專利名稱：顯影液移除裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于一種顯影制程設(shè)備，特別是一種顯影液移除裝置。
背景技術(shù)：
微影制程主要由光阻涂覆、曝光和顯影所組成。涂覆制程是將光阻均勻的涂覆在基板表面；曝光制程是利用光阻感光的特性將光罩上的圖案轉(zhuǎn)移到光阻上面；顯影制程是使用顯影液將不必要的光阻去除，使圖形完整的顯現(xiàn)在基板上。
就顯影制程而言，薄膜電晶體(TFT，Thin Film Transistor)業(yè)界一般是利用玻璃和顯影液噴嘴之間的相對(duì)移動(dòng)來實(shí)現(xiàn)顯影液涂覆至玻璃基板表面的，然后靜置一段時(shí)間待反應(yīng)完成后，再將玻璃基板表面的顯影液移除。
請(qǐng)參閱圖1，是一現(xiàn)有技術(shù)的移除玻璃基板表面顯影液的裝置1，其包括一工作臺(tái)15、支架14。該工作臺(tái)15邊緣設(shè)置有多個(gè)可上下伸縮的伸縮桿12，該支架14固定于該工作臺(tái)15上，其上有一噴嘴13，該噴嘴13是用于向基板11上噴射顯影液。在噴嘴13向基板11噴射顯影液時(shí)，伸縮桿12縮入工作臺(tái)15內(nèi)，待反應(yīng)結(jié)束，伸縮桿12升起，使顯影液從基板11上方流下，實(shí)現(xiàn)顯影液從基板11上移除的動(dòng)作。此種顯影液移除裝置1有如下缺陷a.玻璃需要另行傾斜或頂起，容易造成碎片，安全性低。b.玻璃傾斜或頂起后，須等待顯影液流下，才可執(zhí)行下一步驟，增加了操作工時(shí)。
請(qǐng)參閱圖2，為另一現(xiàn)有技術(shù)的移除玻璃基板表面顯影液的裝置2，其包括一工作臺(tái)25、支架24。該工作臺(tái)25中央設(shè)置有多個(gè)可上下伸縮的伸縮桿22，該支架24固定于該工作臺(tái)25上，其上有一噴嘴23，該噴嘴23是用于向基板21上噴射顯影液。在噴嘴23向基板21噴射顯影液時(shí)，伸縮桿22縮入工作臺(tái)內(nèi)，待反應(yīng)結(jié)束，伸縮桿22升起，使顯影液從基板21上方流下，實(shí)現(xiàn)顯影液從基板21上移除的動(dòng)作。該顯影液移除裝置2與顯影液移除裝置1區(qū)別在于其伸縮桿22設(shè)置在工作臺(tái)25中央，相較顯影液移除裝置1其顯影液移除時(shí)間減少，減少了部分操作時(shí)間，但仍然有易造成碎片的缺陷。

發(fā)明內(nèi)容為克服現(xiàn)有技術(shù)顯影液移除裝置安全性低和操作速度較慢的缺陷，本發(fā)明提供一種安全性高和操作速度快的顯影液移除裝置。
本發(fā)明解決技術(shù)問題的技術(shù)方案是提供一顯影液移除裝置，其包括一承載基板的工作臺(tái)和一支架，其中，該支架上設(shè)置有一去離子水噴嘴和一氣體噴嘴，該去離子水噴嘴和一氣體噴嘴分別與兩個(gè)樞紐連接。
相較現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的有益效果是本發(fā)明顯影液移除裝置利用氣體和去離子水來清除基板表面的顯影液，無需抬起基板，降低了造成碎片的幾率，提高了安全性，另外，也不用等待顯影液流下，節(jié)省了操作時(shí)間。

圖1是現(xiàn)有技術(shù)顯影液移除裝置的立體圖。
圖2是另一現(xiàn)有技術(shù)顯影液移除裝置的立體圖。
圖3是本發(fā)明顯影液移除裝置立體圖。
圖4是本發(fā)明顯影液移除裝置平面圖。
具體實(shí)施方式
請(qǐng)一起參閱圖3和圖4，圖3是本發(fā)明顯影液移除裝置第一實(shí)施方式的立體圖，圖4是本發(fā)明顯影液移除裝置第一實(shí)施方式的平面圖。本發(fā)明顯影液移除裝置3包括一工作臺(tái)36、一支架33、一噴嘴支撐橋37、一氣體噴嘴31和一去離子水噴嘴32。該工作臺(tái)36是用來承載基板30的，該支架33固定于工作臺(tái)36上，噴嘴支撐橋34固定于支架33上，氣體噴嘴3 1和離子水噴嘴32分別位于噴嘴支撐橋34兩側(cè)，另外，氣體噴嘴31和離子水噴嘴32分別通過樞紐34、35與噴嘴支撐橋37連接，這樣氣體噴嘴31和離子水噴嘴32可以以不同角度向基板噴射氣體和去離子水，選擇最佳的工作狀態(tài)。當(dāng)顯影液將光阻去除后，該顯影液去除裝置啟動(dòng)，氣體噴嘴31和一去離子水噴嘴32分別噴出氣體和去離子水，而基板30與工作臺(tái)上移動(dòng)，先后經(jīng)過氣體噴嘴31和一去離子水噴嘴32，即先由氣體流將基板30表面的顯影液吹掉，再使用去離子水清洗基板30表面。
該顯影液移除裝置3使用位置固定角度可調(diào)的氣體噴嘴31和一去離子水噴嘴32來清除基板30表面的顯影液，無需抬起基板30，降低了造成碎片的幾率，提高了安全性，另外，也不用等待顯影液流下，可邊噴射氣體和去離子水邊移動(dòng)基板30，節(jié)省了操作時(shí)間。
權(quán)利要求
1.一顯影液移除裝置，其包括一承載基板的工作臺(tái)和一支架，其特征在于該支架上設(shè)置有一去離子水噴嘴和一氣體噴嘴。
2.如權(quán)利要求1所述的顯影液移除裝置，其特征在于該支架中部有一噴嘴支撐橋，該噴嘴支撐橋位于該去離子水噴嘴和一氣體噴嘴之間。
3.如權(quán)利要求1所述的顯影液移除裝置，其特征在于該氣體噴嘴與一樞紐連接。
4.如權(quán)利要求1或3所述的顯影液移除裝置，其特征在于該去離子水噴嘴與一樞紐連接。
全文摘要
本發(fā)明公開一顯影液移除裝置，其包括一承載基板的工作臺(tái)和一支架，其中，該支架上設(shè)置有一去離子水噴嘴和一氣體噴嘴，該去離子水噴嘴和一氣體噴嘴分別與兩個(gè)樞紐連接。該裝置可快速且安全地排除位于基板表面的顯影液。
文檔編號(hào)G03F7/00GK1690860SQ200410027038
公開日2005年11月2日 申請(qǐng)日期2004年4月22日 優(yōu)先權(quán)日2004年4月22日
發(fā)明者許文誠(chéng), 王敬龍, 詹育穎, 曾增魁 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 群創(chuàng)光電股份有限公司