專利名稱：激光制造的紫外輻射掩模的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明通常涉及顏色印刷。更具體的，本發(fā)明涉及激光制造的紫外輻射(UV)掩模，特別可用于使用定制顏色的印刷。
背景技術(shù)：
印刷人員使用預(yù)彩色打樣或非印刷機(jī)彩色打樣來模擬將被印刷方法制造的圖像。預(yù)彩色打樣系統(tǒng)包括彩片疊合打樣系統(tǒng)和套印，或單片，系統(tǒng)。彩片疊合打樣和套印打樣通常都用作“合同打樣”。合同打樣用作印刷人員向客戶的承諾，即當(dāng)制造出版印刷品時(shí)印刷方法將復(fù)制打樣的圖像。因此，印刷人員希望具有能夠最精確地預(yù)測(cè)將被出版印刷復(fù)制的圖像的打樣。在其中使用定制顏色的印刷方法中，對(duì)精確打樣的要求尤其高。
在彩片疊合打樣中，通常每種印刷顏色隔離在分開的透明片或膜上，稱為疊片。在彩片疊合打樣中的疊片的數(shù)目通常等于將在印刷方法中使用的油墨的數(shù)目。單獨(dú)的疊片重合組裝以制造彩片疊合打樣，該彩片疊合打樣相對(duì)于適當(dāng)?shù)谋尘?例如不透明反射白板)被視作復(fù)合物以預(yù)測(cè)印刷圖像的外觀。在彩片疊合打樣中，單獨(dú)的疊片仍舊是可分離的并且可以被單獨(dú)的觀察或疊加。一些市售彩片疊合打樣系統(tǒng)詳細(xì)描述于“Principles of Color Proofing”，Michael H.Bruno著，GAMA Communications(Salem，New Hampshire 1986)中；尤其是第V章“Off-Press Color Proofing System-Overlay”(133-146頁)。
每張疊片都由彩片疊合打樣膜制造。常規(guī)彩片疊合打樣膜結(jié)構(gòu)包括基質(zhì)和有色光敏材料層。可用于圖像復(fù)制方法中的光敏打樣膜在圖形工藝工業(yè)中是公知的。打樣膜通常暴露于穿過帶有圖像的透明片例如顏色-分離透明片的輻射，以將所述圖像復(fù)制到打樣膜上。在以圖像方式曝光以后，可以顯影光敏層以制備圖像化的疊片。顯影通常通過如下方式進(jìn)行沖洗可溶圖像區(qū)域(例如負(fù)性作用透明片的未曝光區(qū)域)、剝離分開、用著色劑調(diào)色或者這些技術(shù)的組合。
通過使用光柵激光束或激光束陣列直接從“供體”片向“受體”片轉(zhuǎn)移有色物質(zhì)已經(jīng)制造了數(shù)字彩色打樣。覆蓋有特定原料色(stockcolor)油墨層的供體片與受體膜并列放置，油墨側(cè)在它們之間，所述原料色例如青色、洋紅、黃色或黑色(通常稱為“CMYK”顏色系統(tǒng))。所述油墨含有紅外(“IR”)-吸收材料。所述供體膜暴露于IR輻射圖案。
通常，彩片疊合打樣膜在工廠中以大批量制造并且是預(yù)著色的。因此，在制造彩片疊合打樣時(shí)，最終用戶通常限制于那些能夠從制造商得到的原料色。由于制造、存儲(chǔ)和配送彩片疊合打樣膜材料的成本，必然使得從制造商只能得到有限范圍的顏色。制造商提供的所述有限范圍的顏色對(duì)于很多目的是足夠的，但是卻不能使最終用戶精確地模擬難于匹配的顏色。例如，使用標(biāo)準(zhǔn)方法顏色青色、洋紅、黃色和黑色，很多熒光或金屬色視覺上難以模擬。即使是對(duì)于在理論上通過標(biāo)準(zhǔn)方法顏色可以復(fù)制的顏色，對(duì)于客戶的特殊用途如此制造的顏色的色調(diào)經(jīng)常不是足夠精確。
制造包括定制顏色的彩片疊合打樣的方法是已知的。授予Matthews等人的美國(guó)專利5001037和5122437報(bào)道了制造多層、多種顏色彩片疊合打樣的方法，所述打樣包含至少一個(gè)預(yù)著色疊片圖像和至少一個(gè)經(jīng)調(diào)色(toned)的圖像。該方法包括如下步驟曝光未著色的可調(diào)色光敏疊片元件，顯影該曝光過的疊片元件，和用調(diào)色劑(toner)對(duì)該顯影過的光敏元件進(jìn)行調(diào)色。授予Graves等人的美國(guó)專利5232814報(bào)道了用于制造非標(biāo)準(zhǔn)顏色圖像尤其是金屬外觀圖像的彩色打樣元件。該打樣元件包括支撐層并需要兩層顏料。
在此公開的本發(fā)明的目的是提供基本上沒有常規(guī)方法缺點(diǎn)的用于處理輻射-敏感圖案化組合物的方法和系統(tǒng)。
發(fā)明概述一般地，本發(fā)明提供通過數(shù)字激光熱轉(zhuǎn)移成像制造紫外(“UV”)掩模的系統(tǒng)和方法。所述系統(tǒng)包括激光熱轉(zhuǎn)移供體元件和受體元件，該供體元件具有基質(zhì)和至少部分覆蓋該基質(zhì)的涂層，該涂層包括UV-吸收熱供體，當(dāng)以圖像方式暴露于非-UV輻射例如IR激光輻射時(shí)所述UV-吸收熱供體能夠從所述基質(zhì)選擇性地轉(zhuǎn)移涂層被輻射的部分到所述受體元件。
所述方法包括選擇激光熱轉(zhuǎn)移供體元件和受體元件，該供體元件具有基質(zhì)和至少部分覆蓋該基質(zhì)的涂層，該涂層包括UV-吸收熱供體，當(dāng)以圖像方式暴露于非-UV輻射例如IR激光輻射時(shí)所述UV-吸收熱供體能夠從所述基質(zhì)選擇性地轉(zhuǎn)移涂層被輻射的部分到所述受體元件。該方法還包括并列放置供體元件和受體元件，并且使所述涂層以圖像方式暴露于足夠數(shù)量的非-UV輻射以使涂層被輻射的部分被轉(zhuǎn)移到該受體上。
本發(fā)明還提供了激光熱轉(zhuǎn)移供體元件，該元件具有基質(zhì)和至少部分覆蓋該基質(zhì)的涂層，該涂層包括UV-吸收熱供體，當(dāng)以圖像方式暴露于非-UV輻射時(shí)所述UV-吸收熱供體能夠從所述基質(zhì)選擇性地分離該涂層被輻射的部分。
本發(fā)明還提供制造由至少兩個(gè)疊加的分圖像組成的圖像的方法，其中每個(gè)分圖像具有不同的顏色。在一個(gè)實(shí)施方案中，該方法包括(a)使用數(shù)字控制的激光源使第一顏色的著色劑層的至少一部分從第一供體元件轉(zhuǎn)移到第一受體元件；(b)使用同樣的數(shù)字控制的激光源使至少一部分UV-吸收熱供體層從第二供體元件轉(zhuǎn)移到第二受體；(c)用UV-敏感膜疊合(例如通過層壓)所述第一受體元件；(d)將所述UV-敏感膜以圖像方式暴露于穿過在步驟(b)后的第二供體元件的UV-輻射；和(e)顯影該UV-敏感膜。如果第二受體元件的圖像質(zhì)量和UV屏蔽特性足以達(dá)到特定的應(yīng)用目的要求，那么步驟(b)產(chǎn)生的受體元件也可以用作步驟(d)中的UV掩模。
本發(fā)明還提供通過上述圖像制造方法制造的印刷圖像。
附圖簡(jiǎn)述通過閱讀如下詳細(xì)描述并參考如下附圖，本發(fā)明的其它目標(biāo)和優(yōu)點(diǎn)將變得顯而易見，其中附圖中

圖1是制造根據(jù)本發(fā)明一個(gè)方面的UV掩模的系統(tǒng)的橫截面示意圖；圖2顯示各種商購(gòu)顏色供體的UV吸收差特性；和圖3顯示通過將高UV-吸收材料加入商購(gòu)顏色供體制造的UV-不穿透供體的UV吸收差。吸收差通常在2.5-3.5。
雖然本發(fā)明易于進(jìn)行各種改動(dòng)和變?yōu)榭商鎿Q形式，但還是通過在附圖中舉例的方式給出了其具體實(shí)施方案并進(jìn)行了詳細(xì)描述。但是，應(yīng)該理解，本文中具體實(shí)施方案的描述并不是想將本發(fā)明限定于公開的特定形式，相反本發(fā)明將函蓋由后附權(quán)利要求定義的本發(fā)明的精神和范圍之內(nèi)的所有改動(dòng)、等價(jià)形式和可選擇方案。
具體實(shí)施方案詳述參見圖1，在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案中，用于制造UV掩模的系統(tǒng)100包括具有基質(zhì)112和覆蓋該基質(zhì)112至少一部分的UV-吸收涂層114的供體元件110。該涂層114含有IR-敏感轉(zhuǎn)移材料和UV-吸收材料。該IR-敏感轉(zhuǎn)移材料包括當(dāng)被激光束140照射時(shí)導(dǎo)致涂層114的一部分130從供體元件110被轉(zhuǎn)移的材料。該分離不必100％完全，只要在該部分130中足夠百分?jǐn)?shù)的UV-吸收材料被從該供體元件除去。
在示范性實(shí)施方案中，對(duì)系統(tǒng)100進(jìn)行改動(dòng)以通過激光引發(fā)的熱半色調(diào)成像方法完成轉(zhuǎn)移，其中涂層114被IR輻射的部分被IR輻射軟化或熔化并粘合到受體基質(zhì)120上或被推到受體基質(zhì)120上。作為實(shí)施例，用于制造打樣或圖案化板的某些激光引發(fā)的質(zhì)量轉(zhuǎn)移系統(tǒng)和方法可以被改動(dòng)以轉(zhuǎn)移該UV-吸收涂層114。UV-吸收材料可以被加入該涂層中，不必考慮該IR-敏感層本身是不是有效的UV吸收劑。或者，某些用于打樣目的的著色劑同時(shí)具有充分的UV-吸收能力；在這些情況下，可能不需要額外的UV-吸收材料。不論哪種情況，涂層114的UV-吸收組分基本上與IR-敏感轉(zhuǎn)移材料無關(guān)，因?yàn)閁V-吸收組分的UV-吸收能力不因?yàn)閷⑼繉?14暴露于IR輻射而顯著降級(jí)。
提供離散點(diǎn)形式的半色調(diào)圖像的激光引發(fā)熱成像系統(tǒng)和方法的例子公開在美國(guó)專利5935758中，所述離散的點(diǎn)具有良好限定的通常連續(xù)(即沒有羽化)的邊緣，該邊緣具有相對(duì)明顯的輪廓，該專利與本申請(qǐng)共同受讓，并引入本文作為參考。特別地，這種系統(tǒng)包括包含基質(zhì)的供體元件，在所述基質(zhì)上涂覆有轉(zhuǎn)移材料，該轉(zhuǎn)移材料包括(a)含有羥基樹脂(hydroxylic resin)的粘合劑；(b)碳氟化合物添加劑；(c)陽離子紅外吸收染料；(d)具有下式的潛交聯(lián)劑
其中R1選自H、烷基、環(huán)烷基和芳基，每個(gè)R2和R3獨(dú)立地是烷基或芳基，以及R4是芳基；和(e)可分散材料。該系統(tǒng)還包括具有被紋理化的表面的受體元件。
用于該供體的合適基質(zhì)包括例如塑料片和膜，例如聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、芴聚酯聚合物、聚乙烯、聚丙烯、丙烯酸類聚合物、聚氯乙稀和它們的共聚物，以及水解和未水解的乙酸纖維素。該基質(zhì)需要對(duì)于激光器或激光二極管發(fā)射的成像輻射是充分透明的，以實(shí)施相應(yīng)圖像向受體片的熱轉(zhuǎn)移。用于所述供體的優(yōu)選基質(zhì)是聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯片。典型地，聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯片的厚度是約20μm-約200μm。如果需要，該基質(zhì)可以進(jìn)行表面處理以改變其對(duì)后續(xù)涂覆的涂料的潤(rùn)濕性和粘合性。這種表面處理包括電暈放電處理和涂覆底涂層或剝離層。
該受體元件可以是透明的或不透明的。合適的受體包括涂覆過的紙、金屬(即鋼和鋁)；由各種成膜合成或高分子量聚合物組成的薄膜或板材，所述聚合物包括加成聚合物(例如聚偏二氯乙烯、聚氯乙烯、聚醋酸乙烯酯、聚苯乙烯、聚異丁烯聚合物和共聚物)和線形縮合聚合物(例如聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚己二酸己二醇酯和聚(六次甲基己二酰胺/己二酸己二醇酯))。不透明的受體片可以是漫反射或鏡面反射的。該受體元件也可以涂覆促進(jìn)被轉(zhuǎn)移材料的粘合的粘合劑或其它材料。
在這種情況下系統(tǒng)100中的IR-敏感轉(zhuǎn)移材料和UV-吸收材料分別沉積成兩個(gè)分開的層116和118，UV-吸收材料層118在上面，但是也可以組合成單層。圖1所示的涂層114的雙層構(gòu)型具有的優(yōu)點(diǎn)是比起單層的情況UV-吸收材料更可能從供體元件110完全轉(zhuǎn)移。但是當(dāng)足夠部分的被輻射的材料從供體元件被轉(zhuǎn)移時(shí)，單層轉(zhuǎn)移也可以是有效的。
在以圖像方式暴露于IR輻射后，其中涂層114被輻射的部分被從供體元件提起，供體元件110變?yōu)閁V掩模，即在涂層114保持不變的位置屏蔽UV線的元件。
如前面所指出的，在這種情況下，被IR輻射的部分140轉(zhuǎn)移到受體元件120上。如果受體元件120是基本UV透明的，那么得到的片150是供體元件110的UV-負(fù)片。取決于具體應(yīng)用，可能需要也可能不需要受體基質(zhì)，并且在需要受體基質(zhì)的情況下可以是不同類型的受體元件120。例如，在使用激光燒蝕除去涂料層的情況下，受體元件對(duì)于圖像形成可能不是必需的但是可以用于收集從供體元件110轉(zhuǎn)移的任何物質(zhì)。在需要受體元件以從供體元件除去被IR輻射的部分的情況下，受體元件120的選擇由UV掩模的目標(biāo)類型決定如果只是剩余的供體元件(通常是負(fù)片掩模)接下來將被用作掩模，那么受體元件的光學(xué)和其它特性并不重要，只要受體元件從供體元件充分地除去涂層114被激光照射的部分。相反，如果受體元件接下來將被用作UV-掩模(通常是正片掩模)，那么除了是供體元件涂層114的被IR-照射部分的充分除去器外該基質(zhì)還必需是UV-透明的。因?yàn)楣w元件上涂層114的組成和結(jié)構(gòu)通常更易于控制，所以通常有利地是從供體元件制造UV-掩模并拋棄或重新使用受體元件。使用數(shù)字成像，通過以數(shù)字方式顛倒源圖像文件中的對(duì)比，可以容易地將使用供體制造負(fù)片掩模的設(shè)定改變?yōu)橹圃煺谀５脑O(shè)定。
原涂層114中的層結(jié)構(gòu)可以但不是必須保持在轉(zhuǎn)移的部分130中。UV吸收材料以足夠的濃度分布于基本上整個(gè)轉(zhuǎn)移的部分130中。為了清楚地示出粘合暴露于IR的部分130和未暴露于IR的部分的各自基質(zhì)112和120，受體基質(zhì)120被圖示為距離涂層114一定的距離。在實(shí)際制造掩模的方法中，取決于轉(zhuǎn)移的方法，受體基質(zhì)120可以是與涂層114緊密接觸的。在某些方法中，實(shí)際上在受體基質(zhì)120和涂層114之間可以存在間隙。例如，在一個(gè)實(shí)施方案中，通過間隔珠保持幾微米的間隙。
如在本申請(qǐng)中所使用的，材料(114或130，取決于供體或受體用作掩模)的UV吸收能力采用涂層材料從供體元件轉(zhuǎn)移之前和之后的吸收差進(jìn)行測(cè)量。更加準(zhǔn)確地，其定義為log(Io/Ic)-log(Io/Is)，或者log(Is/Ic)，其中Io表示照射到該掩模上的UV輻射強(qiáng)度，Ic表示UV輻射穿過帶有涂層的區(qū)域后的強(qiáng)度，和Is表示UV輻射穿過除去涂層的區(qū)域后的強(qiáng)度。
涂層材料的UV吸收能力對(duì)通過用該材料圖案化的掩模的UV曝光量或劑量的有用范圍具有重要影響。在評(píng)估材料的UV吸收特性時(shí)，可以將一系列范圍為0％-100％(增量為5％)的含有半色調(diào)絲網(wǎng)色澤(Screen tint)的測(cè)試掩模與UV-敏感膜接觸。接著，穿過該掩模將UV-敏感膜暴露于一系列預(yù)先確定劑量的UV輻射之一并接著顯影。進(jìn)行多次UV曝光，每次都在預(yù)先未曝光的UV敏感膜部分之上并且劑量與其它曝光劑量相差至少一個(gè)劑量步驟。每個(gè)步驟劑量增加約40％，對(duì)應(yīng)于被曝光的膜密度增加約15％。在這種情況下UV曝光或曝光寬容度的有用范圍定義為UV-曝光并顯影的膜保持至少5％-95％色澤的不同色調(diào)的劑量步驟數(shù)目。對(duì)于商業(yè)應(yīng)用，約三個(gè)步驟的曝光寬容度通常認(rèn)為是可接受的最低范圍。
在本發(fā)明另一個(gè)說明性實(shí)施方案中，一種制造UV掩模的方法包括將上述供體元件和受體元件相互緊密接觸放置，涂層114放置于這兩個(gè)基質(zhì)之間。然后供體元件暴露于數(shù)字式地圖案化(或計(jì)算機(jī)可編址的)的IR輻射。IR曝光可以在任何合適的數(shù)字IR源進(jìn)行，包括通常用于數(shù)字打樣的熱激光成像儀，具有光柵化激光束或由激光發(fā)射二極管陣列產(chǎn)生的激光束陣列。然后剝離受體，從供體元件除去涂層114暴露于IR輻射的部分。取決于應(yīng)用，供體或受體都可用作UV掩模。
在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方案中，一種制造打樣的方法包括首先如上制造IR生成的數(shù)字UV掩模，然后將特定顏色的UV-敏感介質(zhì)暴露于穿過該UV掩模的UV輻射，再顯影該介質(zhì)。
在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方案中，一種制備多顏色打樣的方法包括如上所述在UV-敏感介質(zhì)上形成第一顏色的圖像，通過激光引發(fā)的熱成像形成至少一個(gè)第二顏色的數(shù)字圖像，并疊置第一和第二顏色的圖像。第一顏色通常是定制顏色，其它一種或多種顏色通常是原料色，例如青色、洋紅、黃色和黑色。因此，使用任意各種已知的計(jì)算機(jī)-打樣技術(shù)可以直接數(shù)字式地復(fù)制CMYK顏色系統(tǒng)可以充分表示的顏色。特別地，可以使用上述激光引發(fā)的熱成像系統(tǒng)。此外，用于制造CYMK層的相同計(jì)算機(jī)-打樣設(shè)備和過程通過常規(guī)的模擬方法可以用于數(shù)字式地制造需要印刷一種或多種定制顏色的UV掩模。CYMK顏色可以轉(zhuǎn)移到相同的受體基質(zhì)或分離的受體基質(zhì)并然后對(duì)準(zhǔn)疊合層壓。UV-敏感介質(zhì)然后可以在暴露于UV輻射之前層壓到CYMK片上。
本發(fā)明可以用于其中鹵化銀膜被用作UV掩模的應(yīng)用中。例如，除打樣外，使用本申請(qǐng)公開的系統(tǒng)和方法制造的UV掩模也可以圖案化印刷板。本發(fā)明提供了不同于常規(guī)濕化學(xué)照相平板印刷方法的用于制造UV掩模的干方法的有利之處。該干方法可以在制造原料色層的相同熱激光成像儀上進(jìn)行，并且是更加用戶友好的，因?yàn)槠涓灰子诋a(chǎn)生來自刮擦和指紋的瑕疵。該UV掩模粘性也更低。本發(fā)明還利用至少一種顏色層的模擬印刷。這個(gè)特征對(duì)于印刷定制顏色特別有用，在模擬印刷的漫長(zhǎng)歷史中已經(jīng)可以得到多種定制顏色。模擬UV印刷設(shè)備也是廣泛可得到的。
實(shí)施例實(shí)施例1在Creo Trendsetter Spectrum熱激光成像儀(Creo Inc.，Vancouver，BC)中在正常操作條件下曝光高密度(“HD”)YellowMatchprint Digital Halftone介質(zhì)(Kodak Polychrome Graphics，Norwalk，CT(“KPG”))。所用的數(shù)字文件是以5％步幅從0％增加到100％的一系列絲網(wǎng)色澤。在曝光過程期間，HD Yellow的熱激光照射部分轉(zhuǎn)移到受體膜。在成像以后，介質(zhì)從成像儀退出，并且經(jīng)曝光的HD Yellow供體被用于下一步驟。受體或者拋棄或者重新使用。
數(shù)字式成像的HD Yellow供體被用作掩模并且與模擬MatchprintNegative Magenta Proofing材料(KPG)接觸放置，該模擬MatchprintNegative Magenta Proofing材料已經(jīng)被層合到MatchprintCommercial Base(KPG)上。
該組件然后被放置于真空曬版機(jī)內(nèi)。抽真空以在供體(數(shù)字掩模)和模擬受體之間形成緊密接觸。將介質(zhì)暴露于UV光源。重復(fù)進(jìn)行前述步驟直到以增加的增量得到一系列曝光。然后使用Matchprint IIINegative Proofing Developer(KPG)通過KPG 2430 Processor(KPG)加工該Matchprint Negative材料。然后如上所述確定掩模的曝光寬容度。在HD Yellow用作掩模的這種情況下，有用的劑量范圍是四(4)個(gè)步驟。
實(shí)施例2使用如實(shí)施例1所述的相同步驟，使高密度Black MatchprintDigital Halftone介質(zhì)(KPG)在Creo Laser Imager中曝光并且用作模擬Matchprint Proofing介質(zhì)的UV掩模材料?？山邮艿钠毓夥秶羌s三(3)個(gè)步驟。
實(shí)施例3使用聚乙烯醇縮丁醛粘合劑(Butvar B-76，得自Solutia，Inc.)制備涂層，IR染料作為第一層。此外，強(qiáng)UV吸收材料Uvinul 3050(BASFCorp.)被用于形成在染料/粘合劑層之上的層。所述涂層如實(shí)施例1中被曝光并且用于曝光Matchprint Negative Proofing介質(zhì)。有用的劑量范圍在五(5)個(gè)步驟以上。
實(shí)施例4制備帶有Uvinal 3050頂涂層的HD Black(KPG)涂層并用于實(shí)施例1中的方法。所制造的UV掩模被用于曝光Matchprint NegativeProofing介質(zhì)。有用的劑量范圍是四(4)個(gè)步驟。
實(shí)施例5在100rpm臺(tái)板轉(zhuǎn)鼓速度和16.5瓦的激光功率設(shè)定下在CreoTrendsetter熱激光成像儀中曝光White Approval供體(KPG)。如實(shí)施例1所述，該圖像化的供體在模擬Matchprint Negative Proofing介質(zhì)的曝光中用作UV掩模。有用的劑量范圍是七(7)個(gè)步驟。
實(shí)施例6將Matchprint Digital半色調(diào)HiFi Orange介質(zhì)(KPG)在標(biāo)準(zhǔn)操作條件下在Creo Trendsetter中曝光并如實(shí)施例1用作UV掩模。有用的劑量范圍是零步驟，即該掩模在任何曝光條件下都不產(chǎn)生可接受的圖像。
實(shí)施例7和8在最大功率設(shè)定下在Creo Trendsetter成像儀中曝光來自Approval Digital半色調(diào)系統(tǒng)(KPG)的Yellow和Black介質(zhì)，并且該圖像化的供體材料被用作UV掩模。對(duì)于兩個(gè)掩模，有用的劑量范圍都是零步驟。
在上述實(shí)施例中得到的結(jié)果可以與圖像化的供體在350nm-400nm之間的光吸收數(shù)量關(guān)聯(lián)起來，如表I和圖2和3所示。通常，吸收系數(shù)越高，有用的曝光步驟越多。當(dāng)吸收系數(shù)低于約1.0時(shí)，涂層不適合于制造UV掩模。
表I
使用適當(dāng)?shù)闹珓┖?或帶有UV吸收劑的著色劑，可以制造一種掩模，該掩模對(duì)于模擬系統(tǒng)的曝光提供充分的UV劑量寬容度。
公開的上述具體實(shí)施方案只是說明性的，因?yàn)楸景l(fā)明可以以對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說顯而易見的、具有本文教導(dǎo)的益處的不同但是卻等價(jià)的方式進(jìn)行改動(dòng)和實(shí)踐。此外，除了下述權(quán)利要求所描述的以外，不希望限制本文所示的構(gòu)造或設(shè)計(jì)細(xì)節(jié)。因此，很明顯，上述公開的具體實(shí)施方案可以進(jìn)行變化或改動(dòng)，所有這些變動(dòng)都被認(rèn)為包括在本發(fā)明的范圍和精神之內(nèi)。因此，本文的保護(hù)范圍如下面的權(quán)利要求所述。
權(quán)利要求
1.用于制造UV-吸收?qǐng)D案的系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括供體元件，包含基質(zhì)，涂覆該基質(zhì)至少一部分的IR-敏感轉(zhuǎn)移材料層，涂覆該IR-敏感轉(zhuǎn)移材料的UV-吸收材料層，其中該IR-敏感材料和UV-吸收材料的層具有至少約1.0的組合UV-吸收系數(shù)；和受體元件。
2.權(quán)利要求1的系統(tǒng)，其中該IR-敏感轉(zhuǎn)移材料包含含有羥基樹脂的粘合劑，碳氟化合物添加劑，陽離子紅外吸收染料，具有下式的潛交聯(lián)劑 其中R1選自H、烷基、環(huán)烷基和芳基，每個(gè)R2和R3獨(dú)立地是烷基或芳基，以及R4是芳基，和可分散材料，和其中該受體元件包含被紋理化的表面。
3.用于制造UV掩模的方法，該方法包括提供權(quán)利要求1的系統(tǒng)；將供體元件暴露于數(shù)字圖像方式的IR激光輻射；和基本上將所有的IR-敏感材料層和UV-吸收材料層被IR激光輻射的部分從供體元件轉(zhuǎn)移到受體元件。
4.權(quán)利要求3的方法，其中該數(shù)字圖像方式的IR激光輻射在IR-敏感材料層和UV-吸收材料層中產(chǎn)生半色調(diào)圖像圖案。
5.印刷方法，包括以數(shù)字方式產(chǎn)生UV掩模；將UV-敏感膜暴露于穿過該UV掩模的UV輻射；和顯影該UV-敏感膜。
6.權(quán)利要求5的印刷方法，其中以數(shù)字方式產(chǎn)生UV掩模的步驟包括提供熱激光轉(zhuǎn)移成像系統(tǒng)，其包括供體元件，包括基質(zhì)，涂覆該基質(zhì)至少一部分的轉(zhuǎn)移材料層，該轉(zhuǎn)移材料含有IR-敏感材料和UV-吸收材料，該層的UV-吸收系數(shù)至少是約1.0，和受體元件；將該供體元件暴露于數(shù)字圖像方式的IR激光輻射。
7.權(quán)利要求5的方法，其中以數(shù)字方式產(chǎn)生UV掩模包括提供熱激光轉(zhuǎn)移成像系統(tǒng)，其包括供體元件，包括基質(zhì)，涂覆該基質(zhì)至少一部分的IR-敏感轉(zhuǎn)移材料層，涂覆該IR-敏感轉(zhuǎn)移材料的UV-吸收材料層，其中該IR-敏感材料和UV-吸收材料的層具有至少約1.0的組合UV-吸收系數(shù)，和受體元件；將該供體元件暴露于數(shù)字圖像方式的IR激光輻射；和基本上將所有的IR-敏感材料層和UV-吸收材料層被IR激光輻射的部分從供體元件轉(zhuǎn)移到受體元件。
8.權(quán)利要求5的方法，其中該經(jīng)顯影的UV-敏感膜包含第一顏色的圖像，該方法還包括產(chǎn)生第二顏色的數(shù)字圖像并組合這兩種顏色的圖像。
9.權(quán)利要求7的方法，其中該經(jīng)顯影的UV-敏感膜包含第一顏色的圖像，該方法還包括產(chǎn)生第二顏色的數(shù)字圖像并組合這兩種顏色的圖像。
10.權(quán)利要求8的方法，其中產(chǎn)生第二顏色的數(shù)字圖像包括提供熱激光質(zhì)量轉(zhuǎn)移系統(tǒng)，包括供體元件包含基質(zhì)，和涂覆該基質(zhì)至少一部分的IR-敏感轉(zhuǎn)移材料層，和該第二顏色的著色劑，和受體元件；將該供體元件暴露于圖像方式的IR激光輻射；和將IR-敏感轉(zhuǎn)移材料層被IR輻射的部分從供體元件轉(zhuǎn)移到受體元件。
11.權(quán)利要求10的方法，其中所述第二顏色選自青色、洋紅、黃色和黑色，并且所述第一顏色是不同于青色、洋紅、黃色或黑色的顏色。
12.制造由至少兩個(gè)疊加的分圖像組成的圖像的方法，每個(gè)分圖像具有不同的顏色，該方法包括使用數(shù)字控制的激光源使第一顏色的著色劑層的至少一部分從第一供體元件轉(zhuǎn)移到第一受體元件；用UV-敏感膜疊合所述第一受體元件；使用所述數(shù)字控制的激光源或其它數(shù)字控制的激光源使至少一部分UV-吸收熱供體層從第二供體元件轉(zhuǎn)移到第二受體；將所述UV-敏感膜以圖像方式暴露于穿過所述第二供體元件或所述第二受體元件的UV-輻射；和顯影該UV-敏感膜。
全文摘要
本發(fā)明公開了UV－掩模、制備該掩模的系統(tǒng)和方法以及使用該掩模制造圖像印刷介質(zhì)的方法。該系統(tǒng)包括具有基質(zhì)的供體元件和受體元件，所述基質(zhì)涂覆有IR－敏感材料層和UV－吸收材料層。當(dāng)被IR輻射照射時(shí)，該IR－敏感材料能夠從供體元件分離其本身的大部分，該UV－吸收材料并將被分離的材料轉(zhuǎn)移到受體元件。制造UV－掩模的方法包括用IR輻射照射這種供體元件。使用方法包括在UV－敏感介質(zhì)上疊合數(shù)字UV掩模，將該介質(zhì)暴露于穿過該UV掩模的UV輻射，和顯影該UV－敏感介質(zhì)。
文檔編號(hào)G03F3/10GK1867457SQ200480030246
公開日2006年11月22日 申請(qǐng)日期2004年10月19日 優(yōu)先權(quán)日2003年10月20日
發(fā)明者D·L·斯維哈特, K·M·基尼, R·C·布赫霍爾茨 申請(qǐng)人:柯達(dá)彩色繪圖有限責(zé)任公司