專利名稱:背光模組的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明是關(guān)于一種背光模組,特別是關(guān)于一種應(yīng)用于液晶顯示器的背光模組。
背景技術(shù):
液晶顯示器是一種非自發(fā)光顯示裝置,其顯示主要通過控制外部光源所發(fā)出光束的通過或者不通過來實現(xiàn),因此需要相應(yīng)的背光模組或者前光模組,該背光或者前光模組可將外部光源所發(fā)出的光束導(dǎo)向顯示面板,實現(xiàn)顯示功能。目前,隨著大尺寸液晶顯示器背光或者前光模組需求的日趨增長,對液晶顯示器背光或者前光模組的出光均勻度的要求越來越高。
請參閱圖1,是一種現(xiàn)有技術(shù)的背光模組1,該背光模組1包括多個點光源11、一反射板12、一導(dǎo)光板13、一擴散板14及一增亮片15。該導(dǎo)光板13大致是平板形,其包括一入射面131、一底面133及一出射面132。其中該點光源11相對于導(dǎo)光板13的入射面131設(shè)置,該反射板12、導(dǎo)光板13、擴散板14及增亮片15依次層疊放置。由點光源11發(fā)出的光束,經(jīng)導(dǎo)光板13、反射板12及擴散板14傳輸后導(dǎo)向該增亮片15,該增亮片15表面均勻分布有多個平行的棱鏡結(jié)構(gòu)151,該棱鏡結(jié)構(gòu)151將該光束聚集并導(dǎo)向顯示面板(圖未示)。
請參閱圖2,是兩顆點光源11的出射光在導(dǎo)光板13空間平面200的能量分布示意圖。由于點光源11的出射光能量呈一圓錐分布(請參閱圖3),所以,該點光源11的出射光入射至空間平面200時,該空間平面200會存在出射光無法到達的區(qū)域261、262及263,該區(qū)域261、262及263通常被稱為暗帶區(qū),影響背光模組的出光均勻度。
發(fā)明內(nèi)容為了克服現(xiàn)有技術(shù)中背光模組出光均勻度較差的問題,本發(fā)明提供一種出光均勻度較高的背光模組。
本發(fā)明解決技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是本發(fā)明的背光模組包括一導(dǎo)光板和至少一點光源,該導(dǎo)光板包括至少一入射面、一和入射面相連的出射面,該點光源相對該至少一入射面設(shè)置,其中,該出射面具有多個呈行列排布的多邊形凹槽結(jié)構(gòu)單元。
相較于現(xiàn)有技術(shù),由于本發(fā)明中背光模組的導(dǎo)光板出射面具有多個呈行列排布的多邊形凹槽結(jié)構(gòu)單元,該結(jié)構(gòu)能分散光束較密集的導(dǎo)光板區(qū)域同時集中光束較稀疏的導(dǎo)光板區(qū)域,從而減小背光模組明暗區(qū)域之間的差距,進而削弱現(xiàn)有技術(shù)的背光模組具有暗帶的缺陷,改善背光模組的出光均勻度較差的問題,提高背光模組的出光均勻度。
圖1是現(xiàn)有技術(shù)的背光模組立體分解圖。
圖2是現(xiàn)有技術(shù)的背光模組光路示意圖。
圖3是現(xiàn)有技術(shù)的發(fā)光二極管光強度極坐標分布圖。
圖4是本發(fā)明背光模組第一實施方式的平面示意圖。
圖5是本發(fā)明背光模組第二實施方式的平面示意圖。
具體實施方式
請參閱圖4,是本發(fā)明背光模組的第一實施方式。該背光模組100包括二點光源10及一導(dǎo)光板20。該點光源10是用于發(fā)出光束,該導(dǎo)光板20引導(dǎo)該發(fā)光二極管10發(fā)出光束的傳輸方向,將其轉(zhuǎn)換為面光源出射。
該導(dǎo)光板20是平板形導(dǎo)光板,是采用壓克力、玻璃或聚碳酸酯等透明材質(zhì)制成,其包括一光入射面201、一與入射面201相連的出射面202及與出射面202相對的底面(圖未示)。該入射面201是用于接收點光源10發(fā)出的光束。該出射面202包括多個呈n行m列排列的六邊形結(jié)構(gòu)單元2020,該每一六邊形結(jié)構(gòu)單元2020的大小與液晶面板(圖未示)的每一個像素單元相對應(yīng)。該六邊形分為三個區(qū)域I、II及III,該三個區(qū)域具有不同方向的凹槽,以第1行、第i(i≤n)行、第1列及第j(j≤m)列為例,第1行的排布方式是第II區(qū)域凹槽方向垂直于導(dǎo)光板20的入射面201方向且其排布方式及凹槽疏密程度不變,第I及第III區(qū)域的凹槽方向傾斜于入射面201方向且其凹槽密度不等,其中離光源較近的該區(qū)域凹槽密度較小,離光源較遠的該區(qū)域凹槽密度較大;第i行的排布方式是第II區(qū)域凹槽排布方式不同,分為兩部份,其中一部分垂直于導(dǎo)光板20的入射面201方向,另一部份平行于入射面201方向;第I及第III區(qū)域的凹槽與入射面201方向傾斜角小于第1行的相應(yīng)區(qū)域凹槽與入射面201方向的傾斜角,即離光源較近的傾斜角較大,離光源較遠的傾斜角較小。第1列的排布方式是以距離點光源遠近為準,從第1行至第n行的n個六邊形結(jié)構(gòu)單元2020,第I及第III區(qū)域的凹槽與入射面201方向傾斜角逐漸變小為0°;第II區(qū)域凹槽排布方式不同,分為兩部份,其中一部分垂直于導(dǎo)光板20的入射面201方向,另一部份平行于入射面201方向,其比例是 離光源越近垂直于入射面201方向上的凹槽所占的比例越大。第j列排布方式是其第II區(qū)域凹槽排布方式及第I及第III區(qū)域凹槽與入射面201方向傾斜角與第1列相同,但是,其第I及第III區(qū)域凹槽密度小于第II區(qū)域凹槽密度。
導(dǎo)光板20的底面設(shè)置多個網(wǎng)點(圖未示),以提高導(dǎo)光板20出射光束的均勻性。該網(wǎng)點的大小是沿遠離入射面201的方向遞增,其是圓球狀。該網(wǎng)點也可以是圓柱狀、正方體、金字塔形或其它合適的形狀。該網(wǎng)點可以印刷或射出成型等方式分布于導(dǎo)光板20的底面。另外,也可以在底面設(shè)置多個V形槽(圖未示)以替代該多個網(wǎng)點。
由于導(dǎo)光板20的出射面202面上具有與液晶面板每一個像素單元相對應(yīng)的六邊形結(jié)構(gòu)單元2020,該六邊形結(jié)構(gòu)單元2020上的凹槽隨著其與點光源10的距離不同而具有不同的傾斜角度,使離光源較遠的區(qū)域能更大程度的集中光束,從而提高導(dǎo)光板20的出光均勻度。
請參閱圖5,是本發(fā)明背光模組的第二個實施方式。該背光模組200包括兩點光源30及一導(dǎo)光板40,該導(dǎo)光板40包括一光入射面401、與入射面401相連的出射面402及與出射面402相對的底面(圖未示)。該入射面401是用于接收點光源30發(fā)出的光束。該出射面402包括多個呈n行m列排列的四邊形結(jié)構(gòu)單元4020。以第i行及第j列為例,第i行排布方式是凹槽方向垂直于導(dǎo)光板40的入射面401方向,其中離光源較近的該區(qū)域凹槽密度較小,離光源較遠的該區(qū)域凹槽密度較大;第j列排布方式是該區(qū)域凹槽排布方式分為兩部份,其中一部分垂直于入射面401,另一部份平行于入射面401方向,其比例是離光源越近垂直于入射面401方向上的凹槽所占的比例越大。
本發(fā)明背光模組的導(dǎo)光板40出射面202及402上的結(jié)構(gòu)單元排布是利用電子束直接寫(Electron Beam Direct Write,EBDW)的蝕刻方式寫到模仁上,通過熱壓成型方式而形成導(dǎo)光板。
本發(fā)明的背光模組可有其它變更設(shè)計,例如該導(dǎo)光板40的多個四邊形結(jié)構(gòu)單元4020形狀不僅是四邊形,也可以是五邊形或其它多邊形狀。也可以在該導(dǎo)光板40入射面上,通過電子束蒸鍍或化學(xué)氣相沉積法等方法鍍覆一層增透膜或抗反射膜,為使入射光實現(xiàn)彩色化,可在入射面鍍覆一層熒光層,底面也可以設(shè)有霧狀剔花或咬花以替代該多個網(wǎng)點,該導(dǎo)光板形狀不限于平板形,也可以是楔形。
權(quán)利要求
1.一種背光模組,包括一導(dǎo)光板和至少一點光源,該導(dǎo)光板包括至少一入射面、一和入射面相連的出射面,該點光源相對該一入射面設(shè)置,其特征在于該出射面具有多個呈行列排布的多邊形凹槽結(jié)構(gòu)單元。
2.如權(quán)利要求1所述的背光模組,其特征在于該多個多邊形凹槽結(jié)構(gòu)單元是六邊形結(jié)構(gòu)單元。
3.如權(quán)利要求2所述的背光模組,其特征在于該多個蜂巢式結(jié)構(gòu)單元分為三個區(qū)域I、II及III,該三個區(qū)域根據(jù)其與光源之間的距離具有不同方向的凹槽。
4.如權(quán)利要求3所述的背光模組,其特征在于該第II區(qū)域凹槽方向垂直于導(dǎo)光板入射面且同一行的排布方式不變,第I及第III區(qū)域的凹槽方向傾斜于導(dǎo)光板入射面且其凹槽密度不等,其中離光源較近的該區(qū)域凹槽密度較小,離光源較遠的該區(qū)域凹槽密度較大。
5.如權(quán)利要求3所述的背光模組,其特征在于該第II區(qū)域凹槽分位兩部份,其中一部分垂直于導(dǎo)光板入射面,另一部份平行于導(dǎo)光板入射面,其比例是離光源越近垂直于導(dǎo)光板上的凹槽所占的比例越大。
6.如權(quán)利要求3所述的背光模組,其特征在于該第I及第III區(qū)域的凹槽與導(dǎo)光板入射面傾斜角不等,離光源較近的傾斜角較大,離光源較遠的傾斜角較小。
7.如權(quán)利要求1所述的背光模組,其特征在于該入射面設(shè)有螢光層。
8.如權(quán)利要求1所述的背光模組,其特征在于該入射面鍍有增透膜。
9.如權(quán)利要求1所述的背光模組,其特征在于該導(dǎo)光板是平板形或楔形。
全文摘要
一種背光模組,包括一導(dǎo)光板和至少一點光源,該導(dǎo)光板包括至少一入射面、一和入射面相連的出射面,該點光源相對該一入射面設(shè)置,該出射面具有多個呈行列排布的多邊形凹槽結(jié)構(gòu)單元。
文檔編號G02F1/13GK1655028SQ200410015380
公開日2005年8月17日 申請日期2004年2月14日 優(yōu)先權(quán)日2004年2月14日
發(fā)明者余泰成, 呂昌岳, 陳杰良 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司