專(zhuān)利名稱(chēng)：：曝光方法及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明是有關(guān)于將曝光用屏蔽(mask)(以下稱(chēng)“屏蔽”)的圖案曝光于感光材的曝光方法及裝置，尤其是有關(guān)于在制造半導(dǎo)體集成電路、液晶顯示裝置、撓性印刷電路基板等的光蝕刻(photolithography)制程所用的曝光技術(shù)，以及適用于作為印刷制版用掃描裝置、電子復(fù)印裝置等所用的曝光技術(shù)的曝光方法及裝置。
背景技術(shù)：
：在用于例如半導(dǎo)體集成電路、液晶顯示裝置等的制造過(guò)程之一的光蝕刻制程中的曝光裝置上，有一種采用成像光學(xué)系統(tǒng)而將屏蔽的圖案曝光于感光材的投影曝光裝置。舉此種投影曝光裝置的一例而言，則有一種在用以支持屏蔽的托架(holder)與用以支持感光材的平臺(tái)(stage)之間配置成像光學(xué)系統(tǒng)的曝光裝置。在這投影曝光裝置中，在用作為成像光學(xué)系統(tǒng)的成像裝置具有較大的尺寸時(shí)，托架(holder)與平臺(tái)(stage)將被大幅隔開(kāi)而配置。因此，用以平行保持托架與平臺(tái)的機(jī)構(gòu)、用以調(diào)整平臺(tái)對(duì)于托架位置的機(jī)構(gòu)、用以使托架或平臺(tái)移動(dòng)的機(jī)構(gòu)等所需的尺寸、各種的精密度以及制造費(fèi)用將大為增加。此外，在此投影曝光裝置中，是聲光學(xué)系統(tǒng)的空間內(nèi)的上方配置托架，又在下方配置平臺(tái)。因此，會(huì)產(chǎn)生必須經(jīng)?？紤]光學(xué)系統(tǒng)、托架以及平臺(tái)相互間配置關(guān)系而進(jìn)行設(shè)計(jì)裝置的麻煩情況。為了解決上述麻煩情況，以往有例如支持于同一平臺(tái)使屏蔽與感光材的各個(gè)被光入射的面能位于同一平面內(nèi)，并令來(lái)自曝光用光源的光入射至屏蔽，使來(lái)自屏蔽的透過(guò)光憑借成像光學(xué)系統(tǒng)成像于感光材的投影曝光裝置(例如美國(guó)專(zhuān)利第5,652,645號(hào)說(shuō)明書(shū))。在后者的投影曝光裝置中，具有例如不再需要在夾置成像光學(xué)系統(tǒng)而將屏蔽與感光材配置成垂直方向時(shí)所需用以保持平行度、位置調(diào)整以及移動(dòng)的機(jī)構(gòu)，并可予以簡(jiǎn)化的優(yōu)點(diǎn)，以及具有可減少曝光裝置在垂直方向所需的空間的優(yōu)點(diǎn)。但是，在后者的投影曝光裝置中，在例如為制作較大的液晶面板而于較大的玻璃基板使屏蔽的圖案曝光在形成為膜狀的感光材時(shí)，將會(huì)有需要具有與所使用的屏蔽及感光材相符尺寸的平臺(tái)，而使所需空間增大的問(wèn)題。此外，如欲使具有較大尺寸的平臺(tái)高速移動(dòng)，則會(huì)有需要配合平臺(tái)的重量或慣性等的麻煩情況發(fā)生。再者，在欲獲得高曝光精密度例如較深的焦點(diǎn)深度而采用具有較大尺寸的成像光學(xué)系統(tǒng)時(shí)，必須將屏蔽與感光材大幅隔開(kāi)而配置在平臺(tái)。為了避免此點(diǎn)，而例如將成像光學(xué)系統(tǒng)配置在曝光裝置內(nèi)以使光在該成像光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)能以垂直方向行進(jìn)時(shí)，則會(huì)產(chǎn)生因垂直方向所需空間增大而造成從屏蔽到感光材的光路長(zhǎng)度將增大等問(wèn)題。本發(fā)明的目的，是在于將用以支持屏蔽以及感光材所需的空間更為縮小。
發(fā)明內(nèi)容有關(guān)本發(fā)明的曝光方法，是一種使曝光用屏蔽的圖案曝光于感光材的方法，包括使來(lái)自曝光用光源的光的至少一部分，入射至支持于支持裝置的前述屏蔽的入射步驟；以及引導(dǎo)來(lái)自前述屏蔽的反射光，使其成像在支持于前述支持裝置的前述感光材，從與光源的光入射到前述屏蔽的入射方向不同的方向接收該反射光的成像步驟。有關(guān)本發(fā)明的曝光裝置，是一種使曝光用屏蔽的圖案曝光于感光材的裝置，包括具備支持前述屏蔽使接收來(lái)自曝光用光源的光的至少一部分的第1支持部；以及支持前述感光材從與光源的光入射于前述屏蔽的入射方向不同的方向接收來(lái)自前述屏蔽的反射光的第2支持部的支持裝置；配置在前述光源與前述屏蔽間的光路，使來(lái)自前述光源的光的至少一部分通過(guò)，并同時(shí)改變來(lái)自前述屏蔽的反射光的行進(jìn)方向的半透明鏡(halfmirror)；以及引導(dǎo)來(lái)自前述半透明鏡的反射光成像于前述感光材的成像光學(xué)裝置。依據(jù)本發(fā)明，來(lái)自屏蔽的反射光，是被引導(dǎo)從與光對(duì)于屏蔽的入射方向不同的方向入射而成像于感光材。換言之，光對(duì)于屏蔽的入射方向與來(lái)自屏蔽的反射光對(duì)于感光材的入射方向并不相同。此外，并未如現(xiàn)有技術(shù)一般，使屏蔽與感光材支持于同一平臺(tái)使各個(gè)被光入射的面能位于同一平面內(nèi)。因此，憑借適當(dāng)?shù)剡x擇來(lái)自屏蔽的反射光對(duì)于感光材的入射方向，以使其與光對(duì)于屏蔽的入射方向不同，并例如置換光對(duì)于屏蔽的入射方向與來(lái)自屏蔽的反射光對(duì)于感光材的入射方向，即可使支持屏蔽以及感光材所需的空間縮小。曝光方法，更可包括使對(duì)于前述屏蔽的入射光以及對(duì)于前述感光材的入射光，與前述支持裝置相對(duì)地以2維方向移動(dòng)的移動(dòng)步驟。借此，即可使與曝光有關(guān)的光與屏蔽以及感光材相對(duì)地方以2次元移動(dòng)而曝光，并可采用小面積的照射領(lǐng)域以作為曝光用的照射領(lǐng)域，故可使光源裝置以及成像光學(xué)系統(tǒng)更為小型化。前述成像步驟，可包括使來(lái)自前述屏蔽的反射光，通過(guò)配置在前述光源與前述屏蔽之間的光路的半透明鏡(halfmirror)，而改變前述反射光的行進(jìn)方向的變更方向步驟；以及使在前述變更方向步驟被變更行進(jìn)方向的變更光通過(guò)數(shù)個(gè)反射鏡以及至少1個(gè)成像透鏡，而變更該變更光的行進(jìn)方向并同時(shí)使前述感光材成像的步驟。借此，可使來(lái)自曝光用光源的光的至少一部分入射至屏蔽并同時(shí)可改變來(lái)自屏蔽的反射光的行進(jìn)方向。此外，可易于調(diào)換光的對(duì)于屏蔽的入射方向與來(lái)自半透明鏡(halfmirror)的反射光對(duì)于感光材的入射方向，且可使支持屏蔽以及感光材所需的空間縮小。前述成像步驟，更可包括配置在前述半透明鏡(halfmirror)與前述感光材之間的光路的棱鏡，該棱鏡是具有供光入射的光入射用的面以及使所入射的光逸出的光出射用的面，而改變?nèi)肷渲燎笆龉馊肷溆玫拿娴墓獾闹辽僖徊糠值男羞M(jìn)方向。借此，可采用具有較小尺寸的成像光學(xué)系統(tǒng)，并使整體曝光裝置大小的尺寸縮小。前述入射步驟，更可包括使入射光對(duì)于前述屏蔽的至少一部分，入射至與相對(duì)于前述屏蔽并對(duì)該屏蔽的光入射側(cè)的相反側(cè)的位置而支持于前述支持裝置的第2感光材。借此，即可在一次的曝光中使2個(gè)感光材曝光。前述成像光學(xué)裝置，是可具備配置在前述半透明鏡與前述感光材之間的光路的數(shù)個(gè)反射鏡以及至少1個(gè)成像透鏡。借此，可易于對(duì)調(diào)光的對(duì)于屏蔽的入射方向與來(lái)自半透明鏡的反射光對(duì)于感光材的入射方向，且可使支持屏蔽以及感光材所需的空間縮小。前述成像光學(xué)裝置，更可具備配置在前述半透明鏡(halfmirror)與前述感光材之間的光路的棱鏡，此棱鏡是具有供光入射的光入射用的面以及使所入射的光逸出的光出射用的面，而改變?nèi)肷渲燎笆龉馊肷溆玫拿娴墓獾闹辽僖徊糠值男羞M(jìn)方向。借此，即可形成具有較小尺寸的成像光學(xué)系統(tǒng)，并使整體曝光裝置大小的尺寸縮小。前述第1支持部也可作成將第2感光材支持于與相對(duì)于前述屏蔽并對(duì)該屏蔽的光入射側(cè)的相反側(cè)的位置。借此，即可在一次的曝光中使2個(gè)感光材曝光。圖1是表示本發(fā)明的曝光裝置的第1實(shí)施例的側(cè)面圖；圖2是表示本發(fā)明的曝光裝置的第2實(shí)施例的側(cè)面圖；圖3是表示采用圖2的曝光裝置進(jìn)行掃描曝光時(shí)的支持裝置的移動(dòng)；圖4是表示本發(fā)明的曝光裝置的第3實(shí)施例的側(cè)面圖；圖5是表示本發(fā)明的曝光裝置的第4實(shí)施例的側(cè)面圖。具體實(shí)施例方式參照?qǐng)D1進(jìn)行實(shí)施例。曝光裝置10，是包括用以支持屏蔽12與被曝光物14的支持裝置16；配置在光源裝置18與屏蔽12之間的光路的半透明鏡20；為使與半透明鏡20共同形成約略長(zhǎng)方形而配置在該長(zhǎng)方形的3個(gè)內(nèi)角的部分的3個(gè)反射鏡22、24、26；以及配置在反射鏡22與反射鏡24之間的光路的成像系統(tǒng)28。在以下說(shuō)明的圖1中，將上下方向稱(chēng)為“上下方向”，左右方向稱(chēng)為“左右方向”，對(duì)紙面垂直的方向稱(chēng)為“前后方向”，由紙面的表面往背面的方向稱(chēng)為前方，由紙片的背面往表面的方向稱(chēng)為“后方”。光源裝置18，是具有光源30與凹面鏡32，其配置在支持裝置16的屏蔽12被支持的位置的大略上方。來(lái)自光源30的光的至少一部分是形成為平行的光束A。以光源30而言，是例如可采用超高壓水銀燈。以屏蔽12而言，是例如可采用具有光透過(guò)性的玻璃基材以及在該基材的至少其中一面形成預(yù)定圖案的光反射性的金屬膜的屏蔽。以被曝光物14而言，是例如可采用具有基材以及形成于該基材的感光層的被曝光物。在圖1中，被曝光物14是具有與屏蔽12大約相同大小的尺寸。支持裝置16是設(shè)成將屏蔽12承接于上側(cè)支持部34并使其金屬膜朝向上方，并以未圖標(biāo)的上側(cè)安裝裝置將該屏蔽安裝于上側(cè)支持部34成可以卸除。此外，支持裝置16是設(shè)成將被曝光物14承接于下側(cè)支持部36并使其感光層朝向下方，并以未圖標(biāo)的下側(cè)安裝裝置將該被曝光物安裝于下側(cè)支持部36位于屏蔽12的大約下方并且可以卸除。如上所述，如將被曝光物14位于屏蔽12的大約下方，則與例如將屏蔽12以及被曝光物14均安裝于支持裝置16的上方側(cè)情況相比較，支持裝置的左右方向的尺寸較小。半透明鏡(halfmirror)20，最典型的為包含平板狀的玻璃基材以及以蒸鍍形成在該基材的金屬或電介質(zhì)的薄膜，因應(yīng)入射光的入射方向及入射角度而使入射光的至少一部分穿透過(guò)，并將剩余的至少一部分予以反射。半透明鏡20，是配置在光源裝置18與屏蔽12之間的光路，使其對(duì)于幾乎呈直角入射至屏蔽12的光束A成為大約45度。半透明鏡20，是使來(lái)自光源30的光的至少一部分穿透而導(dǎo)入至屏蔽12，并將來(lái)自屏蔽12的反射光予以反射，以使其行進(jìn)方向由箭頭C的方向轉(zhuǎn)變成對(duì)箭頭D的方向，即對(duì)箭頭C的方向幾乎成為直角。反射鏡22、24、26，是對(duì)于來(lái)自半透明鏡20的反射光，依序地將該行進(jìn)方向變成大約直角，并將其引導(dǎo)成對(duì)被曝光物14的光束E。成像透鏡28，是使來(lái)自反射鏡22的反射光，成像于被曝光物14的感光層(將成像光的概念性的光路以虛線F、G、I、J與K表示)，以使屏蔽12的圖案能以相同倍率復(fù)印至曝光物14的感光層。其次，就憑借曝光裝置10而能1次使屏蔽12的整體圖案曝光的所謂的一次性曝光的曝光方法進(jìn)行說(shuō)明。在曝光之前，先將屏蔽12與被曝光物14安裝在支持裝置16。憑借操作曝光裝置10的未圖標(biāo)的控制面板，將激活信號(hào)輸出至未圖標(biāo)的控制裝置。接收激活信號(hào)的控制裝置，對(duì)光源裝置18傳送發(fā)光開(kāi)始信號(hào)。接收發(fā)光開(kāi)始信號(hào)的光源裝置18，使光源30發(fā)光預(yù)定時(shí)間，并以凹面鏡32將所發(fā)光的光予以反射而產(chǎn)生光束A。半透明鏡20，是使光束A的至少一部份穿透過(guò)。透過(guò)光是向箭頭B的方向行進(jìn)并入射至屏蔽12。入射于屏蔽12的入射光的至少一部份，是由屏蔽12的金屬膜反射，并大致向箭頭C的方向行進(jìn)。半透明鏡20，是使來(lái)自屏蔽12的反射光變換為相對(duì)于箭頭D的方向，即相對(duì)于箭頭C的方向大致成直角，再引導(dǎo)至反射鏡22。反射鏡22，是使來(lái)自半透明鏡20的反射光的行進(jìn)方向變換成大致直角再引導(dǎo)至成像透鏡28。成像透鏡28，將來(lái)自反射鏡22的反射光成像于被曝光物14的感光層再引導(dǎo)至反射鏡24。反射鏡24將來(lái)自成像透鏡28的光的行進(jìn)方向變換成大致直角再引導(dǎo)至反射鏡26。反射鏡26將來(lái)自反射鏡24的反射光，引導(dǎo)成對(duì)被曝光物14的感光層的光束E。被引導(dǎo)至被曝光物14的感光層的光是成像于該感光層，借此，屏蔽12的圖案即復(fù)印在被曝光物14的感光層。在曝光結(jié)束后，將被曝光物14由支持裝置16卸除。之后，進(jìn)行被曝光物14的感光層的顯像處理。入射至屏蔽12的光束A以及入射至被曝光物14的感光層的光束E的光軸是約位于同一線上，光束剖面積大致相等，并由于光入射方向相反，故可將屏蔽12配置成使光束A入射至該屏蔽，并將被曝光物14配置成使光束E入射至該被曝光物。如上所述，如果將屏蔽12以及被曝光物14背靠背地安裝在支持裝置16，則不會(huì)產(chǎn)生如現(xiàn)有的曝光技術(shù)般，在例如將屏蔽以及被曝光物均支持于支持裝置的上方側(cè)的曝光技術(shù)時(shí)所發(fā)生的屏蔽與被曝光物間的距離需要與成像尺寸大小關(guān)連的問(wèn)題，且可將支持屏蔽以及被曝光物所需的面積予以最小化。在憑借曝光裝置10的曝光下，屏蔽12的圖像，是被以左右方向倒置的圖像復(fù)印至被曝光物14的感光層。因此，屏蔽12必須考慮此左右倒置關(guān)系進(jìn)行設(shè)計(jì)。即屏蔽12對(duì)于原先期望的圖案，需預(yù)先制作成左右倒置的圖案。曝光裝置10，并不以前述的構(gòu)成為限，也可以變更如下。在有關(guān)于被曝光物14對(duì)于下側(cè)支持部36的安裝上，亦可例如于下側(cè)支持部36采用具有用以吸引被曝光物14的數(shù)個(gè)吸著孔或溝的吸著用支持板，以憑借未圖標(biāo)的吸引裝置將被曝光物14吸著固定。為使被曝光物14能以高精密度對(duì)準(zhǔn)屏蔽12，而可使例如XYθ平臺(tái)(table)之類(lèi)的位置調(diào)整裝置安裝于下側(cè)支持部36，并使被曝光物14安裝于該位置調(diào)整位置。上面雖就成像透鏡28作為單一的透鏡進(jìn)行了說(shuō)明，但也可例如因分辨率而采用數(shù)個(gè)透鏡。以數(shù)個(gè)透鏡而言，例如可采用圖像擴(kuò)大倍率為1對(duì)1的遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)(telecentricopticalsystem)。成像透鏡28，是可配置成使屏蔽12的反射光成像于被曝光物14的感光層。也可適當(dāng)變更成像透鏡28的透鏡構(gòu)成的設(shè)計(jì)，使成像透鏡28配置于半透明鏡20與被曝光物14之間的光路的其中之一的位置。在有關(guān)成像透鏡28方面，也可變成像透鏡28的配置及透鏡構(gòu)成，使屏蔽12的圖案以擴(kuò)大倍率或縮小倍率復(fù)印在被曝光物14的感光層。光源裝置18也可配置成使光束A大約垂直入射至屏蔽12。此外，也可將光源裝置18配置在支持裝置16的斜上方及側(cè)方，并以反射鏡或照明光學(xué)系統(tǒng)等的導(dǎo)光系統(tǒng)，將來(lái)自光源30的光引導(dǎo)而使其大約垂直入射至屏蔽12。為了防止入射光對(duì)于屏蔽12的光透過(guò)部分(未形成金屬膜的部分)的例如回饋光所導(dǎo)致的曝光不良，可將光吸收構(gòu)件置于與屏蔽12的光入射側(cè)的相反側(cè)，以及與上側(cè)支持部之間。以屏蔽12而言，為了防止不必要的光所導(dǎo)致的曝光不良，可采用例如形成有光吸收層的屏蔽。以被曝光物14而言，也可采用具有有導(dǎo)電性的可撓性的薄膜基板與形成在該基板的感光層的被曝光物。在當(dāng)薄膜基板例如為帶狀薄膜時(shí)，可采用使帶狀薄膜移動(dòng)的機(jī)構(gòu)，以變更帶狀薄膜的屏蔽12的圖案被曝光的位置。在圖2中，對(duì)于圖1所示曝光裝置10與共通的部分是賦予相同符號(hào)外，并省略共通部分的一部分。此外，在圖2中的上下方向、左右方向、前后方向、前方與后方，也與圖1情況相同。參照?qǐng)D2，曝光裝置38，是為使光與屏蔽12以及被曝光物14相對(duì)地2次元移動(dòng)而曝光，亦即施以所謂掃描曝光的裝置。光源裝置40，是為產(chǎn)生形成有光束剖面的光源光，使照射于較小的領(lǐng)域(例如具有約20mm的徑尺寸的圓形領(lǐng)域)的裝置。可采用具有圓形狀或六角形狀等照射領(lǐng)域，以作為此種光源光的照射領(lǐng)域。支持裝置16，是使屏蔽12以及被曝光物14與圖1所示曝光裝置10同樣地被支持。支持裝置16，是安裝于未圖標(biāo)的XY驅(qū)動(dòng)裝置，與該XY驅(qū)動(dòng)裝置一體移動(dòng)。支持裝置16，是以XY驅(qū)動(dòng)裝置向前后方向以及左右方向移動(dòng)。在曝光裝置38上，是使成像透鏡42配置于半透明鏡20與反射鏡22之間的光路，并使成像透鏡44配置在反射鏡24與反射鏡26之間的光路。成像透鏡42，是使來(lái)自于半透明鏡20的反射光成像于反射鏡22與反射鏡24之間的光路中的位置P，而成像透鏡44，則是使來(lái)自反射鏡24的反射光成像于被曝光物14的感光層(以虛線顯示成像光的概念性的光路)，使屏蔽12的圖案以等倍率復(fù)印至被曝光物14的感光層。來(lái)自屏蔽12的反射光，在成像于位置P的后，更成像于被曝光物14的感光層。成像于位置P的光所產(chǎn)生的影像，在位置P放置例如網(wǎng)版(screen)材，則在該網(wǎng)板材將映照出實(shí)象。在曝光裝置38上，對(duì)于屏蔽12的入射光與對(duì)于被曝光物的入射光，其光軸也大致位于同一線上，光入射方向呈相反。此外，在采用曝光裝置38的曝光上，屏蔽12的圖像，是被以左右方向倒置的圖像復(fù)印至被曝光物14的感光層。因此，屏蔽12必須考慮此左右倒置關(guān)是進(jìn)行設(shè)計(jì)。即屏蔽12對(duì)于原先期望的圖案，需預(yù)先制作成左右倒置的圖案。其次，參照?qǐng)D2以及圖3，以說(shuō)明憑借曝光裝置38，以使光與屏蔽12以及被曝光物14相對(duì)地2次元移動(dòng)而曝光即施以所謂掃描曝光的曝光方法。在曝光之前，先使屏蔽12與被曝光物14安裝在支持裝置16。此外，如圖3所示，預(yù)先使支持裝置16憑借XY驅(qū)動(dòng)裝置移動(dòng)，使光源光的照射領(lǐng)域Q位于接收屏蔽12的支持裝置16的上側(cè)支持部34的開(kāi)始位置S。在曝光時(shí)，憑借同時(shí)施以將光源光照射至屏蔽12并以光學(xué)系統(tǒng)而將來(lái)自屏蔽12的反射光引導(dǎo)至被曝光物而曝光的制程；以及以XY驅(qū)動(dòng)裝置使支持裝置16大約平行移動(dòng)于XY平面的制程以進(jìn)行掃描曝光。其詳細(xì)內(nèi)容說(shuō)明如下。光源裝置40是憑借曝光開(kāi)始信號(hào)而產(chǎn)生光源光。與圖1所示曝光裝置10的曝光相同，光源光是透過(guò)半透明鏡20照射至屏蔽12，而來(lái)自屏蔽12的反射光，則是憑借半透明鏡20以及反射鏡22、24、26而引導(dǎo)至被曝光物14的感光層。在采用曝光裝置38的曝光時(shí)，來(lái)自屏蔽12的反射光，是采用成像透鏡42、44而成像于被曝光物14的感光層。另一方面，XY驅(qū)動(dòng)裝置是以預(yù)定的速度使支持裝置16僅移動(dòng)距離M1，使位于開(kāi)始位置S的光源光的照射領(lǐng)域Q相對(duì)于屏蔽12朝圖3箭頭L1的方向僅相對(duì)地移動(dòng)距離M1。此距離M1，是設(shè)定成較屏蔽12的前后方向的長(zhǎng)度，例如圓形的照射領(lǐng)域Q的直徑尺寸的至少2倍長(zhǎng)。憑借此支持裝置16向后方的移動(dòng)而使屏蔽12被掃描同時(shí)并達(dá)到照射領(lǐng)域。當(dāng)照射領(lǐng)域Q超過(guò)屏蔽12而到達(dá)形成為上側(cè)支持部34上的位置S1時(shí)，XY驅(qū)動(dòng)裝置是以預(yù)定的速度使支持裝置16僅移動(dòng)距離M2，使照射領(lǐng)域Q相對(duì)于屏蔽12朝圖3箭頭L2的方向僅相對(duì)地移動(dòng)距離M2。此距離M2，是依照射領(lǐng)域Q的大小的尺寸而預(yù)先設(shè)定。再者，XY驅(qū)動(dòng)裝置是使支持裝置16僅向前方移動(dòng)距離M1，并使支持裝置16僅向左方移動(dòng)距離M2。此時(shí)，照射領(lǐng)域Q是位于位置S2。XY驅(qū)動(dòng)裝置在照射領(lǐng)域Q到達(dá)終了位置T的前，即在光源光對(duì)于整面屏蔽12的照射結(jié)束之前，是反復(fù)前述的驅(qū)動(dòng)而使支持裝置16移動(dòng)。借此，以使屏蔽12的整面圖案被曝光于被曝光物14的感光層。在憑借曝光裝置38的掃描曝光時(shí)，雖是以移動(dòng)支持裝置16進(jìn)行掃描曝光，但也可以使光學(xué)系統(tǒng)側(cè)以及光源裝置40、半透明鏡20、反射鏡22、24、26以及成像透鏡42、44，對(duì)于支持裝置16以2次元相對(duì)地移動(dòng)以進(jìn)行掃描曝光而形成一體成形者，而毋須移動(dòng)支持裝置16。在圖4中，對(duì)于圖1及圖2所示曝光裝置10及38與共通的部分是賦予相同符號(hào)外，并省略共通部分的一部分。此外，在圖4中的上下方向、左右方向、前后方向、前方與后方，也與圖1及圖2情況相同。參照?qǐng)D4，在曝光裝置46上，支持裝置16也使屏蔽12及被曝光物14與圖1所示曝光裝置10同樣地被支持。支持裝置16，是以未圖標(biāo)的XY驅(qū)動(dòng)裝置向前后方向及左右方向移動(dòng)。來(lái)自半透明鏡20的反射光，可憑借反射鏡48、50改變行進(jìn)方向以引導(dǎo)至成像透鏡52。來(lái)自半透明鏡20的反射光，是可憑借透過(guò)反射鏡48及50，將其行進(jìn)方向改變?yōu)榇蠹s直角而到達(dá)成像透鏡52。成像透鏡52，是使來(lái)自反射鏡50的反射光成像于被曝光物14的感光層，使屏蔽12的圖案以等倍率復(fù)印至被曝光物14的感光層。在曝光裝置46上，是使達(dá)哈棱鏡54配置在成像透鏡52與反射鏡26之間的光路，使接收來(lái)自成像透鏡52的光并引導(dǎo)該光至反射鏡26。達(dá)哈棱鏡54也被稱(chēng)為屋脊形棱鏡或直視棱鏡的棱鏡。有關(guān)于達(dá)哈棱鏡的原理及構(gòu)造等，是載于例如鶴田匡夫所著《第5·光的鉛筆》(2000年3月9日發(fā)行)、新技術(shù)Communications股份有限公司發(fā)行、第474頁(yè)至第476頁(yè)；小柳修爾所著《Optronics光技術(shù)用語(yǔ)辭典》(1994年1月18日第1版第1刷)、Optronics社股份有限公司發(fā)行、第5頁(yè)左欄；辻內(nèi)順平所著理工學(xué)基礎(chǔ)講座11《光學(xué)概論I-基礎(chǔ)與幾何光學(xué)》(1989年7月10日初版第7刷)、朝倉(cāng)書(shū)店股份有限公司發(fā)行、第60頁(yè)至第62頁(yè)等。一般而言，達(dá)哈棱鏡是在望遠(yuǎn)鏡變換光行進(jìn)方向使倒立像變換成正立像以作為正立系統(tǒng)，并改變對(duì)于達(dá)哈棱鏡的入射光的至少一部分行進(jìn)方向以導(dǎo)入其入射光使未經(jīng)直筒式棱鏡時(shí)所形成的像的上下(或天地)以及左右倒置的棱鏡。也可采用例如由數(shù)個(gè)直角棱鏡所構(gòu)成的1個(gè)波羅式棱鏡(Porroprism)，具有與達(dá)哈棱鏡54同樣的光行進(jìn)方向作用以取代達(dá)哈棱鏡54。來(lái)自達(dá)哈棱鏡54的光，是憑借反射鏡26引導(dǎo)至被曝光物14的感光層。其次，參照?qǐng)D4，以說(shuō)明憑借曝光裝置46所進(jìn)行掃描曝光的曝光方法。在憑借曝光裝置46的曝光方法中，也與憑借如圖2所示的曝光裝置38的曝光方法相同，是同時(shí)施以將來(lái)自屏蔽12的反射光引導(dǎo)至被曝光物14而曝光的制程；以及以XY驅(qū)動(dòng)裝置移動(dòng)支持裝置16的制程，以使屏蔽12的整面圖案曝光于被曝光物14的感光層。在曝光裝置46上因可使成像透鏡形成為1個(gè)，故曝光裝置46，與圖2所示曝光裝置38相比較之下較為小型。此外，曝光裝置46，由于用于此的成像系統(tǒng)更簡(jiǎn)單，故用以獲得與成像有關(guān)的分辨率及尺寸精度等的光學(xué)性能的光學(xué)設(shè)計(jì)更容易。在圖5中，對(duì)于圖1所示曝光裝置10與共通的部分賦予相同符號(hào)外，并省略共通部分的一部分，并以光線來(lái)表示光束。此外，在圖5中的上下方向、左右方向、前后方向、前方以及后方也與圖1的情況相同。參照?qǐng)D5，曝光裝置56，是具有用以支持被曝光物58的支持裝置60，使在1次曝光下即得以同時(shí)將被曝光物14以及第2被曝光物58予以曝光，而取代圖1所示曝光裝置10的支持裝置16。屏蔽12，是具有玻璃基材與形成預(yù)定圖案在該基材的光反射性的金屬膜的如屏蔽之類(lèi)的透過(guò)型的屏蔽。屏蔽12，是包含形成有金屬膜的光反射部分(光遮蔽部分)與未形成金屬膜的光透過(guò)部分。以被曝光物58而言，是例如可采用具有基材與形成在該基材的感光層的被曝光物。在圖5中，被曝光物14是具有與屏蔽12大約相同大小的尺寸。支持裝置60，是將被曝光物58承接在上側(cè)支持部62使感光層朝向上方，更將屏蔽12承接在其上方使金屬膜朝向上方或下方，并使被曝光物58以及屏蔽12憑借未圖標(biāo)的上側(cè)安裝裝置以可裝卸方式安裝在上側(cè)支持部62。上側(cè)安裝裝置，當(dāng)對(duì)于被曝光物58的曝光為密著曝光即接觸曝光時(shí)，可使屏蔽12安裝成放置在被曝光物58的構(gòu)造，或當(dāng)對(duì)于被曝光物58的曝光為靠近(proximity)曝光即近接曝光時(shí)，則可使屏蔽12與被曝光物58安裝成相互在圖5的上下方向具有距離的構(gòu)造。為使被曝光物58能以高精密度對(duì)準(zhǔn)屏蔽12，而可使僅有屏蔽12安裝在上側(cè)安裝裝置，例如使XYθ平臺(tái)(table)之類(lèi)的位置調(diào)整裝置安裝于上側(cè)支持部62，也可使被曝光物58安裝于該位置調(diào)整位置。支持裝置60，是使將曝光物14與圖1所示曝光裝置10的支持裝置16同樣地支持。其次，參照?qǐng)D5以說(shuō)明憑借曝光裝置56而進(jìn)行一次性曝光的曝光方法。被曝光物58的感光層，是憑借使透過(guò)半透明鏡20的光源光經(jīng)過(guò)屏蔽12的光透過(guò)部分而入射至被曝光物58的感光層而曝光。被曝光物14的感光層，則是憑借使來(lái)自屏蔽12的光反射部分的反射光被引導(dǎo)至被曝光物14的感光層而曝光。就有關(guān)于用作被曝光物14及58的各感光層的例如光阻(resist)進(jìn)行說(shuō)明。為使被曝光物14的感光層曝光而采用來(lái)自屏蔽12的反射光，而為使被曝光物58的感光層曝光則采用來(lái)自屏蔽12的透過(guò)光。憑借曝光被復(fù)印至被曝光物14的感光層的圖像以及與被復(fù)印至被曝光物58的感光層的圖像，是成為左右方向倒置的圖像。但是，有關(guān)于憑借曝光后的光阻顯像并以光阻的去除部分與非去除部分所形成的凹凸圖案的倒置，若將被曝光物14的感光層形成正光阻，或?qū)⒈黄毓馕?8的感光層形成負(fù)光阻，則不會(huì)產(chǎn)生。曝光裝置56，與圖1所示曝光裝置10相比較下，具有以1次曝光即可使2個(gè)被曝光物的感光層曝光的優(yōu)點(diǎn)。圖5所示支持裝置60，可用以取代圖2、圖4所示支持裝置16。本發(fā)明并不以上述實(shí)施例為限，只要不脫離發(fā)明主旨，也可作種種的修飾及變更。組件代表符號(hào)說(shuō)明10、38、46、56曝光裝置12屏蔽14、58被曝光物16、60支持裝置18、40光源裝置20半透明鏡22、24、26、48、50反射鏡28、42、44、52成像透鏡30光源32凹面鏡34、62上側(cè)支持部36、64下側(cè)支持部54直筒式棱鏡權(quán)利要求1.一種曝光方法，是使曝光用屏蔽的圖案曝光于感光材的方法，其特征在于，包括使來(lái)自曝光用光源的光的至少一部分，入射至支持于支持裝置的前述屏蔽的入射步驟；以及引導(dǎo)來(lái)自前述屏蔽的反射光從與光源的光入射于前述屏蔽的入射方向不同的方向接收該反射光，而在支持于前述支持裝置的前述感光材成像的成像步驟。2.如權(quán)利要求1所述的曝光方法，其特征在于，更包括使對(duì)于前述屏蔽的入射光以及對(duì)于前述感光材的入射光，與前述支持裝置相對(duì)地以2維方向移動(dòng)的移動(dòng)步驟。3.如權(quán)利要求1或2所述的曝光方法，其特征在于，前述成像步驟包括使來(lái)自前述屏蔽的反射光，通過(guò)配置在前述光源與前述屏蔽之間的光路的半透明鏡，而改變前述反射光的行進(jìn)方向的變更方向步驟；以及使在前述變更方向步驟被變更行進(jìn)方向的變更光通過(guò)數(shù)個(gè)反射鏡以及至少1個(gè)成像透鏡，而變更該變更光的行進(jìn)方向并同時(shí)在前述感光材成像的步驟。4.如權(quán)利要求3所述的曝光方法，其特征在于，前述成像步驟更包括配置在前述半透明鏡與前述感光材之間的光路的棱鏡，是具有供光的入射的光入射用的面以及使所入射的光射出的光出射用的面的棱鏡，而改變?nèi)肷渲燎笆龉馊肷溆玫拿娴墓獾闹辽僖徊糠值男羞M(jìn)方向。5.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)的曝光方法，其特征在于，前述入射步驟更包括使入射于前述屏蔽的入射光的至少一部分，入射至位于與相對(duì)于前述屏蔽并對(duì)該屏蔽的光入射側(cè)的相反側(cè)而支持于前述支持裝置的第2感光材。6.一種曝光裝置，是一種使曝光用屏蔽的圖案曝光于感光材的裝置，其特征在于，包括具備支持前述屏蔽使接收來(lái)自曝光用光源的光的至少一部分的第1支持部；以及支持前述感光材使從與入射光源的光于前述屏蔽的入射方向不同的方向接收來(lái)自前述屏蔽的反射光的第2支持部的支持裝置；配置在前述光源與前述屏蔽間的光路，使來(lái)自前述光源的光的至少一部分通過(guò)，并同時(shí)改變來(lái)自前述屏蔽的反射光的行進(jìn)方向的半透明鏡；以及引導(dǎo)來(lái)自前述半透明鏡的反射光成像于前述感光材的成像光學(xué)裝置。7.如權(quán)利要求6所述的曝光裝置，其特征在于，其中，前述成像光學(xué)裝置是具備配置在前述半透明鏡與前述感光材之間的光路的數(shù)個(gè)反射鏡以及至少1個(gè)成像透鏡。8.如權(quán)利要求7所述的曝光裝置，其特征在于，其中，前述成像光學(xué)裝置更具備配置在前述半透明鏡與前述感光材之間的光路的棱鏡，該棱鏡具有供光入射的光入射用的面以及使所入射的光射出的光出射用的面，而改變?nèi)肷渲燎笆龉馊肷溆玫拿娴墓獾闹辽僖徊糠值男羞M(jìn)方向。9.如權(quán)利要求6至8中任一項(xiàng)的曝光裝置，其特征在于，其中，前述第1支持部是支持第2感光材于與相對(duì)于前述屏蔽并對(duì)該屏蔽的光入射側(cè)的相反側(cè)的位置。全文摘要本發(fā)明的目的，是在于將用以支持屏蔽以及感光材所需的空間更為縮小。本發(fā)明的曝光方法包括使來(lái)自曝光用光源的光的至少一部分，入射到支持于支持裝置的前述屏蔽的入射步驟；以及引導(dǎo)來(lái)自前述屏蔽的反射光，使其成像在支持于前述支持裝置的前述感光材，從與光源的光入射到前述屏蔽的入射方向不同的方向接收該反射光的成像步驟。文檔編號(hào)G03F7/20GK1445611SQ03120289公開(kāi)日2003年10月1日申請(qǐng)日期2003年3月5日優(yōu)先權(quán)日2002年3月14日發(fā)明者辻川晉,谷口幸夫,山口弘高,松村正清申請(qǐng)人:株式會(huì)社液晶先端技術(shù)開(kāi)發(fā)中心