn)。在實(shí)施DRC時(shí)，由于準(zhǔn)備了基本完成的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)，所以通過(guò)在實(shí)行DRC的同時(shí)開始修正庫(kù)的形成，可以從基本完成的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)中提取出邊緣坐標(biāo)組。
進(jìn)而，為了事先準(zhǔn)備修正庫(kù)，可以考慮從ASIC產(chǎn)品等的第二符號(hào)結(jié)束(second sign off)時(shí)的設(shè)計(jì)布局入手，從該布局制成庫(kù)。這樣，在生成設(shè)計(jì)布局的時(shí)刻，通過(guò)事先制成修正庫(kù)，可以在處理前準(zhǔn)備OPC處理時(shí)使用的庫(kù)。
(第五個(gè)實(shí)施例)在進(jìn)行數(shù)據(jù)庫(kù)修正時(shí)，可以作為與掩模修正相適應(yīng)的設(shè)計(jì)資產(chǎn)提取存儲(chǔ)在庫(kù)中的修正信息。因此，在限于生成該設(shè)計(jì)資產(chǎn)的許多集合中，可以進(jìn)行更為有效的修正。因此，通過(guò)共同使用修正庫(kù)，提供新生成的庫(kù)，可以高速地進(jìn)行修正，并且可以增加設(shè)計(jì)資產(chǎn)。為了共同化地使用所述庫(kù)，有必要保證庫(kù)的可靠性，實(shí)施形式4中所示的修正庫(kù)的過(guò)濾、修正值組的更新、修正庫(kù)的管理等所有工序均必須沒(méi)有人的介入，而是全部采用自動(dòng)化。
圖10是表示根據(jù)本發(fā)明第五個(gè)實(shí)施形式的掩模生成系統(tǒng)的概括結(jié)構(gòu)的圖示。該系統(tǒng)為經(jīng)由因特網(wǎng)或企業(yè)內(nèi)部互聯(lián)網(wǎng)的服務(wù)器-客戶端型的結(jié)構(gòu)。
作為掩模修正的客戶端，例如可以是裝置制造商、或芯片設(shè)計(jì)商、掩模制造商或工藝工程師等?？蛻舳诉x擇作為進(jìn)行掩模修正的對(duì)象的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)，和在晶片上加工該設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的工藝，訪問(wèn)處理服務(wù)器。
芯片設(shè)計(jì)商將設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)301輸入到第一處理服務(wù)器401中。并且，裝置制造商將修正參數(shù)302輸入到第二處理服務(wù)器402中。
第一處理服務(wù)器401進(jìn)行從設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)301中提取邊緣坐標(biāo)組的處理。而且，生成僅包含提取出的邊緣坐標(biāo)組的坐標(biāo)組庫(kù)303。
坐標(biāo)組庫(kù)303通過(guò)網(wǎng)絡(luò)400送至第二處理服務(wù)器402。在第二處理服務(wù)器402中裝載用于從邊緣坐標(biāo)組求出修正值組的掩摸數(shù)據(jù)處理(MDP)工具。MDP工具根據(jù)邊緣坐標(biāo)組和工藝條件進(jìn)行模擬并求出修正值組。在第二處理服務(wù)器402中，為了使修正高速化，可以并行進(jìn)行，進(jìn)而，從MDP工具可以設(shè)定用于使處理高速化的分散處理。
第二處理服務(wù)器402，確認(rèn)與記錄在坐標(biāo)組庫(kù)303中的邊緣坐標(biāo)組一致的邊緣坐標(biāo)組是否被記錄在第一修正庫(kù)311中。在存在一致的邊緣坐標(biāo)組的情況下，將存儲(chǔ)在第一修正庫(kù)311中的邊緣坐標(biāo)組和修正值組記錄在第二修正庫(kù)312中。在沒(méi)有一致的邊緣坐標(biāo)組的情況下，將修正參數(shù)和邊緣坐標(biāo)組輸入到修正值組計(jì)算工具中，計(jì)算出修正值組。將邊緣坐標(biāo)組和計(jì)算出的修正值組記錄到第二修正庫(kù)312中。另外，在不存在第二修正庫(kù)312時(shí)，制成新制成的第二修正庫(kù)312。而且，將邊緣坐標(biāo)組和修正值組記錄到制成的第二修正庫(kù)312中。
對(duì)于記錄在坐標(biāo)組庫(kù)303中的全部邊緣坐標(biāo)組，在將邊緣坐標(biāo)組和修正值組記錄到第二修正庫(kù)312中之后，第二修正庫(kù)312通過(guò)網(wǎng)絡(luò)400發(fā)送到第一處理服務(wù)器401和數(shù)據(jù)服務(wù)器410中。第一處理服務(wù)器401，根據(jù)坐標(biāo)組庫(kù)303、第二修正庫(kù)312和設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)301，形成掩模數(shù)據(jù)304。形成的掩模數(shù)據(jù)304通過(guò)網(wǎng)絡(luò)400發(fā)送至第三處理服務(wù)器403。掩模制造商，根據(jù)存儲(chǔ)在第三處理服務(wù)器403中的掩模數(shù)據(jù)304，制成掩模。
數(shù)據(jù)服務(wù)器410合并第一修正庫(kù)311和第二修正庫(kù)312。而且，從合并的修正庫(kù)中去除重復(fù)的修正信息。另外，在生成由邊緣坐標(biāo)組和新生成的修正值組構(gòu)成組時(shí)，可以追加到第一修正庫(kù)中。
在下一次的掩模數(shù)據(jù)形成中，準(zhǔn)備更新的第一修正庫(kù)，并將其保存在數(shù)據(jù)服務(wù)器410中。之后的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)按照與上述相同的流程制成。
通過(guò)采用在此所示的服務(wù)器-客戶端方式的掩模修正方法和系統(tǒng)，客戶可以高速地進(jìn)行掩模修正，并且，可以容易地收集存儲(chǔ)在庫(kù)中的設(shè)計(jì)資產(chǎn)(邊緣坐標(biāo)組)。
另外，還存在芯片設(shè)計(jì)商、裝置制造商、以及掩模制造商并分別不是單獨(dú)的廠商的情況。因此，第一處理服務(wù)器和第二處理服務(wù)器、第二處理服務(wù)器和第三處理服務(wù)器、或者第一處理服務(wù)器和第三處理服務(wù)器也可以是同一個(gè)處理服務(wù)器。
并且，通過(guò)采用JAVA等網(wǎng)絡(luò)語(yǔ)言對(duì)在服務(wù)器內(nèi)部啟動(dòng)的程序進(jìn)行編程，可以不需要人的介入，實(shí)現(xiàn)全部處理自動(dòng)化。結(jié)果，不僅節(jié)省了時(shí)間，而且可以大幅度提高庫(kù)的可靠性。
另外，本發(fā)明不限于上述個(gè)實(shí)施形式，在實(shí)施階段，可以在不超出本發(fā)明主旨的范圍內(nèi)進(jìn)行各種變形。進(jìn)而，在上述實(shí)施形式中，包含各種階段的發(fā)明，通過(guò)將所公開的多個(gè)結(jié)構(gòu)要素進(jìn)行適當(dāng)?shù)慕M合，可以獲得多種發(fā)明。例如，從在實(shí)施形式中所示的全部結(jié)構(gòu)要素中去除幾個(gè)結(jié)構(gòu)要素，也可以解決本發(fā)明所要解決的課題中所述的至少一個(gè)課題，在獲得發(fā)明效果中所述的效果中的至少一個(gè)效果的情況下，取消該結(jié)構(gòu)要素的結(jié)構(gòu)作為發(fā)明被提取出來(lái)。
此外，本發(fā)明可以在不超出其主旨的范圍內(nèi)進(jìn)行各種變形。
本領(lǐng)域技術(shù)人員可以容易地發(fā)現(xiàn)其它的優(yōu)點(diǎn)和變形。因此，本發(fā)明從廣義上不限于在此表示和描述特定的細(xì)節(jié)和具有代表性的實(shí)施例。另外，在不超出由所附的權(quán)利要求和它們的等同方案所限定的總的發(fā)明構(gòu)思的主旨或范圍的情況下，可以做出各種變形。
權(quán)利要求
1.一種由設(shè)計(jì)圖形生成掩模圖形的掩模圖形制成方法，包括直到前述設(shè)計(jì)圖形的設(shè)計(jì)結(jié)束為止，制成修正庫(kù)，該修正庫(kù)記錄有由前述設(shè)計(jì)圖形的邊緣坐標(biāo)組、和用于修正前述邊緣坐標(biāo)組的修正值組構(gòu)成的對(duì)，獲得設(shè)計(jì)結(jié)束后的設(shè)計(jì)圖形的第一個(gè)邊緣坐標(biāo)組，將對(duì)應(yīng)于與第一個(gè)邊緣坐標(biāo)組一致的邊緣坐標(biāo)組的修正值組記錄到前述修正庫(kù)中，或從該修正庫(kù)中調(diào)出，在無(wú)記錄的情況下，通過(guò)根據(jù)預(yù)先確定的修正參數(shù)進(jìn)行的模擬，計(jì)算出第一邊緣坐標(biāo)組的修正值組，將由第一邊緣坐標(biāo)組和修正值組構(gòu)成的對(duì)追加記錄到前述修正庫(kù)中，在有記錄的情況下，從前述修正庫(kù)中讀取對(duì)應(yīng)的修正值組，根據(jù)計(jì)算出的修正值組、或讀出的修正值組中的任何一個(gè)，對(duì)設(shè)計(jì)圖形進(jìn)行修正，生成掩模圖形。
2.如權(quán)利要求1所述的掩模圖形制成方法，前述修正庫(kù)的制成如下，獲得在設(shè)計(jì)過(guò)程中的前述設(shè)計(jì)圖形的邊緣坐標(biāo)組，利用基于預(yù)先確定的修正參數(shù)的模擬，計(jì)算出用于修正前述邊緣坐標(biāo)組的修正值組，將由計(jì)算出的修正值組和前述邊緣坐標(biāo)組構(gòu)成的對(duì)記錄到修正庫(kù)中。
3.如權(quán)利要求1所述的掩模圖形制成方法，前述修正庫(kù)的制成如下，獲得采用前述設(shè)計(jì)圖形的各標(biāo)準(zhǔn)單元圖形或各宏單元的邊緣坐標(biāo)組，利用采用預(yù)先確定的修正參數(shù)的模擬，計(jì)算出用于修正前述邊緣坐標(biāo)組的修正值組，將前述邊緣坐標(biāo)組和前述修正值組記錄到前述修正值庫(kù)中。
4.如權(quán)利要求1所述的掩模圖形制成方法，前述修正值的計(jì)算，是在光學(xué)模擬和過(guò)程模擬中，至少進(jìn)行光學(xué)模擬來(lái)進(jìn)行的。
5.如權(quán)利要求1所述的掩模圖形制成方法，前述第一邊緣坐標(biāo)組的獲得如下，根據(jù)預(yù)先確定的標(biāo)準(zhǔn)在前述設(shè)計(jì)圖形中設(shè)定基準(zhǔn)點(diǎn)，求出包含在以設(shè)定的基準(zhǔn)點(diǎn)為中心的區(qū)域中的圖形的邊緣坐標(biāo)。
6.一種由設(shè)計(jì)圖形生成掩模圖形的掩模圖形制成方法，包括準(zhǔn)備記錄邊緣坐標(biāo)組、和用于修正前述邊緣坐標(biāo)組的修正值組的修正庫(kù)，獲得第一設(shè)計(jì)結(jié)束后的設(shè)計(jì)圖形的第一邊緣坐標(biāo)組，將與第一邊緣坐標(biāo)組一致的邊緣坐標(biāo)組記錄到前述修正庫(kù)中，或從該修正庫(kù)中調(diào)出，在無(wú)記錄的情況下，通過(guò)根據(jù)預(yù)先確定的修正參數(shù)進(jìn)行的模擬，計(jì)算出第一邊緣坐標(biāo)組的修正值組，將由第一邊緣坐標(biāo)組和修正值組構(gòu)成的對(duì)追加到前述修正庫(kù)中，在有記錄的情況下，從前述修正庫(kù)中讀出對(duì)應(yīng)的修正值組，根據(jù)計(jì)算出的修正值組、或者讀出的修正值組的任何一個(gè)對(duì)第一設(shè)計(jì)圖形進(jìn)行修正，生成第一掩模圖形，獲得與第一設(shè)計(jì)圖形不同的第二設(shè)計(jì)圖形的第二邊緣坐標(biāo)組，與第二邊緣坐標(biāo)組一致的邊緣坐標(biāo)組被記錄到前述修正庫(kù)中，或從該修正庫(kù)中調(diào)出，在無(wú)記錄的情況下，通過(guò)根據(jù)預(yù)先確定的修正參數(shù)進(jìn)行的模擬，計(jì)算出第二邊緣坐標(biāo)組的修正值組，將由第二邊緣坐標(biāo)組和修正值組構(gòu)成的對(duì)追加記錄到前述修正庫(kù)中，在有記錄的情況下，從前述修正庫(kù)中讀取對(duì)應(yīng)的修正值組，根據(jù)計(jì)算出的修正值組、或讀出的修正值組中的任何一個(gè)，對(duì)第二設(shè)計(jì)圖形進(jìn)行修正，生成第二掩模圖形。
7.如權(quán)利要求6所述的掩模圖形制成方法，前述第二設(shè)計(jì)圖形是對(duì)第一設(shè)計(jì)圖形的一部分進(jìn)行改變而成的設(shè)計(jì)圖形。
8.如權(quán)利要求6所述的掩模圖形制成方法，前述修正值組，是通過(guò)在光學(xué)模擬和過(guò)程模擬中，至少進(jìn)行光學(xué)模擬而計(jì)算出來(lái)的。
9.如權(quán)利要求6所述的掩模圖形制成方法，前述修正庫(kù)的準(zhǔn)備如下，到前述第一設(shè)計(jì)圖形的設(shè)計(jì)結(jié)束為止，預(yù)先形成記錄有包含在第一設(shè)計(jì)圖形中的第一邊緣坐標(biāo)組和修正值組的前述修正庫(kù)。
10.如權(quán)利要求9所述的掩模圖形制成方法，前述修正庫(kù)的制作如下，對(duì)設(shè)計(jì)過(guò)程中的第一設(shè)計(jì)圖形設(shè)定基準(zhǔn)點(diǎn)，求出包含以設(shè)定的基準(zhǔn)點(diǎn)為中心的區(qū)域的圖形的邊緣坐標(biāo)組，通過(guò)基于預(yù)先確定的修正參數(shù)的模擬，計(jì)算出關(guān)于邊緣坐標(biāo)組的修正值組，將前述邊緣坐標(biāo)組與對(duì)應(yīng)的修正值組記錄到前述修正庫(kù)中。
11.如權(quán)利要求9所述的掩模圖形制成方法，前述修正庫(kù)的制作如下，求出用于第一設(shè)計(jì)圖形的各個(gè)標(biāo)準(zhǔn)單元圖形或各個(gè)宏單元的邊緣坐標(biāo)組，通過(guò)采用預(yù)先確定的修正參數(shù)進(jìn)行模擬，計(jì)算出前述邊緣坐標(biāo)組的修正值組，將由前述邊緣坐標(biāo)組和修正值組構(gòu)成的對(duì)記錄在前述修正庫(kù)中。
12.如權(quán)利要求6所述的掩模圖形制成方法，在關(guān)于第一設(shè)計(jì)圖形的修正參數(shù)和關(guān)于第二設(shè)計(jì)圖形的修正參數(shù)不同的情況下，對(duì)于每個(gè)包含在前述修正庫(kù)中的邊緣坐標(biāo)組，采用關(guān)于前述第二設(shè)計(jì)圖形的修正庫(kù)換算出修正值組，將由前述邊緣坐標(biāo)組和前述修正值組構(gòu)成的對(duì)記錄到第二修正庫(kù)中，采用第二修正庫(kù)修正第二設(shè)計(jì)圖形。
13.如權(quán)利要求12所述的掩模圖形制成方法，在換算出前述修正值組的情況下，利用同時(shí)進(jìn)行與多個(gè)邊緣坐標(biāo)對(duì)應(yīng)的修正值組的計(jì)算的并行處理，計(jì)算出對(duì)應(yīng)于各個(gè)邊緣坐標(biāo)組的修正值組。
14.如權(quán)利要求6所述的掩模圖形制成方法，前述第一邊緣坐標(biāo)組的獲得如下，根據(jù)預(yù)先確定的標(biāo)準(zhǔn)，在前述設(shè)計(jì)圖形中設(shè)定基準(zhǔn)點(diǎn)，求出形成包含在以設(shè)定的基準(zhǔn)點(diǎn)為中心的區(qū)域中的圖形的邊緣坐標(biāo)。
15.一種由設(shè)計(jì)圖形生成掩模圖形的掩模圖形制成方法，包括準(zhǔn)備設(shè)計(jì)圖形，準(zhǔn)備修正參數(shù)，準(zhǔn)備記錄有由邊緣坐標(biāo)組和用于修正邊緣坐標(biāo)組的修正值組構(gòu)成的對(duì)的第一修正庫(kù)，獲得前述設(shè)計(jì)圖形的邊緣坐標(biāo)組，由記錄在第一修正庫(kù)中的信息、以及采用前述修正參數(shù)進(jìn)行的模擬，制成記錄有由與前述獲得的邊緣坐標(biāo)組一致的邊緣坐標(biāo)組和修正值組構(gòu)成的對(duì)的第二修正庫(kù)，采用記錄在前述第二修正庫(kù)中的邊緣坐標(biāo)組和修正值組，對(duì)前述設(shè)計(jì)圖形進(jìn)行修正，并生成掩模圖形。
16.如權(quán)利要求15所述的掩模圖形制成方法，其特征為，第一修正庫(kù)包括分別根據(jù)掩模工藝、光刻工藝、蝕刻工藝以及光近似效果修正進(jìn)行分類的多個(gè)修正庫(kù)組。
17.如權(quán)利要求14所述的掩模圖形制成方法，其特征為，前述第一修正庫(kù)包括根據(jù)前述設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)分類的多個(gè)修正庫(kù)文件，在制成前述第二修正庫(kù)時(shí)，參照對(duì)應(yīng)于前述設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)的前述修正庫(kù)文件。
18.如權(quán)利要求15所述的掩模圖形制成方法，前述第一修正庫(kù)包括對(duì)應(yīng)于前述設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的層分類的多個(gè)修正庫(kù)文件，在制成前述第二修正庫(kù)時(shí)，參照對(duì)應(yīng)于前述設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)的前述修正庫(kù)文件。
19.如權(quán)利要求15所述的掩模圖形制成方法，制成將第一修正庫(kù)和第二修正庫(kù)合并的第三修正庫(kù)，當(dāng)在第三修正庫(kù)中存在重復(fù)的邊緣坐標(biāo)組的情況下，從重復(fù)的邊緣坐標(biāo)組保留一組邊緣坐標(biāo)組和修正值組，將其它邊緣坐標(biāo)組和修正值組構(gòu)成的對(duì)去掉。
20.如權(quán)利要求15所述的掩模圖形制成方法，前述修正參數(shù)為，掩模條件、光刻條件、顯影條件、蝕刻條件中的至少一個(gè)條件。
21.如權(quán)利要求15所述的掩模圖形制成方法，前述第一邊緣坐標(biāo)組的獲得如下，根據(jù)預(yù)先確定的標(biāo)準(zhǔn)，在前述設(shè)計(jì)圖形中設(shè)定基準(zhǔn)點(diǎn)，求出包含在以設(shè)定的基準(zhǔn)點(diǎn)為中心的區(qū)域中的圖形的邊緣坐標(biāo)。
22.一種掩模制造方法，其特征為，采用由權(quán)利要求6中所記載的掩模圖形制成方法制成的第二掩模圖形，制成掩模。
23.一種半導(dǎo)體裝置的制造方法，其特征為，采用利用權(quán)利要求22所記載的掩模制造方法制造出的掩模，在半導(dǎo)體裝置制造過(guò)程中的半導(dǎo)體基板上形成被加工膜，對(duì)該被加工膜進(jìn)行曝光。
24.一種半導(dǎo)體裝置的制造方法，其特征為，采用利用權(quán)利要求15的掩模圖形制成方法形成的掩模圖形制造掩模，采用所制造出的掩模，在半導(dǎo)體裝置制造過(guò)程中的半導(dǎo)體基板上形成被加工膜，對(duì)該被加工膜進(jìn)行曝光。
全文摘要
一種由設(shè)計(jì)圖形生成掩模圖形的掩模圖形制成方法，包括直到前述設(shè)計(jì)圖形的設(shè)計(jì)結(jié)束為止，制成修正庫(kù)，該修正庫(kù)記錄有由前述設(shè)計(jì)圖形的掩模蝕刻坐標(biāo)組、和用于修正前述邊緣坐標(biāo)組的修正值組組成的對(duì)；獲得設(shè)計(jì)結(jié)束后的設(shè)計(jì)圖形的第一個(gè)邊緣坐標(biāo)組；將對(duì)應(yīng)于與第一個(gè)邊緣坐標(biāo)組一致的邊緣坐標(biāo)組的修正值組記錄到前述修正庫(kù)中，或從該修正庫(kù)中調(diào)出；在無(wú)記錄的情況下，通過(guò)根據(jù)預(yù)先確定的修正參數(shù)進(jìn)行的模擬，計(jì)算出第一邊緣坐標(biāo)組的修正值組；將由第一邊緣坐標(biāo)組和修正值組構(gòu)成的對(duì)追加記錄到前述修正庫(kù)中；在有記錄的情況下，從前述修正庫(kù)中讀取對(duì)應(yīng)的修正值組；和根據(jù)計(jì)算出的修正值組、或讀出的修正值組中的任何一個(gè)，對(duì)設(shè)計(jì)圖形進(jìn)行修正，生成掩模圖形。
文檔編號(hào)G03F1/08GK1411034SQ0214407
公開日2003年4月16日 申請(qǐng)日期2002年9月29日 優(yōu)先權(quán)日2001年9月29日
發(fā)明者小谷敏也, 田中聰, 井上壯一, 小林幸子, 市川裕隆 申請(qǐng)人:株式會(huì)社東芝