專利名稱：涂敷裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種在半導體晶片或玻璃基板等的基板表面上均勻涂敷抗蝕劑液等涂敷液的涂敷裝置。
背景技術：
下述涂敷裝置已被公知，其在杯體內(nèi)配置有旋轉器，在該旋轉器上使半導體晶片吸附在玻璃基板等基板上的狀態(tài)下，使旋轉器高速旋轉，利用離心力使滴落到基板表面上的抗蝕劑等涂敷液均勻擴散到基板表面上。對于這種現(xiàn)有裝置，有時會在基板背面上附著成為霧狀的抗蝕劑，而其固化后則在曝光時不能維持基板的水平或者高度，從而會引起焦點偏移。
因此，以往在專利文獻1～3中提出了不會在基板背面上附著霧狀涂敷液的方案。
在專利文獻1中，將杯體分為外杯體和內(nèi)杯體，在該內(nèi)杯體內(nèi)，在基板的背面周邊部和全周范圍內(nèi)以等間隔設置鄰接的整流環(huán)，在對內(nèi)杯體內(nèi)進行排氣之時，使基板背面?zhèn)鹊臍夥昭刂灞趁鎻目炕逯行奶幊蛲庵?，從而使得抗蝕劑霧不會繞到基板背面。
在專利文獻2中，在杯體內(nèi)設置有截頭圓錐狀的整流部件，在經(jīng)由間隙而與基板的背面對置的整流部件的上表面上形成有多條環(huán)狀槽，防止涂敷液的飛沫附著到基板(晶片)的背面上。
在專利文獻3中，在基板(晶片)的背面以盡量小的間隙配置有整流板。特別是在該專利文獻3中，公開了清洗基板背面的后沖洗噴嘴。
專利文獻1特開平5-109612號公報專利文獻2特開平5-206019號公報專利文獻3特開平6-20935號公報根據(jù)上述專利文獻中公開的手段，不能完全防止霧狀的涂敷液附著到基板背面上。特別是在涂敷含有丙烯酸類樹脂的抗蝕劑液的情況下，會以棉花糖似的白線狀(煙狀)被吸入并附著到成為負壓的基板背面?zhèn)取?br>
例如，當向通過不具備整流部件的現(xiàn)有涂敷裝置以1000rpm旋轉的半導體晶片上滴下抗蝕劑PMER-LA900(東京應化工業(yè)制粘度900cp)時，會在殼體內(nèi)產(chǎn)生大量的甩線，該線會附著在晶片背面上。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述課題，本發(fā)明的涂敷裝置，在配置有主軸卡盤的殼體的底面上，設置有對前述主軸卡盤以使其上表面露出的狀態(tài)進行收納的筒狀壁部，在該筒狀壁部的外側配置有整流部件，該整流部件包括固定設置在前述殼體上的立起壁、和從該立起壁的上端向前述筒狀壁部延伸的水平部，進而，前述立起壁的全部或者局部為空氣可流通的多孔體或者沖孔板，在前述水平部上形成有通氣用的開口，在該通氣用的開口的下方配置有擋霧裝置。通過作成這種結構，可以可靠地防止涂敷液繞到并附著在基板背面上。
另外，通過在前述整流部件的立起壁上端設置多個清洗液供給口，可以始終或者在必要時向立起壁表面供給清洗液，從而可以將由立起壁表面捕捉到的涂敷液清洗掉。
根據(jù)本發(fā)明，流過基板背面與整流部件的水平部之間的氣流朝外，而且在氣流中幾乎不包含霧狀涂敷液，所以涂敷液不會附著到基板背面上。結果，例如在曝光工序中，不會產(chǎn)生不能維持基板的水平從而導致焦點偏移等的問題。
圖1是本發(fā)明的涂敷裝置的側剖視圖。
圖2是該涂敷裝置的俯視圖。
圖3是說明該涂敷裝置的作用的放大側視圖。
具體實施例方式
下面，基于附圖對本發(fā)明的實施例進行說明。圖1是本發(fā)明的涂敷裝置的側剖視圖面，圖2是該涂敷裝置的俯視圖，涂敷裝置在上面開口的殼體1的側面上形成有排氣口1a，進而主軸2貫穿殼體1的底面并延伸到殼體1內(nèi)，在該主軸2的上端部上安裝有卡盤3。該卡盤3通過吸引或者靜電力固定半導體晶片或玻璃基板等基板W。
另外，主軸2設成可在上下方向上移動，在前述殼體1的底面的中央形成有筒狀壁部4，在該筒狀壁部4內(nèi)收納有主軸卡盤(主軸2和卡盤3)。另外，筒狀壁部4的高度設定為，在主軸2下降到最低的位置上，卡盤3的上表面比筒狀壁部4的上端稍高。
另外，在筒狀壁部4的外側配置有整流部件5。該整流部件5包括固定設置在前述殼體1底面上的立起壁6、從該立起壁6的上端朝前述筒狀壁部4延伸的水平部7，進而，前述立起壁6的下半部由沖孔板8構成。在此，設置立起壁6的位置設為以徑向為基準比由主軸卡盤保持的基板W的外周端更靠外側的位置。
另外，也可以取代沖孔板8，而使用多孔體等不會妨礙空氣的流通但會捕獲線狀涂敷液的部件。而且，也可以使立起壁6整體都由沖孔板或多孔體構成。
另外，在前述立起壁6的水平部7的內(nèi)側端和筒狀壁部4之間形成有間隙，進而，在中間位置上形成有多個通氣用的開口9，在該通氣用的開口9的下方配置有擋霧裝置10。通過將該擋霧裝置10和水平部7的下表面之間的空間設定得較狹窄，來發(fā)揮迷宮功能從而使得霧狀的涂敷液不會繞到基板W背面?zhèn)取?br>
另外，上述立起壁6的上端部做成傾斜面，在該傾斜面上形成有多個供給清洗液的清洗液供給口11，根據(jù)需要將附著在立起壁6和沖孔板8上的線狀的剩余涂敷液洗掉。
以上，一邊經(jīng)由排氣口1a吸引一邊使主軸卡盤(主軸2和卡盤3)旋轉，利用離心力使滴到基板W表面上的涂敷液擴散。伴隨著該旋轉，在基板W表面上形成朝向徑向外側的氣流，由筒狀壁部4和整流部件5包圍的空間S、以及基板W背面和整流部件之間的間隙成為減壓狀態(tài)。
這樣，當基板W旋轉且空間S內(nèi)成為減壓狀態(tài)后，如圖3所示，僅有純空氣從基板W的外周緣透過沖孔板8并穿過擋霧裝置10與水平部7之間的間隙，從通氣用的開口9穿過水平部7的上表面與基板W的下表面之間的間隙向徑向外側流動。
一方面，除了僅有純空氣的氣流之外，還有從基板W的外周緣線狀地飛出的剩余的涂敷液及抗蝕劑。線狀的剩余涂敷液在穿過沖孔板8之時被截留從而被沖孔板捕捉到。另一方面，霧雖然會穿過沖孔板8但是在擋霧裝置10處被捕捉到，結果，在從通氣用的開口9朝向水平部7的上表面和基板W的下表面之間的間隙的氣流中，不包含涂敷液及霧，從而涂敷液不會附著到基板W的下表面上。另外，從清洗液供給口11適當供給清洗液，將附著在立起壁6和沖孔板8上的剩余涂敷液隨時洗掉。
在向使用以上的涂敷裝置以1000rpm旋轉的半導體晶片上滴下抗蝕劑PMER-LA900(東京應化工業(yè)制粘度900cp)后，會在殼體內(nèi)產(chǎn)生甩線，但該線不會繞到晶片背面上，而是被立起壁的沖孔板捕獲到。
權利要求
1.一種涂敷裝置，其在配置于殼體內(nèi)的主軸卡盤上載置基板，利用前述主軸卡盤使基板旋轉，由此使滴落到基板表面上的涂敷液均勻擴散，其特征在于，在前述殼體的底面上，設置有對前述主軸卡盤以使其上表面露出的狀態(tài)進行收納的筒狀壁部，在該筒狀壁部的外側配置有整流部件，該整流部件包括固定設置在前述殼體上的立起壁、和從該立起壁的上端向前述筒狀壁部延伸的水平部，進而，前述立起壁的全部或者局部為空氣可流通的多孔體或者沖孔板，在前述水平部上形成有通氣用的開口，在該通氣用的開口的下方配置有擋霧裝置。
2.如權利要求1所述的涂敷裝置，其特征在于，在前述整流部件的立起壁上端，形成有多個向立起壁表面供給清洗液的清洗液供給口。
全文摘要
本發(fā)明的課題在于提供一種在通過基板背面?zhèn)鹊臍饬髦袔缀醪话F狀涂敷液、從而涂敷液不會附著到基板背面上的涂敷裝置。當基板(W)旋轉且空間(S)內(nèi)成為減壓狀態(tài)后，僅有純空氣從基板(W)的外周緣透過沖孔板(8)并穿過擋霧裝置(10)與水平部(7)之間的間隙，從通氣用的開口(9)穿過水平部(7)的上表面與基板(W)的下表面之間的間隙向徑向外側流動，另一方面，從基板(W)的外周緣飛出的線狀的剩余涂敷液在穿過沖孔板(8)之時被截留從而被沖孔板捕捉到，對于霧，雖然會穿過沖孔板(8)但是在擋霧裝置(10)處被捕捉到，結果，在從通氣用的開口(9)朝向水平部(7)的上表面和基板(W)的下表面之間的間隙的氣流中，不包含涂敷液及霧，從而涂敷液不會附著到基板(W)的下表面上。
文檔編號G03F7/00GK1749859SQ20051010405
公開日2006年3月22日 申請日期2005年9月14日 優(yōu)先權日2004年9月14日
發(fā)明者青木泰一郎, 稻尾吉浩 申請人:東京応化工業(yè)株式會社