專利名稱：配向膜平臺、配向膜制程及配向膜制程設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明有關一種配向膜平臺以及配向膜制程，特別是有關一種具有承載部的配向膜平臺。
背景技術：
通過電壓控制液晶的狀態(tài)，可使背光組件的光以所需的偏振方向穿透液晶層，藉以于液晶屏幕的畫面呈現(xiàn)出不同色澤與圖樣。而當灌注液晶時，各液晶可藉由配向膜的配向作用，而使各個液晶分子呈現(xiàn)出規(guī)律的排列方式，并配合電路的分布以操作電壓顯示出所需的畫面。所以配向膜的狀態(tài)好壞，是決定一液晶屏幕的畫面顯示品質好壞與否的重要因素之一。
當欲使一配向膜具有對液晶進行配向的功能時，需將配向膜設置于一基板上，再利用一配向桿的摩擦作用，使配向膜受到固定方向的延伸力，而使液晶分子在灌注于配向膜表面時呈現(xiàn)整齊排列的狀態(tài)。
一配向膜(未圖示)被設置于一配向膜基板11的表面，如圖1所示，此配向膜基板11被放置于一配向膜平臺13之上，并藉由配向桿15滾過配向膜基板11表面上的配向膜，即可使配向膜依固定方向延伸，而產生使液晶分子配向的能力。
配向桿15具有一桿體151與一配向結構153，配向結構153的材質通常為布毛，亦即其可由一摩擦布所組成。在進行摩擦動作時，由于配向膜基板11的厚度a1很薄，故當配向結構153進行作用的厚度b1較配向膜基板11的厚度a1為厚時，除了容易因配向結構153受配向膜基板11表面邊緣的摩擦而產生毛屑17(或其他污染物)脫落的情形外，更可能因配向結構153接觸到配向膜平臺13的邊緣與表面而產生毛屑17(或其他污染物)。故除了配向結構153容易因過度的摩擦而減短使用壽命、增加制程上多余的成本外，更可能因毛屑17或存在于制程空間中的落塵不慎地落到配向膜基板11之上而污染了配向膜，降低制程上的良率。
故為減輕上述問題的影響，可如圖2所示那樣，藉由于配向膜基板11與配向膜平臺13之間設置一具有厚度c1的軟墊19，以墊高配向膜基板11(即使(a1+c1)＞b1)，并防止配向結構153因接觸到配向膜平臺13而減少配向桿15的使用壽命、降低配向膜制程的良率。
然而，卻因軟墊19在使用一段時間后即需進行更換，而易導致成本的增加。且若于更換軟墊19時不慎因毛屑17(或其他污染物)未清除干凈，而使毛屑17存在于軟墊19與配向膜平臺13之間，造成軟墊19表面不平坦的情形時，則可能在進行配向膜制程時影響到配向桿15滾動的狀態(tài)，繼而影響良率。再如上即使能減少毛屑17(或其他污染物)的產生，卻由于配向桿15仍會摩擦到配向膜基板11的表面，故仍無法妥善解決毛屑17(或其他污染物)污染配向膜，而降低良率的情形。
如上所述，需發(fā)展出一種配向膜平臺以及一種配向膜制程，以增加配向膜制程的良率以及延長配向桿的使用壽命。

發(fā)明內容
本發(fā)明的一目的為提供一配向膜平臺以應用于配向膜制程中，以克服已有技術所具的缺點。
本發(fā)明的另一目的為提供一配向膜平臺以及一配向膜制程，藉由配向膜平臺整體結構的改變，減少軟墊的使用，進而降低成本。
本發(fā)明的又一目的為提供一配向膜平臺以及一配向膜制程，藉由不同態(tài)樣或不同尺寸大小的集污結構減少污染配向膜的機率，增加配向膜制程的良率。
本發(fā)明提供一種配向膜平臺與配向膜制程，配向膜平臺具有一座體與一承載部；承載部設置于座體之上，且承載部的面積小于座體的面積。配向膜可放置于承載部之上，以進行配向膜制程。且配向膜平臺還包含有一設置于座體的集污結構，以連接一抽氣設備。
為進一步說明本發(fā)明之上述目的、結構特點和效果，以下將結合附圖對本發(fā)明進行詳細的描述。


圖1是已有的配向膜平臺的示意圖；圖2是已有的搭配有一軟墊的配向膜平臺示意圖；圖3是本發(fā)明的第一實施例的示意圖；圖4是本發(fā)明的第二實施例的示意圖；以及圖5是本發(fā)明的配向膜制程的流程圖。
具體實施例方式
本發(fā)明提供一配向膜平臺以及應用配向膜平臺的配向膜制程，將于以下詳述。本發(fā)明實施例是以解決先前技術所述的問題為主，但本發(fā)明所具的專利范圍，并不以下述的附圖與實施例的描述為限，而應以所申請的專利范圍與精神為準。
本發(fā)明的第一實施例如圖3所示，配向膜制程設備具有配向結構253與配向膜平臺。將設置于配向膜基板21上的配向膜211放置于配向膜平臺23之上，以進行配向膜的制程；配向膜平臺23具有一座體231與一承載部233，于此實施例中，承載部233與座體231為一體成型，而承載部233的面積小于座體231的面積。
于此實施例中，配向桿25具有包覆桿體251的配向結構253；當在以配向結構253作用于配向膜211，亦即對配向膜基板21進行摩擦動作時，由于承載部233的面積小于配向膜基板21，且藉由控制配向膜基板21的厚度a2、配向桿25的作用厚度b2(亦即配向結構253的作用厚度)以及承載部233的厚度c2間的關系，亦即配向桿25接觸到配向膜基板21時滿足(a2+c2)＞b2的條件，使作用厚度b2小于配向膜基板21的頂端到座體231表面2311的距離；如此，便可在充份利用配向結構253的條件下，減少配向結構253接觸到座體231表面2311的機會，進而減少配向結構253因與座體231的表面2311摩擦而增加毛屑。
又因承載部233與座體231為一體成型，所以不需如已有的技術那樣必須注意到軟墊19的使用狀態(tài)，或是因更換軟墊19而增加制程上的成本。
另外，還可于座體231設置集污結構29，以清理或吸附毛屑、落塵或其他污染物，故藉由清理或吸附毛屑與落塵，防止掉落于配向膜平臺23上的毛屑與落塵掉落于配向膜基板21之上，繼而使制程具有穩(wěn)定甚或更好的良率。
于此實施例中，集污結構29為一凹入于座體231的集污槽，且為穿孔的態(tài)樣，貫穿于座體231；其可藉由各種方法達到清理毛屑的效果，其中一種方式即為藉由連接清潔設備，如一抽氣設備31以進行清理作用，以通過抽氣設備31的吸附力，吸附進入抽氣設備31的吸附力可及的處的毛屑或落塵，而達到清潔的效果。而于此實施例中，抽氣設備31系為一真空吸塵器。
于第一實施例中，集污結構29形成于座體231之上，然而，集污結構29所形成之處并不僅限于座體231，其可視配向膜平臺23的整體設計改變集污結構29的形成位置或數量的多寡，甚至搭配其他方式以更為改進配向膜平臺23的清潔程度。本發(fā)明的第二實施例如圖4所示，可依照毛屑或落塵掉落的位置而設計不同尺寸大小的復數個集污結構29，其形狀為圓形，使最容易有毛屑或落塵掉落處的集污結構29的尺寸較大，以具有較強的吸附力以及較大范圍的集污結構；另外亦可增設尺寸較小的集污結構29以防尺寸較小的毛屑或落塵飄落至其他地方，而更妥善地維持配向膜平臺23的清潔。另外，亦可配合配向膜平臺23的整體設計，而依需求設計具有不同尺寸大小的不同形狀集污結構291，其中，集污結構291的形狀為方形。
本發(fā)明的配向膜制程可如圖5所示，如步驟33，提供一配向桿。再如步驟35，于本發(fā)明的配向膜平臺上放置一配向膜基板。隨后，則如步驟39所示，啟動一清潔動作，以清潔毛屑或落塵；而啟動清潔動作的方式，則可如步驟391所示，啟動連接于集污結構的抽氣設備，以從集污結構吸附毛屑或落塵，進而達到清潔的效果。之后，再如步驟41，以配向桿的配向結構作用于配向膜，而以完成配向膜制程。
本發(fā)明的配向膜平臺可減少已有技術中軟墊的使用，而降低因軟墊而花費于制程上的成本，且可藉由不同態(tài)樣或不同尺寸的集污結構的作用，有效減少毛屑或落塵污染配向膜的機率，進而穩(wěn)定甚或增進配向膜的良率。而通過本發(fā)明的配向膜制程，則可有效提升配向膜的良率。
雖然本發(fā)明已參照當前的具體實施例來描述，但是本技術領域中的普通技術人員應當認識到，以上的實施例僅是用來說明本發(fā)明，在沒有脫離本發(fā)明精神的情況下還可作出各種等效的變化或替換，因此，只要在本發(fā)明的實質精神范圍內對上述實施例的變化、變型都將落在本申請的權利要求書的范圍內。
權利要求
1.一種配向膜平臺，其特征在于包含一座體，其上具有一承載部，且該承載部的面積小于該座體的面積；以及一集污結構，位于該座體上的該承載部外緣。
2.如權利要求1所述的配向膜平臺，其特征在于該集污結構為一凹入于該座體的一集污槽。
3.如權利要求2所述的配向膜平臺，其特征在于該集污槽呈穿孔的態(tài)樣，貫穿于該座體。
4.如權利要求2或3所述的配向膜平臺，其特征在于該集污槽具有大小不同的樣式，且可散布配置于該座體上。
5.如權利要求2或3所述的配向膜平臺，其特征在于該集污結構還包含一抽氣設備，該抽氣設備與該集污槽的末端相連結。
6.一種配向膜制程，其特征在于包括以下步驟提供一配向桿；于一配向膜平臺上放置一配向膜基板；啟動一清潔動作，以清潔毛屑或落塵，其啟動清潔動作的方式，為連接于集污結構的抽氣設備，以從集污結構吸附毛屑或落塵，進而達到清潔的效果；以及以配向桿的配向結構作用于配向膜，以完成配向膜制作。
7.一種配向膜制程設備，其特征在于包含一配向結構，用以作用于一配向膜；以及一配向膜平臺，其具有一座體，其上具有一承載部，且該承載部的面積小于該座體的面積；以及一集污結構，位于該座體上的該承載部外緣；其中，于進行該配向膜的制程時，該配向膜是放置于該承載部上。
8.如權利要求7所述的配向膜制程設備，其特征在于該配向結構是由一摩擦布組成。
全文摘要
一種配向膜平臺與配向膜制程，其中，配向膜平臺具有一承載部設置于一座體上。一配向膜放置于承載部之上，承載部的面積小于座體的面積。且于座體的承載部外緣，則設置有集污結構。
文檔編號G02F1/1337GK1584711SQ20041004890
公開日2005年2月23日 申請日期2004年6月9日 優(yōu)先權日2004年6月9日
發(fā)明者何岳暾, 張景雄 申請人:友達光電股份有限公司