專利名稱：使用光學(xué)漫反射結(jié)構(gòu)的液晶顯示設(shè)備及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及具有反射和散射入射光功能的漫反射結(jié)構(gòu)及其制造方法。本發(fā)明還涉及使用這種漫反射結(jié)構(gòu)的液晶顯示設(shè)備及其制造方法。本發(fā)明特別涉及在反射型和透反射型的液晶顯示設(shè)備中優(yōu)選使用的漫反射結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
典型的反射型液晶顯示設(shè)備根據(jù)待顯示的圖像，利用液晶介質(zhì)調(diào)制來自顯示屏側(cè)的入射光，并且允許調(diào)制的光向液晶屏側(cè)反射，由此顯示圖像。
日本專利申請?zhí)卦S公開No.273800/94公開了具有這種反射功能的圖像元(像素)電極。在該參考文獻(xiàn)中描述的配置意圖具有多個由光感樹脂材料制成的分散的突出部分，和淀積在這些突出部分上并具有沿著這些突出部分分布的粗糙化表面的有機(jī)絕緣膜，并且所描述的配置還意圖在該有機(jī)絕緣膜上形成金屬薄膜作為圖像元電極。這使得圖像元電極具有粗糙化表面，并且不僅反射而且散射入射光。光的散射防止了顯示屏側(cè)的圖像在直接反射中被鏡像，并且光的散射同時有利于改善視角特性。因此，在該參考文獻(xiàn)中，該圖像元電極被制成不僅具有光學(xué)反射功能而且具有光學(xué)散射功能。
然而，在該參考文獻(xiàn)中所描述的現(xiàn)有技術(shù)涉及很麻煩的工藝，用于形成具有用于光學(xué)散射的粗糙化表面的反射圖像元電極。更具體地，因為現(xiàn)有技術(shù)意圖基于突出部分和在這些突出部分上淀積的膜的雙結(jié)構(gòu)層來在反射圖像元電極的表面上形成粗糙度，所以需要制造工藝包括使用突出部分和淀積膜的分別的專用掩模的構(gòu)圖工藝，導(dǎo)致提高了使用該制造工藝制造的反射電極的液晶顯示設(shè)備的制造成本和產(chǎn)品成本。
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)上述要點來設(shè)計本發(fā)明，本發(fā)明的目的在于提供了使用漫反射結(jié)構(gòu)的液晶顯示設(shè)備，其中可以通過簡單工藝形成具有粗糙化表面的反射膜，本發(fā)明的目的還在于提供制造這種顯示設(shè)備的方法。
本發(fā)明的另一個目的在于提供制造漫反射電極的方法和使用根據(jù)該方法的反射電極的液晶顯示設(shè)備，其中可以通過簡單工藝形成具有粗糙化表面的反射電極。
為了實現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的一個方面的液晶顯示設(shè)備是具有漫反射結(jié)構(gòu)的液晶顯示設(shè)備，該漫反射結(jié)構(gòu)具有光學(xué)散射功能，通過該功能入射光在散射的同時被反射，該漫反射結(jié)構(gòu)包括在基層上形成的基本圖形層，該基本圖形層具有粗糙化表面；和在該基本圖形層上形成的光學(xué)反射層，其呈現(xiàn)出沿基本圖形層的粗糙化表面的粗糙化表面，該基本圖形層由輻射敏感或熱敏感的樹脂材料形成，通過減壓干燥處理向其表面提供了粗糙度。
根據(jù)這個方面，該基本圖形層具有通過減壓干燥形成的充分用于光學(xué)散射的粗糙化表面，并且只有該粗糙化表面能夠成為該光學(xué)反射層的粗糙化表面的基礎(chǔ)，由此可以提供具有簡單構(gòu)造的、用于在光學(xué)反射層的表面上形成粗糙度的結(jié)構(gòu)。使用這樣的結(jié)構(gòu)導(dǎo)致了液晶顯示設(shè)備的廉價的制造和產(chǎn)品成本。而且，由于利用合適的輻射線等通過掩模等照射該基本圖形層可以輕易地對該基本圖形層進(jìn)行合適地構(gòu)圖，因此由輻射敏感或熱敏感的樹脂材料形成基本圖形層這一事實是有利的。也就是說，有可能容易地實現(xiàn)具有粗糙化表面的基本圖形層，其按照期望構(gòu)圖。
因此，實質(zhì)上，一種液晶顯示設(shè)備其特征在于基本圖形層是單層并且專門形成用于為光學(xué)反射層的表面提供粗糙度的基礎(chǔ)。
而且，該敏感樹脂材料可以包括線型酚醛清漆樹脂(phenolnovolac resin)和光感材料，該光感材料可以是二疊氮萘醌基(naphthoquinone diazide base)材料。這允許基本圖形層由簡單使用的材料形成，并且這是實際可用的。
另一方面，光學(xué)反射層可以起到像素電極的作用。這為像素電極提供了不僅具有向液晶介質(zhì)施加電壓的原有功能，還具有光學(xué)反射和散射的功能，并且結(jié)合上述的簡單和低成本的制造方式，這是極其便利的。
而且，基層可以包括用于驅(qū)動像素的電極和/或元件。這使得在具有用于驅(qū)動像素結(jié)構(gòu)的基層的上層側(cè)上形成上述優(yōu)選的光學(xué)漫反射結(jié)構(gòu)成為可能，并且這對于下述的配置是很方便的，在該配置中基于漫反射結(jié)構(gòu)通過像素電極來掩蔽用于驅(qū)動像素的結(jié)構(gòu)，特別針對反射型和透反射型的液晶顯示設(shè)備等。
而且，為了實現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的另一個方面的制造液晶顯示設(shè)備的方法是制造具有漫反射結(jié)構(gòu)的液晶顯示設(shè)備的方法，該漫反射結(jié)構(gòu)具有入射光在散射的同時進(jìn)行反射的光學(xué)散射功能，該方法包括基本樹脂淀積步驟，該步驟在基層上淀積輻射敏感或熱敏感樹脂材料；真空干燥步驟，該步驟使得淀積的敏感樹脂材料經(jīng)受減壓干燥處理以便提供具有粗糙度的樹脂材料的表面；形狀設(shè)置步驟，該步驟使減壓干燥處理之后產(chǎn)生的敏感樹脂材料穩(wěn)定以便形成基本圖形層；和反射層形成步驟，該步驟在該基本圖形層上淀積光學(xué)反射材料以便形成具有粗糙化表面的光學(xué)反射層，該粗糙化表面是沿基本圖形層的粗糙化表面定義的。
根據(jù)這個方面，不需要用于基本圖形層的掩模以便在該基本圖形層中形成粗糙度，并且有可能在基本樹脂淀積步驟之后立即進(jìn)入到形成光學(xué)反射層的步驟，由此簡化了制造工藝。
根據(jù)這個方面，形狀設(shè)置步驟可以包括對敏感樹脂材料層進(jìn)行構(gòu)圖的構(gòu)圖步驟，該構(gòu)圖步驟包括利用輻射線通過具有預(yù)定掩模圖案的掩模照射該敏感樹脂材料的步驟；和隨后去掉該敏感樹脂材料的不需要部分的步驟。這允許根據(jù)適當(dāng)應(yīng)用的液晶顯示設(shè)備，對輻射敏感或熱敏感樹脂材料層(基本圖形層)按照需要進(jìn)行構(gòu)圖。
而且，可以在120攝氏度或者更低的溫度下對淀積的敏感樹脂材料執(zhí)行減壓干燥處理。因此，不需要將引起制造成本增加的任何特殊加熱或者高溫保持系統(tǒng)，并且特別地，由于可以在不加熱的條件下，例如在室溫下，使基本圖形層的表面粗糙化，所以這可以避免在如上述的現(xiàn)有技術(shù)情況中的溫度控制中所涉及的復(fù)雜性，并且有利于減少制造成本。
同樣在該方面，該基本圖形層可以是單層并且專門形成通過其為光學(xué)反射層的表面提供粗糙度的基礎(chǔ)，該敏感樹脂材料可以包括線型酚醛清漆樹脂和光感材料，該光感材料可以是二疊氮萘醌基材料，該光學(xué)反射層可以起到像素電極的作用，或者該基本層可以包括用于驅(qū)動像素的電極和/或元件。這也可以提供如前文提及方面中的相同的優(yōu)勢。
圖1是根據(jù)本發(fā)明的第一實施例示出了液晶顯示設(shè)備的制造方法的流程圖。
圖2是在圖1的流程圖之后示出了制造液晶顯示設(shè)備的制造方法的流程圖。
圖3是根據(jù)本發(fā)明第一實施例的液晶顯示設(shè)備制造方法中在TFT復(fù)合層形成階段中，結(jié)合了反射電極的一部分襯底的示意性剖面圖。
圖4是根據(jù)本發(fā)明第一實施例的液晶顯示設(shè)備制造方法中在絕緣材料淀積階段中，結(jié)合了反射電極的一部分襯底的示意性剖面圖。
圖5是根據(jù)本發(fā)明第一實施例的液晶顯示設(shè)備制造方法中在真空烘焙處理階段之后，結(jié)合了反射電極的一部分襯底的示意性剖面圖。
圖6是根據(jù)本發(fā)明第一實施例的液晶顯示設(shè)備制造方法中在絕緣膜構(gòu)圖階段之后，結(jié)合了反射電極的一部分襯底的示意性剖面圖。
圖7是根據(jù)本發(fā)明第一實施例的液晶顯示設(shè)備制造方法中在反射電極構(gòu)圖過程中，結(jié)合了反射電極的一部分襯底的示意性剖面圖。
圖8是根據(jù)本發(fā)明第一實施例的液晶顯示設(shè)備制造方法中在反射電極構(gòu)圖處理過程之后，結(jié)合了反射電極的一部分襯底的示意性剖面圖。
圖9是根據(jù)本發(fā)明第二實施例的液晶顯示設(shè)備制造方法中，結(jié)合了反射電極的一部分襯底的示意性剖面圖。
具體實施例方式
現(xiàn)在，下面結(jié)合附圖更為詳細(xì)地描述本發(fā)明的上述各方面和其它圖1和2示出了根據(jù)本發(fā)明的制造襯底的方法，該襯底結(jié)合了一個實施例的主動型反射液晶顯示設(shè)備的反射電極，并且圖3-8示意性地示出了其制造流程中的每一步中的一部分襯底的剖面圖。
在圖1中，首先，制備玻璃襯底1作為支撐襯底或者基層(步驟S1)，并且在玻璃襯底1的上表面上形成TFT(薄膜晶體管)(步驟S2)。附圖3示出了在該階段中的組件襯底的結(jié)構(gòu)。
也就是，在玻璃襯底1的上表面上以其預(yù)定的形狀和位置形成了源電極2和漏電極3，并且在上側(cè)，以半導(dǎo)體層4與這些電極接觸并且在這些電極之間形成橋的方式形成了由非晶硅a-Si制成的半導(dǎo)體層(溝道形成層)4。然后，在該源電極2、漏電極3和半導(dǎo)體層4的上表面上，堆疊絕緣膜5。在對該絕緣膜5構(gòu)圖之后，在該絕緣膜5的上表面上對應(yīng)于半導(dǎo)體層4的位置處形成柵電極6。該絕緣膜5用作插入在半導(dǎo)體層4和柵極6之間的柵絕緣膜。這樣，具有頂柵結(jié)構(gòu)的TFT復(fù)合層20形成在玻璃襯底1上。
然后，通過例如旋涂將用于光學(xué)散射的有機(jī)絕緣材料施加到TFT復(fù)合層20的上表面，并且之上形成絕緣膜(基礎(chǔ)樹脂材料淀積步驟S3)。該絕緣材料包括下列材料的混合物一種光感樹脂類型的電絕緣物質(zhì)，例如線型酚醛清漆樹脂；和附加的光感材料，例如二疊氮萘醌。在這個階段上該結(jié)構(gòu)中的絕緣膜在圖4中示出為，在復(fù)合層20的主平面上延伸的層7’。
在此之后，該絕緣膜7’經(jīng)受真空或者減壓干燥(真空干燥步驟S4)。具體而言，在緊接在堆疊到復(fù)合層20上之后，該絕緣膜7’不僅是未硬化的而且是處于粘性狀態(tài)，因此在該狀態(tài)中承載絕緣膜7’的襯底1被放置在氣密的密封室內(nèi)，保持在80攝氏度或者更低(例如5到35攝氏度)室溫的或者常溫的氣氛，并且此后執(zhí)行從該室中排出填充氣體和對該室抽真空到高真空度(真空烘焙)的工藝。這樣的真空烘焙使得通常是平坦的絕緣膜7’具有類似圖5中所示的折皺的粗糙化表面。
實際上，可以使用由Shipley Inc.提供的正型光/UV抗蝕劑“AZ-1350J”作為有機(jī)絕緣膜7的材料，將該AZ-1350J滴落在TFT復(fù)合層20上，以近似3500rpm旋涂大約30秒，，然后將該旋涂的襯底裝入室中并且在室溫(大約20攝氏度)下的室內(nèi)經(jīng)受連續(xù)減小氣壓的處理10分鐘或者更長時間。結(jié)果，已經(jīng)證實，在該絕緣膜7’的表面上能夠形成滿意的粗糙度。
作為具有以這種方式形成的粗糙化表面的基本圖形層的絕緣膜7通過掩模(未示出)暴露在光下(步驟S5)，此掩模放置在該膜7的上表面上。該掩模意圖形成圖6所示的接觸孔7h，并且具有這樣的掩模圖案，以便用光可以照射僅僅對應(yīng)于孔7h的部分7o。
然后，已經(jīng)經(jīng)受該曝光工藝的絕緣膜7被顯影(步驟S6)。由于該絕緣膜7由上述的光感樹脂制成，且僅僅被光照射的部分7o在本質(zhì)上變成可溶解在顯影液體中的物質(zhì)，所以通過該顯影工藝局部地去掉該絕緣膜7用以產(chǎn)生接觸孔7h。因此，對絕緣膜7進(jìn)行構(gòu)圖以便具有開口用以暴露如圖6所示的漏電極3的部分。順便提及，上述步驟S5屬于用輻射線照射該絕緣膜7的步驟，步驟S6屬于去掉絕緣膜7的步驟，并且這些步驟都屬于構(gòu)圖步驟。
然后，執(zhí)行后烘焙(post bake)以便完全使該絕緣膜7硬化或者穩(wěn)定。這里，使襯底組件處于在大約80攝氏度-130攝氏度(在該示例中是120攝氏度)的氣氛中進(jìn)行烘焙。這樣，形成硬化了的絕緣膜7，其具有粗糙的、折皺的表面和用于漏電極3的接觸孔。順便提及，步驟S7連同步驟S5和S6一起包括在基本圖形層或者絕緣膜7的形狀設(shè)置步驟中。
在形成絕緣膜7之后，作為光學(xué)反射層的反射電極8的金屬光學(xué)反射材料(在該示例中是鋁)通過濺射堆疊到絕緣膜7的整個區(qū)域上(步驟S8)。并且，將抗蝕劑施加到金屬材料膜的上表面(步驟S9)，并執(zhí)行預(yù)烘焙(步驟S10)。然后，使用第二掩模通過光照射其以使抗蝕劑膜經(jīng)受曝光工藝(步驟S11)，并且對其顯影以便去掉不需要的抗蝕劑部分(步驟S12)。在該階段中，如圖7所示，金屬膜8沿在襯底組件的整個區(qū)域上的絕緣膜7的粗糙化表面延伸，并且通過第二掩模構(gòu)圖的并且在顯影之后留下的抗蝕劑部分9被淀積在金屬膜8上面的預(yù)定位置和區(qū)域中。
之后，執(zhí)行后烘焙以便使該抗蝕劑部分9穩(wěn)定(步驟S13)，并且執(zhí)行刻蝕以便去掉其上沒有淀積抗蝕劑部分9的金屬膜8的不需要的部分(步驟S14)。然后，對余下的抗蝕劑部分9執(zhí)行剝離工藝(步驟S15)。
結(jié)果，如圖8所示，形成了具有用于漫反射入射光的粗糙化表面和起像素電極作用的區(qū)域的反射電極8。注意到，最后得到的反射電極8具有如同對于每一個像素具有獨立區(qū)域的像素電極的形狀。這樣的形狀是基于上述第二掩模的掩模圖案。步驟S8-S15對應(yīng)于形成反射層的步驟。
在步驟S15之后，該工藝進(jìn)一步進(jìn)行到制造液晶顯示設(shè)備的工藝中的預(yù)定步驟。
如上所述，根據(jù)該實施例，僅僅使用單層的絕緣膜7在反射膜8的表面上形成粗糙度，該單層絕緣膜7在其表面上具有粗糙度并且形成在TFT復(fù)合層20的上表面上，由此與前述的現(xiàn)有技術(shù)相比，僅僅需要一個掩模(基本上地，用于形成接觸孔的掩模)用于該單絕緣膜，使得有可能形成具有簡單配置的光學(xué)散射特性的反射膜。而且，利用上述的真空干燥，對于這種單層絕緣膜，有可能容易地形成適于所要求的光學(xué)散射的粗糙化表面。由此，這使得有可能以低成本制造漫反射膜，并且有利于減少使用該漫反射膜的液晶顯示設(shè)備的制造成本及其產(chǎn)品的成本。
當(dāng)然，因為以這種方式形成的粗糙化反射電極提供了作為其基本功能的入射光漫反射的作用，所以它沒有失去有利于減少鏡面反射和改善可視角度的特性、以及實現(xiàn)具有優(yōu)秀視覺特性的液晶顯示設(shè)備的上述優(yōu)點。
將上述低成本材料用于絕緣膜7而用于散射也是有利的。
在上述的實施例1中，已經(jīng)描述了用于具有頂柵結(jié)構(gòu)的液晶顯示設(shè)備的結(jié)合了反射電極的襯底，但是本發(fā)明還可以用于具有底柵結(jié)構(gòu)的液晶顯示設(shè)備。圖9中示出了結(jié)合這樣的底柵類型的反射電極的襯底。
在該實施例中，在玻璃襯底1的上表面上形成柵電極6，并且在柵電極6的上表面上和不包括對應(yīng)于該柵電極6的區(qū)域的玻璃襯底1上表面上形成了絕緣膜10。然后，在絕緣膜10的上表面上形成源電極2、漏電極3和由非晶硅a-Si制成的半導(dǎo)體層(溝道形成層)4。這里，絕緣膜10用作柵絕緣膜。這樣，形成了TFT復(fù)合層20’，包括源電極2、漏電極3、半導(dǎo)體層4、柵電極6和絕緣膜10。
在該TFT復(fù)合層20’的上層側(cè)上，與實施例1的步驟中的工藝相似，形成用于散射的等效絕緣膜7和等效反射電極8。
同實施例1相同的優(yōu)勢也可以期望從底柵型液晶顯示設(shè)備得到。
盡管在上述實施例中已經(jīng)描述了主動型液晶顯示設(shè)備，但是本發(fā)明還可以應(yīng)用于被動型的液晶顯示設(shè)備。當(dāng)然，對于絕緣膜7，同樣可能使用允許通過真空干燥處理形成的、提供滿意的光學(xué)散射效應(yīng)的粗糙化表面的材料，來替代上述的特定材料。
而且，上述的實施例涉及在室溫下執(zhí)行真空干燥處理的情況，但是根據(jù)本發(fā)明的方法不是必要地限于室溫情況下。然而，本發(fā)明的一個優(yōu)勢在于即便在一個溫度下也可以使得基本圖形層的表面粗糙化。
而且，上述的實施例涉及使用TFT作為像素驅(qū)動有源元件的液晶顯示設(shè)備，但是本發(fā)明不限于TFT，還可以應(yīng)用于使用其它類型有源元件的液晶顯示設(shè)備。
而且，在上面的描述中，像素電極是具有光學(xué)散射特性的光學(xué)反射層，但是本發(fā)明不限于該示例。根據(jù)本發(fā)明的最高級的技術(shù)概念同樣可以覆蓋這樣的模式，即該模式中除了該像素電極之外形成具有光學(xué)散射特性的光學(xué)反射層。在這種模式的情況中，光學(xué)反射層不限于由導(dǎo)電物質(zhì)形成的光學(xué)反射層。
正如另外注意的，用于上述的絕緣膜7的材料不限于具有光感性的材料，而其它輻射敏感或熱敏感的材料也可以用于該絕緣膜7。例如，利用紫外線照射使得上面提到的“AZ-1350J”等可溶解，以便能夠?qū)ζ錁?gòu)圖。而且，絕緣膜7的材料不限于允許基于顯影工藝進(jìn)行上述構(gòu)圖的材料。對于某些被動型液晶顯示設(shè)備等，可以存在這樣的模式，即該模式中通過所謂的印刷工藝將該材料只施加于必要的圖形部分。在該情況中，所要求的全部都能夠利用某些輻射線或者熱傳遞裝置使基本圖形層的材料最終硬化或者穩(wěn)定。
另外，為了清晰地說明本發(fā)明的實質(zhì)，到目前為止的說明涉及簡化形式的襯底組件的結(jié)構(gòu)，但是這不排除在不偏離該實質(zhì)的范圍內(nèi)對該元件和其它元件的微小修改和補(bǔ)充以及技術(shù)特征的變化的可能性。
因此，這里描述的優(yōu)選實施例僅僅是示例性的而不是限制性的。本發(fā)明的范圍包括權(quán)利要求意圖所涵蓋的所有修改。
權(quán)利要求
1.一種具有漫反射結(jié)構(gòu)的液晶顯示設(shè)備，該漫反射結(jié)構(gòu)具有光學(xué)散射功能，通過該功能入射光在散射的同時被反射，該漫反射結(jié)構(gòu)包括形成在基層上的基本圖形層，其具有粗糙化表面；和形成在該基本圖形層上的光學(xué)反射層，其呈現(xiàn)出沿基本圖形層的粗糙化表面的粗糙化表面，基本圖形層由輻射敏感或熱敏感的樹脂材料形成，通過減壓干燥處理使得其表面具有粗糙度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的液晶顯示設(shè)備，其特征在于基本圖形層是單層，并且專門形成為光學(xué)反射層的表面提供粗糙度的基礎(chǔ)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的液晶顯示設(shè)備，其特征在于敏感樹脂材料包括線型酚醛清漆樹脂和光感材料。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的液晶顯示設(shè)備，其特征在于光感材料是二疊氮萘醌基材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一的液晶顯示設(shè)備，其特征在于該光學(xué)反射層起像素電極的作用。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一的液晶顯示設(shè)備，其特征在于基層包括用于驅(qū)動像素的電極和/或元件。
7.一種制造具有漫反射結(jié)構(gòu)的液晶顯示設(shè)備的方法，該漫反射結(jié)構(gòu)具有光學(xué)散射功能，通過該功能入射光在散射的同時被反射，該方法包括基本樹脂淀積步驟，該步驟在基層上淀積輻射敏感或熱敏感的樹脂材料；真空干燥步驟，該步驟使淀積的敏感樹脂材料經(jīng)受減壓干燥處理，以便提供具有粗糙度的樹脂材料表面；形狀設(shè)置步驟，該步驟使得具有在減壓干燥處理之后產(chǎn)生的敏感樹脂材料穩(wěn)定，以便形成基本圖形層的；和反射層形成步驟，該步驟在該基本圖形層上淀積光學(xué)反射材料，以便形成具有沿基本圖形層的粗糙化表面定義的粗糙化表面的光學(xué)反射層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7的方法，其特征在于，所述形狀設(shè)置步驟包括對敏感樹脂材料層構(gòu)圖的構(gòu)圖步驟，該構(gòu)圖步驟包括利用輻射線通過具有預(yù)定掩模圖案的掩模照射該敏感樹脂材料的步驟；和隨后去掉該敏感樹脂材料的不需要部分的步驟。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或者8的方法，其特征在于在120攝氏度或者更低的溫度下對該淀積的敏感樹脂材料執(zhí)行減壓干燥處理。
10.根據(jù)權(quán)利要求7、8或9的方法，其特征在于基本圖形層是單層，并且專門形成為光學(xué)反射層的表面提供粗糙度的基礎(chǔ)。
11.根據(jù)權(quán)利要求7、8、9或10的方法，其特征在于該敏感樹脂材料包括線型酚醛清漆樹脂和光感材料。
12.根據(jù)權(quán)利要求11的方法，其特征在于光感材料是二疊氮萘醌基材料。
13.根據(jù)權(quán)利要求7-12中任一個的方法，其特征在于該光學(xué)反射層起像素電極的作用。
14.根據(jù)權(quán)利要求7-13中任一個的方法，其特征在于基層包括用于驅(qū)動像素的電極和/或元件。
全文摘要
提供了液晶顯示設(shè)備，該設(shè)備使用了漫反射結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)中具有粗糙化表面的反射膜能夠通過簡單工藝形成，并且提供了其制造方法。一種具有漫反射結(jié)構(gòu)(7，8)的液晶顯示設(shè)備，該漫反射結(jié)構(gòu)具有光學(xué)散射功能，通過該功能入射光在散射的同時被反射。該漫反射結(jié)構(gòu)包括形成在基層(1，20)上的基本圖形層(7)，其具有粗糙化表面；和形成在該基本圖形層(7)上的光學(xué)反射層(8)，其沿所述基本圖形層的粗糙化表面呈現(xiàn)粗糙化表面。由輻射敏感或熱敏感的樹脂材料形成了基本圖形層(7)，通過減壓干燥處理使得其表面具有粗糙度。
文檔編號G02F1/1343GK1633620SQ03803810
公開日2005年6月29日 申請日期2003年1月27日 優(yōu)先權(quán)日2002年2月13日
發(fā)明者T·宇卡瓦 申請人:皇家飛利浦電子股份有限公司