專利名稱：電光裝置和電子設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在一對基板之間保持電光物質(zhì)的電光裝置和適用該電光裝置的電子設(shè)備。
背景技術(shù)：
各種電光裝置中，將液晶用作電光物質(zhì)的電光裝置包括第一基板、相對第一基板由密封材料經(jīng)規(guī)定間隙進行貼合的第二基板、和在上述間隙中在密封材料分隔開的區(qū)域內(nèi)保持的電光層，通過第一基板和第二基板上各自形成的透明的第一驅(qū)動電極和透明的第二驅(qū)動電極對電光物質(zhì)層施加電場。
這種電光裝置如果在第一基板的背面?zhèn)壬吓渲帽彻庋b置，則可在從該背光裝置射出的光透過電光物質(zhì)層期間實施光調(diào)制，按透射模式顯示規(guī)定的圖像。第一基板中，如果在第一驅(qū)動電極下層側(cè)上形成光反射膜膜，則從第二基板側(cè)入射的外部光由光反射膜反射，再從第二基板射出期間可進行光調(diào)制，從而可按反射模式顯示圖像。
因此，半透射反射型的電光裝置中，在第一驅(qū)動電極的下層側(cè)上所形成的光反射膜中形成光透射孔，并且在第一基板的背面?zhèn)壬吓渲帽彻庋b置，在形成光透射孔的區(qū)域中進行透射模式的顯示，另一方面，在未形成光透射孔的區(qū)域中進行反射模式的顯示(例如專利文獻1)。
另外，第二基板中，如果在與第一驅(qū)動電極和第二驅(qū)動電極對向的區(qū)域重疊的部分中形成濾色片，則可顯示彩色圖像。
為進行這種顯示，需要向第一驅(qū)動電極和第二驅(qū)動電極提供規(guī)定的信號。因此，需要在第一基板和第二基板二者上安裝驅(qū)動用IC的結(jié)構(gòu)，或需要在第一基板和第二基板二者上安裝安裝了驅(qū)動用IC的撓性基板，但是這種結(jié)構(gòu)的情況下，需要2個驅(qū)動用IC，并且第一基板和第二基板二者上需要確保從另一基板伸出的安裝區(qū)域，從而不能確保在電光裝置的圖像區(qū)域的外圍側(cè)有較寬的區(qū)域。
因此，采用第一基板上設(shè)置從第二基板伸出的區(qū)域中形成的安裝端子、與第二基板的重疊區(qū)域中形成的第一基板間導(dǎo)通端子、連接安裝端子和上述第一驅(qū)動電極的第一布線圖形、連接安裝端子和第一基板間導(dǎo)通端子的第二布線圖形，并且第二基板上設(shè)置與第一基板間導(dǎo)通端子對向的第二基板間導(dǎo)通端子的結(jié)構(gòu)。
這里，對于第一基板，以往，對于安裝端子、第一基板間導(dǎo)通端子、連接安裝端子和第一驅(qū)動電極的第一布線圖形、以及連接安裝端子和第一基板間導(dǎo)通端子的第二布線圖形中的任何一個，都使用形成第一驅(qū)動電極的ITO膜等的透明導(dǎo)電膜。
專利文獻1特開2002-14334號(第8-第9頁、圖1)但是，第一基板中，對于第二布線圖形，無論從安裝端子到第一基板間導(dǎo)通端子之間是否進行長距離引線，僅用構(gòu)成形成第一驅(qū)動電極的透明導(dǎo)電膜的ITO膜形成時，電阻顯著增大。
半透射反射型電光裝置中，第二基板上形成濾色層時，在平坦區(qū)域中形成濾色層，由于形成光透射孔的透射顯示區(qū)域和未形成光透射孔的反射顯示區(qū)域之間濾色層的厚度相等，因此顯示的彩色圖像中，產(chǎn)生反射模式的顏色變濃而透射模式的顏色變淡的問題。即，這是由于與透射顯示光僅透過一次濾色層相反，反射顯示光透過濾色層兩次，即入射時和反射時的兩次。

發(fā)明內(nèi)容
考慮以上問題，本發(fā)明的課題是在應(yīng)用基板間導(dǎo)通的電光裝置和使用其的電子設(shè)備中提供一種結(jié)構(gòu)，在降低布線電阻的同時，可消除透射模式和反射模式顯示的圖像中反射模式的顏色變濃而透射模式的顏色變淡的問題。
為解決上述問題，本發(fā)明中，在包括第一基板、相對該第一基板由密封材料經(jīng)規(guī)定間隙進行貼合的第二基板、在上述間隙中在密封材料分劃出的區(qū)域內(nèi)保持的電光層，通過上述第一基板和上述第二基板上各自形成的透明的第一驅(qū)動電極和透明的第二驅(qū)動電極對上述電光物質(zhì)層施加電場的電光裝置中，上述第一基板包括在從上述第二基板的伸出區(qū)域上形成的安裝端子、與上述第二基板的重疊區(qū)域中形成的第一基板間導(dǎo)通端子、連接上述安裝端子和上述第一驅(qū)動電極的第一布線圖形、連接上述安裝端子和上述第一基板間導(dǎo)通端子的第二布線圖形，上述第二基板包括與上述第一基板間導(dǎo)通端子對向的第二基板間導(dǎo)通端子，上述第一基板的上述第一驅(qū)動電極的下層側(cè)上，在與上述第一驅(qū)動電極和上述第二驅(qū)動電極對向的區(qū)域重疊的區(qū)域的一部分中形成形成了光透射孔的光反射膜，同時在上述光反射膜和上述第一驅(qū)動電極的層間形成濾色層，上述第二布線圖形至少在其一部分中包括由與上述光反射膜相同的金屬膜構(gòu)成的金屬布線。
本發(fā)明中，關(guān)于從安裝端子到第一基板間導(dǎo)通端子之間進行長距離引線的第二布線圖形，由于適用構(gòu)成光反射膜的金屬膜，布線電阻可減小。光反射膜和第一驅(qū)動電極的層間形成濾色層，并且，濾色層的下層側(cè)中在光反射膜中形成光透射孔。因此，在進行透射模式顯示的光透射窗中形成的濾色層與進行反射模式的顯示的此外的區(qū)域中形成的濾色層相比更厚。從而，即便透射顯示光僅透過一次濾色層，而反射顯示光入射時和反射時透過濾色層兩次，在透射模式顯示的情況和反射模式顯示的情況下，不會產(chǎn)生反射模式的顏色變濃而透射模式的顏色變淡的問題，因此可進行高品質(zhì)的顯示。
本發(fā)明中，上述安裝端子和上述第一基板間導(dǎo)通端子由例如構(gòu)成上述第一驅(qū)動電極的透明導(dǎo)電膜構(gòu)成。
本發(fā)明中，上述濾色層和上述第一驅(qū)動電極的層間按至少避開形成上述第一基板間導(dǎo)通端子和上述安裝端子的區(qū)域的方式來形成透明的有機絕緣膜，該有機絕緣膜和上述第一驅(qū)動電極的層間最好大致在上述第一基板的整體上形成無機絕緣膜。形成濾色片時，表面上產(chǎn)生凹凸，電光物質(zhì)層厚度變動，有電光物質(zhì)層的取向狀態(tài)混亂的傾向，但濾色層的上層中形成有機絕緣膜構(gòu)成的平坦化膜，可避免該問題。但是，形成第一驅(qū)動電極時，在基板的整個面上形成透明導(dǎo)電膜后，適用光刻技術(shù)圖形化，但此時，有機絕緣膜上形成的透明導(dǎo)電膜和未形成有機絕緣膜的區(qū)域中形成的透明導(dǎo)電膜中，由于蝕刻速度不同，蝕刻精度降低。這樣，本發(fā)明中，由于在有機絕緣膜的上層基板在整個面上形成無機絕緣膜，基板的整個面中，透明導(dǎo)電膜的蝕刻速度相等。因此，即便形成有機絕緣膜，也可按高精度蝕刻第一驅(qū)動電極。
本發(fā)明中，上述金屬布線在上述第一布線圖形和上述第二布線圖形中從上述第二基板邊緣露出的區(qū)域中被中途切斷。這樣構(gòu)成時，金屬布線的上層側(cè)通過蝕刻第一驅(qū)動電極等圖形化時，或結(jié)束了電光裝置的制造后，從第二基板的邊緣露出的區(qū)域中不會產(chǎn)生金屬布線被腐蝕等的問題。
本發(fā)明中，理想為上述金屬布線也在上述第一布線圖形和上述第二布線圖形中從上述第二基板邊緣露出的區(qū)域中形成的情況下，該露出的區(qū)域的上述金屬布線的上層側(cè)最后形成上述有機絕緣膜。這樣構(gòu)成時，金屬布線的上層側(cè)通過蝕刻第一驅(qū)動電極等圖形化時，或結(jié)束了電光裝置的制造后，從第二基板的邊緣露出的區(qū)域中金屬布線被有機絕緣膜保護，因此不會產(chǎn)生腐蝕等的問題。
本發(fā)明中，上述第一布線圖形從與安裝上述安裝端子的區(qū)域中的在其中央?yún)^(qū)域排列的安裝端子向?qū)ο虻幕暹呇由?，連接上述第一驅(qū)動電極，上述第二布線圖形從在上述安裝端子形成的區(qū)域中的在其兩側(cè)區(qū)域排列的安裝端子通過形成上述第一布線圖形的區(qū)域外側(cè)延伸，連接在圖像顯示區(qū)域的兩側(cè)區(qū)域中沿著基板邊排列的上述第一基板間導(dǎo)通端子，上述第二驅(qū)動電極在上述圖像顯示區(qū)域中在與上述第一驅(qū)動電極交叉的方向上延伸并連接上述第二基板間導(dǎo)通端子。
本發(fā)明中，最好至少在形成構(gòu)成上述光反射膜的金屬膜的區(qū)域的下層側(cè)形成基底導(dǎo)電膜。這樣構(gòu)成時，金屬膜經(jīng)基底導(dǎo)電膜形成在基板上，因此金屬膜和基板的密合性低時，也不會產(chǎn)生圖形化精度降低和剝離等的不妥情況。
本發(fā)明中，最好在形成構(gòu)成上述光反射膜的金屬膜的區(qū)域的上層形成導(dǎo)電保護膜。這樣構(gòu)成時，不會由于形成濾色層時的燒結(jié)而惡化光反射膜的表面。
本發(fā)明中，上述基底導(dǎo)電膜中最好在與上述光透射孔重疊的區(qū)域中形成孔。這樣構(gòu)成時，在進行透射模式的顯示的光透射窗中形成的濾色層與進行反射模式的顯示的此外的區(qū)域中形成的濾色層相比更厚。因此，即便按透射顯示光僅透過一次濾色層，而反射顯示光透過濾色層入射時和反射時的兩次的方式透過濾色層時，在透射模式顯示的情況和反射模式顯示的情況下，不會產(chǎn)生反射模式的顏色變濃而透射模式的顏色變淡的問題，因此可進行更高品質(zhì)的顯示。
本發(fā)明中，上述基底導(dǎo)電膜最好也形成在上述安裝端子的下層側(cè)和上述第一基板間導(dǎo)通端子的下層側(cè)。
本發(fā)明中，形成上述基底導(dǎo)電膜的上述光反射膜例如是銀合金膜?；蛘呤褂玫墓夥瓷淠な卿X合金膜或鋁膜。
上述反射膜也可以是在上層具有鋁合金膜或鋁膜，在成為上述上層和上述基底導(dǎo)電膜的中間層的下層具有鉬膜或鉬合金膜的兩層層疊構(gòu)成的。
本發(fā)明中，構(gòu)成上述光反射膜的金屬膜最好也形成在上述安裝端子和上述第一基板間導(dǎo)通端子的下層側(cè)。
本發(fā)明中，上述基底導(dǎo)電膜或構(gòu)成上述光反射膜的金屬膜也形成在上述安裝端子和上述第一基板間導(dǎo)通端子上時，上述安裝端子和上述驅(qū)動用IC的凸起經(jīng)分散到樹脂成分中的導(dǎo)電粒子電連接，此時，上述導(dǎo)電粒子最好貫通在上述安裝端子的下層側(cè)上形成的上述無機絕緣膜。這樣構(gòu)成時，安裝端子上安裝驅(qū)動用IC的凸起時，通過導(dǎo)電粒子貫通安裝端子內(nèi)的無機絕緣膜，可電導(dǎo)通驅(qū)動用IC的凸起和安裝端子上形成的金屬膜、基底導(dǎo)電膜。
同樣，上述基底導(dǎo)電膜或構(gòu)成上述光反射膜的金屬膜也形成在上述安裝端子和上述第一基板間導(dǎo)通端子上時，上述第一基板間導(dǎo)通端子和上述第二基板間導(dǎo)通端子經(jīng)分散到樹脂成分中的導(dǎo)電粒子電連接，此時，上述導(dǎo)電粒子最好貫通在上述第一基板間導(dǎo)通端子內(nèi)形成的上述無機絕緣膜。
這樣構(gòu)成時，連接上述第一基板間導(dǎo)通端子和上述第二基板間導(dǎo)通端子時，在上述第一基板間導(dǎo)通端子內(nèi)通過上述導(dǎo)電粒子貫通絕緣膜可電導(dǎo)通第一基板間導(dǎo)通端子和其下層側(cè)形成的金屬膜、基底導(dǎo)電膜。
采用本發(fā)明的電光裝置例如可用作電子設(shè)備的顯示單元。


圖1是表示本發(fā)明的實施方案1的電光裝置的立體圖；圖2是圖1所示的電光裝置的分解立體圖；圖3是模式表示圖1所示的電光裝置中使用的第一基板的構(gòu)成的俯視圖；圖4(A)、(B)分別是沿著圖3的A-A’線切斷電光裝置時的截面圖和沿著圖3的B1-B1’線以及B2-B2’線切斷時的截面圖；圖5是在圖1所示的電光裝置中使用的第一基板和第二基板上形成的各部件的說明圖；圖6(A)～(F)分別是與圖4(A)對應(yīng)地表示圖1所示的電光裝置中使用的第一基板的制造方法的工序截面圖；圖7(A)～(F)分別是與圖4(B)對應(yīng)地表示圖1所示的電光裝置中使用的第一基板的制造方法的工序截面圖；圖8(A)、(B)分別是在與圖3的A-A’線相當?shù)奈恢蒙锨袛啾景l(fā)明的第二實施方案的電光裝置時的截面圖和在與圖3的B1-B1’線以及B2-B2’線相當?shù)奈恢蒙锨袛鄷r的截面圖；圖9是在圖8所示的電光裝置中使用的第一基板和第二基板上形成的各部件的說明圖；圖10(A)～(F)分別是與圖8(A)對應(yīng)地表示圖8所示的電光裝置中使用的第一基板的制造方法的工序截面圖；圖11(A)～(F)分別是與圖8(B)對應(yīng)地表示圖8所示的電光裝置中使用的第一基板的制造方法的工序截面圖；圖12(A)、(B)分別是在與圖3的A-A’線相當?shù)奈恢蒙锨袛啾景l(fā)明的第三實施方案的電光裝置時的截面圖和在與圖3的B1-B1’線以及B2-B2’線相當?shù)奈恢蒙锨袛鄷r的截面圖；圖13是在圖12所示的電光裝置中使用的第一基板和第二基板上形成的各部件的說明圖；圖14(A)～(F)分別是與圖12(A)對應(yīng)地表示圖12所示的電光裝置中使用的第一基板的制造方法的工序截面圖；圖15(A)～(F)分別是與圖12(B)對應(yīng)地表示圖12所示的電光裝置中使用的第一基板的制造方法的工序截面圖；圖16(A)、(B)分別是在與圖3的A-A’線相當?shù)奈恢蒙锨袛啾景l(fā)明的第四實施方案的電光裝置時的截面圖和在與圖3的B1-B1’線以及B2-B2’線相當?shù)奈恢蒙锨袛鄷r的截面圖；圖17是在圖16所示的電光裝置中使用的第一基板和第二基板上形成的各部件的說明圖；圖18(A)～(F)分別是與圖16(A)對應(yīng)地表示圖16所示的電光裝置中使用的第一基板的制造方法的工序截面圖；圖19(A)～(F)分別是與圖16(B)對應(yīng)地表示圖16所示的電光裝置中使用的第一基板的制造方法的工序截面圖；圖20(A)、(B)分別是在與圖3的A-A’線相當?shù)奈恢蒙锨袛啾景l(fā)明的第五實施方案的電光裝置時的截面圖和在與圖3的B1-B1’線以及B2-B2’線相當?shù)奈恢蒙锨袛鄷r的截面圖；圖21(A)、(B)分別是在與圖3的A-A’線相當?shù)奈恢蒙锨袛啾景l(fā)明的第六實施方案的電光裝置時的截面圖和在與圖3的B1-B1’線以及B2-B2’線相當?shù)奈恢蒙锨袛鄷r的截面圖；圖22(A)、(B)分別是在與圖3的A-A’線相當?shù)奈恢蒙锨袛啾景l(fā)明的第七實施方案的電光裝置時的截面圖和在與圖3的B1-B1’線以及B2-B2’線相當?shù)奈恢蒙锨袛鄷r的截面圖；圖23是表示使用采用本發(fā)明的電光裝置的電子設(shè)備的電學(xué)結(jié)構(gòu)的框圖。
具體實施例方式
參考

本發(fā)明的實施方案。

(整體構(gòu)成)圖1和圖2分別是本發(fā)明的實施方案1的電光裝置的立體圖和其分解立體圖。這些圖和下面表示的各圖中，將各層和各部件作成附圖上可識別的大小，因此對于每個層和每個部件而言，比例尺和數(shù)量彼此不同。
圖1和圖2中，本實施方案的電光裝置1中，經(jīng)規(guī)定間隙由密封材料30貼合的矩形的玻璃等構(gòu)成的一對透明基板間由密封材料30分劃出液晶封入?yún)^(qū)域35，該液晶封入?yún)^(qū)域35內(nèi)封入作為電光物質(zhì)的液晶，形成液晶層36(電光物質(zhì)層)。這里，上述一對透明基板中，將形成在圖像顯示區(qū)域2內(nèi)在縱向上延伸的多列第一驅(qū)動電極150的那個基板叫作第一基板10，將形成在圖像顯示區(qū)域2內(nèi)在橫向上延伸的多列第二驅(qū)動電極250的那個基板叫作第2基板20。
這里所示的電光裝置1中，在第一基板10的外側(cè)表面上貼合偏振板61，在該第二基板20的外側(cè)表面上貼合偏振板62。第一基板10的外側(cè)配置背光裝置9。
這樣構(gòu)成的電光裝置11中，第一基板10使用與第二基板20相比寬度尺寸相同而長度尺寸更大的那種基板。
因此，在貼合第一基板10和第二基板20的狀態(tài)下，第一基板10的端部從第二基板20的基板邊201伸出，該伸出區(qū)域15中沿著基板邊101形成安裝驅(qū)動用IC50的安裝端子160。伸出區(qū)域15中還沿著基板邊101形成安裝撓性基板8的安裝端子161。
這里，安裝驅(qū)動用IC50的安裝端子160中，從在其中央?yún)^(qū)域排列的安裝端子160向?qū)ο虻幕暹?01延伸第一布線圖形11，連接第一驅(qū)動電極150。
第一基板10中，在圖像顯示區(qū)域2兩側(cè)，在與第二基板20重疊的區(qū)域中沿著基板邊103，104排列第一基板間導(dǎo)通端子170，安裝驅(qū)動用IC50的安裝端子160中，從在兩側(cè)區(qū)域排列的安裝端子160通過形成第一布線圖形11的區(qū)域外側(cè)延伸第二布線圖形12，連接第一基板間導(dǎo)通端子170。
與此相反，第二基板20中，在圖像顯示區(qū)域2中在橫向上延伸第二驅(qū)動電極250，第二驅(qū)動電極250的端部成為與第一基板間導(dǎo)通端子170重疊的第二基板間導(dǎo)通端子270。
(基板上的層構(gòu)造)這樣構(gòu)成的電光裝置的構(gòu)成參考圖3和圖4(A)、(B)詳細說明。圖3是模式表示圖1所示的電光裝置中使用的第一基板的構(gòu)成的俯視圖，圖4(A)、(B)分別是沿著圖3的A-A’線切斷電光裝置時的截面圖和沿著圖3的B1-B1’線以及B2-B2’線切斷時的截面圖。
圖3和圖4(A)、(B)中，第一基板10中，首先從下層側(cè)向上層側(cè)順序形成ITO膜構(gòu)成的基底導(dǎo)電膜110、銀合金等構(gòu)成的光反射膜120、濾色層7R，7G，7B、作為平坦化膜的有機絕緣膜130、氧化硅膜等構(gòu)成的無機絕緣膜140、ITO膜構(gòu)成的第一驅(qū)動電極150和取向膜(未示出)。
與此不同，在第二基板20中，按順序形成ITO膜構(gòu)成的第二驅(qū)動電極250和取向膜(未示出)。
第一基板10和第二基板20由向樹脂成分中配入間隙(gap)材料的密封材料30貼合。這里，密封材料30形成來分劃圖像顯示區(qū)域2，在其內(nèi)側(cè)保持電光物質(zhì)層36。
密封材料30使用在樹脂成分中配入了間隙材料和導(dǎo)電粒子的導(dǎo)電粒子的密封材料301和在樹脂成分中配入了間隙材料的密封材料302，裝入導(dǎo)電粒子的密封材料301對形成第一基板間導(dǎo)通端子170的2個基板邊103，104和在伸出區(qū)域15側(cè)與第二基板20的基板邊201重疊的1個邊構(gòu)成的3個邊進行涂布。
這樣構(gòu)成的電光裝置1的第一基板10中，基底導(dǎo)電膜110在圖像顯示區(qū)域2中在光反射膜120的下層側(cè)整個區(qū)域形成，同時也將其形成在安裝端子160的下層側(cè)，并且作為第一布線圖形11的最下層布線111從安裝端子160的下層側(cè)延伸到與第二基板20重疊的位置?；讓?dǎo)電膜110作為第二布線圖形12的最下層布線112從安裝端子160的下層側(cè)延伸到第一基板間導(dǎo)通端子170的下層側(cè)。
接著，在基底導(dǎo)電膜110的上層形成的光反射膜120在圖像顯示區(qū)域2中作為整個區(qū)域形成。其中，光反射膜120在第一驅(qū)動電極150與第二驅(qū)動電極250對向的像素中，去除其一部分，形成光透射孔125。
第一基板10中，與光反射膜120同時形成的金屬膜作為基底電極123形成在安裝端子160的下層側(cè)，同時也作為基底電極121形成在與第二基板20的基板邊201附近重疊的區(qū)域中。此外，對于和光反射膜120同時形成的金屬膜，在與第二基板20重疊的區(qū)域中，作為第二布線圖形12的下層布線122，延伸到第一基板間導(dǎo)通端子170的下層側(cè)。但與光反射膜120同時形成的金屬膜在第一基板10的伸出區(qū)域15中不形成在從第二基板20的基板邊201露出的部分中，該區(qū)域中被中途切斷。
接著，在光反射膜120的上層側(cè)，在圖像顯示區(qū)域2中形成R(紅)、G(綠)、B(藍)的濾色層7R，7G，7B。這里，濾色層7R，7G，7B是將顏色材料分散到樹脂中，在各像素中，在去除光反射膜120并形成光透射孔125的區(qū)域中，與形成光反射膜120的區(qū)域相比，形成厚的厚度。
接著，在濾色層7R，7G，7B上層形成厚的有機絕緣膜130，作為平坦化膜。這里，有機絕緣膜130選擇地在圖像顯示區(qū)域2中形成，在其外圍側(cè)不形成。即，有機絕緣膜130避開安裝端子160和第一基板間導(dǎo)通端子170形成的同時，也避開涂布密封材料30的區(qū)域形成。
接著在有機絕緣膜130上層，在基板的整個面上形成薄的氧化硅膜構(gòu)成的無機絕緣膜140。
接著在無機絕緣膜140上層，在圖像顯示區(qū)域2中形成ITO膜構(gòu)成的第一驅(qū)動電極150的同時，通過與第一驅(qū)動電極150同時形成的ITO膜，形成安裝端子160和第一基板間導(dǎo)通端子170。
與第一驅(qū)動電極150同時形成的ITO膜作為第一布線圖形11的上層布線151，從安裝端子160延伸到與第二基板20重疊的區(qū)域，從那里開始，端部成為第一驅(qū)動電極150。另外，與第一驅(qū)動電極150同時形成的ITO膜在第二基板20的露出部分中，作為第二布線圖形12的上層布線152形成，但在與第二基板20重疊的區(qū)域中不形成，而中途切斷。
<制造方法>
接著參考圖5，圖6和圖7邊詳細說明制造方法邊詳細說明本實施方案的電光裝置中使用的各基板的構(gòu)造。
圖5(A)～(F)分別是在圖1所示的電光裝置中使用的第一基板和第二基板上形成的各部件的說明圖。圖6(A)～(F)及圖7(A)～(F)分別是表示圖1所示的電光裝置中使用的第一基板和第二基板的制造方法的工序截面圖。圖5(B)、(C)、(D)中，圖像顯示區(qū)域內(nèi)將矩形框內(nèi)多個像素放大，進行模式表示。
首先如圖5(A)所示，制造第二基板20時，在整個基板上形成ITO膜后，使用光刻技術(shù)圖形化，形成在圖像顯示區(qū)域2中在橫向上延伸的第二驅(qū)動電極250(帶斜線的區(qū)域)。這里，由第二驅(qū)動電極250端部形成第二基板間導(dǎo)通端子270。
與此不同，制造第一基板10的過程中，首先如圖5(B)、圖6(A)和圖7(A)所示，在整個基板上形成ITO膜后，使用光刻技術(shù)圖形化，在圖像顯示區(qū)域2中形成基底導(dǎo)電膜110(圖5(B)中帶斜線的區(qū)域)，作為整個的矩形區(qū)域。對于基底導(dǎo)電膜110，也形成在應(yīng)形成安裝端子160的區(qū)域中，并且從安裝端子160的下層側(cè)到與第二基板20重疊的位置上殘留下來，作為第一布線圖形11的最下層布線111。對于基底導(dǎo)電膜110，在從安裝端子160的下層側(cè)到與第一基板間導(dǎo)通端子170的下層側(cè)中殘留下來，作為第二布線圖形12的最下層布線121。
接著如圖5(C)、圖6(B)和圖7(B)所示，在基底導(dǎo)電膜110上層形成銀合金膜等構(gòu)成的金屬膜后，使用光刻技術(shù)圖形化，在圖像顯示區(qū)域2中形成全部的光反射膜120(圖5(C)中帶斜線的區(qū)域)。此時，光反射膜120上去除第一驅(qū)動電極150和第二驅(qū)動電極250對向的區(qū)域的一部分，形成光透射孔125。
關(guān)于與光反射膜120同時形成的金屬膜，在應(yīng)形成安裝端子160的區(qū)域的下層側(cè)殘留下來，作為基底電極123，同時在與第二基板20的基板邊201重疊的區(qū)域中殘留下來，作為基底電極121。關(guān)于與光反射膜120同時形成的金屬膜，在與第二基板20的重疊區(qū)域中，作為第二布線圖形12的下層布線122，殘留至第一基板間導(dǎo)通端子170的下層側(cè)。但是，關(guān)于與光反射膜120同時形成的金屬膜，在第一基板10的伸出區(qū)域15中，在從第二基板20的基板邊201露出的部分中，將其去除。
這里，構(gòu)成光反射膜120的金屬膜的下層側(cè)形成基底導(dǎo)電膜110。因此，作為構(gòu)成光反射膜120的金屬膜，使用銀合金膜，從而即便金屬膜與基板的密合性降低，也不會產(chǎn)生光反射膜120等的圖形化精度降低和剝離等不妥情況。
接著如圖5(D)、圖6(C)和圖7(C)所示，光反射膜120上層側(cè)中，在圖像顯示區(qū)域2的規(guī)定位置上形成R(紅)、G(綠)、B(藍)的濾色層7R，7G，7B(帶斜線區(qū)域)。濾色層7R，7G，7B是將顏色材料分散到樹脂中得到的，各像素中，去除光反射膜120并形成光透射孔125的區(qū)域中，與形成光反射膜120的區(qū)域相比形成得厚。
接著如圖5(E)、圖6(D)和圖7(D)所示，濾色層7R，7G，7B上層形成厚度厚的有機絕緣膜130后，使用光刻技術(shù)圖形化，在圖像顯示區(qū)域2中選擇地剩下有機絕緣膜130(帶斜線區(qū)域)，在其外圍側(cè)不剩下。其結(jié)果成為有機絕緣膜130避開安裝端子160和第一基板間導(dǎo)通端子170形成，同時，也避開涂布密封材料30的區(qū)域形成的狀態(tài)。
接著如圖6(E)和圖7(E)所示，在有機絕緣膜130上層，在基板的整個面上形成薄的氧化硅膜構(gòu)成的無機絕緣膜140。
接著如圖5(F)、圖6(F)和圖7(F)所示，在無機絕緣膜140上層，在基板的整個面上形成ITO膜后，使用光刻技術(shù)圖形化，在圖像顯示區(qū)域2中形成第一驅(qū)動電極150(帶斜線區(qū)域)。對于與第一驅(qū)動電極150同時形成的ITO膜，作為安裝端子160和第一基板間導(dǎo)通端子170殘留下來。
另外，對于與第一驅(qū)動電極150同時形成的ITO膜，作為第一布線圖形11從安裝端子160延伸到與第二基板20重疊的區(qū)域，作為第一布線圖形11的上層布線151殘留，從那里開始，成為在端部中與第一驅(qū)動電極150連接的狀態(tài)。另外，對于與第一驅(qū)動電極150同時形成的ITO，在從第二基板20的基板邊201露出的部分中，作為第二布線圖形12的上層布線152形成，但在與第二基板20重疊的區(qū)域中將其去除。
進行這種蝕刻時，構(gòu)成光反射膜120的銀合金膜不會是露出的狀態(tài)，因此對ITO膜的蝕刻液不會腐蝕構(gòu)成光反射膜120的銀合金膜。
(IC的安裝構(gòu)造和基板間導(dǎo)通構(gòu)造)
對于連接第一布線圖形11和第二布線圖形12的上層布線151，152的安裝端子160，通過向樹脂成分中配合導(dǎo)電粒子41的各向異性導(dǎo)電膜40來安裝驅(qū)動用IC50。此時，在安裝端子160下層側(cè)形成氧化硅膜構(gòu)成的薄的無機絕緣膜140，但在其下層側(cè)形成與光反射膜120同時形成的金屬膜構(gòu)成的基底電極123和基底導(dǎo)電膜110。因此，經(jīng)各向異性導(dǎo)電膜40將驅(qū)動用IC50熱壓粘于第一基板10時，下層側(cè)存在膜，從而在壓合時的壓力下導(dǎo)電粒子41貫通無機絕緣膜140，安裝端子160電連接與光反射膜120同時形成的金屬膜構(gòu)成的基底電極123，并且經(jīng)該基底電極123也電連接第一布線圖形11和第二布線圖形12的最下層布線111，112。
第一基板10和第二基板20由密封材料30貼合，但沿著形成第一基板間導(dǎo)通端子170的2個基板邊103，104的區(qū)域和在伸出區(qū)域15側(cè)第二基板20的基板邊201重疊的區(qū)域中，涂布包含導(dǎo)電粒子303的密封材料301。
因此，在伸出區(qū)域15側(cè)第二基板20的基板邊201重疊的部分中，經(jīng)包含導(dǎo)電粒子303的密封材料301熱壓粘第一基板10和第二基板20。這里，第一布線圖形11的上層布線151的下層側(cè)形成無機絕緣膜140，但其下層側(cè)形成與光反射膜120同時形成的金屬膜構(gòu)成的基底電極121，在其再下層側(cè)形成基底導(dǎo)電膜110構(gòu)成的第一布線圖形11的最下層布線111。因此，經(jīng)密封材料301熱壓粘第一基板10和第二基板20時，由于下層側(cè)存在膜，在壓合時的壓力下導(dǎo)電粒子303貫通無機絕緣膜140，第一布線圖形11的上層布線151電連接基底電極121。其結(jié)果是第一布線圖形11的上層布線151經(jīng)基底電極121也電連接第一布線圖形11的最下層布線111。
因此，第一布線圖形11中，從第二基板20的基板邊露出的部分中，與光反射膜120同時形成的金屬布線被中途切斷，該部分的布線電阻小。
同樣，伸出區(qū)域15側(cè)第二基板20的基板邊201重疊的部分中，經(jīng)含導(dǎo)電粒子303的密封材料301熱壓粘第一基板10和第二基板20時，第二布線圖形12的上層布線152的下層側(cè)形成無機絕緣膜140，但其下層側(cè)形成與光反射膜120同時形成的金屬膜構(gòu)成的第二布線圖形12的下層布線122，再下層側(cè)形成基底導(dǎo)電膜110構(gòu)成的第二布線圖形12的最下層布線112。因此，經(jīng)密封材料301熱壓粘第一基板10和第二基板20時，在該壓力下導(dǎo)電粒子303貫通無機絕緣膜140，第二布線圖形12的上層布線152電連接第二布線圖形12的下層布線122，同時經(jīng)該下層布線122，也電連接第二布線圖形12的最下層布線112。
因此，從第二基板20的基板邊露出的部分中，與光反射膜120同時形成的金屬布線被中途切斷，該部分的電阻小。
此外，形成第一基板間導(dǎo)通端子170的部分中，經(jīng)包含導(dǎo)電粒子303的密封材料301熱壓粘第一基板10和第二基板20時，第一基板間導(dǎo)通端子170的下層側(cè)形成無機絕緣膜140，但其下層側(cè)形成與光反射膜120同時形成的第二布線圖形12的下層布線122，再下層側(cè)形成基底導(dǎo)電膜110構(gòu)成的第二布線圖形12的最下層布線112。因此，經(jīng)密封材料301熱壓粘第一基板10和第二基板20時，在該壓力下導(dǎo)電粒子303貫通無機絕緣膜140，第一基板間導(dǎo)通端子170電連接第二布線圖形12的下層布線122，同時經(jīng)該下層布線122，也電連接第二布線圖形12的最下層布線112。
這樣構(gòu)成的電光裝置1中，從驅(qū)動用IC50向各安裝端子160輸出信號時，從中央?yún)^(qū)域形成的安裝端子160經(jīng)包括與第一驅(qū)動電極150同時形成的ITO膜構(gòu)成的上層布線151和ITO膜構(gòu)成的最下層布線115的第一布線圖形11提供給第一驅(qū)動電極150。
與此不同，在兩側(cè)區(qū)域形成的安裝端子160在第二布線圖形12中從第二基板20的基板邊201露出的部分中，經(jīng)與第一驅(qū)動電極150同時形成的ITO膜構(gòu)成的上層布線152和ITO膜構(gòu)成的最下層布線112傳遞信號后，在與第二基板20重疊的區(qū)域中，經(jīng)與光反射膜120同時形成的第二布線圖形12的下層布線122和ITO膜構(gòu)成的最下層布線112將信號提供給第一基板間導(dǎo)通端子170。并且，提供給第一基板間導(dǎo)通端子170的信號經(jīng)第一基板間導(dǎo)通端子170、密封材料301中包含的導(dǎo)電粒子303和第二基板間導(dǎo)通端子270提供給第二驅(qū)動電極250。
其結(jié)果是在第一驅(qū)動電極150和第二驅(qū)動電極250對向的部分中，按每個像素控制位于那里的液晶層36的取向狀態(tài)。因此，從第二基板20側(cè)入射的外部光由光反射膜120反射，再在從第二基板20射出期間進行光調(diào)制來顯示圖像(反射模式)。第一驅(qū)動電極150的下層側(cè)形成的光反射膜120上形成光透射孔125，因此在第一基板10的背面?zhèn)扰渲帽彻庋b置9射出的光透過光透射孔125而入射到液晶層36，在從第二基板20射出期間進行光調(diào)制來顯示圖像(透射模式)。
此時，第一基板10上在與第一驅(qū)動電極150和第二驅(qū)動電極250對向的區(qū)域重疊的部分中形成濾色層7R，7G，7B，因此可顯示彩色圖像。
(本方案的主要效果)如以上說明，從安裝端子160向第一基板間導(dǎo)通端子170繞引的第二布線圖形12中適用構(gòu)成光反射膜120的金屬膜構(gòu)成的金屬布線(下層布線122)，因此布線電阻減小。
第一基板10側(cè)，在光反射膜120和第一驅(qū)動電極140的層間形成濾色層7R，7G，7B，并且濾色層7R，7G，7B的下層側(cè)在光反射膜120中形成光透射孔125。因此進行透射模式顯示的光透射孔125中形成的濾色層7R，7G，7B與進行反射模式顯示的此外的區(qū)域中形成的濾色層7R，7G，7B相比更厚。
因此，即便透射顯示光僅透過一次濾色層7R，7G，7B，而反射顯示光入射時和反射時兩次透過濾色層7R，7G，7B，在透射模式顯示的情況和反射模式顯示的情況下，不會產(chǎn)生反射模式的顏色變濃而透射模式的顏色變淡的問題，因此可進行高品質(zhì)的顯示。
濾色層7R，7G，7B與第一驅(qū)動電極150的層間形成有機絕緣膜130。因此，形成濾色層7R，7G，7B時，在表面產(chǎn)生凹凸的結(jié)果是液晶層36的厚度變動，產(chǎn)生取向控制混亂等問題，但本實施方案中，在濾色層7R，7G，7B上層形成有機絕緣膜130構(gòu)成的平坦化膜，因此可避免這種問題。
但是，形成第一驅(qū)動電極150的過程中，基板整個面上形成ITO膜后，使用光刻技術(shù)圖形化，但此時，在有機絕緣膜130上形成的ITO膜和未形成有機絕緣膜130的區(qū)域上形成的ITO膜中，ITO膜和基底的密合性不同，因此蝕刻速度不同，蝕刻精度降低。而本實施方案中，在有機絕緣膜130的上層在基板整個面上形成無機絕緣膜140，因此在基板整個面中，ITO膜和基底的密合性相等。因此，在基板整個面上ITO膜蝕刻速相等，即便下層側(cè)形成度有機絕緣膜130，也可按高精度蝕刻第一驅(qū)動電極150。
另外，基底導(dǎo)電膜110或構(gòu)成光反射膜120的金屬膜也形成在安裝端子160和第一基板間導(dǎo)通端子170的下層側(cè)。
因此，在向安裝端子160上安裝驅(qū)動用IC50的凸起51時，在安裝端子160下層側(cè)，通過導(dǎo)電粒子41貫通無機絕緣膜140可使安裝端子160和在其下層側(cè)上形成的金屬膜、基底導(dǎo)電膜110電導(dǎo)通。連接第一基板間導(dǎo)通端子170和第二基板間導(dǎo)通端子270時，第一基板間導(dǎo)通端子170的下層側(cè)，通過導(dǎo)電粒子303貫通無機絕緣膜140可使第一基板間導(dǎo)通端子170和在其下層側(cè)上形成的金屬膜、基底導(dǎo)電膜110電導(dǎo)通。
金屬布線在第一布線圖形11和第二布線圖形12中從第二基板20的邊緣露出的區(qū)域中被中途切斷。因此，形成光反射膜120后，在其上層側(cè)通過蝕刻第一驅(qū)動電極150等來圖形化時，或結(jié)束了電光裝置1的制造后，從第二基板20的基板邊201露出的區(qū)域中不會產(chǎn)生金屬布線被腐蝕等的問題。
圖8(A)、(B)分別是在沿與圖3的A-A’線相當?shù)奈恢蒙锨袛嚯姽庋b置時的截面圖和在與圖3的B1-B1’線以及B2-B2’線相當?shù)奈恢蒙锨袛鄷r的截面圖。圖9(A)～(F)是在圖1所示的電光裝置中使用的第一基板和第二基板上形成的各部件的說明圖。圖10(A)～(F)和圖11(A)～(F)分別是表示本實施方案的電光裝置中使用的第一基板和第二基板的制造方法的工序截面圖。本實施方案和下面說明的各形式的基本構(gòu)成與實施方案1是相同的，因此對于相同部分加上相同符號并省略其詳細說明。
圖8(A)、(B)中，本實施方案的電光裝置中，與實施方案1同樣，第一基板10中，首先從下層側(cè)向上層側(cè)順序形成ITO膜構(gòu)成的基底導(dǎo)電膜110、光反射膜120、濾色層7R，7G，7B、作為平坦化膜的有機絕緣膜130、氧化硅等構(gòu)成的無機絕緣膜140、ITO膜構(gòu)成的第一驅(qū)動電極150和取向膜(未示出)。
本實施方案中，第一基板10上在圖像顯示區(qū)域2中形成基底導(dǎo)電膜110，在其上層側(cè)形成光反射膜120。這里，在光反射膜120上在第一驅(qū)動電極150和第二驅(qū)動電極250對向的像素中，去除其一部分，形成光透射孔125。
另外，本實施方案中，在與光反射膜120的光透射孔125重疊的位置上在基底導(dǎo)電膜110中形成孔115。因此，光反射膜120的上層側(cè)形成濾色層7R，7G，7B時，去除光反射膜120形成光透射孔125的區(qū)域中，由于基底導(dǎo)電膜110中也形成孔115，與形成光反射膜120的區(qū)域相比，形成得厚。因此，在進行透射模式顯示的光透射孔125中形成的濾色層7R，7G，7B與進行反射模式的顯示的此外的區(qū)域中形成的濾色層7R，7G，7B相比厚很多。從而，即便透射顯示光僅透過一次濾色層7R，7G，7B，而反射顯示光透過濾色層7R，7G，7B入射時和反射時的兩次，在透射模式顯示的情況和反射模式顯示的情況下，不會產(chǎn)生反射模式的顏色變濃而透射模式的顏色變淡的問題，因此可進行高品質(zhì)的顯示。
在制造本實施方案的電光裝置1的過程中，替代關(guān)于實施方案1的參照圖5(B)、圖6(A)和圖7(A)說明的工序，如圖9(B)、10(A)和圖11(A)所示，在基板整個面上形成ITO膜后，使用光刻技術(shù)圖形化，形成基底導(dǎo)電膜110時，可形成孔115。關(guān)于其他構(gòu)成，與實施方案1相同，因此省略說明。
圖12(A)、(B)分別是在沿與圖3的A-A’線相當?shù)奈恢蒙锨袛嚯姽庋b置時的截面圖和在與圖3的B1-B1’線以及B2-B2’線相當?shù)奈恢蒙锨袛鄷r的截面圖。圖13(A)～(F)分別是在圖1所示的電光裝置中使用的第一基板和第二基板上形成的各部件的說明圖。圖14(A)～(F)和圖15(A)～(F)分別是表示本實施方案的電光裝置中使用的第一基板和第二基板的制造方法的工序截面圖。
圖12(A)、(B)中，本實施方案的電光裝置，與實施方案1同樣，第一基板10中，首先從下層側(cè)向上層側(cè)順序形成ITO膜構(gòu)成的基底導(dǎo)電膜110、光反射膜120、濾色層7R，7G，7B、作為平坦化膜的有機絕緣膜130、氧化硅等構(gòu)成的無機絕緣膜140、ITO膜構(gòu)成的第一驅(qū)動電極150和取向膜(未示出)。
這里，實施方案1中，在安裝端子160的下層側(cè)將與光反射膜120同時形成的金屬膜作為基底電極123殘留下來，而本實施方案中，在安裝端子160的下層側(cè)不殘留金屬膜。
這樣構(gòu)成的情況下，對于連接第一布線圖形11和第二布線圖形12的上層布線151，152的安裝端子160，通過向樹脂成分中配合導(dǎo)電粒子41的各向異性導(dǎo)電膜40來安裝驅(qū)動用IC50。此時，在安裝端子160下層側(cè)形成氧化硅膜構(gòu)成的薄的無機絕緣膜140，但在其下層側(cè)形成基底導(dǎo)電膜110。因此，經(jīng)各向異性導(dǎo)電膜40將驅(qū)動用IC50熱壓粘于第一基板10時，在該壓力下導(dǎo)電粒子41貫通無機絕緣膜140，安裝端子160電連接第一布線圖形11和第二布線圖形12的最下層布線111，112。
在制造本實施方案的電光裝置1的過程中，替代關(guān)于實施方案1的參照圖5(C)、圖6(B)和圖7(B)說明的工序，如圖9(C)、圖10(C)和圖11(C)所示，在基板整個面上形成金屬膜后，使用光刻技術(shù)圖形化，形成光反射膜120時，可從應(yīng)形成安裝端子160的區(qū)域去除金屬膜。關(guān)于其他構(gòu)成，與實施方案1相同，因此省略說明。
圖16(A)、(B)分別是沿與圖3的A-A’線相當?shù)奈恢蒙锨袛嚯姽庋b置時的截面圖和在與圖3的B1-B1’線以及B2-B2’線相當?shù)奈恢蒙锨袛鄷r的截面圖。圖17(A)～(F)分別是在圖1所示的電光裝置中使用的第一基板和第二基板上形成的各部件的說明圖。圖18(A)～(F)和圖19(A)～(F)分別是表示本實施方案的電光裝置中使用的第一基板和第二基板的制造方法的工序截面圖。
圖16(A)、(B)中，本實施方案的電光裝置，與實施方案1同樣，第一基板10中，首先從下層側(cè)向上層側(cè)順序形成ITO膜構(gòu)成的基底導(dǎo)電膜110、光反射膜120、濾色層7R，7G，7B、作為平坦化膜的有機絕緣膜130、氧化硅等構(gòu)成的無機絕緣膜140、ITO膜構(gòu)成的第一驅(qū)動電極150和取向膜(未示出)。
實施方案1中，與光反射膜120同時形成的金屬膜不形成在第一基板10的伸出區(qū)域15中從第二基板20的基板邊201露出的部分中，在該區(qū)域中被中途切斷，而本實施方案中，在該區(qū)域中也形成金屬膜，作為第一布線圖形11的下層布線126和第二布線圖形12的下層布線127。
可替代其的是有機絕緣膜130也殘留在第一布線圖形11的下層布線126和第二布線圖形12的下層布線127的上層。因此，例如對于和第一驅(qū)動電極150同時形成的ITO膜，采用在第一基板10的伸出區(qū)域15中在從第二基板20的基板邊201露出的部分中將第一布線圖形11和第二布線圖形12的上層布線151，152中途切斷的結(jié)構(gòu)的情況下，布線電阻不會增大。
在制造本實施方案的電光裝置1的過程中，如圖17(C)、18(B)和圖19(B)所示，在基底導(dǎo)電膜110的上層形成銀合金膜等構(gòu)成的金屬膜后，使用光刻技術(shù)圖形化，在圖像顯示區(qū)域2中形成全面的光反射膜120時，在第一基板10的伸出區(qū)域15中在從第二基板20的基板邊201露出的部分中可作為第一布線圖形11的下層布線126和第二布線圖形12的下層布線127殘留下來。
如圖17(E)、18(D)和圖19(D)所示，在濾色層7R，7G，7B的上層形成厚的有機絕緣膜130后，使用光刻技術(shù)圖形化，在圖像顯示區(qū)域2中選擇地殘留有機絕緣膜130(帶斜線區(qū)域)時，在第一基板10的伸出區(qū)域15中在從第二基板20的基板邊201露出的部分中也殘留下來，以覆蓋第一布線圖形11的下層布線126和第二布線圖形12的下層布線127。
因此，如圖17(F)、18(F)和圖19(F)所示，在無機絕緣膜140上層中在基板整個面上形成ITO膜厚，使用光刻技術(shù)圖形化，在圖像顯示區(qū)域2中形成第一驅(qū)動電極150(帶斜線區(qū)域)時，在第一基板10的伸出區(qū)域15中在從第二基板20的基板邊201露出的部分中第一布線圖形11的下層布線126和第二布線圖形12的下層布線127由有機絕緣膜130保護，因此這些下層布線126，127不產(chǎn)生腐蝕等。
完成電光裝置1后，在第一基板10的伸出區(qū)域15中在從第二基板20的基板邊201露出的部分中第一布線圖形11的下層布線126和第二布線圖形12的下層布線127由有機絕緣膜130保護，不會發(fā)生腐蝕等，因此對該部分不需要實施樹脂模壓。
其他構(gòu)成與實施方案1相同，省略說明。
圖20(A)、(B)分別是沿與圖3的A-A’線相當?shù)奈恢蒙锨袛嚯姽庋b置時的截面圖和在與圖3的B1-B1’線以及B2-B2’線相當?shù)奈恢蒙锨袛鄷r的截面圖。
圖20(A)、(B)中，本實施方案的電光裝置，與實施方案1同樣，第一基板10中，首先從下層側(cè)向上層側(cè)順序形成ITO膜構(gòu)成的基底導(dǎo)電膜110、光反射膜120、濾色層7R，7G，7B、作為平坦化膜的有機絕緣膜130、氧化硅等構(gòu)成的無機絕緣膜140、ITO膜構(gòu)成的第一驅(qū)動電極150和取向膜(未示出)。
這里，實施方案1中，與光反射膜120同時形成的金屬膜上層直接形成濾色層7R，7G，7B，但本實施方案1中，在用作光反射膜120的銀合金膜的上層形成ITO膜構(gòu)成的導(dǎo)電性保護膜190。因此，形成濾色層7R，7G，7B時，即便在燒結(jié)的情況下，可防止由于該熱使得銀合金膜表面變色等的不妥情況。使用光刻技術(shù)對導(dǎo)電性保護膜190圖形化時，可原樣使用形成光反射膜120時使用的曝光掩膜，因此制造成本不會大幅度增加。
各層的平面布局等其他構(gòu)成與實施方案1相同，省略其說明。
圖21(A)、(B)分別是沿與圖3的A-A’線相當?shù)奈恢蒙锨袛嚯姽庋b置時的截面圖和在與圖3的B1-B1’線以及B2-B2’線相當?shù)奈恢蒙锨袛鄷r的截面圖。
圖21(A)、(B)中，本實施方案的電光裝置的第一基板10中，使用鋁膜作為光反射膜120，鋁膜與銀合金膜不同，對玻璃等的襯底密合性良好。因此，本實施方案中，第一基板10中，對襯底直接形成光反射膜120，在該光反射膜120上層順序形成濾色層7R，7G，7B、作為平坦化膜的有機絕緣膜130、氧化硅等構(gòu)成的無機絕緣膜140、ITO膜構(gòu)成的第一驅(qū)動電極150和取向膜(未示出)。
這樣構(gòu)成的情況下，例如在形成第一基板間導(dǎo)通端子170的部分中，經(jīng)包含導(dǎo)電粒子303的密封材料301熱壓粘第一基板10和第二基板20時，在第一基板間導(dǎo)通端子170的下層側(cè)形成無機絕緣膜140，但在其下層側(cè)形成與光反射膜120同時形成的第二布線圖形12的下層布線122。因此，經(jīng)密封材料301熱壓粘第一基板10和第二基板20時，在該壓力下，導(dǎo)電粒子303貫通無機絕緣膜140，第一基板間導(dǎo)通端子170電連接第二布線圖形12的下層布線122。
各層的平面布局等其他構(gòu)成與實施方案1相同，省略其說明。
圖22(A)、(B)分別沿在與圖3的A-A’線相當?shù)奈恢蒙锨袛嚯姽庋b置時的截面圖和在與圖3的B1-B1’線以及B2-B2’線相當?shù)奈恢蒙锨袛鄷r的截面圖。
如圖22(A)、(B)所示，例如在實施方案6中，在光反射膜120下層側(cè)，通過在基板表面上附加凹凸，使得在光反射膜120的上面(反射面)上也附加凹凸129。這樣構(gòu)成時，反射光可作為散射光射出，可消除顯示對視角的依賴性。
上述實施方案中，作為光反射膜，說明了使用銀合金膜、鋁膜的例子，但可采用鋁合金膜、或者鉬膜或鉬合金膜與鋁膜或鋁合金膜的多層結(jié)構(gòu)等。
本發(fā)明的電光裝置除上述液晶裝置外，還可適用于電致發(fā)光裝置，尤其是有機電致發(fā)光裝置、無機電致發(fā)光裝置等、等離子體顯示裝置、FED(場發(fā)射顯示)裝置、LED(發(fā)光二極管)顯示裝置、電泳顯示裝置、薄型布朗管、使用液晶光閘等的小型電視、使用數(shù)字微鏡器件(DMD)的裝置等。
接著參考圖23說明包括采用本發(fā)明的電光裝置的電子設(shè)備的一個例子。
圖23是表示包括與上述電光裝置相同構(gòu)成的電光裝置1的電子設(shè)備的構(gòu)成框圖。
圖23中，電子設(shè)備包含顯示信息輸出源1000、顯示信息處理電路1002、包括切換顯示模式的控制電路的驅(qū)動電路1004、電光裝置1、時鐘發(fā)生電路1008和電源電路1010。顯示信息輸出源1000包含ROM(只讀存儲器)、RAM(隨機存取存儲器)、光盤等的存儲器、同步調(diào)制視頻信號的圖像信號并輸出的同步調(diào)制電路等，根據(jù)來自時鐘發(fā)生電路1008的時鐘，處理規(guī)定格式的圖像信號，輸出到顯示信息處理電路1002。該顯示信息處理電路1002例如包含放大、極性反轉(zhuǎn)電路、相展開電路、旋轉(zhuǎn)電路、灰度系數(shù)校正電路或箝位電路等的公知的各種處理電路，從根據(jù)時鐘信號輸入的顯示信息順序生成數(shù)字信號，與時鐘信號CLK一起輸出到驅(qū)動電路1004。驅(qū)動電路1004驅(qū)動電光裝置1。電源電路1010向上述各電路提供規(guī)定電源。作為這種構(gòu)成的電子設(shè)備可舉出移動型個人計算機、便攜電話機、對應(yīng)多媒體的個人計算機(PC)和工程工作站(EWS)、尋呼機或便攜電話、文字處理器、電視機、尋像器型或監(jiān)視器直視型的錄像機、電子記事本、桌上型電子計算機、汽車導(dǎo)航裝置、POS終端、觸屏等。
如以上說明，在本發(fā)明的電光裝置中，對于從安裝端子到第一基板間導(dǎo)通端子繞引的第二布線圖形，用構(gòu)成光反射膜的金屬膜形成，因此電阻可減小。光反射膜與第一驅(qū)動電極的層間形成濾色層，并且濾色層下層側(cè)中在光反射膜中形成光透射孔。因此，在進行透射模式顯示的光透射窗中形成的濾色層與進行反射模式的顯示的此外的區(qū)域中形成的濾色層相比更厚。從而，即便透射顯示光僅透過一次濾色層，而反射顯示光入射時和反射時兩次透過濾色層，在透射模式顯示的情況和反射模式顯示的情況下，不會產(chǎn)生反射模式的顏色變濃而透射模式的顏色變淡的問題，因此可進行高品質(zhì)的顯示。
權(quán)利要求
1.一種電光裝置，在具備第1基板；對于該第1基板，用密封材料經(jīng)過預(yù)定的間隙粘貼在一起的第2基板；和在上述間隙中，保持在用密封材料區(qū)劃出的區(qū)域內(nèi)的電光物質(zhì)層，由在上述第1基板以及上述第2基板的每一個上形成的透明的第1驅(qū)動電極以及透明的第2驅(qū)動電極，在上述電光物質(zhì)層上施加電場的電光裝置中，其特征在于上述第1基板具備在從上述第2基板突出的區(qū)域中形成的安裝端子；形成在與上述第2基板重疊的區(qū)域中的第1基板間導(dǎo)通端子；連接上述安裝端子與上述第1驅(qū)動電極的第1布線圖形；和連接上述安裝端子與上述第1基板間導(dǎo)通端子的第2布線圖形，上述第2基板具備與上述第1基板間導(dǎo)通端子對向的第2基板間導(dǎo)通端子，在上述第1基板中的上述第1驅(qū)動電極的下層側(cè)，形成在與上述第1驅(qū)動電極和上述第2驅(qū)動電極對向的區(qū)域重疊的區(qū)域的一部分中形成了光透射孔的光反射膜，同時，在上述光反射膜與上述第1驅(qū)動電極的層間形成有濾色層，上述第2布線圖形在至少其一部分上具備由與上述光反射膜相同的金屬膜構(gòu)成的金屬布線。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電光裝置，其特征在于上述安裝端子以及上述第1基板間導(dǎo)通端子，由構(gòu)成上述第1驅(qū)動電極的透明導(dǎo)電膜構(gòu)成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電光裝置，其特征在于在上述濾色層與上述第1驅(qū)動電極的層間，形成有透明的有機絕緣層，使得至少避開上述第1基板間導(dǎo)通端子以及上述安裝端子形成的區(qū)域，在該有機絕緣膜與上述第1驅(qū)動電極的層間，在上述第1基板的大致全體上形成無機絕緣膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電光裝置，其特征在于上述金屬布線在上述第1布線圖形以及上述第2布線圖形中，在從上述第2基板的基板邊露出的區(qū)域中斷。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電光裝置，其特征在于上述金屬布線在上述第1布線圖形以及上述第2布線圖形中，在從上述第2基板的基板邊露出的區(qū)域中也形成的同時，在該露出的區(qū)域的上述金屬布線的上層側(cè)形成有上述無機絕緣膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電光裝置，其特征在于上述第1布線圖形在上述安裝端子形成的區(qū)域中，從在其中央?yún)^(qū)域排列的安裝端子向?qū)ο虻幕暹呇由?，連接到上述第1驅(qū)動電極上，上述第2布線圖形在上述安裝端子形成的區(qū)域中，從在其兩側(cè)區(qū)域排列的安裝端子通過上述第1布線圖形形成的區(qū)域的外側(cè)延伸，連接到在圖像顯示區(qū)的兩側(cè)區(qū)域沿著基板邊排列的上述第1基板間導(dǎo)通端子上，上述第2驅(qū)動電極在上述圖像顯示區(qū)中，向與上述第1驅(qū)動電極交叉的方向延伸，連接到上述第2基板間導(dǎo)通端子上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電光裝置，其特征在于至少在構(gòu)成上述光反射膜的金屬膜形成的區(qū)域的下層側(cè)形成基底導(dǎo)電膜。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電光裝置，其特征在于在構(gòu)成上述光反射膜的金屬膜形成的區(qū)域的上層形成有導(dǎo)電性保護膜。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電光裝置，其特征在于上述基底導(dǎo)電膜中，在與上述光透射孔重疊的區(qū)域中形成有孔。
10.根據(jù)權(quán)利要求7或9所述的電光裝置，其特征在于上述基底導(dǎo)電膜還形成在上述安裝端子的下層側(cè)以及上述第1基板間導(dǎo)通端子的下層側(cè)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電光裝置，其特征在于上述光反射膜由銀合金膜，鋁合金膜，鋁膜的任一種構(gòu)成。
12.根據(jù)權(quán)利要求7或9所述的電光裝置，其特征在于上述光反射膜由在上層具有鋁合金膜或者鋁膜，在成為上述上層與上述基底導(dǎo)電膜的中間層的下層具有鉬膜或者鉬合金膜的2層疊層構(gòu)成。
13.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電光裝置，其特征在于構(gòu)成上述光反射膜的金屬膜，還形成在上述安裝端子以及上述第1基板間導(dǎo)通端子上。
14.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電光裝置，其特征在于上述安裝端子與上述驅(qū)動用IC的凸起經(jīng)過分散在樹脂成分中的導(dǎo)電粒子電連接，而且上述導(dǎo)電粒子貫通在上述安裝端子上形成的上述無機絕緣膜。
15.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電光裝置，其特征在于上述第1基板間導(dǎo)通端子與上述第2基板間導(dǎo)通端子，經(jīng)過分散在樹脂成分中的導(dǎo)電粒子電連接，而且上述導(dǎo)電粒子貫通在上述第1基板間導(dǎo)通端子的下層側(cè)形成的上述無機絕緣膜。
16.一種電子設(shè)備，其特征在于具有權(quán)利要求1至15的任一項規(guī)定的電光裝置作為顯示部。
全文摘要
在應(yīng)用基板間導(dǎo)通的電光裝置和使用其的電子設(shè)備中提供一種結(jié)構(gòu)，在降低布線電阻的同時，可防止以透射模式和反射模式顯示的圖像產(chǎn)生色斑。在電光裝置1中，在第一基板10上按順序形成ITO膜構(gòu)成的基底導(dǎo)電膜110、銀合金膜構(gòu)成的光反射膜120、濾色層7R，7G，7B、作為平坦化膜的有機絕緣膜130、氧化硅膜等構(gòu)成的無機絕緣膜140、ITO膜構(gòu)成的第一驅(qū)動電極150和取向膜。從安裝端子160到第一基板間導(dǎo)通端子170的第二布線圖形12中使用與光反射膜120同時形成的金屬布線，但從第二基板20露出的部分被中途切斷，該部分上形成與第一驅(qū)動電極150同時形成的布線。
文檔編號G02F1/1345GK1495475SQ0315684
公開日2004年5月12日 申請日期2003年9月10日 優(yōu)先權(quán)日2002年9月18日
發(fā)明者日向章二, 坂井一喜, 上野耕太郎, 喜, 太郎 申請人:精工愛普生株式會社