專利名稱：2.5英寸×5英寸ut1倍光刻版的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于微細(xì)工程制造領(lǐng)域，如集成電路生產(chǎn)等。
背景技術(shù)：
目前UltraTech UT1倍光刻版有兩種規(guī)格一種是5英寸×5英寸，另一種是在該5英寸×5英寸的基礎(chǔ)上切割成3英寸×5英寸。

發(fā)明內(nèi)容
推出了一種新的光刻版規(guī)格2.5英寸×5英寸UT1倍光刻版。
在制版前對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，將圖形重新安排，讓圖形分布在上下或左右兩個(gè)2.5英寸×5英寸對(duì)稱區(qū)域，同時(shí)在中間2.5英寸處設(shè)計(jì)切割標(biāo)記。制版后按切割標(biāo)記將5英寸×5英寸UT1倍光刻版進(jìn)行切割，從而得到兩塊2.5英寸×5英寸UT1倍光刻版。
本發(fā)明將所需制版的數(shù)量減少為原來(lái)的一半，節(jié)約成本50％。原來(lái)的將5英寸×5英寸UT1倍光刻版切割成3英寸×5英寸UT1倍光刻版的方法，制版成本和5英寸×5英寸UT1倍光刻版一樣，而切割下來(lái)的部分成為廢棄物，造成環(huán)境污染。本發(fā)明則充分利用了原來(lái)的5英寸×5英寸UT1倍光刻版的所有材料，避免了廢棄物的產(chǎn)生，有利于環(huán)境保護(hù)和可持續(xù)發(fā)展。


圖中尺寸單位為微米，整個(gè)版的尺寸為5英寸×5英寸，即127000微米×127000微米。
圖中虛線表示切割標(biāo)記所在的位置，處于版的中間，垂直坐標(biāo)為63500微米，即位于垂直方向2.5英寸處。
具體實(shí)施方式
1。在制版前對(duì)制版數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，重新安排圖形分布，讓圖形分布在上下(或左右)兩個(gè)2.5英寸×5英寸對(duì)稱區(qū)域。
2。在5英寸×5英寸UT1倍光刻版中間2.5英寸出設(shè)計(jì)切割標(biāo)記，個(gè)數(shù)可以為二個(gè)或更多。若圖形為上下分布，則切割標(biāo)記按水平方向排列，要確保切割標(biāo)記的中心的垂直坐標(biāo)為63500微米，即切割標(biāo)記位于垂直方向2.5英寸處。若圖形為左右分布，則切割標(biāo)記按垂直方向排列，相應(yīng)地要確保切割標(biāo)記的中心的水平坐標(biāo)為63500微米，即切割標(biāo)記位于水平方向2.5英寸處。切割標(biāo)記為十字線，也可以為其他形狀如一字線。
3。按設(shè)計(jì)好的數(shù)據(jù)進(jìn)行光刻版的生產(chǎn)。
4。將生產(chǎn)出來(lái)的5英寸×5英寸UT1倍光刻版按照中間2.5英寸處的切割標(biāo)記進(jìn)行切割，即得到兩塊2.5英寸×5英寸UT1倍光刻版。
權(quán)利要求1.一種用于微細(xì)工程領(lǐng)域適用于UltraTech UT1倍光刻機(jī)的光刻版，其規(guī)格為5×5英寸，其特征在于光刻版的規(guī)格改為2.5×5英寸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻版，其特征是在5×5英寸UT1倍光刻版中間2.5英寸處設(shè)計(jì)切割標(biāo)記，而要用于光刻的圖形分布在由該切割標(biāo)記所劃分成的兩個(gè)對(duì)稱區(qū)域，兩個(gè)區(qū)域內(nèi)的圖形可以不同。
專利摘要一種用于微細(xì)工程領(lǐng)域如集成電路生產(chǎn)的光刻版，適用于Ultra Tech UT 1倍光刻機(jī)，其規(guī)格為2.5×5英寸。在5×5英寸UT 1倍光刻版中間2.5英寸處設(shè)計(jì)切割標(biāo)記，而要用于光刻的圖形則分布在由該切割標(biāo)記所劃分成的兩個(gè)對(duì)稱區(qū)域，兩個(gè)區(qū)域內(nèi)的圖形可以不同。將5×5英寸UT 1倍光刻版按切割標(biāo)記切割而得到兩塊2.5×5英寸UT 1倍光刻版。
文檔編號(hào)G03F1/38GK2638107SQ02252770
公開(kāi)日2004年9月1日 申請(qǐng)日期2002年9月5日 優(yōu)先權(quán)日2002年9月5日
發(fā)明者陳開(kāi)盛, 粟鵬義, 吳進(jìn)來(lái) 申請(qǐng)人:上海光刻電子科技有限公司, 陳開(kāi)盛, 粟鵬義