專利名稱：制造液晶顯示器的曝光掩模及利用該掩模制造液晶顯示器時(shí)曝光基板的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于制造液晶顯示器的掩模，以及利用該掩模對(duì)用于液晶顯示器的基板進(jìn)行曝光的方法。
背景技術(shù)：
通常，液晶顯示器具有兩塊帶電極的基板和間插在兩塊基板間的液晶層。電壓施加在電極上，使得液晶層中的液晶分子重新取向，從而控制光透射。電極可以全部形成在基板其中之一上。
為了在基板上形成各種圖形，對(duì)于基板進(jìn)行光刻，同時(shí)包括曝光的步驟。
傳統(tǒng)上，將分步投影曝光機(jī)(stepper)或?qū)?zhǔn)儀(aligner)用于曝光目的。
在采用分步投影曝光機(jī)的情況下，引入小尺寸掩模?；灞环殖扇舾蓚€(gè)照射區(qū)，并且當(dāng)在基板上方在任意方向上移動(dòng)分步投影曝光機(jī)掩模的同時(shí)對(duì)基板曝光。該分步投影曝光機(jī)掩模和基板安裝在分步投影曝光機(jī)上，使得它們以適當(dāng)?shù)姆绞奖舜藢?duì)準(zhǔn)。
在使用對(duì)準(zhǔn)儀的情形下，引入大尺寸掩模，使得僅用一次照射對(duì)基板的整個(gè)面積進(jìn)行曝光。首先將對(duì)準(zhǔn)儀掩模(aligner mask)安裝在對(duì)準(zhǔn)儀上，然后將基板與對(duì)準(zhǔn)儀掩模對(duì)準(zhǔn)。對(duì)準(zhǔn)儀優(yōu)選地用于制造液晶顯示器。
然而，使用對(duì)準(zhǔn)儀有以下問(wèn)題。隨著基板尺寸增大到大于現(xiàn)有的對(duì)準(zhǔn)器，則不能通過(guò)一個(gè)掩模利用一次照射對(duì)其進(jìn)行曝光。因而，接縫錯(cuò)誤易于在所得的顯示器中出現(xiàn)。因此，需要開(kāi)發(fā)一種新型曝光裝置或構(gòu)造技術(shù)。例如，在對(duì)大尺寸基板曝光的過(guò)程中，可對(duì)交互照射對(duì)準(zhǔn)(inter-shot alignment)使用這樣的技術(shù)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種用于制造液晶顯示器的掩模，其在防止接縫錯(cuò)誤的同時(shí)，對(duì)大尺寸基板作正確的交互照射對(duì)準(zhǔn)。
本目的和其它目的可通過(guò)一種掩模實(shí)現(xiàn)，該掩模具有以各自方式進(jìn)行照射的不同掩模圖形。利用這樣的掩模對(duì)大尺寸基板進(jìn)行曝光。
具體地，用于利用基板制造液晶顯示器的掩模包括具有中心線的位于基板中央的第一掩模圖形，以對(duì)基板中央進(jìn)行曝光。第二掩模圖形位于第一掩模圖形左側(cè)，以對(duì)基板左側(cè)進(jìn)行曝光。第二掩模圖形與第一掩模圖形相隔第一距離。第三掩模圖形位于第一掩模圖形右側(cè)，以對(duì)基板右側(cè)進(jìn)行曝光。第三掩模圖形與第一掩模圖形間隔第二距離。
用于曝光的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(key)形成在第一掩模圖形上。對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成有位于掩模中心線左側(cè)和右側(cè)彼此相對(duì)于掩模中心線對(duì)稱的一對(duì)第一對(duì)準(zhǔn)圖形、位于第一對(duì)準(zhǔn)圖形右側(cè)并與第一對(duì)準(zhǔn)圖形間隔第一距離的一對(duì)第二對(duì)準(zhǔn)圖形、以及位于第一對(duì)準(zhǔn)圖形左側(cè)并與第一對(duì)準(zhǔn)圖形間隔第二距離的一對(duì)第三對(duì)準(zhǔn)圖形。
在對(duì)用于液晶顯示器的基板曝光的方法中，首先制備劃分為中心部分、左側(cè)部分和右側(cè)部分的基板。還制備具有第一至第三掩模圖形的掩模。第一掩模圖形置于基板中心，具有中心線，以對(duì)基板中心部分曝光。第二掩模圖形位于第一掩模圖形左側(cè)以對(duì)基板左側(cè)曝光，并間隔第一掩模圖形左側(cè)第一距離。第三掩模圖形位于第一掩模圖形右側(cè)以對(duì)基板右側(cè)曝光，并間隔第一掩模圖形右側(cè)第二距離。然后，將掩模和基板彼此對(duì)準(zhǔn)。其后，利用掩模以不連續(xù)的方式進(jìn)行對(duì)基板中心部分、左側(cè)部分和右側(cè)部分的曝光。
第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成在掩模第一掩模圖形上，第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成在基板中心部分上，使得第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記匹配。第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成有位于掩模中心線左側(cè)和右側(cè)彼此相對(duì)于掩模中心線對(duì)稱的一對(duì)第一對(duì)準(zhǔn)圖形、位于第一對(duì)準(zhǔn)圖形右側(cè)并與第一對(duì)準(zhǔn)圖形間隔第一距離的一對(duì)第二對(duì)準(zhǔn)圖形、以及位于第一對(duì)準(zhǔn)圖形左側(cè)并與第一對(duì)準(zhǔn)圖形間隔第二距離的一對(duì)第三對(duì)準(zhǔn)圖形。
掩模與基板的對(duì)準(zhǔn)通過(guò)將第一掩模圖形的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與基板的第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記合并來(lái)進(jìn)行，且相對(duì)于基板中心部分的曝光利用第一掩模圖形進(jìn)行。此時(shí)，在進(jìn)行利用掩模對(duì)基板曝光的同時(shí)，除了第一掩模圖形外，利用曝光裝置的遮光部件將掩模和基板遮蔽。
掩模與基板的對(duì)準(zhǔn)通過(guò)將第一掩模圖形的第一對(duì)準(zhǔn)圖形與基板的第二對(duì)準(zhǔn)圖形合并來(lái)進(jìn)行，且對(duì)基板左側(cè)部分的曝光利用第二掩模圖形來(lái)進(jìn)行。此時(shí)，在進(jìn)行利用掩模曝光基板的同時(shí)，除了第二掩模圖形外，利用曝光裝置的遮光部件將掩模和基板遮蔽。
掩模與基板的對(duì)準(zhǔn)通過(guò)將第一掩模圖形的第一對(duì)準(zhǔn)圖形與基板的第三對(duì)準(zhǔn)圖形合并來(lái)進(jìn)行，且對(duì)基板右側(cè)部分的曝光利用第三掩模圖形來(lái)進(jìn)行。此時(shí)，在進(jìn)行利用掩模曝光基板的同時(shí)，除了第三掩模圖形外，利用曝光裝置的遮光部件將掩模和基板遮蔽。


當(dāng)結(jié)合附圖考慮時(shí)，隨著本發(fā)明參照以下詳細(xì)描述而得以更好地理解，對(duì)本發(fā)明的更為全面的評(píng)價(jià)以及其隨之而來(lái)的諸多優(yōu)點(diǎn)將更易于清楚，附圖中，相同的附圖標(biāo)記表示相同或相似的元件，其中圖1是用于液晶顯示器的基板的示意性視圖；圖2是根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的用于制造液晶顯示器的掩模的示意性視圖；圖3是與圖2所示的掩模對(duì)準(zhǔn)的用于液晶顯示器的基板的示意性視圖；以及圖4A至4C示出了對(duì)圖3所示基板曝光的步驟。
具體實(shí)施例方式
將參照附圖闡述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。
如先前所述，為了在大尺寸基板上形成圖形，優(yōu)選地采用分區(qū)曝光技術(shù)，因?yàn)閷?duì)準(zhǔn)儀掩模在尺寸上有限制。
圖1是用于液晶顯示器的基板的示意性視圖。如圖1所示，液晶顯示器具有作為基板100的一大部分的顯示區(qū)200、位于顯示區(qū)200左側(cè)的柵極驅(qū)動(dòng)電路區(qū)300、以及位于顯示區(qū)200右側(cè)的數(shù)據(jù)驅(qū)動(dòng)電路區(qū)400。
具有相同圖形的多個(gè)像素以矩陣形式布置在顯示區(qū)200中，且具有相同圖形的多個(gè)電路重復(fù)地布置在柵極驅(qū)動(dòng)電路區(qū)300和數(shù)據(jù)驅(qū)動(dòng)電路區(qū)400內(nèi)。
以液晶顯示器的圖形為基礎(chǔ)，在限定照射范圍的同時(shí)對(duì)基板進(jìn)行曝光。
在曝光過(guò)程中，如圖1所示，基板100分成中心部分I、左側(cè)部分II和右側(cè)部分III，且對(duì)相應(yīng)的三個(gè)部分引入三個(gè)不同的掩模圖形，以進(jìn)行照射。三個(gè)掩模圖形形成在一個(gè)掩模上。因此，對(duì)大尺寸基板100的曝光僅用一個(gè)掩模來(lái)進(jìn)行。
圖2是根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的用于制造液晶顯示器的掩模的示意性視圖，圖3是與圖2所示掩模對(duì)準(zhǔn)的用于液晶顯示器的基板的示意性視圖。
為了方便說(shuō)明，將示出液晶顯示器基板100形成在一個(gè)基板10上的情形。
如圖3所示，基板10分成中心部分I、左側(cè)部分II和右側(cè)部分III。第一照射利用第一掩模圖形M1對(duì)中心部分I進(jìn)行，第二照射利用第二掩模圖形M2對(duì)左側(cè)部分II進(jìn)行，第三照射利用第三掩模圖形M3對(duì)右側(cè)部分III進(jìn)行?；?0的暴露在第一至第三照射下的區(qū)域分別定義為第一照射區(qū)S1、第二照射區(qū)S2和第三照射區(qū)S3。
第一照射對(duì)基板10的中心部分I進(jìn)行三次。即，在第一照射區(qū)S1中存在左側(cè)第一照射子區(qū)S1L、中心第一照射子區(qū)S1O和右側(cè)第一照射子區(qū)S1R。
如圖2所示，第一至第三掩模圖形M1、M2和M3形成在一個(gè)掩模M上。由于第二和第三掩模圖形M2和M3形成得與第二和第三照射區(qū)S2和S3的大小相同，所以基板10的左側(cè)和右側(cè)部分II和III可以僅通過(guò)一次照射來(lái)構(gòu)圖。
由于第一掩模圖形M1的面積小于基板10的中心部分I，所以利用第一掩模圖形M1對(duì)中心部分I的照射進(jìn)行兩次或多次。優(yōu)選的是，第一掩模圖形M1的寬度設(shè)定為與中心部分I的寬度成恒比(constant proportion)。在此優(yōu)選實(shí)施例中，對(duì)中心部分I的第一照射進(jìn)行三次。
用于構(gòu)圖基板10的中心部分I的第一掩模圖形M1形成在掩模M的中心上，使得其包括了掩模M的中心線ML。用于構(gòu)圖基板10的左側(cè)部分II的第二掩模圖形M2位于第一掩模圖形M1的左側(cè)，使得其與第一掩模圖形M1的左側(cè)間隔第一距離d1。用于構(gòu)圖基板10的右側(cè)部分II的第三掩模圖形M3位于第一掩模圖形M1右側(cè)，使得其間隔第一掩模圖形M1的右側(cè)第二距離d2。
在對(duì)準(zhǔn)儀中使用的掩模中，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記應(yīng)當(dāng)相對(duì)于掩模中心彼此對(duì)稱形成。在此優(yōu)選實(shí)施例中，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成在位于掩模M中心的第一掩模圖形M1中，其中存在中心線ML。
一對(duì)第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖形①和①’相對(duì)于中心線ML彼此對(duì)稱地形成在掩模M的中心線ML的左側(cè)和右側(cè)。此外，一對(duì)第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖形②和②’形成在第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖形①和①’的右側(cè)，并間隔第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖形①和①’第一距離d1。第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖形①和①’與第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖形②和②’之間的距離與第一掩模圖形M1和第二掩模圖形M2之間的距離相同。
一對(duì)第三對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖形③和③’形成在第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖形①和①’的左側(cè)，并間隔第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖形①和①’第二距離d2。第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖形①和①’與第三對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖形③和③’之間的距離與第一掩模圖形M1和第三掩模圖形M3之間的距離相同。
第一至第三對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖形①和①’、②和②’、以及③和③’也以與掩模M相同的方式形成在基板10上。第一至第三對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖形①和①’、②和②’、以及③和③’形成在相應(yīng)于基板10中心部分I的第一照射區(qū)S1中，使得它們與第一掩模圖形M1的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖形①和①’、②和②’、以及③和③’處于陰陽(yáng)結(jié)合的關(guān)系。在附圖中，各對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖形以不同的形狀顯示，即□、★和◇，但是此圖例僅是為了說(shuō)明方便而作出。即，各圖形可以以任意方式形成，例如相同的形狀。掩模和基板的彼此相應(yīng)的對(duì)準(zhǔn)圖形形成得它們彼此處于陰陽(yáng)結(jié)合的關(guān)系。
利用掩模和基板的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖形對(duì)基板10曝光的方法現(xiàn)在將參照?qǐng)D4A至4C以及圖2和3來(lái)說(shuō)明。
首先，如圖4A所示，第一照射利用第一掩模圖形M1對(duì)位于基板10中心部分I的第一照射區(qū)域S1進(jìn)行。
掩模M除了第一掩模圖形M1外由對(duì)準(zhǔn)儀的掩蔽葉片11至14遮蔽，掩模M和基板10通過(guò)將第一掩模圖形M1的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記①和①’與第一照射區(qū)S1中的一個(gè)子區(qū)中形成的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記①和①’結(jié)合來(lái)彼此對(duì)準(zhǔn)。
其后，對(duì)基板10進(jìn)行照射。
然后移動(dòng)基板10，使得其通過(guò)將第一掩模圖形M1的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記①和①’與第一照射區(qū)S1中的另一子區(qū)中形成的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記①和①’結(jié)合而與掩模M對(duì)準(zhǔn)。
對(duì)基板10進(jìn)行照射。
以此方式，對(duì)第一照射區(qū)S1的多個(gè)子區(qū)進(jìn)行第一照射，從而對(duì)基板10的中心部分I進(jìn)行曝光。
如圖4B所示，使用第二掩模圖形M2對(duì)位于基板10的左側(cè)部分II的第二照射區(qū)S2進(jìn)行第二照射。
掩模M和基板10通過(guò)將第一掩模圖形M1的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記①和①’與第一照射區(qū)S1的左側(cè)第一照射子區(qū)S1L中形成的第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記②和②’結(jié)合而彼此對(duì)齊，該左側(cè)第一照射子區(qū)S1L與基板10的第二照射區(qū)S2直接相鄰。
由于掩模M的第一對(duì)準(zhǔn)圖形①和①’與第二掩模圖形M2的右側(cè)之間的距離與基板10的左側(cè)第一照射子區(qū)S1L中的第二對(duì)準(zhǔn)圖形②和②’和第二照射區(qū)S2的右側(cè)之間的距離相同，所以除照射邊界區(qū)域上的雙重曝光部分外，掩模M的第二掩模圖形M2與基板10的第二照射區(qū)S2準(zhǔn)確符合。
然后，掩模M除第二掩模圖形M2外由對(duì)準(zhǔn)儀的掩蔽葉片11至14遮蔽，并且對(duì)基板10進(jìn)行照射。
如圖4C所示，使用第三掩模圖形M3對(duì)位于基板10的右側(cè)部分III的第三照射區(qū)S3進(jìn)行第三照射。
掩模M和基板10通過(guò)將第一掩模圖形M1的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記①和①’與第一照射區(qū)S1的右側(cè)第一照射子區(qū)S1R中形成的第三對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記③和③’結(jié)合而彼此對(duì)齊，該右側(cè)第一照射子區(qū)S1R與基板10的第三照射區(qū)S3直接相鄰。
由于掩模M的第一對(duì)準(zhǔn)圖形①和①’與第三掩模圖形M3的左側(cè)之間的距離與基板10的右側(cè)第一照射子區(qū)S1R中的第三對(duì)準(zhǔn)圖形③和③’和第三照射區(qū)S3的左側(cè)之間的距離相同，所以除照射邊界區(qū)域上的雙重曝光部分外，掩模M的第三掩模圖形M3與基板10的第三照射區(qū)準(zhǔn)確符合。
然后，掩模M除第三掩模圖形M3外由對(duì)準(zhǔn)儀的掩蔽葉片11至14遮蔽，并且對(duì)基板10進(jìn)行照射。
如上所述，第一至第三掩模圖形、以及第一至第三對(duì)準(zhǔn)圖形形成在一個(gè)大尺寸掩模上。形成在基板和掩模上的對(duì)準(zhǔn)圖形間的距離建立得與掩模圖形之間的距離一致。對(duì)準(zhǔn)圖形用于在曝光時(shí)進(jìn)行所需的交互照射對(duì)準(zhǔn)。以此方式，可防止由于交互照射錯(cuò)對(duì)導(dǎo)致的接縫錯(cuò)誤。
雖然本發(fā)明已經(jīng)參照優(yōu)選實(shí)施例得以詳細(xì)描述，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解，在不超出本發(fā)明的由所附權(quán)利要求所確定的精神和范圍的情形下，可對(duì)其作各種變化和替代。
權(quán)利要求
1.一種利用基板制造液晶顯示器的掩模，該掩模包括具有中心線的位于基板中心的第一掩模圖形，以對(duì)基板中心進(jìn)行曝光；位于第一掩模圖形左側(cè)的第二掩模圖形，以對(duì)基板左側(cè)進(jìn)行曝光，第二掩模圖形與第一掩模圖形相隔第一距離；以及位于第一掩模圖形右側(cè)的第三掩模圖形，以對(duì)基板右側(cè)進(jìn)行曝光，第三掩模圖形與第一掩模圖形間隔第二距離。
2.如權(quán)利要求1所述的掩模，其中，用于曝光的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成在第一掩模圖形上。
3.如權(quán)利要求2所述的掩模，其中，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成有位于掩模中心線左側(cè)和右側(cè)彼此相對(duì)于掩模中心線對(duì)稱的一對(duì)第一對(duì)準(zhǔn)圖形、位于第一對(duì)準(zhǔn)圖形右側(cè)并與第一對(duì)準(zhǔn)圖形間隔第一距離的一對(duì)第二對(duì)準(zhǔn)圖形、以及位于第一對(duì)準(zhǔn)圖形左側(cè)并與第一對(duì)準(zhǔn)圖形間隔第二距離的一對(duì)第三對(duì)準(zhǔn)圖形。
4.一種對(duì)用于液晶顯示器的基板曝光的方法，該方法包括步驟制備劃分為中心部分、左側(cè)部分和右側(cè)部分的基板；制備具有第一至第三掩模圖形的掩模，第一掩模圖形置于基板中心，具有一中心線，以對(duì)基板中心部分曝光，第二掩模圖形位于第一掩模圖形左側(cè)以對(duì)基板左側(cè)曝光，并間隔第一掩模圖形左側(cè)第一距離，第三掩模圖形位于第一掩模圖形右側(cè)以對(duì)基板右側(cè)曝光，并間隔第一掩模圖形右側(cè)第二距離；將掩模和基板彼此對(duì)準(zhǔn)；以及利用掩模，以不連續(xù)的方式對(duì)基板的中心部分、左側(cè)部分和右側(cè)部分進(jìn)行曝光。
5.如權(quán)利要求4所述的方法，其中，第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成在掩模的第一掩模圖形上，第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成在基板的中心部分上，使得第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記匹配。
6.如權(quán)利要求5所述的方法，其中，第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成有位于掩模中心線左側(cè)和右側(cè)彼此相對(duì)于掩模中心線對(duì)稱的一對(duì)第一對(duì)準(zhǔn)圖形、位于第一對(duì)準(zhǔn)圖形右側(cè)并與第一對(duì)準(zhǔn)圖形間隔第一距離的一對(duì)第二對(duì)準(zhǔn)圖形、以及位于第一對(duì)準(zhǔn)圖形左側(cè)并與第一對(duì)準(zhǔn)圖形間隔第二距離的一對(duì)第三對(duì)準(zhǔn)圖形。
7.如權(quán)利要求6所述的方法，其中，掩模與基板的對(duì)準(zhǔn)通過(guò)將第一掩模圖形的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與基板的第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記合并來(lái)進(jìn)行，且對(duì)基板中心部分的曝光利用第一掩模圖形進(jìn)行。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，其中，在除了第一掩模圖形外，利用曝光裝置的遮光部件將掩模和基板遮蔽的同時(shí)，進(jìn)行利用掩模對(duì)基板的曝光。
9.如權(quán)利要求6所述的方法，其中，掩模與基板的對(duì)準(zhǔn)通過(guò)將第一掩模圖形的第一對(duì)準(zhǔn)圖形與基板的第二對(duì)準(zhǔn)圖形合并來(lái)進(jìn)行，且對(duì)基板左側(cè)部分的曝光利用第二掩模圖形來(lái)進(jìn)行。
10.如權(quán)利要求9所述的方法，其中，在除了第二掩模圖形外，利用曝光裝置的遮光部件將掩模和基板遮蔽的同時(shí)，進(jìn)行利用掩模對(duì)基板的曝光。
11.如權(quán)利要求6所述的方法，其中，掩模與基板的對(duì)準(zhǔn)通過(guò)將第一掩模圖形的第一對(duì)準(zhǔn)圖形與基板的第三對(duì)準(zhǔn)圖形合并來(lái)進(jìn)行，且對(duì)基板右側(cè)部分的曝光利用第三掩模圖形來(lái)進(jìn)行。
12.如權(quán)利要求11所述的方法，其中，在除了第三掩模圖形外，利用曝光裝置的遮光部件將掩模和基板遮蔽的同時(shí)，進(jìn)行利用掩模對(duì)基板的曝光。
全文摘要
一種用于利用基板制造液晶顯示器的掩模，包括具有中心線的位于基板中心的第一掩模圖形，以對(duì)基板中心進(jìn)行曝光。第二掩模圖形位于第一掩模圖形左側(cè)，以對(duì)基板左側(cè)進(jìn)行曝光。該第二掩模圖形與第一掩模圖形相距第一距離。第三掩模圖形位于第一掩模圖形右側(cè)，以對(duì)基板右側(cè)進(jìn)行曝光。第三掩模圖形與第一掩模圖形相距第二距離。
文檔編號(hào)G03F1/42GK1524202SQ02802928
公開(kāi)日2004年8月25日 申請(qǐng)日期2002年3月4日 優(yōu)先權(quán)日2001年8月27日
發(fā)明者卓英美, 樸云用, 洪雯杓, 李庭鎬 申請(qǐng)人:三星電子株式會(huì)社