專利名稱：可調(diào)波長濾波器及其制造方法、以及檢測(cè)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及可以分離光的波長的可調(diào)波長濾波器及其制造方法以及檢測(cè)裝置。
背景技術(shù)：
已經(jīng)提出了以下各種濾波器(例如，專利文獻(xiàn)1、2)，使2個(gè)反射鏡(反射膜)相隔規(guī)定長度的間隙相面對(duì)，并在此之間使光多次反射，則根據(jù)間隙的長度，僅有特定波段的光透過(波長分離)?？烧{(diào)波長濾波器通過改變?cè)撻g隙的長度，可以選擇透過的光的波段，并且通過微加工(macromachining)實(shí)現(xiàn)可利用通過在2個(gè)反射鏡之間施加電壓而產(chǎn)生的靜電力(庫侖力)來改變間隙的長度的結(jié)構(gòu)。
專利文獻(xiàn)1所示的濾波器為通過表面微加工技術(shù)形成的濾波器，且在形成于基板上的固定鏡和固定電極上形成犧牲層，并形成可動(dòng)鏡和可動(dòng)電極覆蓋犧牲層之后，通過蝕刻法除去犧牲層而形成間隙。因此，間隙的長度可由犧牲層的膜厚所決定，從而具有根據(jù)犧牲層的形成條件而容易使間隙的長度零散偏離的問題。若間隙的長度零散偏離，則施加規(guī)定電壓時(shí)產(chǎn)生的庫侖力零散偏離，從而難以將間隙的長度設(shè)定為所期望的值。
另一方面，專利文獻(xiàn)2所示的濾波器將作為SOI(Silicon On Insulator)基板的埋入氧化膜的二氧化硅(SiO2)層當(dāng)作犧牲層而形成了間隙，因此可以高精度地形成間隙。然而，由于可動(dòng)鏡和配備于固定鏡的驅(qū)動(dòng)電極之間未被絕緣，因而在施加了較大的驅(qū)動(dòng)電壓時(shí)，會(huì)出現(xiàn)因庫侖力而可動(dòng)鏡被吸引到驅(qū)動(dòng)電極上的稱作粘膜現(xiàn)象的現(xiàn)象。
進(jìn)而，專利文獻(xiàn)1和2中的任一種情況都在形成于犧牲層上面的可動(dòng)鏡等上形成了用于導(dǎo)入蝕刻液而除去犧牲層的孔(釋放孔)。因此，由于可動(dòng)鏡側(cè)的電極的面積減少該釋放孔所對(duì)應(yīng)的量，故為產(chǎn)生規(guī)定的庫侖力，需要提高驅(qū)動(dòng)電壓，從而耗電增大。并且，在所需的間隙的長度較短時(shí)，除去犧牲層后進(jìn)行清洗時(shí)，會(huì)有出現(xiàn)因水的表面張力造成的粘膜現(xiàn)象的弊端。因此，希望提供一種具有不必除去犧牲層便可形成的結(jié)構(gòu)的可調(diào)波長濾波器。
進(jìn)而，上述專利文獻(xiàn)1和2所示的濾波器在光的透過路徑上由于具有硅，因此存在可分離的光被限制為紅外光的問題。
專利文獻(xiàn)1特開2002-174721號(hào)公報(bào)；專利文獻(xiàn)2美國專利第6341039號(hào)說明書。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明就是鑒于上述問題而提出，其目的在于提供一種不必除去犧牲層便可形成，且可分離比紅外光短的波長的光的可調(diào)波長濾波器及其制造方法、以及檢測(cè)裝置。
本發(fā)明提供一種可調(diào)波長濾波器，包括固定基板，其具有固定反射膜且可使短于紅外光的波長的光透過；可動(dòng)基板，其具有配備可動(dòng)反射膜的可動(dòng)部且使所述可動(dòng)反射膜和所述固定反射膜相隔規(guī)定長度的間隙相面對(duì)地配置在所述固定基板上；和驅(qū)動(dòng)部，其通過使所述可動(dòng)部相對(duì)于所述固定基板發(fā)生位移，改變所述間隙的長度；使從外部入射到所述間隙內(nèi)的光通過在所述可動(dòng)反射膜和所述固定反射膜反復(fù)反射，從而將對(duì)應(yīng)于所述間隙長度的波長的光能夠射出到外部，其特征在于，所述可動(dòng)部在具有所述可動(dòng)反射膜的部位具有光透過部，該透過部可使短于紅外光的波長的光透過，用于與外部進(jìn)行光的入射和射出。
由此，因具有可使可見光等波長短于紅外光的光透過的光透過部，故可分離波長短于紅外光的光的波長。
本發(fā)明提供另一種可調(diào)波長濾波器，包括固定基板，其第1凹部和第2凹部形成于1個(gè)面上，且使波長短于紅外光的光透過；可動(dòng)基板，其具有可動(dòng)部，并使所述可動(dòng)部與所述第1和第2凹部的底面相面對(duì)地配置在所述固定基板上，且具有導(dǎo)電性；可動(dòng)反射膜，其配備于所述可動(dòng)部的與所述第1和第2凹部的底面相面對(duì)的面上；固定反射膜，其在所述第1凹部的底面與所述可動(dòng)反射膜相隔第1間隙而配置；和驅(qū)動(dòng)電極，在所述第2凹部的底面與所述可動(dòng)部相隔第2間隙而配置，并且通過與所述可動(dòng)部的電位差產(chǎn)生的庫侖力，使所述可動(dòng)部相對(duì)所述固定基板發(fā)生位移，從而改變所述第1間隙的長度；使從外部入射到所述第1間隙內(nèi)的光通過所述可動(dòng)反射膜和所述固定反射膜反復(fù)反射，從而可使所述第1間隙的長度對(duì)應(yīng)的波長的光射出到外部，其特征在于，所述可動(dòng)部在具有所述可動(dòng)反射膜的部位具有光透過部，該透過部可使短于紅外光的波長的光透過，用于與外部進(jìn)行光的入射和射出。
由此，因具有可使可見光等波長短于紅外光的光透過的光透過部，故可分離波長短于紅外光的光的波長。
在該可調(diào)波長濾波器中，優(yōu)選在所述可動(dòng)部的與所述驅(qū)動(dòng)電極相面對(duì)的部位和所述驅(qū)動(dòng)電極的與所述可動(dòng)部相面對(duì)的部位的至少一個(gè)形成絕緣膜。
由此，因在所述可動(dòng)部的與所述驅(qū)動(dòng)電極相面對(duì)的部位和所述驅(qū)動(dòng)電極的與所述可動(dòng)部相面對(duì)的部位的至少一個(gè)形成絕緣膜，故即使在可動(dòng)部和驅(qū)動(dòng)電極間作用了過大的庫侖力時(shí)，也能夠抑制引起可動(dòng)部和驅(qū)動(dòng)電極粘貼的現(xiàn)象。
在該可調(diào)波長濾波器中，優(yōu)選在所述光透過部的具有所述可動(dòng)反射膜的面的相反面和所述固定基板的具有所述固定反射膜的面的相反面中的至少一個(gè)配備反射防止膜。
由此，抑制光入射時(shí)的反射，可有效地從外部取入光。
在該可調(diào)波長濾波器中，優(yōu)選所述固定基板由包括可動(dòng)離子的玻璃構(gòu)成。
由此，可通過陽極接合，接合固定基板和可動(dòng)基板。即，由于不必介入膠粘劑等其他部件便能接合，因而提高了第1間隙的精度，且能夠高精度地設(shè)定分離波長。
在該可調(diào)波長濾波器中，優(yōu)選所述光透過部由可使波長短于紅外光的光透過的玻璃構(gòu)成。
由此，不僅能分離波長短于紅外光的波長，還可根據(jù)濺射法容易地形成光透過部。
在該可調(diào)波長濾波器中，優(yōu)選所述光透過部由使波長短于紅外光的光透過的硅橡膠構(gòu)成。
由此，不僅能分離波長短于紅外光的波長，還可根據(jù)模制法容易地形成光透過部。
在該可調(diào)波長濾波器中，優(yōu)選所述可動(dòng)基板由硅構(gòu)成。
由此，可通過半導(dǎo)體制造處理容易地制造可動(dòng)基板。
本發(fā)明提供一種可調(diào)波長濾波器的制造方法，所述可調(diào)波長濾波器包括固定基板，其具有固定反射膜且可使短于紅外光的波長的光透過；可動(dòng)基板，其具有配備可動(dòng)反射膜的可動(dòng)部且使所述可動(dòng)反射膜和所述固定反射膜相隔規(guī)定長度的間隙相面對(duì)地配置在所述固定基板上；和驅(qū)動(dòng)部，其通過使所述可動(dòng)部相對(duì)于所述固定基板發(fā)生位移，改變所述間隙的長度；使從外部入射到所述間隙內(nèi)的光通過在所述可動(dòng)反射膜和所述固定反射膜反復(fù)反射，從而將對(duì)應(yīng)于所述間隙長度的波長的光能夠射出到外部，其特征在于，所述制造方法包括形成具有所述固定反射膜的所述固定基板的工序；和將作為用于形成所述可動(dòng)基板的基本材料的具有所述可動(dòng)反射膜的所述基本材料與所述固定基板接合，使所述可動(dòng)反射膜和所述固定反射膜相隔所述間隙相面對(duì)的工序；然后，具有在所述固定基板上形成所述可動(dòng)基板的工序，所述可動(dòng)基板在所述可動(dòng)部中具有可使波長短于紅外光的波長的光透過的光透過部。
由此，由于將具有可動(dòng)反射膜的基本材料接合在固定基板上，使可動(dòng)反射膜和固定反射膜相隔間隙而相面對(duì)，因而無需為形成間隙而除去犧牲層的工序。進(jìn)而，由此，無需具備釋放孔，因此可有效利用庫侖力。
進(jìn)而，由此，因具有可使可見光等波長短于紅外光的光透過的光透過部，故可分離波長短于紅外光的光的波長。
本發(fā)明提供另一種可調(diào)波長濾波器的制造方法，所述可調(diào)波長濾波器包括固定基板，其第1凹部和第2凹部形成于1個(gè)面上，且使波長短于紅外光的光透過；可動(dòng)基板，其具有可動(dòng)部，并使所述可動(dòng)部與所述第1和第2凹部的底面相面對(duì)地配置在所述固定基板上，且具有導(dǎo)電性；可動(dòng)反射膜，其配備于所述可動(dòng)部的與所述第1和第2凹部的底面相面對(duì)的面上；固定反射膜，其在所述第1凹部的底面與所述可動(dòng)反射膜相隔第1間隙而配置；和驅(qū)動(dòng)電極，在所述第2凹部的底面與所述可動(dòng)部相隔第2間隙而配置，并且通過與所述可動(dòng)部的電位差產(chǎn)生的庫侖力，使所述可動(dòng)部相對(duì)所述固定基板發(fā)生位移，從而改變所述第1間隙的長度；使從外部入射到所述第1間隙內(nèi)的光通過所述可動(dòng)反射膜和所述固定反射膜反復(fù)反射，從而可使所述第1間隙的長度對(duì)應(yīng)的波長的光射出到外部，其特征在于，所述制造方法包括在所述固定基板上形成所述第1和第2凹部的工序；在所述第2凹部的底面上形成所述驅(qū)動(dòng)電極的工序；和在所述第1凹部的底面上形成所述固定反射膜的工序，然后，具有在所述固定基板上形成所述可動(dòng)基板的工序，所述可動(dòng)基板在所述可動(dòng)部中具有可使波長短于紅外光的波長的光透過的光透過部。
由此，在固定基板上形成第1和第2凹部，在各底面上形成固定反射膜和驅(qū)動(dòng)電極后，在固定基板上形成可動(dòng)基板。因此，無需為形成第1和第2間隙而除去犧牲層的工序。進(jìn)而，由此，無需具備釋放孔，因此可有效利用庫侖力。
進(jìn)而，由此，因可分開制造固定基板和可動(dòng)基板，故可容易地在可動(dòng)部和驅(qū)動(dòng)電極之間形成用于防止兩者粘貼的絕緣膜。
進(jìn)而，由此，因具有可使可見光等波長短于紅外光的光透過的光透過部，故可分離波長短于紅外光的光的波長。
在該可調(diào)波長濾波器的制造方法中，優(yōu)選所述固定基板由玻璃構(gòu)成，而所述第1凹部通過蝕刻法形成。
由此，由于第1凹部通過能以高精度形成的玻璃的蝕刻法形成，因而能高精度地形成第1間隙。結(jié)果，能夠高精度地設(shè)定分離波長。
在該可調(diào)波長濾波器的制造方法中，優(yōu)選所述固定基板由玻璃構(gòu)成，而所述第2凹部通過蝕刻法形成。
由此，由于第2凹部通過能以高精度形成的玻璃的蝕刻法形成，因而能高精度地形成第2間隙。結(jié)果，能夠高精度地控制庫侖力。
在該可調(diào)波長濾波器的制造方法中，優(yōu)選具有在所述可動(dòng)部的與所述驅(qū)動(dòng)電極相面對(duì)的部位和所述驅(qū)動(dòng)電極的與所述可動(dòng)部相面對(duì)的部位中的至少一個(gè)上形成絕緣膜的工序。
由此，在所述可動(dòng)部的與所述驅(qū)動(dòng)電極相面對(duì)的部位、和所述驅(qū)動(dòng)電極的與所述可動(dòng)部相面對(duì)的部位中的至少一個(gè)形成絕緣膜，因此即使在可動(dòng)部和驅(qū)動(dòng)電極間作用了過大的庫侖力，也能夠抑制在可動(dòng)部和驅(qū)動(dòng)電極引起粘貼的現(xiàn)象。
在該可調(diào)波長濾波器的制造方法中，優(yōu)選在所述固定基板上形成所述可動(dòng)基板的工序，利用具有底層、形成于所述底層上的絕緣層和成為形成于所述絕緣層上的所述可動(dòng)基板的活性層的基本材料，具有將所述基本材料接合在所述固定基板上的工序；將所述絕緣層作為阻擋層而除去所述底層的工序；和除去所述絕緣層的工序。
由此，由于將絕緣層作為阻擋層除去了底層，因而能抑制除去底層時(shí)活性層受到破壞。結(jié)果，因可動(dòng)基板即可動(dòng)部的厚度的精度提高，故能穩(wěn)定地驅(qū)動(dòng)可動(dòng)部，且不僅能準(zhǔn)確地控制第1間隙的可變量，還能提高制造成品率。
在該可調(diào)波長濾波器的制造方法中，優(yōu)選所述光透過部通過下述工序被形成在所述基本材料的所述活性層上形成用于形成所述光透過部的開口部分的工序；和在所述開口部分上濺射可使波長短于紅外光的光的玻璃的工序。
由此，不僅能分離波長短于紅外光的光的波長，還可通過濺射法容易地形成光透過部。
在該可調(diào)波長濾波器的制造方法中，優(yōu)選所述光透過部通過下述工序被形成在所述基本材料的所述活性層上形成用于形成所述光透過部的開口部分的工序；和在所述開口部分流入可使波長短于紅外光的光的硅橡膠的工序。
由此，不僅能分離波長短于紅外光的光的波長，還可通過模制法容易地形成光透過部。
本發(fā)明提供一種檢測(cè)裝置，其特征在于，具有以上所述的可調(diào)波長濾波器。
由此，由于可調(diào)波長濾波器具有可使波長短于紅外光的光透過的光透過部，因而檢測(cè)裝置的檢測(cè)對(duì)象不會(huì)被限制在紅外光。


圖1為表示第1實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器的俯視圖。
圖2為圖1的A-A剖視圖。
圖3為圖1的B-B剖視圖。
圖4(a)～(c)為表示可調(diào)波長濾波器的制造方法的剖視圖。
圖5(a)～(c)為表示可調(diào)波長濾波器的制造方法的剖視圖。
圖6(a)～(c)為表示可調(diào)波長濾波器的制造方法的剖視圖。
圖7(a)、(b)為表示可調(diào)波長濾波器的制造方法的剖視圖。
圖8(a)～(c)為表示可調(diào)波長濾波器的制造方法的剖視圖。
圖9(a)～(c)為表示可調(diào)波長濾波器的制造方法的剖視圖。
圖10(a)、(b)為表示可調(diào)波長濾波器的制造方法的剖視圖。
圖11(a)～(c)為表示可調(diào)波長濾波器的制造方法的剖視圖。
圖12為表示第2實(shí)施方式的檢測(cè)裝置的構(gòu)成圖。
圖中1-可調(diào)波長濾波器，2-固定基板，3-可動(dòng)基板，21-第1凹部，22-第2凹部，23-導(dǎo)電層，23a-驅(qū)動(dòng)電極，24a-固定反射膜，24b-絕緣膜，25-第1反射防止膜，31-可動(dòng)部，32-支撐部，33-導(dǎo)電部，34-可動(dòng)反射膜，35-第2反射防止膜，36-光透過部，36a-開口部分，60-作為基本材料的SOI基板，61-作為底層的第1Si層，62-作為絕緣層的SiO2層，63-作為活性層的第2Si層，100-檢測(cè)裝置如圖1～圖3所示，可調(diào)波長濾波器1具有固定基板2、和由硅構(gòu)成的可動(dòng)基板3，可動(dòng)基板3接合在固定基板2的上面2a。
固定基板2由至少對(duì)可見光具有光透過性的材料構(gòu)成，例如由各種玻璃等構(gòu)成。在本實(shí)施方式中，使用為Corning公司造的硼硅酸鈉玻璃的Pyrex(注冊(cè)商標(biāo))玻璃#7740。Pyrex(注冊(cè)商標(biāo))玻璃因含有作為可動(dòng)離子的鈉(Na)離子，故適于與由硅構(gòu)成的可動(dòng)基板3的陽極接合，進(jìn)而，#7740的熱膨脹系數(shù)大致與硅相等，因此不會(huì)因陽極接合時(shí)的加熱過程而施加過大的應(yīng)力。
固定基板2的厚度根據(jù)構(gòu)成材料和用途等適當(dāng)?shù)貨Q定，并沒有特別限定，在本實(shí)施方式中大約為500μm。
在固定基板2的上面(與可動(dòng)基板3相面對(duì)的面)2a形成了筒狀的2個(gè)凹部21、22。在本實(shí)施方式中，2個(gè)凹部21、22一體形成，而第1凹部21設(shè)在第2凹部22的底面的大致中央。第1和第2凹部21、22自固定基板2的上面2a的深度可根據(jù)用途等適當(dāng)選擇，并沒有特別限定，在本實(shí)施方式中，將第1凹部21的深度設(shè)為約15μm，第2凹部22的深度設(shè)為約4μm。
在第2凹部22的底面和固定基板2的上面2a形成了導(dǎo)電層23。導(dǎo)電層23具有以圓環(huán)狀形成于第2凹部22的底面的驅(qū)動(dòng)電極23a、經(jīng)過第2凹部22的側(cè)面使固定基板2的上面2a分別向±X方向延伸的2根布線23b、形成于各布線23b的端部且用于從外部施加電壓的端子23c，并且，這些形成為一體。
導(dǎo)電層23具有導(dǎo)電性，例如由ITO(Indium Tin Oxide)等透明導(dǎo)電材料，或Au或Cr等金屬構(gòu)成。導(dǎo)電層23的厚度可根據(jù)構(gòu)成材料和用途等適當(dāng)選擇，并沒有特別限定，優(yōu)選在0.1～5μm左右。在驅(qū)動(dòng)電極23a和布線23b的上面設(shè)置有絕緣膜24b，從而防止與可動(dòng)基板3的短路。
在第1凹部21的底面設(shè)置有具有絕緣性且有效地反射光的固定反射膜(HR層)24a，而在固定基板2的下面2b設(shè)置有抑制光反射的第1反射防止膜(AR層)25。在本實(shí)施方式中，固定反射膜24a和第1反射防止膜25由層疊SiO2膜和Ta2O5膜等的多層膜形成，且形成于驅(qū)動(dòng)電極23a和布線23b上面的絕緣膜24b具有與固定反射膜24a相同的材料構(gòu)成。
可動(dòng)基板3由硅構(gòu)成，且具有導(dǎo)電性?？蓜?dòng)基板3具有配置于大致中央的大致圓柱形的可動(dòng)部31、可支撐可動(dòng)部31向Z方向位移的支撐部32、和向可動(dòng)部31通電的通電部33，而這些各部31、32、33形成為一體。
可動(dòng)部31的直徑大于第1凹部21的直徑，且小于第2凹部22的直徑，而其厚度根據(jù)構(gòu)成材料和用途等適當(dāng)選擇，并沒有特別限定，在本實(shí)施方式中，約為10μm。
在可動(dòng)部31的下面(與第1凹部21的底面相面對(duì)的面)的大致整個(gè)面上設(shè)置有具有絕緣性且有效反射光的可動(dòng)反射膜(HR層)34，而在其相反面(可動(dòng)部31的上面)的大致整個(gè)面上設(shè)置有抑制光的反射的第2反射防止膜(AR層)35?？蓜?dòng)反射膜34和第2反射防止膜35與固定反射膜24a和第1反射防止膜25一樣由多層膜形成。
在可動(dòng)部31和通電部33之間形成了環(huán)狀的開口部分32a，可動(dòng)部31通過橫截開口部分32a的4個(gè)支撐部32固定在通電部33上。支撐部32寬度較窄，且與其它部位相比，可撓性較高。另外，在本實(shí)施方式中，支撐部32以90°間隔配置了4個(gè)，但支撐部32的個(gè)數(shù)不一定限于4個(gè)，例如也可為2個(gè)、3個(gè)、或5個(gè)以上。
此外，在通電部33上形成了用于露出固定基板2上的端子23c的開口部分33a，從而可從上面?zhèn)扰c端子23c通電。
在此，在可動(dòng)部31的大致中央，在可動(dòng)反射膜34和第2反射防止膜35之間形成了圓柱形狀的光透過部36。光透過部36由至少對(duì)可見光具有光透過性的材料構(gòu)成，在本發(fā)明中，使用了與固定基板2相同的Pyrex(注冊(cè)商標(biāo))玻璃。
如上述構(gòu)成的可動(dòng)基板3以可動(dòng)部31的周邊部與驅(qū)動(dòng)電極23a相面對(duì)的方式接合在固定基板2的上面2a。在這種狀態(tài)下，固定反射膜24a和可動(dòng)反射膜34相隔規(guī)定的間隔(第1間隔)相面對(duì)，且驅(qū)動(dòng)電極23a和可動(dòng)部31相隔包括絕緣膜24b和具有絕緣性的可動(dòng)反射膜34的規(guī)定間隔(第2間隙)相面對(duì)。
在如上述構(gòu)成的可調(diào)波長濾波器1中，若在固定基板2上的端子23c和可動(dòng)基板3的通電部33之間施加電壓，則在驅(qū)動(dòng)電極23a和可動(dòng)部31之間產(chǎn)生了電位差，從而發(fā)生使兩者相互吸引的庫侖力。可動(dòng)部31被可撓性較好的支撐部32所支撐，因此通過該庫侖力向-Z方向位移，并在與施加電壓對(duì)應(yīng)的規(guī)定位置靜止。即，通過改變施加電壓，使可動(dòng)部31相對(duì)固定基板2移動(dòng)到±Z方向的規(guī)定位置上，從而可以將固定反射膜24a和可動(dòng)反射膜34的間隔(第1間隙的長度)d調(diào)節(jié)(變換)至所期望的間隔。在此，驅(qū)動(dòng)電極23a作為使可動(dòng)部31相對(duì)固定基板2位移的驅(qū)動(dòng)部發(fā)揮功能。
接著，利用圖2對(duì)本發(fā)明的可調(diào)波長濾波器的作用進(jìn)行說明。
如圖2所示，例如，從固定基板2的上面?zhèn)热肷涞墓釲透過第2反射防止膜35、光透過部36和可動(dòng)反射膜34，入射到由可動(dòng)反射膜34和固定反射膜24相夾的第1間隙內(nèi)。
入射到第1間隙內(nèi)的光L在固定反射膜24a和可動(dòng)反射膜34之間反復(fù)反射，并且根據(jù)各反射膜24a、34的反射率，透過反射膜24a、34。在此，在第1間隙內(nèi)包括了反射次數(shù)不同的多個(gè)光波，且這些相互干涉，僅有相位一致的波長透過。相位一致的波長依賴于第1間隙的長度d，因此通過調(diào)整長度d，可選擇透過的光的波長。透過了固定反射膜24a的光，透過固定基板2和第1反射防止膜25出射到外部，用于具有特定波長的光的強(qiáng)度測(cè)量等。
另外，在本實(shí)施方式中，雖然從上面?zhèn)?第2反射防止膜35側(cè))入射光，但也可從下面?zhèn)?第1反射防止膜25側(cè))入射光。并且，出射光側(cè)不限于入射光側(cè)的相反側(cè)，也可利用從光入射側(cè)出射的光。
接著，參照附圖對(duì)于本實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1的制造方法進(jìn)行說明。圖4～圖11為表示本實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1的制造方法的剖視圖，表示圖1的A-A剖面所對(duì)應(yīng)的剖面。
該制造方法具有(1)固定基板的加工工序、(2)SOI基板的加工工序、(3)固定基板和SOI基板的接合工序、和(4)可動(dòng)基板的加工工序。下面，依次對(duì)各工序進(jìn)行說明。
(1)固定基板的加工工序如圖4(a)所示，在固定基板2的上面2a形成掩模層51。作為構(gòu)成掩模層51的材料可采用例如為Cr/Au等金屬膜。掩模層51的厚度沒有特別限定，優(yōu)選為0.01～1μm左右，更優(yōu)選為0.09～0.11μm左右。若掩模層51過薄，會(huì)出現(xiàn)無法充分保護(hù)固定基板2的情況，而若掩模層51過厚，會(huì)出現(xiàn)由于掩模層51內(nèi)部應(yīng)力而使掩模層51容易剝落的情況。在本實(shí)施方式中，在掩模層51通過濺射法形成Cr/Au膜，Cr、Au各自的厚度為0.03μm、0.07μm。
接著，如圖4(b)所示，在掩模層51上形成用于形成第2凹部22的開口部分51a。開口部分51a例如可通過光刻法形成。具體講，在掩模層51上形成具有與開口部分51a對(duì)應(yīng)的圖案的保護(hù)層(未圖示)，并將該保護(hù)層當(dāng)作掩模，除去掩模層51的一部分之后，通過除去保護(hù)層而形成開口部分51a。另外，除去掩模層51的一部分則通過濕式蝕刻法等進(jìn)行。
接著，如圖4(c)所示，通過濕式蝕刻法蝕刻固定基板2，形成第2凹部22。作為蝕刻液例如可采用氟酸水溶液等。另外，第2凹部22的形成方法不限于濕式蝕刻法，也可采用干式蝕刻法等其他蝕刻法。
接著，通過蝕刻法除去掩模層51后，與形成第2凹部22的相同道理形成第1凹部21。具體講，在固定基板2上形成掩模層52，且如圖5(a)所示，形成用于形成第1凹部21的開口部分52a。接著，如圖5(b)所示，通過濕式蝕刻法蝕刻第2凹部22的底面22a，形成第1凹部21。然后，如圖5(c)所示，通過以蝕刻法除去掩模層52，獲得具有第1和第2凹部的固定基板2。
接著，如圖6(a)所示，形成由驅(qū)動(dòng)電極23a、布線23b和端子23c構(gòu)成的導(dǎo)電層23。作為構(gòu)成導(dǎo)電層23的材料可采用例如Cr、Al等金屬膜或如ITO的透明導(dǎo)電材料等。導(dǎo)電層23的厚度例如優(yōu)選為0.1～0.2μm。
為形成該導(dǎo)電層23，通過蒸鍍法、濺射法、和離子度法等形成金屬膜之后，通過光刻法和蝕刻法進(jìn)行圖案化。
接著，在第1凹部21的底面和驅(qū)動(dòng)電極23a和布線23b的表面上分別形成固定反射膜24a和絕緣膜24b。在本實(shí)施方式中，固定反射膜24a和絕緣膜24b具有相同的材料構(gòu)成，且同時(shí)形成這些膜。具體講，如圖6(b)所示，在固定基板2的上面2a形成保護(hù)層53，并通過光刻法和蝕刻法等圖案化，除去形成固定反射膜24a和絕緣膜24b的部位的保護(hù)層53之后，通過蒸鍍法等交互形成SiO2膜和Ta2O5膜等，形成多層膜54。
接著，通過噴射法除去保護(hù)層53和形成在保護(hù)層53上的多層膜54，則如圖6(c)所示，在第1凹部21的底面和驅(qū)動(dòng)電極23a以及布線23b的表面上分別形成固定反射膜24a和絕緣膜24b。然后，在固定基板2的下面2b形成由同樣的多層膜構(gòu)成的第1反射防止膜25。在此，固定反射膜24a和第1反射防止膜25可通過調(diào)整各層的厚度、層數(shù)、材質(zhì)等，選擇反射膜或反射防止膜，或者選擇反射率和反射·透過的波長。并且，固定反射膜24a的厚度例如優(yōu)選為0.1～12μm。
(2)SOI基板的加工工序在本實(shí)施方式中，作為用于形成由硅構(gòu)成的可動(dòng)基板3的基本材料采用了SOI基板。
如圖7(a)所示，SOI基板60由第1Si層(底層)61、為埋入氧化膜的SiO2層(絕緣層)62、和第2Si層(活性層)63等層疊體構(gòu)成。SOI基板60的厚度沒有特別限定，在本實(shí)施方式中，采用了第1Si層61約為500μm、SiO2層62約為4μm、第2Si層63約為10μm的SOI基板60。
首先，如圖7(b)所示，在第2Si層63上通過光刻法和蝕刻法形成用于形成光透過部36的開口部分36a。
接著，如圖8(a)所示，在第2Si層63上形成了保護(hù)層71。具體講，在第2Si層63上和通過開口部分36a露出的SiO2層62上形成保護(hù)層71后，通過光刻法和蝕刻法等圖案化，除去SiO2層62上的保護(hù)層。接著，如圖8(b)所示，在開口部分36a內(nèi)和保護(hù)層71上，通過濺射法形成由Pyrex(注冊(cè)商標(biāo))玻璃構(gòu)成的玻璃層72。然后，通過噴射法，除去保護(hù)層71和形成在保護(hù)層71上的玻璃層72后，如圖8(c)所示，在開口部分36a內(nèi)形成由Pyrex(注冊(cè)商標(biāo))玻璃構(gòu)成的光透過部36。
接著，如圖9(a)所示，在第2Si層63上形成保護(hù)層73，且通過光刻法和蝕刻法等圖案化，形成用于形成可動(dòng)反射膜34的開口部分34a。接著，如圖9(b)所示，在開口部分34a內(nèi)和保護(hù)層73上形成具有與固定反射膜24a相同構(gòu)成的多層膜74。然后，通過噴射法，除去保護(hù)層73和形成在保護(hù)層73上的多層膜74后，如圖9(c)所示，形成了可動(dòng)反射膜34。
(3)固定基板和SOI基板的接合工序如圖10(a)所示，讓在固定基板2的形成了第1和第2凹部21、22的面(上面2a)和SOI基板60的第2Si層63相面對(duì)的狀態(tài)下，通過陽極接合，使固定基板2和SOI基板60接合。
當(dāng)通過陽極接合進(jìn)行接合時(shí)，例如分別將固定基板2連接到未圖示的直流電源的負(fù)極端子，將第2Si層63連接到未圖示的直流電源的正極端子。然后，邊加熱固定基板2邊施加電壓，則因這種加熱，固定基板中的Na離子容易移動(dòng)。根據(jù)該Na離子的移動(dòng)，固定基板2的接合面帶負(fù)電，而第2Si層63的接合面帶正電。結(jié)果，固定基板2和SOI基板60被牢固地接合。
另外，由于在固定基板2的上面2a形成了布線23b和絕緣膜24b，因此在實(shí)際上陽極接合的部位，在SOI基板60和固定基板2之間產(chǎn)生縫隙，但當(dāng)布線23b和絕緣膜24b的厚度較薄時(shí)，可根據(jù)SOI基板60和固定基板2的可撓性接合。另一方面，當(dāng)布線23b和絕緣膜24b的厚度較厚時(shí)，也可在固定基板2的上面2a的形成布線23b和絕緣膜24b的部位設(shè)置溝槽，使布線23b和絕緣膜24b不從固定基板2的上面2a突出。
(4)可動(dòng)基板的加工工序接著，除去第Si層61。作為除去的方法可采用濕式蝕刻法、干式蝕刻法、和研磨法等，但任一種情況中，SiO2層62起著阻擋層的作用，因此可防止對(duì)第2Si層63造成損壞。
當(dāng)進(jìn)行濕式蝕刻時(shí)，作為蝕刻液刻采用如KOH水溶液。KOH水溶液的濃度優(yōu)選為1～40重量％，更優(yōu)選為5～20重量％。利用該蝕刻法的反應(yīng)式如下，。
在此，由于KOH水溶液中的Si蝕刻率比SiO2的蝕刻率大很多，因此可使SiO2層62起到阻擋層的作用。另外，作為其他的蝕刻液，可采用TMAH(四甲基氫氧化胺)水溶液、EPD(乙二胺-鄰苯二酚-二嗪)水溶液、或肼水溶液等。濕式蝕刻法可以批量處理，因此可提高生產(chǎn)效率。
另一方面，當(dāng)進(jìn)行干式蝕刻時(shí)，作為蝕刻氣體，例如采用XeF2，并以390Mpa的壓力導(dǎo)入60秒鐘左右。利用該蝕刻法的反應(yīng)式如下，。
在此，當(dāng)采用XeF2進(jìn)行干式蝕刻時(shí)，也因Si的蝕刻率比SiO2的蝕刻率大很多，故可使SiO2層62起阻擋層的作用。另外，該蝕刻因未利用等離子體，故可抑制對(duì)其它部位的損壞。也可采用CF4和SF6的等離子體蝕刻法代替XeF2。
接著，例如通過利用氟酸水溶液等的濕式蝕刻等除去SiO2層62，則如圖10(b)所示，形成于第2Si層63的光透過部36露出到上面。
接著，如圖11(a)所示，在第2Si層63上形成保護(hù)層81，通過光刻法和蝕刻法等圖案化，并在光透過部36上形成用于形成第2反射防止膜35的開口部分35a。接著，在開口部分35a內(nèi)和保護(hù)層81上形成具有與第1反射防止膜25相同構(gòu)成的多層膜82。然后，通過噴射法，除去保護(hù)層81和形成于保護(hù)層81上的多層膜82后，如圖11(b)所示，形成了第2反射防止膜35。
接著，如圖11(c)所示，在第2Si層63上形成保護(hù)層83，并通過光刻法和蝕刻法等，進(jìn)行與可動(dòng)部31、支撐部32、導(dǎo)電部33的形狀對(duì)應(yīng)的圖案化。然后，通過各向異性蝕刻，對(duì)第2Si層63進(jìn)行蝕刻，形成開口部分32a、33a，在通過利用氧等離子體的灰化等除去保護(hù)層83后，如圖2所示，在固定基板2上形成了可動(dòng)基板3。
如上所述，根據(jù)本實(shí)施方式的可調(diào)濾波器1及其制造方法，可獲得如下效果。
(1)根據(jù)本實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1，因可調(diào)波長濾波器具有可使波長短于紅外光的光透過的光透過部36，故可分離波長短于紅外光的光的波長。
(2)根據(jù)本實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1，在可動(dòng)部31的與驅(qū)動(dòng)電極23a相面對(duì)的部位和在驅(qū)動(dòng)電極23a的與可動(dòng)部31相面對(duì)的部位形成了絕緣膜(分別為可動(dòng)反射膜34和絕緣膜24b)，因此即使在可動(dòng)部31和驅(qū)動(dòng)電極23b間作用了過大的庫侖力時(shí)，也可抑制可動(dòng)部31和驅(qū)動(dòng)電極23a引起粘貼的現(xiàn)象。
(3)根據(jù)本實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1，在固定基板2的與具有固定反射膜24a的面相反的面和光透過部36的與具有可動(dòng)反射膜34的面相反的面上分別具有第1和第2反射防止膜25、35，因此抑制了光入射時(shí)的反射，從而可有效地從外部取入光。
(4)根據(jù)本實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1，因固定基板2由包括作為可動(dòng)離子的Na離子的玻璃構(gòu)成，故可通過陽極接合，接合固定基板2和SOI基板60(可動(dòng)基板3)。即，不必介入粘接劑等其他部件便可接合，因此提高了第1間隙的精度，從而可高精度地設(shè)定分離波長。
(5)根據(jù)本實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1，光透過部36采用了可使波長短于紅外光的光透過的玻璃，因此，通過濺射法，可容易地形成光透過部36。
(6)根據(jù)本實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1，因可動(dòng)基板3由硅構(gòu)成，故可通過半導(dǎo)體制造處理容易地制造可動(dòng)基板3。
(7)根據(jù)本實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1，在固定基板2上形成第1和第2凹部21、22，在各底面上形成固定反射膜24a和驅(qū)動(dòng)電極23a之后，在固定基板2上形成可動(dòng)基板3。因此，無需為形成第1和第2間隙而除去犧牲層的工序。進(jìn)而，由此，因無需具有釋放孔，故可有效利用庫侖力。
(8)根據(jù)本實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1，因?qū)潭ɑ?和用于形成可動(dòng)基板3的SOI基板分別加工，故可容易地在可動(dòng)部31和驅(qū)動(dòng)電極23a之間形成用于防止兩者粘貼的絕緣膜24b。
(9)根據(jù)本實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1，固定基板2由玻璃構(gòu)成，且第1凹部21通過能以高精度形成的玻璃的蝕刻形成，因此可高精度地形成第1間隙。結(jié)果，可高精度地設(shè)定分離波長。
(10)根據(jù)本實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1，固定基板2由玻璃構(gòu)成，且第2凹部22通過能以高精度形成的玻璃的蝕刻形成，因此可高精度地形成第2間隙。結(jié)果，可高精度地控制庫侖力。
(11)根據(jù)本實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1的制造方法，在除去第1Si層61時(shí)，將SiO2層62作為阻擋層，因此可抑制成為可動(dòng)基板3的第2Si層63受到損壞。結(jié)果，提高了可動(dòng)基板3即可動(dòng)部31的厚度的精度，因此可穩(wěn)定地驅(qū)動(dòng)可動(dòng)部31，且不僅能準(zhǔn)確地控制第1間隙的可變量，還可提高制造成品率。
(第2實(shí)施方式)參照附圖對(duì)本發(fā)明的第2實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖12為具有第1實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1的檢測(cè)裝置的構(gòu)成圖。
如圖12所示，檢測(cè)裝置100具有光入射部101、可調(diào)波長濾波器1、和檢測(cè)部102。從光入射部101入射的光L通過可調(diào)波長濾波器1分離波長，使僅有規(guī)定波長的光入射到檢測(cè)部102。
根據(jù)本實(shí)施方式的檢測(cè)裝置100，因可調(diào)波長濾波器1具有使波長短于紅外光的光透過的光透過部36(參照?qǐng)D2)，故檢測(cè)裝置100的檢測(cè)對(duì)象不限于紅外光。
(變形例)
另外，本發(fā)明的實(shí)施方式也可進(jìn)行如下變形。
·在上述實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1中，光透過部36雖然形成為具有與可動(dòng)基板3大致相同的厚度(參照?qǐng)D2)，光透過部36的厚度并不限定于此，可以比可動(dòng)基板3厚，也可以薄。
·在上述實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1中，由多層膜構(gòu)成了固定反射膜24a、可動(dòng)反射膜34、第1和第2反射防止膜25、35，但也可由單層膜構(gòu)成這些。
·在上述實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1中，驅(qū)動(dòng)可動(dòng)部31的驅(qū)動(dòng)部的構(gòu)成為利用了庫侖力，但也可利用電磁力和壓電效果等。
·在上述實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1的制造方法中，通過噴射法形成了固定反射膜24a、可動(dòng)反射膜34和第2反射防止膜35，但也可通過利用了掩模硬化的蝕刻法等形成。
·在上述實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1的制造方法中，覆蓋驅(qū)動(dòng)電極23a和布線23b的絕緣膜24b與固定反射膜24a具有相同的材料構(gòu)成，且同時(shí)形成了這些膜，但也可采用不同于固定反射膜24a的部件而分別形成。例如，還可在驅(qū)動(dòng)電極23a和布線23b上配備SiO2層。進(jìn)而，絕緣膜24b也可配備于可動(dòng)基板3側(cè)。例如，也可在可動(dòng)基板3與固定基板2接合的面?zhèn)?，通過熱氧化和TEOS(四乙基原硅酸鹽)-CVD(化學(xué)氣相沉積)，形成SiO2層。
·在上述實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1的制造方法中，作為用于形成可動(dòng)基板3的基本材料，使用了SOI基板60，但可以使用例如硅基板單體和SOS(藍(lán)寶石上硅)基板、或?qū)⒈砻嫘纬闪薙iO2層的2張硅基板貼合成SiO2層彼此相向的基板等。
·在上述實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1的制造方法中，作為接合SOI基板60和固定基板2的方法采用了陽極接合，但接合方法不限于此，例如還可通過粘接劑和低熔點(diǎn)玻璃接合。
·在上述實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1中，光透過部36通過Pyrex(注冊(cè)商標(biāo))玻璃構(gòu)成，但光透過部36的構(gòu)成不限于此，也可采用例如PDMS(聚二甲基硅氧烷)等可使波長短于紅外光的波長的光透過的硅橡膠等。
由此，例如使硅橡膠注入開口部分36a(參照?qǐng)D7(b))后，通過加熱硬化可形成光透過部36，從而可容易地形成光透過部36。
·上述實(shí)施方式的可調(diào)波長濾波器1的用途沒有特別限定，例如可用于UV吸收頻譜和圖像描繪設(shè)備的檢查等。此時(shí)，通過在可調(diào)波長濾波器1的上面?zhèn)然蛳旅鎮(zhèn)仍O(shè)置注入非測(cè)量物(流體)的流路(溝槽)，可使裝置小型化。
此外，也可在可調(diào)波長濾波器1上附加接受來自可調(diào)濾波器的出射光的光敏元件和用于分析出射光的微機(jī)等。進(jìn)而，若設(shè)置檢測(cè)第1間隙和第2間隙的長度的檢測(cè)機(jī)構(gòu)，可通過將其檢測(cè)結(jié)果反饋到上述微機(jī)上，高精度地設(shè)定分離波長以及利用庫侖力進(jìn)行驅(qū)動(dòng)。
權(quán)利要求
1.一種可調(diào)波長濾波器，包括固定基板，其具有固定反射膜且可使短于紅外光的波長的光透過；可動(dòng)基板，其具有配備可動(dòng)反射膜的可動(dòng)部且使所述可動(dòng)反射膜和所述固定反射膜相隔規(guī)定長度的間隙相面對(duì)地配置在所述固定基板上；和驅(qū)動(dòng)部，其通過使所述可動(dòng)部相對(duì)于所述固定基板發(fā)生位移，改變所述間隙的長度；使從外部入射到所述間隙內(nèi)的光通過在所述可動(dòng)反射膜和所述固定反射膜反復(fù)反射，從而將對(duì)應(yīng)于所述間隙長度的波長的光能夠射出到外部，其特征在于，所述可動(dòng)部在具有所述可動(dòng)反射膜的部位具有光透過部，該透過部可使短于紅外光的波長的光透過，用于與外部進(jìn)行光的入射和射出。
2.一種可調(diào)波長濾波器，包括固定基板，其第1凹部和第2凹部形成于1個(gè)面上，且使波長短于紅外光的光透過；可動(dòng)基板，其具有可動(dòng)部，并使所述可動(dòng)部與所述第1和第2凹部的底面相面對(duì)地配置在所述固定基板上，且具有導(dǎo)電性；可動(dòng)反射膜，其配備于所述可動(dòng)部的與所述第1和第2凹部的底面相面對(duì)的面上；固定反射膜，其在所述第1凹部的底面與所述可動(dòng)反射膜相隔第1間隙而配置；和驅(qū)動(dòng)電極，在所述第2凹部的底面與所述可動(dòng)部相隔第2間隙而配置，并且通過與所述可動(dòng)部的電位差產(chǎn)生的庫侖力，使所述可動(dòng)部相對(duì)所述固定基板發(fā)生位移，從而改變所述第1間隙的長度；使從外部入射到所述第1間隙內(nèi)的光通過所述可動(dòng)反射膜和所述固定反射膜反復(fù)反射，從而可使所述第1間隙的長度對(duì)應(yīng)的波長的光射出到外部，其特征在于，所述可動(dòng)部在具有所述可動(dòng)反射膜的部位具有光透過部，該透過部可使短于紅外光的波長的光透過，用于與外部進(jìn)行光的入射和射出。
3.如權(quán)利要求2所述的可調(diào)波長濾波器，其中，在所述可動(dòng)部的與所述驅(qū)動(dòng)電極相面對(duì)的部位和所述驅(qū)動(dòng)電極的與所述可動(dòng)部相面對(duì)的部位的至少一個(gè)形成絕緣膜。
4.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的可調(diào)波長濾波器，其中，在所述光透過部的具有所述可動(dòng)反射膜的面的相反面和所述固定基板的具有所述固定反射膜的面的相反面中的至少一個(gè)配備反射防止膜。
5.如權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的可調(diào)波長濾波器，其中，所述固定基板由包括可動(dòng)離子的玻璃構(gòu)成。
6.如權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的可調(diào)波長濾波器，其中，所述光透過部由可使波長短于紅外光的光透過的玻璃構(gòu)成。
7.如權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的可調(diào)波長濾波器，其中，所述光透過部由使波長短于紅外光的光透過的硅橡膠構(gòu)成。
8.如權(quán)利要求1～7中任一項(xiàng)所述的可調(diào)波長濾波器，其中，所述可動(dòng)基板由硅構(gòu)成。
9.一種可調(diào)波長濾波器的制造方法，所述可調(diào)波長濾波器包括固定基板，其具有固定反射膜且可使短于紅外光的波長的光透過；可動(dòng)基板，其具有配備可動(dòng)反射膜的可動(dòng)部且使所述可動(dòng)反射膜和所述固定反射膜相隔規(guī)定長度的間隙相面對(duì)地配置在所述固定基板上；和驅(qū)動(dòng)部，其通過使所述可動(dòng)部相對(duì)于所述固定基板發(fā)生位移，改變所述間隙的長度；使從外部入射到所述間隙內(nèi)的光通過在所述可動(dòng)反射膜和所述固定反射膜反復(fù)反射，從而將對(duì)應(yīng)于所述間隙長度的波長的光能夠射出到外部，其特征在于，所述制造方法包括形成具有所述固定反射膜的所述固定基板的工序；和將作為用于形成所述可動(dòng)基板的基本材料的具有所述可動(dòng)反射膜的所述基本材料與所述固定基板接合，使所述可動(dòng)反射膜和所述固定反射膜相隔所述間隙相面對(duì)的工序；然后，具有在所述固定基板上形成所述可動(dòng)基板的工序，所述可動(dòng)基板在所述可動(dòng)部中具有可使波長短于紅外光的波長的光透過的光透過部。
10.一種可調(diào)波長濾波器的制造方法，所述可調(diào)波長濾波器包括固定基板，其第1凹部和第2凹部形成于1個(gè)面上，且使波長短于紅外光的光透過；可動(dòng)基板，其具有可動(dòng)部，并使所述可動(dòng)部與所述第1和第2凹部的底面相面對(duì)地配置在所述固定基板上，且具有導(dǎo)電性；可動(dòng)反射膜，其配備于所述可動(dòng)部的與所述第1和第2凹部的底面相面對(duì)的面上；固定反射膜，其在所述第1凹部的底面與所述可動(dòng)反射膜相隔第1間隙而配置；和驅(qū)動(dòng)電極，在所述第2凹部的底面與所述可動(dòng)部相隔第2間隙而配置，并且通過與所述可動(dòng)部的電位差產(chǎn)生的庫侖力，使所述可動(dòng)部相對(duì)所述固定基板發(fā)生位移，從而改變所述第1間隙的長度；使從外部入射到所述第1間隙內(nèi)的光通過所述可動(dòng)反射膜和所述固定反射膜反復(fù)反射，從而可使所述第1間隙的長度對(duì)應(yīng)的波長的光射出到外部，其特征在于，所述制造方法包括在所述固定基板上形成所述第1和第2凹部的工序；在所述第2凹部的底面上形成所述驅(qū)動(dòng)電極的工序；和在所述第1凹部的底面上形成所述固定反射膜的工序，然后，具有在所述固定基板上形成所述可動(dòng)基板的工序，所述可動(dòng)基板在所述可動(dòng)部中具有可使波長短于紅外光的波長的光透過的光透過部。
11.如權(quán)利要求10所述的可調(diào)波長濾波器的制造方法，其中，所述固定基板由玻璃構(gòu)成，而所述第1凹部通過蝕刻法形成。
12.如權(quán)利要求10或11所述的可調(diào)波長濾波器的制造方法，其中，所述固定基板由玻璃構(gòu)成，而所述第2凹部通過蝕刻法形成。
13.如權(quán)利要求10～12中任一項(xiàng)所述的可調(diào)波長濾波器的制造方法，其中，具有在所述可動(dòng)部的與所述驅(qū)動(dòng)電極相面對(duì)的部位和所述驅(qū)動(dòng)電極的與所述可動(dòng)部相面對(duì)的部位中的至少一個(gè)上形成絕緣膜的工序。
14.如權(quán)利要求9～13中任一項(xiàng)所述的可調(diào)波長濾波器的制造方法，其中，在所述固定基板上形成所述可動(dòng)基板的工序，利用具有底層、形成于所述底層上的絕緣層和成為形成于所述絕緣層上的所述可動(dòng)基板的活性層的基本材料，具有將所述基本材料接合在所述固定基板上的工序；將所述絕緣層作為阻擋層而除去所述底層的工序；和除去所述絕緣層的工序。
15.如權(quán)利要求9～14中任一項(xiàng)所述的可調(diào)波長濾波器的制造方法，其中，所述光透過部通過下述工序被形成在所述基本材料的所述活性層上形成用于形成所述光透過部的開口部分的工序；和在所述開口部分上濺射可使波長短于紅外光的光的玻璃的工序。
16.如權(quán)利要求9～14中任一項(xiàng)所述的可調(diào)波長濾波器的制造方法，其中，所述光透過部通過下述工序被形成在所述基本材料的所述活性層上形成用于形成所述光透過部的開口部分的工序；和在所述開口部分流入可使波長短于紅外光的光的硅橡膠的工序。
17.一種檢測(cè)裝置，其特征在于，具有權(quán)利要求1～8所述的可調(diào)波長濾波器。
全文摘要
本發(fā)明提供一種不必除去犧牲層便可形成且可使波長短于紅外光的光分離的可調(diào)波長濾波器及其制造方法?？烧{(diào)波長濾波器(1)具有固定基板(2)，其至少對(duì)可見光具有光透過性；和可動(dòng)基板(3)，其由硅構(gòu)成?？蓜?dòng)基板(3)具有可動(dòng)部(31)、將可動(dòng)部(31)支撐為能向Z方向位移的支撐部、和向可動(dòng)部(31)通電的通電部(33)，且在可動(dòng)部(31)的大致中央形成了圓柱形狀的光透過部(36)。光透過部(36)由至少對(duì)可見光具有光透過性的材料構(gòu)成。
文檔編號(hào)G02B26/00GK1719302SQ20051008355
公開日2006年1月11日 申請(qǐng)日期2005年7月11日 優(yōu)先權(quán)日2004年7月9日
發(fā)明者中村亮介, 村田昭浩 申請(qǐng)人:精工愛普生株式會(huì)社