專利名稱：圖像形成裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及根據(jù)來自發(fā)光元件的照射光在圖像擔(dān)載體上形成潛像的圖像形成裝置(圖像印刷裝置)。
背景技術(shù)：
這種圖像形成裝置配有圖像擔(dān)載體、及與其表面相對(duì)的頭部。一般用感光鼓作為圖像擔(dān)載體。在頭部中，在與感光鼓相對(duì)的部分上，排列了例如由有機(jī)EL(Electro Luminescent)材料等的發(fā)光材料制成的多個(gè)發(fā)光元件。在感光鼓(photoreceptor drum)的表面上形成與來自各發(fā)光元件的照射光相對(duì)應(yīng)的潛像。
在以往的圖像形成裝置中，來自各發(fā)光元件的光達(dá)到后，在感光鼓的表面的各個(gè)區(qū)域形成的潛像(以下適宜稱之為“點(diǎn)像”)的面積或形狀有很大偏差。如果點(diǎn)像的面積或形狀的偏差大，則難以形成由精細(xì)像素形成的高析像度的潛像。作為點(diǎn)像的面積或形狀發(fā)生偏差的一個(gè)原因是由感光鼓的部位，其表面與各發(fā)光元件的間隔不同。在以上兩份公報(bào)中示出了可以避免該原因的結(jié)構(gòu)在日本專利文獻(xiàn)特開平7-178956號(hào)公報(bào)中示出了與感光鼓的表面接觸的引導(dǎo)體被固定在頭部的結(jié)構(gòu)；在日本專利文獻(xiàn)特開平5-27563號(hào)公報(bào)中示出了各發(fā)光元件的端面與感光鼓的表面相接觸的結(jié)構(gòu)。
但是，在這些結(jié)構(gòu)中，伴隨著感光鼓的旋轉(zhuǎn)，通過感光鼓作用在頭部(包括引導(dǎo)體、發(fā)光元件)上的摩擦力使頭部發(fā)生彈性形變，會(huì)產(chǎn)生在該頭部的應(yīng)力超過某一界限的階段，頭部恢復(fù)到原來的形狀的現(xiàn)象，即，產(chǎn)生了頭部的振動(dòng)。頭部的振動(dòng)特別是在感光鼓以高速旋轉(zhuǎn)時(shí)變得顯著。如果產(chǎn)生了這樣的振動(dòng)，則感光鼓與各發(fā)光元件的間隔發(fā)生變動(dòng)，點(diǎn)像的面積或形狀時(shí)效性地產(chǎn)生大偏差。另外，在這些結(jié)構(gòu)中，由于頭部與感光鼓的摩擦使它們的表面急劇磨耗，其結(jié)果是有各發(fā)光元件與感光鼓的間隔變動(dòng)很大的擔(dān)心。即，存在點(diǎn)像的面積或形狀時(shí)效性地產(chǎn)生大偏差的憂慮。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明提供一種可以將點(diǎn)像的面積或形狀的偏差維持得更小的圖像形成裝置。
本發(fā)明的圖像形成裝置包括具有向一個(gè)方向行進(jìn)的圖像擔(dān)載面的圖像擔(dān)載體；與圖像擔(dān)載體對(duì)置的支持體；多個(gè)發(fā)光元件，所述發(fā)光元件被設(shè)置在支持體上的與圖像擔(dān)載體相對(duì)部位、通過發(fā)光在該圖像擔(dān)載體上形成潛像；輥，所述輥被配置在支持體上的與圖像擔(dān)載體對(duì)置的部位上、使旋轉(zhuǎn)軸面向橫切圖像擔(dān)載面的方向；推壓部，所述按壓部將支持體推壓向圖像擔(dān)載體側(cè)、使得輥與圖像擔(dān)載體相接觸。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，因?yàn)閷⒅С煮w推壓向圖像擔(dān)載體側(cè)，使得輥與圖像擔(dān)載體相接觸，所以可以精度良好地維持設(shè)置在該支持體上的發(fā)光元件與圖像擔(dān)載體的間隔在所希望的尺寸。另外，因?yàn)樾D(zhuǎn)軸面向橫切圖像擔(dān)載面的方向的輥與圖像擔(dān)載體相接觸，所以該輥伴隨著圖像擔(dān)載面的行進(jìn)而旋轉(zhuǎn)。因此，抑制了支持體或被其支持的發(fā)光元件及輥(即頭部)的振動(dòng)，并且抑制了圖像擔(dān)載體與頭部的接觸部分的磨耗。因此，可以更小地維持點(diǎn)像的面積或形狀的偏差。而且，即使在圖像擔(dān)載體與輥之間夾入了異物，通過輥的旋轉(zhuǎn)也可以迅速地除掉該異物。因此，通過防止由于這樣的異物持續(xù)地被按壓在圖像擔(dān)載體上而給圖像擔(dān)載體造成傷害的事態(tài)。這種效果有利于圖像形成(印刷)的質(zhì)量的提高及穩(wěn)定性在優(yōu)選的方式中，推壓部包括多個(gè)彈性體，所述彈性體被設(shè)置在支持體上的圖像擔(dān)載體的相反側(cè)的部位上，并推壓該支持體。根據(jù)該方式，通過簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)可以均勻地向圖像擔(dān)載體側(cè)推壓支持體。
在其他的優(yōu)選方式中，推壓部包括具有與支持體的側(cè)面相對(duì)的框架部件；及介于支持體的側(cè)面與框架部件之間的彈性體。根據(jù)該方式，可以削減支持體側(cè)的并在圖像擔(dān)載體相反側(cè)的空間。而且，在該方式中，推壓部也可以是包括將框架部件推壓向圖像擔(dān)載體側(cè)的彈性體的方式。根據(jù)該方式，可以確切地將支持體推壓向圖像擔(dān)載體側(cè)。
在另外的優(yōu)選方式中，在支持體上的與圖像擔(dān)載體對(duì)置的部位上，形成了向橫切圖像擔(dān)載面的方向延伸的槽，輥被收容在槽內(nèi)，使得外周面的一部分從在支持體上的與圖像擔(dān)載體對(duì)置的表面向圖像擔(dān)載體側(cè)突出。根據(jù)該方式，因?yàn)檩伇徊糠质杖菰诓蹆?nèi)，所以可以謀求包括支持體與輥與發(fā)光元件的頭部的薄型化。但是在該方式中，有個(gè)可能性是由于支持體向輥側(cè)彎曲，槽的底面與輥接觸，由于該摩擦而妨礙了輥的旋轉(zhuǎn)。因此，優(yōu)選的結(jié)構(gòu)是在槽的底面上配置與輥的側(cè)面相接觸的輔助輥。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，因?yàn)檩o助輥伴隨著輥的旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)，所以可以使輥圓滑地旋轉(zhuǎn)。另外，即使在沒有設(shè)置輔助輥的結(jié)構(gòu)中，根據(jù)在支持體上的與輥相對(duì)的圖像擔(dān)載面的摩擦系數(shù)小的結(jié)構(gòu)；或根據(jù)支持體是由剛性高的材料形成的難以變形的結(jié)構(gòu)，也可以使輥圓滑地旋轉(zhuǎn)。
在另外的其他優(yōu)選方式中，在支持體上的夾著多個(gè)發(fā)光元件并在相對(duì)的各位置上設(shè)置多個(gè)輥。根據(jù)該方式，因?yàn)閷?duì)于圖像擔(dān)載體可以均勻地推壓支持體，所以可以容易地使多個(gè)發(fā)光元件與圖像擔(dān)載體的間隔均勻化。在該方式中，優(yōu)選的是在橫切圖像擔(dān)載面的方向上排列多個(gè)發(fā)光元件，配置各輥使得在圖像擔(dān)載體的整個(gè)寬度上與該圖像擔(dān)載面相對(duì)。通過這樣的結(jié)構(gòu)，不僅可以使各發(fā)光元件與圖像擔(dān)載體之間的間隔均勻化，還因?yàn)閬碜愿靼l(fā)光元件的出射光被位于其兩側(cè)的各輥遮擋，所以即使在來自發(fā)光元件的出射光擴(kuò)散的情況下，也可以有選擇地將來自發(fā)光元件的出射光照射在圖像擔(dān)載體上的由各輥夾著的區(qū)域。
在另外的其他優(yōu)選方式中，圖像形成裝置形成的結(jié)構(gòu)是光學(xué)要素介于圖像擔(dān)載體與發(fā)光元件之間。例如，形成的結(jié)構(gòu)使集中來自發(fā)光元件的出射光的透鏡介于圖像擔(dān)載體與發(fā)光元件之間。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，可以高效地使來自發(fā)光元件的出射光到達(dá)圖像擔(dān)載體。在這樣的結(jié)構(gòu)中，因?yàn)辄c(diǎn)像的面積(來自發(fā)光元件的出射光到達(dá)區(qū)域的面積)對(duì)應(yīng)于圖像擔(dān)載體與發(fā)光元件的間隔而顯著地變化，所以為了在圖像擔(dān)載體上形成所希望的面積的點(diǎn)像，與沒有配置透鏡的結(jié)構(gòu)相比，所允許的圖像擔(dān)載體與發(fā)光元件的間隔的誤差變小。根據(jù)本發(fā)明，因?yàn)榭梢跃攘己玫鼐S持圖像擔(dān)載體與發(fā)光元件的間隔大致固定，所以即使在透鏡介于發(fā)光元件與圖像擔(dān)載體之間的結(jié)構(gòu)中，也可以在圖像擔(dān)載面上精度良好地形成所希望的點(diǎn)像。
本發(fā)明的圖像形成裝置包括曲面的圖像擔(dān)載面向一個(gè)方向(副掃描方向)行進(jìn)的圖像擔(dān)載體；滑動(dòng)體，所述滑動(dòng)體具有光穿透性、并且具有與圖像擔(dān)載面大致相等的曲率的滑動(dòng)面，該滑動(dòng)面與該圖像擔(dān)載面進(jìn)行面接觸；發(fā)光元件，所述發(fā)光元件被固定在該滑動(dòng)體上，使得夾著滑動(dòng)體并與圖像擔(dān)載體相對(duì)，通過對(duì)該圖像擔(dān)載面進(jìn)行光照射而在圖像擔(dān)載體上形成潛像。圖像擔(dān)載面是圖像擔(dān)載體上的來自發(fā)光元件的光線照射的表面，例如是圓筒狀至圓柱狀的圖像擔(dān)載體的外周面或圓筒狀的圖像擔(dān)載體的內(nèi)周面。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，因?yàn)楣潭òl(fā)光元件的滑動(dòng)體的具有與圖像擔(dān)載面大致相等曲率的曲面的滑動(dòng)面與該圖像擔(dān)載面進(jìn)行面接觸，所以與引導(dǎo)體的表面或發(fā)光元件的端面與圖像擔(dān)載體的表面線接觸的現(xiàn)有的結(jié)構(gòu)相比，可以以更高精度設(shè)置滑動(dòng)體在所希望的姿勢(shì)及位置上，并且可以抑制被設(shè)置的頭部的振動(dòng)，以更高精度維持滑動(dòng)體在所希望的姿勢(shì)及位置上。換言之，可以以更高精度調(diào)整發(fā)光元件與圖像擔(dān)載體的距離。以上，根據(jù)該結(jié)構(gòu)，可以更小地維持點(diǎn)像的面積或形狀的偏差。這種效果有利于圖像形成(印刷)的質(zhì)量的提高及穩(wěn)定性。
在優(yōu)選的實(shí)施方式中，滑動(dòng)體被配置在圖像擔(dān)載體的外側(cè)，使得滑動(dòng)面與大致呈圓柱面的外周面(即與圓柱面的中心線相反側(cè)的表面)的圖像擔(dān)載面進(jìn)行面接觸。根據(jù)該方式，可以容易實(shí)施設(shè)置滑動(dòng)體的作業(yè)。
在優(yōu)選的實(shí)施方式中，滑動(dòng)體被配置在圖像擔(dān)載體的內(nèi)側(cè)，使得滑動(dòng)面與大致呈圓柱面的內(nèi)周面(即與圓柱面的中心線相對(duì)的表面)的圖像擔(dān)載面進(jìn)行面接觸。根據(jù)該方式，可以削減設(shè)置滑動(dòng)體所需要的空間。
在其他的優(yōu)選方式中，還設(shè)置了將滑動(dòng)體推壓向圖像擔(dān)載體的推壓部。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，可以進(jìn)一步確切地維持滑動(dòng)體的對(duì)于圖像擔(dān)載體的姿勢(shì)或位置。本方式的推壓部的典型例子是像彈簧或橡膠這樣的彈性體。在該方式中，可以通過彈性體直接推壓滑動(dòng)體，也可以通過彈性體推壓固定在該滑動(dòng)體上的部件，間接地向圖像擔(dān)載體推壓滑動(dòng)體。
在另外的其他優(yōu)選方式中，滑動(dòng)體是在滑動(dòng)面的相反側(cè)的表面上形成發(fā)光元件的板材，在滑動(dòng)體上的與滑動(dòng)面相反一側(cè)的表面上形成覆蓋發(fā)光元件的密封體。即，在來自該發(fā)光元件的出射光透過形成發(fā)光元件的具有光穿透性的板材的結(jié)構(gòu)(所謂的底部發(fā)射型)中，可以將形成發(fā)光元件的板材兼用作滑動(dòng)體。根據(jù)該方式，與形成發(fā)光元件的板材與滑動(dòng)體分別為不同的部件的結(jié)構(gòu)相比，由于部件數(shù)量的減少而實(shí)現(xiàn)了制造成本的降低和制造工序的簡(jiǎn)化。在該方式中，優(yōu)選的結(jié)構(gòu)是在滑動(dòng)體上的與滑動(dòng)面相反一側(cè)的表面上形成密封體并覆蓋發(fā)光元件。由此，可以抑制由于外部空氣或水分的附著而引起的發(fā)光元件的劣化。
在另外的其他優(yōu)選方式中，滑動(dòng)體具有傾斜面，所述傾斜面位于該滑動(dòng)體上，并位于圖像擔(dān)載面的行進(jìn)方向的上流側(cè)的側(cè)面與滑動(dòng)面之間，傾斜成與圖像擔(dān)載面的仰角形成銳角。此處，在滑動(dòng)體上，圖像擔(dān)載面的行進(jìn)方向的上流側(cè)的側(cè)面與滑動(dòng)面形成銳角交叉，在這樣的結(jié)構(gòu)中有個(gè)可能性是，由于該角部的沖突而給滑動(dòng)面造成損傷。對(duì)此，根據(jù)本方式，因?yàn)樵诨瑒?dòng)體的側(cè)面與滑動(dòng)面之間存在傾斜面，所以有個(gè)優(yōu)點(diǎn)是，可以抑制由于與滑動(dòng)體的沖突而引起的圖像擔(dān)載面的損傷。
在另外的其他優(yōu)選方式中，可以形成使集中來自發(fā)光元件的出射光的透鏡介于圖像擔(dān)載面與發(fā)光元件之間的結(jié)構(gòu)。根據(jù)該方式，可以提高來自發(fā)光元件的出射光的利用效率。換言之，與沒有配置透鏡的結(jié)構(gòu)相比，因?yàn)榭梢詼p少為了在圖像擔(dān)載體上形成潛像而必需的來自發(fā)光元件的光量，所以可以謀求消耗功率的降低或抑制發(fā)光元件的劣化。
在另外的其他優(yōu)選方式中，滑動(dòng)體具有第一部分，所述第一部分在與圖像擔(dān)載面的相對(duì)面上形成發(fā)光元件；第二部分，所述第二部分在橫切圖像擔(dān)載面的方向上，被配置在夾著第一部分的各位置上，比第一部分向圖像擔(dān)載面一側(cè)突出。在該方式中，與第二部分的圖像擔(dān)載面相對(duì)的面為滑動(dòng)面。根據(jù)該方式，因?yàn)榱粲信c第一部分和第二部分的段差相對(duì)應(yīng)的空隙，發(fā)光元件與圖像擔(dān)載面分離，所以可以防止由于與圖像擔(dān)載面相接觸而引起的發(fā)光元件的破損或劣化。
在另外的其他優(yōu)選方式中，圖像形成裝置具有與圖像擔(dān)載面相對(duì)的、在與圖像擔(dān)載面的相對(duì)面上形成發(fā)光元件的基板，滑動(dòng)體被固定在基板上，并介于發(fā)光元件與圖像擔(dān)載體之間。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，因?yàn)楣潭嘶寮靶纬稍谄渖系陌l(fā)光元件的滑動(dòng)體具有滑動(dòng)面，該滑動(dòng)面是具有與圖像擔(dān)載面大致相等的曲率的曲面，并且與該圖像擔(dān)載面進(jìn)行面接觸，所以與引導(dǎo)體的表面或發(fā)光元件的端面與圖像擔(dān)載體的表面線接觸的現(xiàn)有的結(jié)構(gòu)相比，可以以更高精度設(shè)置滑動(dòng)體及基板在所希望的姿勢(shì)及位置上，并且可以抑制被設(shè)置的頭部的振動(dòng)，以更高精度維持滑動(dòng)體及基板在所希望的姿勢(shì)及位置上。換言之，可以以更高精度調(diào)整發(fā)光元件與圖像擔(dān)載體的距離。在該方式中，優(yōu)選的是將滑動(dòng)體作為用于覆蓋所述基板及所述發(fā)光元件的密封體。密封體是用于密封保護(hù)發(fā)光元件，避免與外部空氣接觸。
本發(fā)明的另外的其他圖像形成裝置的特征在于其配有圖像擔(dān)載面向規(guī)定方向行進(jìn)的圖像擔(dān)載體；主基板；形成在主基板上的、發(fā)光并在圖像擔(dān)載面上形成潛像的發(fā)光元件；重疊在主基板上密封發(fā)光元件的密封基板，主基板或密封基板構(gòu)成了與圖像擔(dān)載面相接觸的接觸面，在構(gòu)成了接觸面的基板上埋入柱狀的光波導(dǎo)路，該光波導(dǎo)路的一方的前端面構(gòu)成了接觸面的一部分，光波導(dǎo)路的另一方的前端面與發(fā)光元件相對(duì)并覆蓋發(fā)光元件，光波導(dǎo)路將從發(fā)光元件的通過另一前端面入射的光，通過在其周圍的全反射，引導(dǎo)向一方的前端面。在該圖像形成裝置中，光波導(dǎo)路被埋入與圖像擔(dān)載體相接觸的基板，光波導(dǎo)路的一方的前端面構(gòu)成了與圖像擔(dān)載面相接觸的接觸面的一部分。因此，光波導(dǎo)路的另一方的前端面比一方的前端面更接近發(fā)光元件。另外，光波導(dǎo)路的另一方的前端面覆蓋了發(fā)光元件。因此，從發(fā)光元件射向該基板的光的大部分從另一方的前端面射入柱狀的光波導(dǎo)路。該入射光沒有向光波導(dǎo)路的周面的外側(cè)擴(kuò)散而被引導(dǎo)，從一方的前端面射出。這樣，在接觸面上，形成了與光波導(dǎo)路的前端面相同形狀及大小的的點(diǎn)像。
一般地，由有機(jī)EL材料等的發(fā)光材料形成的發(fā)光元件如果與空氣接觸則其壽命明顯變短。因此，不能缺少發(fā)光元件的密封。在形成發(fā)光元件的主基板與重疊固定在該主基板上的密封基板之間，夾入發(fā)光元件來進(jìn)行該密封。因此，來自發(fā)光元件的光透過任意的一個(gè)基板到達(dá)圖像擔(dān)載體的表面。該發(fā)光元件為面發(fā)光的部件，來自發(fā)光面(發(fā)光層)的光隨著其的行進(jìn)而擴(kuò)散。另一方面，為了確保密封功能，主基板及密封基板必須具有某一程度的厚度。以上，來自發(fā)光面的光一般在從基板射出的時(shí)刻已經(jīng)很大擴(kuò)散。例如，如果發(fā)光面的直徑為50μm，從發(fā)光面到基板的射出面的距離為50μm，則在射出面上形成的點(diǎn)像的直徑為100μm左右。如果像這樣點(diǎn)像擴(kuò)大，則其亮度就降低。為了保持點(diǎn)像的大小并提高其亮度，必須提高發(fā)光面的亮度。例如，在上述例子中，將點(diǎn)像的亮度提高到與發(fā)光面的亮度相同的級(jí)別，就必須將發(fā)光面的亮度提高四倍。這樣使用就導(dǎo)致了發(fā)光元件的壽命的縮短。另外，點(diǎn)像越擴(kuò)大則變得越不鮮明。
另外，在形成潛像時(shí)，圖像擔(dān)載體的表面行進(jìn)。因此，只要是與圖像擔(dān)載體相接觸的頭部的曝光，在頭部上的與圖像擔(dān)載體緊密接觸的部分發(fā)生磨耗。如果發(fā)生這樣的磨耗，則從發(fā)光元件到圖像擔(dān)載體的光程也變化。從上述例子可以看出，通常，光程的變化會(huì)導(dǎo)致點(diǎn)像大小的變化。即，由于磨耗而產(chǎn)生點(diǎn)像的面積或形狀的偏差。
對(duì)此，在該圖像形成裝置中，因?yàn)閬碜园l(fā)光元件的光沒有向光波導(dǎo)路的外側(cè)擴(kuò)散而被引導(dǎo)并形成點(diǎn)像，所以可以得到鮮明的點(diǎn)像。另外，因?yàn)樵诮佑|面上形成了與光波導(dǎo)路的前端面相同的形狀及大小的點(diǎn)像，所以可以更小地抑制點(diǎn)像的面積或形狀的偏差。另外，即使由于緊密接觸部分的磨耗而使光波導(dǎo)路變短，因?yàn)楣獠▽?dǎo)路是通過在周圍表面的全反射來引導(dǎo)光的柱狀物體，其中心軸沿著由于磨耗的接觸面的后退方向，所以在接觸面形成的點(diǎn)像的形狀及大小不變化。因此，可以更小地維持點(diǎn)像的面積或形狀的偏差，可以穩(wěn)定并得到鮮明的點(diǎn)像。從以上說明可以看出，根據(jù)該圖像形成裝置，與圖像擔(dān)載體接觸的頭部的曝光無關(guān)，可以引導(dǎo)而不會(huì)使來自發(fā)光元件的光在具有光穿透性的基板上擴(kuò)散，可以穩(wěn)定并得到鮮明的點(diǎn)像。這種效果有利于圖像形成(印刷)的質(zhì)量的提高及穩(wěn)定性。
在優(yōu)選的實(shí)施方式中，可以使光波導(dǎo)路從構(gòu)成接觸面的基板的表面貫穿到背面。根據(jù)該方式，來自發(fā)光元件的光更加不會(huì)擴(kuò)散。
在其他的優(yōu)選的實(shí)施方式中，可以在構(gòu)成接觸面的基板的圖像擔(dān)載體側(cè)上形成凹部，在凹部?jī)?nèi)固定光波導(dǎo)板，并在光波導(dǎo)板上形成光波導(dǎo)路。根據(jù)該方式，與光波導(dǎo)路從構(gòu)成接觸面的基板的表面貫穿到背面的方式相比，可以降低制造時(shí)間及成本。另外，如下所述，可以確保密封的功能。形成光波導(dǎo)路的部件有可能因?yàn)楣獠▽?dǎo)路的熱收縮(膨脹)率與周圍部分的熱收縮(膨脹)率的差而變形。在形成貫穿基板的光波導(dǎo)路的方式中，因?yàn)楣獠▽?dǎo)路與周圍部分的接合面是從發(fā)光元件側(cè)的內(nèi)部的空間到外部的空間，由于這樣的變形，如果沿著接合面產(chǎn)生間隙，則會(huì)導(dǎo)致密封功能的下降。對(duì)此，在凹部?jī)?nèi)固定該光波導(dǎo)板的方式中，光波導(dǎo)路形成在基板外。因此即使沿著光波導(dǎo)路與周圍部分的接合面產(chǎn)生間隙，因?yàn)樵摻雍厦鏇]有到達(dá)內(nèi)部的空間，所以密封功能沒有下降。另外，因?yàn)楣獠▽?dǎo)路形成在既不是主基板也不是密封基板的光波導(dǎo)板上，所以可以降低主基板或密封基板由于上述原因而引起變形的可能性。
在其他的優(yōu)選的實(shí)施方式中，構(gòu)成接觸面的基板可以是密封基板。作為在基板上埋入光波導(dǎo)路的方法，雖然示出了切削基板的方法的例子，但在采用該方法時(shí)，根據(jù)該方式，不用是要求高利用效率的主基板，而可以切削密封基板。因此，可以得到主基板的利用效率不會(huì)降低的在量產(chǎn)時(shí)有效的效果。
在其他的優(yōu)選的實(shí)施方式中，構(gòu)成接觸面的基板可以是主基板。根據(jù)該方式，與構(gòu)成接觸面的基板為密封基板的情況相比，可以縮短從發(fā)光層到光波導(dǎo)路的距離。這有利于提高點(diǎn)像的亮度。


以下，參考

本發(fā)明的各種實(shí)施方式。在附圖中圖1是表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式的圖像形成裝置的一部分的結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖2是表示第一實(shí)施方式的圖像形成裝置的頭部與其周圍的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖3是表示在第一實(shí)施方式的圖像形成裝置的頭部上的與感光鼓相對(duì)的表面的結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖4是沿著圖3的IV-IV線觀察的截面圖。
圖5是表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的圖像形成裝置的一部分的結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖6是表示第二實(shí)施方式的圖像形成裝置的頭部與其周圍的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖7是表示第二實(shí)施方式的其他的圖像形成裝置的頭部與其周圍的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖8是表示將第一實(shí)施方式變形而得到的第一變形例的圖像形成裝置的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖9是表示將第一實(shí)施方式變形而得到的第二變形例的其他的圖像形成裝置的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖10是表示將第一或第二實(shí)施方式變形而得到的第三變形例的圖像形成裝置的輥與其周圍的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖11是表示將第一實(shí)施方式變形而得到的第四變形例的圖像形成裝置的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖12是表示在將第一或第二實(shí)施方式變形而得到的第五變形例的圖像形成裝置的頭部上的與感光鼓相對(duì)的表面的結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖13是表示本發(fā)明的第三實(shí)施方式的圖像形成裝置的一部分的結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖14是表示第三實(shí)施方式的圖像形成裝置的頭部與其周圍的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖15是表示第三實(shí)施方式的圖像形成裝置的基板的單元形成面上的結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖16是表示第三實(shí)施方式的圖像形成裝置的基板的外觀的立體圖。
圖17A～17C是用于說明與第三實(shí)施方式的圖像形成裝置相對(duì)比的圖像形成裝置的結(jié)構(gòu)及其問題點(diǎn)的截面圖。
圖18是表示本發(fā)明的第四實(shí)施方式的圖像形成裝置的一部分的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖19是表示第四實(shí)施方式的圖像形成裝置的頭部與其周圍的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖20是表示第四實(shí)施方式的圖像形成裝置的基板的外觀的立體圖。
圖21是表示本發(fā)明的第五實(shí)施方式的圖像形成裝置的一部分的結(jié)構(gòu)的主視圖。
圖22是沿著圖21的XXII-XXII線觀察的截面圖。
圖23是沿著圖21的XXIII-XXIII線觀察的截面圖。
圖24是表示本發(fā)明的第六實(shí)施方式的圖像形成裝置的一部分的結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖25是表示第六實(shí)施方式的圖像形成裝置的頭部與其周圍的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖26是表示第六實(shí)施方式的其他的圖像形成裝置的頭部與其周圍的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖27是表示將第三或第六實(shí)施方式變形而得到的第一變形例的圖像形成裝置的頭部的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖28是表示將第四實(shí)施方式變形而得到的第一變形例的圖像形成裝置的頭部的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖29是表示將第三或第六實(shí)施方式變形而得到的第二變形例的圖像形成裝置的頭部的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖30是表示本發(fā)明的第七實(shí)施方式的圖像形成裝置的一部分的結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖31是表示第七實(shí)施方式的圖像形成裝置的頭部與其周圍的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖32是表示第七實(shí)施方式的圖像形成裝置的基板的單元形成面上的結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖33是表示第七實(shí)施方式的圖像形成裝置的基板的外觀的立體圖。
圖34A～34C是用于說明與第七實(shí)施方式的圖像形成裝置相對(duì)比的圖像形成裝置的結(jié)構(gòu)及其問題點(diǎn)的截面圖。
圖35是表示本發(fā)明的第八實(shí)施方式的圖像形成裝置的一部分的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖36是表示第八實(shí)施方式的圖像形成裝置的頭部與其周圍的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖37是表示第八實(shí)施方式的圖像形成裝置的基板的外觀的立體圖。
圖38是表示本發(fā)明的第九實(shí)施方式的圖像形成裝置的一部分的結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖39是表示第九實(shí)施方式的圖像形成裝置的頭部與其周圍的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖40是表示第九實(shí)施方式的其他的圖像形成裝置的頭部與其周圍的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖41是表示將第七或第九實(shí)施方式變形而得到的第一變形例的圖像形成裝置的頭部的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖42是表示將第八實(shí)施方式變形而得到的第一變形例的圖像形成裝置的頭部的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖43是表示將第七或第九實(shí)施方式變形而得到的第二變形例的圖像形成裝置的頭部的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖44是表示本發(fā)明的第十至第十三實(shí)施方式的圖像形成裝置的主要部分的截面圖。
圖45是表示本發(fā)明的第十實(shí)施方式的圖像形成裝置的頭部200的結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖46是圖45的C-C′截面圖。
圖47是用于說明頭部200的光學(xué)的作用的截面圖。
圖48是表示由頭部200形成的點(diǎn)像的示意圖。
圖49是表示頭部200的制造方法的一個(gè)例子的最初工序的示意圖。
圖50是表示圖49的下一道工序的示意圖。
圖51是表示圖50的下一道工序的示意圖。
圖52是表示圖51的下一道工序的示意圖。
圖53是表示本發(fā)明的第十一實(shí)施方式的圖像形成裝置的頭部300的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖54是用于說明頭部300的光學(xué)的作用的截面圖。
圖55是表示本發(fā)明的第十二實(shí)施方式的圖像形成裝置的頭部201的結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖56是圖55的G-G′截面圖。
圖57是用于說明頭部201的光學(xué)的作用的截面圖。
圖58是表示頭部201的制造方法的一個(gè)例子的最初工序的示意圖。
圖59是表示圖58的下一道工序的示意圖。
圖60是表示圖59的下一道工序的示意圖。
圖61是表示圖60的下一道工序的示意圖。
圖62是表示本發(fā)明的第十三實(shí)施方式的圖像形成裝置的頭部301的結(jié)構(gòu)的截面圖。
圖63是用于說明頭部301的光學(xué)的作用的截面圖。
圖64是表示通過將第十至第十三實(shí)施方式變形而得到的第三變形例的圖像形成裝置而得到的點(diǎn)像的示意圖。
圖65是表示本發(fā)明的各實(shí)施方式的圖像形成裝置的整體結(jié)構(gòu)的一個(gè)例子的縱截面圖。
圖66是表示本發(fā)明的各實(shí)施方式的圖像形成裝置的整體結(jié)構(gòu)的其他例子的縱截面圖。
具體實(shí)施例方式
在用于說明以下的各種優(yōu)選實(shí)施方式而參考的附圖中，各部分的尺寸的比例與實(shí)際物體有適當(dāng)?shù)牟煌?br> <第一實(shí)施方式>
圖1是表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式的圖像形成裝置的一部分的結(jié)構(gòu)的立體圖。該圖像形成裝置是作為復(fù)印機(jī)或復(fù)寫機(jī)及傳真的印刷部分而使用的裝置，如圖1所示，包括被軸支持的可以向箭頭A1方向旋轉(zhuǎn)的圓筒狀的感光鼓110；與被配置成與該感光鼓110的側(cè)面相對(duì)的頭部10。如果感光鼓110旋轉(zhuǎn)，則它的表面行進(jìn)。以下將感光鼓110的旋轉(zhuǎn)軸的方向(即感光鼓110的母線方向(主掃描方向))標(biāo)記為“鼓軸方向X”。
圖2是表示將在圖1中示出的要素在與鼓軸方向X垂直的平面上截?cái)鄷r(shí)的結(jié)構(gòu)的截面圖。圖3是表示頭部10上的與感光鼓110相對(duì)的表面上的結(jié)構(gòu)的俯視圖。沿著圖3的II-II線觀察的截面圖相當(dāng)于圖2。如圖1至圖3所示，頭部10包括大致呈長(zhǎng)方體狀的支持體31；與在該支持體31上的與感光鼓110相對(duì)的部位上配置的發(fā)光裝置33及兩個(gè)輥35。例如通過塑料形成支持體31，并被配置為長(zhǎng)度方向面向鼓軸方向X。
發(fā)光裝置33是通過光的照射在感光鼓110上形成潛像的元件，如圖3所示，包括長(zhǎng)度方向?yàn)楣妮S方向X的大致呈長(zhǎng)方形狀的基板331；與在該基板331的表面上被排列成陣列狀的多個(gè)發(fā)光元件332。各發(fā)光元件332是將由有機(jī)EL材料制成的發(fā)光層夾在陽極與陰極之間的單元。如圖3所示，這些發(fā)光元件332沿著鼓軸方向X被排列成兩列且形成孤島狀，對(duì)應(yīng)于應(yīng)該被印刷到復(fù)印紙等的紀(jì)錄材料上的圖像而選擇地發(fā)光。從各發(fā)光元件332發(fā)出的光到達(dá)感光鼓110的表面。通過曝光在感光鼓110的表面上形成與所希望的圖像相對(duì)應(yīng)的潛像。發(fā)光元件332的排列方式并不限于圖3的例子，可以是單列或三列以上，也可以是其他的合適的方式。
另一方面，輥35是直徑為1mm至2mm左右的圓柱狀且為黑色的部件，通過例如塑料等的樹脂材料而形成。該輥35的全長(zhǎng)與感光鼓110的寬度(在鼓軸方向X上的尺寸)相同或比其長(zhǎng)。
在支持體31上的與感光鼓110相對(duì)的表面上，在夾著發(fā)光裝置33的各部位上形成槽部311。各槽部311是具有比各輥35的直徑(大約為1mm至2mm)稍大的寬度的凹陷部分，沿著發(fā)光裝置33的排列向鼓軸方向X延伸。各輥35被收容在槽部311內(nèi)。因此，輥35的旋轉(zhuǎn)軸面向橫切感光鼓110的表面的方向(即與鼓軸方向X平行的方向)。另外，如上所述，因?yàn)檩?5的全長(zhǎng)與感光鼓110的寬度相同或比其長(zhǎng)，所以各輥35在感光鼓110的寬度方向的全域上與其表面相對(duì)。
圖4是沿著圖3的IV-IV線觀察的截面圖。如圖3及圖4所示，在各輥35的兩端面上形成了沿著該輥35的中心線延伸的軸部351。另一方面，在支持體31上的各槽部311的長(zhǎng)度方向的端部上，夾著軸部351形成了與該槽部311的底面312相對(duì)的蓋部313。通過該蓋部313防止輥35從支持體31落下。
如圖2及圖4所示，輥35的直徑比槽部311的深度大。因此，在收容在槽部311的輥35的外周面上的與感光鼓110相對(duì)的部分從支持體31向感光鼓110側(cè)突出。另一方面，在輥35上的在與感光鼓110相反側(cè)的部分相對(duì)于槽部311的底面312具有很小的間隙。
如圖1及圖2所示，在支持體31上的在與感光鼓110相反側(cè)的部位上配置了多個(gè)彈性體41。各彈性體41是用于將支持體31向感光鼓110側(cè)推壓的元件，介于圖像形成裝置的框體50與支持體31之間。在第一實(shí)施方式中，如圖1所示，在支持體31的上表面上的各個(gè)角部的附近與其長(zhǎng)度方向的中央部上配置了共計(jì)六個(gè)彈性體41。
作為各彈性體41，例如，采用其一端被固定在支持體31上，并且另一端被固定在框體50上的螺旋彈簧。但是，彈性體41的具體的形態(tài)可以任意。即，只要是將支持體31向感光鼓110側(cè)彈性推壓的部件就可以，例如，采用板簧等其他的形態(tài)的彈簧或在支持體31與框體50之間插夾的橡膠等其他種類的部件來作為彈性體41。
如圖1及圖2的箭頭F1所示，通過這些彈性體41將支持體31推壓向感光鼓110側(cè)。通過該推壓，輥35被壓在感光鼓110的表面上，在輥35及感光鼓110上相互產(chǎn)生摩擦力。因此，如果感光鼓110向圖2的箭頭A1的方向旋轉(zhuǎn)，則輥35跟隨該旋轉(zhuǎn)并向箭頭A2的方向旋轉(zhuǎn)。
如上述說明，在第一實(shí)施方式中，因?yàn)橥ㄟ^彈性體41按壓支持體31，輥35與感光鼓110的表面接觸，所以即使在頭部10或感光鼓110的尺寸或安裝位置有誤差的情況、或感光鼓110的橫切面的圓度不夠或以鼓軸方向X的誤差引起的在感光鼓110的表面上產(chǎn)生面振動(dòng)的情況，各發(fā)光元件332也跟隨感光鼓110的表面。因此，可以將發(fā)光元件332與感光鼓110的間隔維持在所希望的尺寸。
而且，頭部10的輥35與感光鼓110的表面相接觸，并伴隨著感光鼓110的旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)，如以下說明的那樣，可以消除由頭部10與感光鼓110的接觸引起的各種問題。
例如，在現(xiàn)有技術(shù)中，由于與感光鼓的接觸，有頭部振動(dòng)的問題，在第一實(shí)施方式中，因?yàn)閬碜愿泄夤?10的摩擦力幾乎沒有作用在頭部10上，所以防止了由于感光鼓110的旋轉(zhuǎn)而引起的頭部10的振動(dòng)。因此，可以將各發(fā)光元件332與感光鼓110的間隔精度良好地保持在所希望的尺寸。另外，與頭部感光鼓直接接觸而感光鼓旋轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu)相比，抑制了頭部10或感光鼓110上的互相接觸部分的磨耗。因此，也抑制了發(fā)光元件332與感光鼓110的間隔的間續(xù)的變化，將該間隔維持在所希望的尺寸。
一般地，在感光鼓的表面上形成的點(diǎn)像的面積或形狀發(fā)生偏差的一個(gè)原因是頭部或感光鼓的尺寸的誤差或者它們的安裝位置的誤差。對(duì)此，根據(jù)第一實(shí)施方式，因?yàn)榭梢韵@些誤差，所以可以將發(fā)光元件332與感光鼓110的間隔保持在所希望的尺寸。
由以上所述，根據(jù)第一實(shí)施方式，可以維持在感光鼓的表面上形成的點(diǎn)像的面積或形狀的偏差更小。另外，根據(jù)第一實(shí)施方式，因?yàn)樵谛纬牲c(diǎn)像的區(qū)域照射了所希望的光量，可以得到鮮明的點(diǎn)像。而且，根據(jù)第一實(shí)施方式，即使在輥35與感光鼓110之間夾雜異物的情況下，因?yàn)橥ㄟ^輥35的旋轉(zhuǎn)可以迅速地除掉該異物，可以防止由于這樣的異物而給感光鼓110的表面造成傷害的事態(tài)。
另外，在第一實(shí)施方式中，在支持體31的上表面分散配置了多個(gè)彈性體41。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，與在支持體31的上表面的特定區(qū)域上彈性體分配不均的結(jié)構(gòu)相比，由于可以均等地按壓支持體31，所以可以使很多的發(fā)光元件332與感光鼓110的間隔均一化。
如圖1所示，在支持體31的長(zhǎng)度方向的中央部上配置彈性體41的情況下，有通過來自該彈性體41的按壓力或支持體31的自重使支持體31彎曲的情況。在這種情況下，例如在圖4的B部分，槽部311的底面312與輥35接觸，由于該摩擦有可能給輥35的旋轉(zhuǎn)造成阻害。因此，優(yōu)選的是在支持體31上形成的槽部311的底面312或輥35的外周面的摩擦系數(shù)小，在第一實(shí)施方式中，采用這樣的結(jié)構(gòu)。因此，即使槽部311的底面312與輥35相接觸，因?yàn)樽饔迷谠摻佑|部分的摩擦力很小，所以也可以使輥35平滑地旋轉(zhuǎn)?；蛘撸部梢杂蓜傂宰銐蚋叩牟牧蟻硇纬芍С煮w31。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，因?yàn)橐种屏酥С煮w31的彎曲，所以可以避免與輥35相對(duì)的底面312的接觸。另外，根據(jù)在支持體31的長(zhǎng)度方向的中央部沒有配置彈性體41的結(jié)構(gòu)(例如在支持體31的上表面只在四角附近配置彈性體41的結(jié)構(gòu))，也可以抑制成為妨礙輥35旋轉(zhuǎn)的原因的支持體31的彎曲。
另外，在第一實(shí)施方式中，在夾著各發(fā)光元件332的位置上配置的各輥35具有遮光性。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，從發(fā)光元件332射出并向廣范圍擴(kuò)散開的光被輥35遮擋。因此，可以只對(duì)在感光鼓110表面上的被各輥35夾著的區(qū)域(圖2所示的區(qū)域R)選擇性地照射來自發(fā)光元件332的光，其結(jié)果是實(shí)現(xiàn)了高清晰且明了的圖像的印刷。特別地，在第一實(shí)施方式中，輥35與感光鼓110的在寬度方向上的整體的表面相對(duì)，感光鼓110的寬度方向的整體可以防止來自各發(fā)光元件332的光的擴(kuò)散。
<第二實(shí)施方式>
圖5是表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的圖像形成裝置的一部分的結(jié)構(gòu)的立體圖。在第一實(shí)施方式中，雖然將支持體31按壓向感光鼓110側(cè)的彈性體41被配置在支持體31的上表面，但在第二實(shí)施方式中，通過配置在支持體31的側(cè)面的彈性體將支持體31推壓向感光鼓110側(cè)。
圖6是表示將在圖5中示出的要素在與鼓軸方向X垂直的平面上截?cái)鄷r(shí)的結(jié)構(gòu)的截面圖，與第一實(shí)施方式的圖2相對(duì)應(yīng)。如圖5及圖6所示，第二實(shí)施方式的圖像形成裝置具有圍繞頭部10的周圍的形成為大致呈長(zhǎng)方形的框架部件53?？蚣懿考?3的內(nèi)周面與支持體31的側(cè)面相對(duì)。
多個(gè)彈性體42介于框架部件53的內(nèi)周面與支持體31的側(cè)面之間。各彈性體42的一端被固定在框架部件53的內(nèi)周面，另一端被固定在支持體31的側(cè)面。更具體地說，如圖5所示，在大致呈長(zhǎng)方形的支持體31上的與長(zhǎng)邊相當(dāng)?shù)母鱾?cè)面上等間隔地固定了配置的三個(gè)彈性體42的一端，在與該側(cè)面相對(duì)的框架部件53的內(nèi)周面上固定這些彈性體42的另一端。另外，在與支持體31的短邊相當(dāng)?shù)母鱾?cè)面上在中央固定了一個(gè)彈性體42的一端，在與該側(cè)面相對(duì)的框架部件53的內(nèi)周面上固定該彈性體42的另一端。
另外，在框架部件53上的在與感光鼓110相反側(cè)的表面上配置多個(gè)彈性體43。各彈性體43是用于將框架部件53向感光鼓110側(cè)推壓的元件，介于圖像形成裝置的框體50與框架部件53之間。在第二實(shí)施方式中，在框架部件53的各個(gè)角部的附近與其長(zhǎng)度方向的中央部的附近配置了共計(jì)六個(gè)彈性體43。彈性體42及彈性體43是與第一實(shí)施方式的彈性體41相同的要素，例如是螺旋彈簧或板簧。通過彈性體43將框架部件53按壓向感光鼓110側(cè)，彈性體42延伸，通過該彈性體42產(chǎn)生的彈性力將支持體31推壓向感光鼓110側(cè)。因此，在第二實(shí)施方式中，因?yàn)楦鬏?5也與感光鼓110的表面接觸，所以所起的效果與第一實(shí)施方式相同，框架部件53只要是具有與支持體31的側(cè)面相對(duì)的部分的形狀就可以，并不限于圖5所示的形狀。
以上，雖然示出了通過彈性體43將框架部件53按壓向感光鼓110側(cè)的結(jié)構(gòu)的例子，但是如圖7所示，也可以形成根據(jù)固定框架部件53的位置將支持體31推壓向感光鼓110側(cè)的結(jié)構(gòu)。即，在該結(jié)構(gòu)中，可以將框架部件53固定在框體50上，使得與在各彈性體42上的被固定在支持體31上的端部P2相比，在各彈性體42上的被固定在框架部件53上的端部P1位于感光鼓110側(cè)。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，因?yàn)橥ㄟ^彈性體42的彈力將支持體31推壓向感光鼓110側(cè)，所以所起的作用及效果與第一及第二實(shí)施方式相同。但是，根據(jù)該結(jié)構(gòu)，因?yàn)闆]有必要在支持體31或框架部件53上的在與感光鼓110相反側(cè)的部位上配置彈性體43，所以可以削減在頭部10的上方的應(yīng)該確保的空間。
<第一及第二實(shí)施方式的變形例>
可以對(duì)于上述的各實(shí)施方式施加各種變形例。以下示出了具體的變形的方式。也可以將以下示出的各方示進(jìn)行適當(dāng)組合。
<第一變形例>
在各實(shí)施方式中，雖然示出了配置頭部10使得其與圓筒狀的感光鼓110的外周面相對(duì)的結(jié)構(gòu)，但是如圖8所示，也可以采用將頭部10配置在感光鼓110的內(nèi)側(cè)，使得發(fā)光裝置33或輥35與感光鼓110的內(nèi)周面相對(duì)的結(jié)構(gòu)。通過將感光層積層在具有光穿透性的圓筒的外周面上來構(gòu)成該結(jié)構(gòu)的感光鼓110。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，與各種實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)相比，可以削減配置頭部10所需要的空間。
<第二變形例>
在以上的說明中雖然示出了作為圖像擔(dān)載體的圓筒狀的感光鼓110的例子，但是如圖9所示，也可以采用纏繞在多個(gè)輥35上的向箭頭A1方向行進(jìn)的無接頭環(huán)帶80來作為圖像擔(dān)載體。另外在圖9中雖然示出了使頭部10面向無接頭環(huán)帶80的外周面的結(jié)構(gòu)的例子，但與圖8的結(jié)構(gòu)同樣地可以采用使頭部10面向無接頭環(huán)帶80的內(nèi)周面的結(jié)構(gòu)。在圖8及圖9中，雖然示出了通過第一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)推壓頭部10的結(jié)構(gòu)的例子，但也可以在第二實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)上施加同樣的變形。如上所述，在本發(fā)明中，只要是支持體指引輥使得旋轉(zhuǎn)軸面向橫切圖像擔(dān)載體的表面的方向(圖像擔(dān)載體的母線方向)的結(jié)構(gòu)就可以，與圖像擔(dān)載體的形狀無關(guān)。
<第三變形例>
如第一實(shí)施方式所述，如果支持體31的槽部311的底面312與輥35接觸則妨礙了其旋轉(zhuǎn)。作為解決該問題的方案，雖然在第一實(shí)施方式中示出了降低槽部311的底面312的摩擦系數(shù)的結(jié)構(gòu)，但是根據(jù)圖10的結(jié)構(gòu)也可以使輥35圓滑地旋轉(zhuǎn)。在該圖的結(jié)構(gòu)中，在支持體31的槽部311的底面312上還形成了凹部315，在該凹部315上配置了輔助輥37。輔助輥37是旋轉(zhuǎn)軸面向與輥35平行的方向的圓柱狀部件，在與輥35的側(cè)面接觸的姿勢(shì)下由支持體31軸支持其側(cè)面。伴隨著感光鼓110的旋轉(zhuǎn)輥35也旋轉(zhuǎn)，則輔助輥37伴隨著輥35的旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，因?yàn)椴鄄?11的底面312沒有接觸到輥35，所以可以使輥35圓滑地旋轉(zhuǎn)。
<第四變形例>
在各實(shí)施方式中，雖然示出了發(fā)光裝置33直接與感光鼓110相對(duì)的結(jié)構(gòu)(即沒有任何部件介于發(fā)光裝置33與感光鼓110之間的結(jié)構(gòu))的例子，但是也可以使光學(xué)要素介于發(fā)光裝置33與感光鼓110之間。例如，也可以將將來自各發(fā)光元件332的出射光引導(dǎo)到感光鼓110的表面上的導(dǎo)光體；或可將來自各發(fā)光元件332的出射光集中的透鏡(例如聚焦透鏡陣列)，配置在發(fā)光裝置33與感光鼓110之間。
另外，如圖11所示，也可以將用于集中來自發(fā)光元件332的出射光的微型透鏡74配置在發(fā)光裝置33與感光鼓110之間(第四變形例)。這些微型透鏡74被排列成陣列狀，使得每個(gè)都與發(fā)光元件332相對(duì)。在圖11示出的結(jié)構(gòu)中，相互面對(duì)貼合的第一基板71與第二基板72被配置在發(fā)光裝置33與感光鼓110的間隙中。在第一基板71上的與第二基板72相對(duì)的表面上，在與各發(fā)光元件332相對(duì)的位置上形成了曲面形狀的多個(gè)凹部711，在第二基板72上的與第一基板71相對(duì)的表面上，形成了曲面形狀的多個(gè)凹部721。在由第一基板71的凹部711與第二基板72的凹部721圍成的空間，填充有折射率與第一基板71或第二基板72不同的樹脂材料。而且，通過該樹脂材料形成了雙凸透鏡的微型透鏡74。如圖11中的雙點(diǎn)劃線所示，這些微型透鏡74通過使來自分別對(duì)應(yīng)的發(fā)光元件332的出射光集中，在感光鼓110的表面上成像。微型透鏡74的形狀或其配置的方法并不限于圖11的示例。例如，可以形成在發(fā)光裝置33的基板331上形成凸向感光鼓110側(cè)的微型透鏡的結(jié)構(gòu)。
在這樣的通過微型透鏡74使來自發(fā)光元件332的出射光集中的結(jié)構(gòu)中，即使在發(fā)光元件33與感光鼓110的距離有微小變化的情況下，在感光鼓110的表面上的來自發(fā)光元件33的出射光到達(dá)的點(diǎn)域直徑的變化變得顯著。根據(jù)上述的第四變形例，因?yàn)橥ㄟ^輥35的作用，可以精度良好地維持發(fā)光裝置33與感光鼓110的間隔大致固定，所以即使在通過微型透鏡謀求提高光的利用效率的結(jié)構(gòu)中，也可以在感光鼓110的表面上精度良好地形成所希望的潛像。即，如圖1所示，可以說在發(fā)光裝置33與感光鼓110的間隙內(nèi)配置微型透鏡74等的光學(xué)要素的結(jié)構(gòu)中，可以維持發(fā)光裝置33與感光鼓110的距離的效果顯得特別有效。并且，如各實(shí)施方式所述那樣，根據(jù)在發(fā)光裝置33與感光鼓110之間沒有夾著任何部件而相接近的結(jié)構(gòu)，有個(gè)優(yōu)點(diǎn)是可以謀求來自各發(fā)光元件332的出射光的利用效率的提高或制造成本的降低。另外，因?yàn)榭梢越档蜑榱耸棺銐虻墓饬康竭_(dá)感光鼓110的表面而必需的發(fā)光元件332的亮度，所以可以謀求發(fā)光裝置33的消耗功率的降低或發(fā)光元件332的長(zhǎng)壽命化。
<第五變形例>
在各實(shí)施方式中雖然示出了配置兩根輥35使得其夾著發(fā)光裝置33的結(jié)構(gòu)的例子，但是輥35的根數(shù)或各自被配置的位置可以任意地變化。雖然在第一實(shí)施方式中示出了通過遮光性的輥35抑制來自發(fā)光元件332的出射光的擴(kuò)散的結(jié)構(gòu)，但是如果來自發(fā)光元件332的出射光的擴(kuò)散沒有成為特別的問題，則可以采用由具有光穿透性的材料來形成輥35的結(jié)構(gòu)；或采用形成輥35的全長(zhǎng)比感光鼓110的寬度短的尺寸的結(jié)構(gòu)。另外，如圖12所示，也可以是留有間隔地將多個(gè)輥35排列成直線狀的結(jié)構(gòu)。
<第三實(shí)施方式>
圖13是表示本發(fā)明的第三實(shí)施方式的圖像形成裝置的一部分的結(jié)構(gòu)的立體圖。該圖像形成裝置是作為復(fù)印機(jī)或復(fù)寫機(jī)及傳真的印刷部分而使用的裝置，如圖13所示，包括被軸支持的可以向箭頭A方向(副掃描方向)旋轉(zhuǎn)的圓筒狀的感光鼓110；與該感光鼓110的外周面21相對(duì)的頭部10a。以下將感光鼓110的旋轉(zhuǎn)軸的方向(即感光鼓110的母線方向(主掃描方向))標(biāo)記為“鼓軸方向X”。
圖14是表示第三實(shí)施方式的圖像形成裝置的頭部與其周圍的結(jié)構(gòu)的截面圖。是表示將在圖13中示出的要素在與鼓軸方向X垂直的平面上截?cái)鄷r(shí)的截面圖。如圖13及圖14所示，頭部10a包括以鼓軸方向X為長(zhǎng)度方向并與感光鼓110的外周面21相對(duì)的大致呈長(zhǎng)方體狀的基板31a；在與感光鼓110相對(duì)的面的鼓相對(duì)面Sa1的內(nèi)側(cè)的單元形成面Sa2(基板31a的表面的一部)上形成的多個(gè)發(fā)光元件38；及在基板31a的單元形成面Sa2上形成的覆蓋發(fā)光元件38的密封體35a。密封體35a是由丙烯類或環(huán)氧類的各種樹脂材料制成的膜體。通過密封體35a覆蓋發(fā)光元件38，可以防止由外部空氣或水分的附著而引起的發(fā)光元件38的劣化。
如圖13所示，在密封體35a的表面上分散配置了多個(gè)彈性體631。各彈性體631是用于將頭部10a向感光鼓110彈性推壓的元件，介于圖像形成裝置的框體60與頭部10a之間。在第三實(shí)施方式中，在密封體35a的表面上的各個(gè)角部的附近與其長(zhǎng)度方向的中央部配置了共計(jì)六個(gè)彈性體631。該彈性體631例如是一端被固定在頭部10a并且另一端被固定在框體60上的螺旋彈簧。但是，彈性體631的具體的形態(tài)可以任意變化。例如，采用板簧等其他的形態(tài)的彈簧或在密封體35a與框體60之間插夾的橡膠等其他種類的部件來作為彈性體631。
圖13及圖14所示的基板31a是具有光穿透性的板狀部件，例如由玻璃或塑料的材料制成。另一方面，各發(fā)光元件38是將由有機(jī)EL材料制成的發(fā)光層夾在陽極與陰極之間的單元。通過施加電能而發(fā)光。圖15是表示基板31a的單元形成面Sa2上的結(jié)構(gòu)的俯視圖。如該圖所示，多個(gè)發(fā)光元件38沿著鼓軸方向X被排列成兩列且形成孤島狀，對(duì)應(yīng)于應(yīng)該在復(fù)印紙等的紀(jì)錄材料上形成的圖像而選擇地發(fā)光。來自各發(fā)光元件38的出射光穿透基板31a后到達(dá)感光鼓110的表面。即，第三實(shí)施方式的頭部10a是底部發(fā)射型(bottom emission type)。通過頭部10a的曝光，在感光鼓110的表面上形成與所希望的圖像相對(duì)應(yīng)的潛像。發(fā)光元件38的排列方式并不限于圖15的例子，可以是單列或三列以上，也可以是其他的合適的方式。
然后，圖16是表示基板31a的外觀的立體圖。在該圖中，鼓相對(duì)面Sa1位于上方(即在圖13或圖14中的上下關(guān)系逆過來)。如圖16所示，基板31a的鼓相對(duì)面Sa1包括滑動(dòng)面41a與傾斜面45a。如圖14及圖16所示，其中滑動(dòng)面41a是具有與感光鼓110的外周面21大致相等的曲率并向感光鼓110的相反側(cè)凹陷的彎曲面(凹面)。即，可以說滑動(dòng)面41a是半徑與感光鼓110的外周面21大致相等的圓柱面的內(nèi)側(cè)的表面(內(nèi)周面)的一部分。因此，如圖14所示，若通過彈性體631將頭部10a推壓向感光鼓110，則基板31a的滑動(dòng)面41a在全部區(qū)域上沒有間隙地與感光鼓110的外周面21面接觸。
另一方面，傾斜面45a是在基板31a上的、位于側(cè)面47a與滑動(dòng)面41a之間的平面，所述側(cè)面47a位于感光鼓110旋轉(zhuǎn)方向A的上流側(cè)，如圖14所示，傾斜面45a向該外周面21傾斜，使得其與感光鼓110的外周面21的仰角θ1形成為銳角。該仰角θ1是在邊緣E上由外周面21的切線PL與傾斜面45a形成的角度，所述邊緣E位于滑動(dòng)面41a上的感光鼓110旋轉(zhuǎn)方向A的上流側(cè)。通過以上可以看出，基板31a形成了在感光鼓110一側(cè)的部分上將旋轉(zhuǎn)方向A的上流側(cè)的部分進(jìn)行倒角后的形狀。因此，如圖14所示，與滑動(dòng)面41a與感光鼓110的外周面21面接觸相對(duì)，傾斜面45a留有空隙地與感光鼓110的外周面21相對(duì)。例如，將大致呈長(zhǎng)方形的板材的表面通過機(jī)械的或化學(xué)的磨削，來制成在以上說明的形狀的基板31a。
如上述說明，在第三實(shí)施方式中，因?yàn)榫哂信c感光鼓110的外周面21大致相等的曲率的滑動(dòng)面41a與該外周面21面接觸，所以與鼓相對(duì)面Sa1形成為平面的結(jié)構(gòu)相比，能夠得到將各發(fā)光元件38與感光鼓110的外周面21的距離精度良好地維持在所希望的尺寸上的效果。對(duì)于該效果詳細(xì)敘述如下。
現(xiàn)在，作為與第三實(shí)施方式相對(duì)比的結(jié)構(gòu)，如圖17A所示，假設(shè)頭部10x，其配有鼓相對(duì)面Sa1為平面的基板31b。在該結(jié)構(gòu)中，因?yàn)楣南鄬?duì)面Sa1與感光鼓110的外周面21只不過是線接觸，所以有頭部10x對(duì)于感光鼓110的位置或姿勢(shì)不確定的問題。例如，如圖17A所示，即使維持頭部10x使得鼓相對(duì)面Sa1大致水平，頭部10x也以鼓相對(duì)面Sa1與外周面21的接觸線為中心旋轉(zhuǎn)，其結(jié)果如圖17B所示，有頭部10x變成傾斜的姿勢(shì)的情況。另外，例如在感光鼓110旋轉(zhuǎn)時(shí)，由于從感光鼓110作用在頭部10x的摩擦力或其他的因素(例如外力的作用)，如圖17C所示，也有頭部10x從原來的位置向水平方向變位的情況。而且，在圖17B及圖17C的任意一個(gè)情況下，發(fā)光元件38與感光鼓110的外周面21的距離也變得比圖17A所示的理想的情況大。這樣感光鼓110與發(fā)光元件38的距離如果發(fā)生偏差，則因?yàn)閬碜愿靼l(fā)光元件38的出射光到達(dá)感光鼓110的外周面21上的區(qū)域(點(diǎn))的面積或形狀發(fā)生偏差，所以有難以精細(xì)地形成高清晰的圖像的問題。
對(duì)此，在第三實(shí)施方式中，通過滑動(dòng)面41a與感光鼓110的外周面21面接觸，穩(wěn)定地維持頭部10a的對(duì)于感光鼓110的姿勢(shì)或位置。即，有效地抑制了如圖17B所示那樣的頭部10a傾向或如圖17C所示那樣的頭部10a的向水平方向的變位。因此，可以以高精度維持感光鼓110與發(fā)光元件38的距離在所希望的尺寸上，形成高清晰且高質(zhì)量的圖像。特別地，在第三實(shí)施方式中，因?yàn)橥ㄟ^被分散配置在密封體35a的表面上的多個(gè)彈性體631，均勻地將頭部10a推壓向感光鼓110，所以通過滑動(dòng)面41a與感光鼓110的外周面21面接觸，可以確切地得到穩(wěn)定地維持頭部10a的姿勢(shì)或位置的效果。
另外，在第三實(shí)施方式中，因?yàn)樵诨?1a的鼓相對(duì)面Sa1上，在感光鼓110旋轉(zhuǎn)的方向A的上流側(cè)形成了傾斜面45a，所以有可以防止由于鼓相對(duì)面Sa1與感光鼓110的外周面21相沖突而引起的外周面21的損傷的效果。例如，現(xiàn)在假設(shè)鼓相對(duì)面Sa1沒有包括傾斜面45a的結(jié)構(gòu)(即，例如圖27所示滑動(dòng)面與側(cè)面具有銳角交叉的結(jié)構(gòu))。在該結(jié)構(gòu)中，通過與滑動(dòng)面與側(cè)面的交叉對(duì)應(yīng)的角部(以下稱為“頭角部”)與外周面21相接觸，有外周面21被損傷的情況。特別地，在由于制造上的誤差或間續(xù)的變形而感光鼓110的橫切面不是圓形的情況下，或在由于同樣的理由感光鼓110的位置從原來的位置錯(cuò)開的情況下，在外周面21上由于從原來的位置向外側(cè)突出的部分與頭角部接觸而容易受傷。對(duì)此，第三實(shí)施方式的頭部10a因?yàn)樾纬闪斯南鄬?duì)面Sa1具有傾斜面45a的形狀(即頭角部被倒角的結(jié)構(gòu))，所以可以防止這樣的外周面21的損傷。在第三實(shí)施方式中，雖然示出了在鼓相對(duì)面Sa1上的只在方向A的上流側(cè)形成傾斜面45a的結(jié)構(gòu)的例子，但是另外也可以形成在方向A的下流側(cè)形成與傾斜面45a相同的傾斜面的結(jié)構(gòu)。
<第四實(shí)施方式>
圖18是表示第四實(shí)施方式的圖像形成裝置的一部分的結(jié)構(gòu)的截面圖。在第三實(shí)施方式中，示出了頭部10a與感光鼓110的外周面21相對(duì)的結(jié)構(gòu)的例子。對(duì)此，在第四實(shí)施方式中，在圓筒狀的感光鼓110的內(nèi)周面形成與頭部10a相對(duì)的結(jié)構(gòu)。第四實(shí)施方式的感光鼓110是將感光層積層在具有光穿透性的圓筒的外周面上形成的圓筒狀的部件。通過設(shè)置在密封體35a的表面上的多個(gè)彈性體631推壓頭部10b，使基板31c與感光鼓110的內(nèi)周面22相接觸。對(duì)于在第四實(shí)施方式中與第三實(shí)施方式相同的要素付與共用的符號(hào)，適當(dāng)省略其說明。
圖19是表示放大圖18所示的結(jié)構(gòu)的一部分的截面圖，圖20是表示基板31c的外觀的立體圖。如圖19所示，基板31c的鼓相對(duì)面Sa1包括滑動(dòng)面41c與傾斜面45b，其選定的形狀可以與感光鼓110的內(nèi)周面22面接觸。如圖19及圖20所示，滑動(dòng)面41c是具有與感光鼓110的內(nèi)周面22大致相等的曲率并向感光鼓110側(cè)突出的彎曲面(凸面)。即，可以說滑動(dòng)面41c是半徑與感光鼓110的內(nèi)周面22大致相等的圓柱面的外側(cè)的表面(外周面)的一部分。另一方面，基板31c的傾斜面45b是在鼓相對(duì)面Sa1上的、沿著感光鼓110旋轉(zhuǎn)方向A位于滑動(dòng)面41c的上流側(cè)的平面，如圖19所示，傾斜面45b向該內(nèi)周面22傾斜，使得其與感光鼓110的內(nèi)周面22的仰角θ2形成為銳角。
在第四實(shí)施方式中，因?yàn)榫哂信c感光鼓110的內(nèi)周面22大致相等的曲率的滑動(dòng)面41c與該內(nèi)周面22面接觸，所以由于第三實(shí)施方式的相同的理由，可以以高精度維持各發(fā)光元件38與感光鼓110的內(nèi)周面22的距離在所希望的尺寸上。另外，在第四實(shí)施方式中，因?yàn)轭^部10b被收容在感光鼓110的內(nèi)側(cè)，所以與將頭部10a配置在感光鼓110的外側(cè)的第三實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)相比，可以削減配置頭部所需的空間。
<第五實(shí)施方式>
圖21是沿著水平方向(與鼓軸方向垂直的方向)觀察第五實(shí)施方式的圖像形成裝置的頭部10c與感光鼓110的主視圖。另外，圖22是沿著圖21的XXII-XXII線觀察的截面圖，圖23是沿著圖21的XXIII-XXIII線觀察的截面圖。如圖21所示，第五實(shí)施方式的頭部10c(此處是頂部發(fā)射型(top emission type))具有以鼓軸方向X為長(zhǎng)度方向的基體50a；與在該基體50a上形成的多個(gè)發(fā)光元件38。
在第三實(shí)施方式中，示出了在基板31a的長(zhǎng)度方向(鼓軸方向X)上的整個(gè)區(qū)域上分布滑動(dòng)面41a的結(jié)構(gòu)的例子。對(duì)此，在第五實(shí)施方式中形成的結(jié)構(gòu)是，只是在形成發(fā)光元件38的基板的長(zhǎng)度方向(鼓軸方向)的兩端部作為滑動(dòng)面來起作用。對(duì)于在第五實(shí)施方式中與第三實(shí)施方式相同的要素付與共用的符號(hào)，適當(dāng)省略其說明。
基體50a分為在感光鼓110的相對(duì)面上排列多個(gè)發(fā)光元件38的第一部分51；與位于其長(zhǎng)度方向上的兩端部的第二部分52。第二部分52的與感光鼓110的相對(duì)面比第一部分51上的形成各發(fā)光元件38的表面更向感光鼓110側(cè)突出。因此，如圖21及圖23所示，第一部分51及形成在其上的發(fā)光元件38隔開與第一部分51和第二部分52的段差(數(shù)μm左右)對(duì)應(yīng)的間隙B1，與感光鼓110的外周面21相對(duì)。例如，將大致呈長(zhǎng)方形的板材上的與第一部分51相對(duì)應(yīng)的部分通過機(jī)械的或化學(xué)的磨削，來制成在這樣形狀的基體50a。
在第五實(shí)施方式中，如圖21及圖22所示，第二部分52上的與感光鼓110的外周面21相對(duì)的表面是滑動(dòng)面52。該滑動(dòng)面521與第三實(shí)施方式的滑動(dòng)面41a一樣，是具有與感光鼓110的外周面21大致相等的曲率并向感光鼓110的相反側(cè)凹陷的彎曲面(凹面)。因此，若通過設(shè)置在基板50a上的與發(fā)光元件38或滑動(dòng)面521相反側(cè)的表面上的多個(gè)彈性體631(在圖21至圖23中圖示略)將頭部10c推壓向感光鼓110側(cè)，則該第二部分52的滑動(dòng)面521沒有間隙地與感光鼓110的外周面21面接觸。因此，在第五實(shí)施方式中，也可以得到與第三實(shí)施方式相同的效果。另外，在第五實(shí)施方式中，基板50a的第一部分51與形成在其表面上的發(fā)光元件38從感光鼓110的外周面21離開。因此，通過與感光鼓110的接觸，可以防止發(fā)光元件38損壞的不便。
在第五實(shí)施方式中，示出了頭部10c與感光鼓110的外周面21相對(duì)的結(jié)構(gòu)的例子，但如第四實(shí)施方式所示，頭部10c也可以形成與感光鼓110的內(nèi)周面22相對(duì)的結(jié)構(gòu)。在該結(jié)構(gòu)中，基板50a的第二部分52上的與感光鼓110的內(nèi)周面22相對(duì)的滑動(dòng)面521成為具有與該內(nèi)周面22大致相等的曲率并向感光鼓110側(cè)突出的彎曲面(凸面)。另外，在圖21至圖23中，雖然示出了在第二部分52上的與感光鼓110相對(duì)的整個(gè)區(qū)域形成滑動(dòng)面521的結(jié)構(gòu)的例子，但是也可以在第二部分52上形成與第三實(shí)施方式或第四實(shí)施方式相同的傾斜面45。
在圖21至圖23中，雖然示出了頂部發(fā)射型的頭部10c的例子，但是底部發(fā)射型的頭部也可以適用于第五實(shí)施方式。即，如果使圖14或圖19所示的基板的鼓相對(duì)面Sa1上的長(zhǎng)度方向上的兩端部(第二部分52)，比其他部分(第一部分51)更向感光鼓110側(cè)突出形成滑動(dòng)面521，則可以起著與第三實(shí)施方式相同的作用與效果。
另外，在圖21至圖23中，雖然示出了由單一板材形成基體50a的結(jié)構(gòu)的例子，但是與第三實(shí)施方式或第四實(shí)施方式相同地，也可以使多層基板積層來形成基體。另外如后述的圖31或圖36所示，也可以設(shè)置密封體來覆蓋基板表面上的單元形成面Sa2與各側(cè)面來形成基體。形成基體使得在與感光鼓110相對(duì)的面上，長(zhǎng)度方向(鼓軸方向X)的兩端部比其他部分更向感光鼓110側(cè)突出。
<第六實(shí)施方式>
圖24是表示第六實(shí)施方式的圖像形成裝置的一部分的結(jié)構(gòu)的立體圖，圖25是表示將在圖24中示出的要素在與鼓軸方向X垂直的平面上截?cái)鄷r(shí)的結(jié)構(gòu)的截面圖，對(duì)應(yīng)于參考第三實(shí)施方式的圖14。如圖24及圖25所示，第六實(shí)施方式的圖像形成裝置具有圍繞頭部10a的周圍的形成為大致呈長(zhǎng)方形的框狀的框架部件65。框架部件65的內(nèi)周面與頭部10a的側(cè)面相對(duì)。此處，框架部件65只要是具有與頭部10a的側(cè)面相對(duì)的部分的形狀就可以，并不限于圖24所示的形狀。
在第三實(shí)施方式中，示出了在頭部10a上的在與感光鼓110相反側(cè)的表面上配置多個(gè)彈性體631的結(jié)構(gòu)的例子。對(duì)此，在第六實(shí)施方式中，通過配置在頭部10a的邊側(cè)的彈性體將頭部10a推壓向感光鼓110側(cè)。對(duì)于在第六實(shí)施方式中與第三實(shí)施方式相同的要素付與共用的符號(hào)，適當(dāng)省略其說明。
多個(gè)彈性體632介于框架部件65的內(nèi)周面與頭部10a的側(cè)面之間。各彈性體632的一端被固定在框架部件65的內(nèi)周面上，另一端被固定在頭部10a的側(cè)面上。更具體地說，如圖24所示，在大致呈長(zhǎng)方形的頭部10a上的與長(zhǎng)邊相當(dāng)?shù)母鱾?cè)面上，等間隔地固定了配置的三個(gè)彈性體632的一端，在與該側(cè)面相對(duì)的框架部件65的內(nèi)周面上固定這些彈性體632的另一端。另外，在與頭部10a的短邊相當(dāng)?shù)母鱾?cè)面上在中央固定了一個(gè)彈性體632的一端，在與該側(cè)面相對(duì)的框架部件65的內(nèi)周面上固定該彈性體632的另一端。
另外，在框架部件65上的在感光鼓110的相反側(cè)的表面上配置多個(gè)彈性體633。各彈性體633是用于將框架部件65向感光鼓110側(cè)推壓的元件，介于圖像形成裝置的框體60與框架部件65之間。在第六實(shí)施方式中，在框架部件65的各個(gè)角部的附近與其長(zhǎng)度方向的中央部的附近配置了共計(jì)六個(gè)彈性體633。彈性體632及彈性體633是與第三實(shí)施方式的彈性體631相同的要素(例如螺旋彈簧或板簧)。
在以上的結(jié)構(gòu)中，通過彈性體633將框架部件65按壓向感光鼓110側(cè)，彈性體632伸長(zhǎng)，通過該彈性體632產(chǎn)生的彈力將頭部10a推壓向感光鼓110側(cè)。因此，在第六實(shí)施方式中，也能得到與第三實(shí)施方式相同的效果。
雖然以上示出了通過彈性體633將框架部件65按壓向感光鼓110側(cè)的結(jié)構(gòu)的例子，但是如圖26所示，也可以形成對(duì)應(yīng)于固定框架部件65的位置將頭部10a推壓向感光鼓110側(cè)的結(jié)構(gòu)。即，在該結(jié)構(gòu)中，可以將框架部件65固定在框體60上，使得與在各彈性體632上的被固定在頭部10a上的端部P2相比，在各彈性體632上的被固定在框架部件65上的端部P1位于感光鼓110側(cè)。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，因?yàn)橥ㄟ^彈性體632的彈力將頭部10a推壓向感光鼓110側(cè)，所以起著與第六實(shí)施方式相同的效果。但是，根據(jù)該結(jié)構(gòu)，因?yàn)闆]有必要在頭部10a或框架部件65上的在與感光鼓110相反側(cè)的部位上配置彈性體633，所以可以削減在頭部10a的上方的應(yīng)該確保的空間。
在圖24至圖26中，雖然示出了推壓第三實(shí)施方式的頭部10a的結(jié)構(gòu)的例子，但是與第四實(shí)施方式或第五實(shí)施方式相同，也可以采用通過框架部件65或彈性體632的第六實(shí)施方式的要素，將頭部10推壓向感光鼓110側(cè)的結(jié)構(gòu)。
<第三至第六實(shí)施方式的變形例>
分別對(duì)于上述的第三至第六實(shí)施方式可以施加各種變形例。以下示出了具體的變形的方式。也可以將以下的各方示進(jìn)行適當(dāng)組合。
<第一變形例>
在第三、第四及第六實(shí)施方式中，雖然示出了頭部的與感光鼓110相對(duì)的面包括傾斜面的結(jié)構(gòu)的例子，但是該傾斜面并不是一定必要的要素。例如，在第三或第六實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)中，如圖27所示，也可以使用鼓相對(duì)面Sa1在全部區(qū)域上形成為具有與感光鼓110的外周面21大致相等的曲率的滑動(dòng)面41f的基板31f來代替基板31a，在第四實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)中，如圖28所示，也可以使用鼓相對(duì)面Sa1在全部區(qū)域上形成為具有與感光鼓110的內(nèi)周面22大致相等的曲率的滑動(dòng)面41g的基板31g來代替基板31a。
<第二變形例>
分別在第三至第六實(shí)施方式中，也可以使光學(xué)要素介于各發(fā)光元件38與感光鼓110之間。例如，也可以將將來自各發(fā)光元件38的出射光引導(dǎo)到感光鼓110的表面上的導(dǎo)光體(例如是光纖)；或可將來自各發(fā)光元件38的出射光集中的透鏡，配置在發(fā)光元件38與感光鼓110之間。
圖29是表示將第三或第六實(shí)施方式變形而得到的第二變形例的圖像形成裝置的頭部的結(jié)構(gòu)的截面圖。在該結(jié)構(gòu)中，將用于集中來自發(fā)光元件38的出射光的微型透鏡55a配置在各發(fā)光元件38與感光鼓110之間。這些微型透鏡55a被排列成陣列狀，使得每個(gè)都與發(fā)光元件38相對(duì)。在圖29的結(jié)構(gòu)中，板材56a重疊在形成各發(fā)光元件38的基板31h的感光鼓110側(cè)。該板材56a可以是由樹脂材料形成在基板31h表面上的膜體，也可以是被貼合在基板31h的表面上的板材的部件。在基板31h上的與板材56a相對(duì)的表面上，在與各發(fā)光元件38相對(duì)應(yīng)的位置上形成了曲面形狀的多個(gè)凹部31h1。同樣地，在板材56a上的與基板31h相對(duì)的表面上，在與各發(fā)光元件38相對(duì)應(yīng)的位置上也形成了曲面形狀的多個(gè)凹部56a1。在板材56a上的與感光鼓110的外周面21相對(duì)的表面成為具有與該外周面21大致相等的曲率的滑動(dòng)面41a。
在由基板31h的凹部31h1與板材56a的凹部56a1圍成的空間，通過填充有折射率與基板31h及板材56a不同的樹脂材料，形成了雙凸透鏡的微型透鏡55a。這些微型透鏡55a通過使來自分別對(duì)應(yīng)的發(fā)光元件38的出射光集中，在感光鼓110的表面上成像。微型透鏡55a的形狀或其配置的方法并不限于圖29的示例。例如，也可以形成在基板表面上形成凸向感光鼓110側(cè)的微型透鏡的結(jié)構(gòu)。
在這樣的通過微型透鏡55a使來自發(fā)光元件38的出射光集中的結(jié)構(gòu)中，即使在發(fā)光元件38與感光鼓110的距離有微小變化的情況下，在感光鼓110的表面上的來自發(fā)光元件38的出射光到達(dá)的點(diǎn)域面積的變化變得顯著。根據(jù)本實(shí)施方式，因?yàn)橥ㄟ^使具有與感光鼓110的表面大致相等的曲率的滑動(dòng)面與感光鼓110面接觸，可以精度良好地維持各發(fā)光元件38與感光鼓110的表面的距離大致固定，所以即使在通過微型透鏡55a謀求提高光的利用效率的結(jié)構(gòu)中，也可以在感光鼓110的表面上精度良好地形成所希望的潛像。即，如圖29所示，可以說在發(fā)光元件38與感光鼓110的間隙內(nèi)配置微型透鏡等的光學(xué)要素的結(jié)構(gòu)中，可以維持發(fā)光元件38與感光鼓110的表面的距離的本發(fā)明的效果顯得特別有效。
<第七實(shí)施方式>
圖30是表示本發(fā)明的第七實(shí)施方式的圖像形成裝置的一部分的結(jié)構(gòu)的立體圖。該圖像形成裝置是作為復(fù)印機(jī)或復(fù)寫機(jī)及傳真的印刷部分而使用的裝置，如圖30所示，包括被軸支持的可以向箭頭A方向(副掃描方向)旋轉(zhuǎn)的圓筒狀的感光鼓110；與該感光鼓110的外周面21相對(duì)的頭部10d。以下將感光鼓110的旋轉(zhuǎn)軸的方向(即感光鼓110的母線方向(主掃描方向))標(biāo)記為“鼓軸方向X”。
圖31是表示將在圖30中示出的要素在與鼓軸方向X垂直的平面上截?cái)鄷r(shí)的結(jié)構(gòu)的截面圖。如圖30及圖31所示，頭部10d包括以鼓軸方向X為長(zhǎng)度方向并與感光鼓110的外周面21相對(duì)的大致呈長(zhǎng)方體狀的基板32；在與感光鼓110相對(duì)的面的鼓相對(duì)面Sa1的內(nèi)側(cè)的單元形成面Sa2(基板32的表面的一部)上形成的多個(gè)發(fā)光元件38；及在基板32的單元形成面Sa2上形成的覆蓋發(fā)光元件38的密封體36d。密封體36d形成為大致呈長(zhǎng)方體狀的部件，其覆蓋基板32的表面上的單元形成面Sa2與各側(cè)面，是由例如丙烯類或環(huán)氧類的各種樹脂材料制成的。這樣通過密封體36d覆蓋發(fā)光元件38，可以防止由外部空氣或水分的附著而引起的發(fā)光元件38的劣化。第七實(shí)施方式的密封體36d具有光穿透性。
如圖30所示，在頭部10d上的在與感光鼓110相反側(cè)的部位(密封體36d)上配置多個(gè)彈性體631。各彈性體631是用于將頭部10d向感光鼓110彈性推壓的元件，介于圖像形成裝置的框體60與頭部10d之間。在第七實(shí)施方式中，在密封體36d上的在感光鼓110的相反側(cè)的表面的各個(gè)角部的附近與其長(zhǎng)度方向的中央部配置了共計(jì)六個(gè)彈性體631。該彈性體631例如是一端被固定在頭部10d并且另一端被固定在框體60上的螺旋彈簧。但是，彈性體631的具體的形態(tài)可以任意變化。例如，采用板簧等其他的形態(tài)的彈簧或在密封體36d與框體60之間插夾的橡膠等其他種類的部件來作為彈性體631。
圖30及圖31所示的基板32是例如由玻璃或塑料的材料制成的板狀的部件。另一方面，各發(fā)光元件38是將由有機(jī)EL材料制成的發(fā)光層夾在陽極與陰極之間的單元。通過施加電能而發(fā)光。圖32是表示基板32的單元形成面Sa2上的結(jié)構(gòu)的俯視圖。如該圖所示，多個(gè)發(fā)光元件38沿著鼓軸方向X被排列成兩列且形成孤島狀，對(duì)應(yīng)于應(yīng)該在復(fù)印紙等的紀(jì)錄材料上形成的圖像而選擇地發(fā)光。來自各發(fā)光元件38的出射光穿透密封體36d后到達(dá)感光鼓110的表面。即，第七實(shí)施方式的頭部10d是頂部發(fā)射型(bottom emission type)。因此，基板32要求有光穿透性。通過頭部10d的曝光，在感光鼓110的表面上形成與所希望的圖像相對(duì)應(yīng)的潛像。發(fā)光元件38的排列方式并不限于圖32的例子，可以是單列或三列以上，也可以是其他的合適的方式。
然后，圖33是表示密封體36d上感光鼓110相對(duì)的表面(以下稱為“鼓相對(duì)面”)Sa1的形狀的立體圖。在該圖中，鼓相對(duì)面Sa1位于上方(即在圖30或圖31中的上下關(guān)系逆過來)。如圖33所示，密封體36d的鼓相對(duì)面Sa1包括滑動(dòng)面41d與傾斜面45d。如圖31及圖33所示，其中滑動(dòng)面41d是具有與感光鼓110的外周面21大致相等的曲率并向感光鼓110的相反側(cè)凹陷的彎曲面(凹面)。即，可以說滑動(dòng)面41d是半徑與感光鼓110的外周面21大致相等的圓柱面的內(nèi)側(cè)的表面(內(nèi)周面)的一部分。因此，如圖31所示，若通過彈性體631將頭部10d推壓向感光鼓110，則密封體36d的滑動(dòng)面41d在全部區(qū)域上沒有間隙地與感光鼓110的外周面21面接觸。
另一方面，傾斜面45d是在密封體36d上的、位于側(cè)面47d與滑動(dòng)面41d之間的平面，所述側(cè)面47d位于感光鼓110旋轉(zhuǎn)方向A的上流側(cè)，如圖31所示，傾斜面45d向該外周面21傾斜，使得其與感光鼓110的外周面21的仰角θ1形成為銳角。該仰角θ1是在邊緣E上由外周面21的切線PL與傾斜面45d形成的角度，所述邊緣E位于滑動(dòng)面41d上的感光鼓110旋轉(zhuǎn)方向A的上流側(cè)。通過以上可以看出，密封體36d形成了在感光鼓110一側(cè)的部分上將旋轉(zhuǎn)方向A的上流側(cè)的部分進(jìn)行倒角后的形狀。因此，如圖31所示，與滑動(dòng)面41d與感光鼓110的外周面21面接觸相對(duì)，傾斜面45d留有空隙地與感光鼓110的外周面21相對(duì)。
以上說明的形狀的密封體36d可以通過以下方法形成例如，通過紫外線的照射或加熱，使填充在模型內(nèi)的紫外線硬化型或熱硬化型的樹脂材料硬化，之后從模型中取出的方法(注射模塑成形)；或?qū)⒋笾鲁书L(zhǎng)方形的板材通過機(jī)械的或化學(xué)的磨削而使其覆蓋基板32的單元形成面Sa2。此處，根據(jù)前者的注射模塑成形，有個(gè)優(yōu)點(diǎn)是可以低價(jià)大量地生產(chǎn)密封體36d。另外，對(duì)于在例如通過這些方法形成的密封體36d上的鼓相對(duì)面Sa1的相反側(cè)的表面，進(jìn)行機(jī)械的或化學(xué)的磨削，在所形成的槽部嵌入基板32后，通過粘合劑固定密封體36d。
如以上說明，在第七實(shí)施方式中，因?yàn)榫哂信c感光鼓110的外周面21大致相等的曲率的滑動(dòng)面41d與該外周面21面接觸，所以與鼓相對(duì)面Sa1形成為平面的結(jié)構(gòu)相比，能夠得到將各發(fā)光元件38與感光鼓110的外周面21的距離精度良好地維持在所希望的尺寸上的效果。對(duì)于該效果詳細(xì)敘述如下。
現(xiàn)在，作為與第七實(shí)施方式相對(duì)比的結(jié)構(gòu)，如圖34A所示，假設(shè)頭部10y，其配有鼓相對(duì)面Sa1為平面的密封體36。在該結(jié)構(gòu)中，因?yàn)楣南鄬?duì)面Sa1與感光鼓110的外周面21只不過是線接觸，所以有頭部10y對(duì)于感光鼓110的位置或姿勢(shì)不確定的問題。例如，如圖34A～34C(a)所示，即使維持頭部10y使得鼓相對(duì)面Sa1大致水平，頭部10y也以鼓相對(duì)面Sa1與外周面21的接觸線為中心旋轉(zhuǎn)，其結(jié)果如圖34B所示，有頭部10y變成傾斜的姿勢(shì)的情況。另外，例如在感光鼓110旋轉(zhuǎn)時(shí)，由于從感光鼓110作用在頭部10y的摩擦力或其他的因素(例如外力的作用)，如圖34C所示，也有頭部10y從原來的位置向水平方向變位的情況。而且，在圖34B及圖34C的任意一個(gè)情況下，發(fā)光元件38與感光鼓110的外周面21的距離也變得比圖34A所示的理想的情況大。這樣感光鼓110與發(fā)光元件38的距離如果發(fā)生偏差，則因?yàn)閬碜愿靼l(fā)光元件38的出射光到達(dá)感光鼓110的外周面21上的區(qū)域(點(diǎn))的面積或形狀發(fā)生偏差，所以有難以形成高清晰的圖像的問題。
對(duì)此，在第七實(shí)施方式中，通過滑動(dòng)面41d與感光鼓110的外周面21面接觸，穩(wěn)定地維持頭部10d的對(duì)于感光鼓110的姿勢(shì)或位置。即，有效地抑制了如圖34B所示那樣的頭部10d的傾向或如圖34C所示那樣的頭部10d的向水平方向的變位。因此，可以以高精度維持感光鼓110與發(fā)光元件38的距離在所希望的尺寸上，形成高清晰且高質(zhì)量的圖像。特別地，在第七實(shí)施方式中，因?yàn)橥ㄟ^多個(gè)彈性體631均勻地將頭部10d推壓向感光鼓110，所以通過滑動(dòng)面41d與感光鼓110的外周面21面接觸，可以確切地得到穩(wěn)定地維持頭部10d的姿勢(shì)或位置的效果。
另外，在第七實(shí)施方式中，因?yàn)樵诿芊怏w36d的鼓相對(duì)面Sa1上，在感光鼓110旋轉(zhuǎn)的方向A的上流側(cè)形成了傾斜面45d，所以有可以防止由于鼓相對(duì)面Sa1與感光鼓110的外周面21相沖突而引起的外周面21的損傷的效果。例如，現(xiàn)在假設(shè)鼓相對(duì)面Sa1沒有包括傾斜面的結(jié)構(gòu)(即，例如圖42所示滑動(dòng)面與側(cè)面具有銳角交叉的結(jié)構(gòu))。在該結(jié)構(gòu)中，通過與滑動(dòng)面與側(cè)面的交叉對(duì)應(yīng)的頭角部與外周面21相接觸，有外周面21被損傷的情況。特別地，在由于制造上的誤差或間續(xù)的變形而感光鼓110的橫切面不是圓形的情況下，或在由于同樣的理由感光鼓110的位置從原來的位置錯(cuò)開的情況下，在外周面21上由于從原來的表面向外側(cè)突出的部分與頭角部接觸而容易受傷。對(duì)此，第七實(shí)施方式的頭部10d因?yàn)樾纬闪斯南鄬?duì)面Sa1具有傾斜面45a的形狀(即頭角部被倒角的結(jié)構(gòu))，所以可以防止這樣的外周面21的損傷。在第七實(shí)施方式中，雖然示出了在鼓相對(duì)面Sa1上的只在方向A的上流側(cè)形成傾斜面45a的結(jié)構(gòu)的例子，但是另外也可以形成在方向A的下流側(cè)形成與傾斜面45a相同的傾斜面(被倒角的部分)的結(jié)構(gòu)。
以上雖然示出了頂部發(fā)射型的頭部10d的例子，但是如前所述，如圖14所示，使滑動(dòng)面與感光鼓110面接觸的結(jié)構(gòu)也可以采用底部發(fā)射型的頭部。在圖14的結(jié)構(gòu)中，具有光穿透性的大致呈長(zhǎng)方形的基板31a構(gòu)成了鼓相對(duì)面Sa1。基板31a的鼓相對(duì)面Sa1具有具有與感光鼓110的外周面21大致相等的曲率并向感光鼓110的相反側(cè)凹陷的彎曲面的滑動(dòng)面41a；傾斜成與外周面21的仰角θ1形成為銳角的傾斜面45a。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，因?yàn)榛?1a的滑動(dòng)面41a與感光鼓110的外周面21面接觸，所以與圖30至圖33所示的結(jié)構(gòu)一樣，可以穩(wěn)定地維持頭部的姿勢(shì)或位置。但是，在該結(jié)構(gòu)中，難以顧全頭部的姿勢(shì)或位置的穩(wěn)定化和制造成本的降低的兩方面。對(duì)于這點(diǎn)詳細(xì)敘述。
因?yàn)闉榱诵纬砂l(fā)光元件38，基板的平面度要求很高，例如基板的價(jià)格比沒有要求高平面度的密封體相比要高得多。因此，如果從降低制造成本的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選的是基板要盡可能的小型。另外，在通過切斷大型的板材(所謂的母玻璃)來制作多個(gè)基板的情況下，由一個(gè)板材制成的基板越多則制造成本越低，從該觀點(diǎn)出發(fā)也可以說優(yōu)選的是基板為小型的。另一方面，如圖14所示，與感光鼓110面接觸的滑動(dòng)面41a的面積越大，則使頭部的姿勢(shì)或位置穩(wěn)定的效果(將發(fā)光元件38與感光鼓110的表面的距離維持在所希望德尺寸的效果)越明顯。由此，在圖14的結(jié)構(gòu)中，頭部的姿勢(shì)或位置的穩(wěn)定化和制造成本的降低就成為了相矛盾的關(guān)系。即，為了降低制造成本而使基板32小型化時(shí)，頭部的姿勢(shì)或位置的穩(wěn)定性降低(維持發(fā)光元件38與感光鼓110的距離的精度降低)，為了提高頭部的穩(wěn)定性而使基板大型化時(shí)，制造成本增加。
對(duì)此，在圖30至圖33所示的第七實(shí)施方式中，因?yàn)椴皇腔?2而是密封體36d與感光鼓110接觸，所以與基板32的大小無關(guān)，可以充分確保與感光鼓110接觸的滑動(dòng)面的面積。例如，在圖31所示的結(jié)構(gòu)中，與在垂直于鼓軸方向X的方向上的基板32的寬度W1無關(guān)，可以增加密封體36d的鼓相對(duì)面Sa1的寬度W2。因此，通過將基板32的寬度W1選定為形成發(fā)光元件38所必要的最低限度的尺寸，降低了基板32的制造成本，并且可以充分地確保密封體36d的寬度W2，由此可以有效地使頭部的姿勢(shì)或位置穩(wěn)定化(精度良好地維持發(fā)光元件38與感光鼓110的距離)。即，根據(jù)第七實(shí)施方式，與圖14所示的結(jié)構(gòu)相比，有個(gè)優(yōu)點(diǎn)是可以顧全頭部的姿勢(shì)或位置的穩(wěn)定化和制造成本的降低這兩方面。
另外，在圖14的結(jié)構(gòu)中，基板必須兼?zhèn)溥m于形成發(fā)光元件38的特性；與對(duì)于感光鼓110的外周面21的良好的相性(特別是對(duì)外周面21的耐摩擦性)。因此，選擇基板的材料或形狀的余地很小。對(duì)此，在第七實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)中，因?yàn)閷?duì)于形成發(fā)光元件38的基板的材料、和與感光鼓110接觸的密封體36d的材料，可以選擇不同材料，與圖14所示的結(jié)構(gòu)相比，還有個(gè)優(yōu)點(diǎn)是可以提高頭部的設(shè)計(jì)的自由度。
<第八實(shí)施方式>
圖35是表示第八實(shí)施方式的圖像形成裝置的一部分的結(jié)構(gòu)的截面圖。在第七實(shí)施方式中，示出了頭部10d與感光鼓110的外周面21相對(duì)的結(jié)構(gòu)的例子。對(duì)此，在第八實(shí)施方式中，在圓筒狀的感光鼓110的內(nèi)周面形成與頭部10d相對(duì)的結(jié)構(gòu)。第八實(shí)施方式的感光鼓110是將感光層積層在具有光穿透性的圓筒的外周面上形成的圓筒狀的部件。通過多個(gè)彈性體631將頭部10e推壓向感光鼓110側(cè)，使密封體36e與感光鼓110的內(nèi)周面22相接觸。對(duì)于在第八實(shí)施方式中與第七實(shí)施方式相同的要素付與共用的符號(hào)，適當(dāng)省略其說明。
圖36是表示放大圖35所示的頭部10e的截面圖，圖37是注意鼓相對(duì)面Sa1表示密封體36e的外觀的立體圖。如圖36所示，密封體36e的鼓相對(duì)面Sa1包括滑動(dòng)面41e，所述滑動(dòng)面41e選定的形狀可以與感光鼓110的內(nèi)周面22面接觸。即，如圖36及圖37所示，該滑動(dòng)面41e是具有與感光鼓110的內(nèi)周面22大致相等的曲率并向感光鼓110側(cè)突出的彎曲面(凸面)。換言之，可以說滑動(dòng)面41e是半徑與感光鼓110的內(nèi)周面22大致相等的圓柱面的外側(cè)的表面(外周面)的一部分。另一方面，密封體36e的傾斜面45e是在鼓相對(duì)面Sa1上的、沿著感光鼓110旋轉(zhuǎn)方向A位于滑動(dòng)面41e的上流側(cè)的平面，如圖36所示，傾斜面45e向該內(nèi)周面22傾斜，使得其與感光鼓110的內(nèi)周面22的仰角θ2形成為銳角。
在第八實(shí)施方式中，因?yàn)榫哂信c感光鼓110的內(nèi)周面22大致相等的曲率的滑動(dòng)面41e與該內(nèi)周面22面接觸，所以起著與第七實(shí)施方式相同的效果。另外，在第八實(shí)施方式中，因?yàn)轭^部10e被收容在感光鼓110的內(nèi)側(cè)，所以與將頭部10d配置在感光鼓110的外側(cè)的第七實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)相比，可以削減配置頭部所需的空間。
<第九實(shí)施方式>
圖38是表示第九實(shí)施方式的圖像形成裝置的頭部10d及感光鼓110的結(jié)構(gòu)的立體圖。另外，圖39是表示將在圖38中示出的要素在與鼓軸方向X垂直的平面上截?cái)鄷r(shí)的結(jié)構(gòu)的截面圖，對(duì)應(yīng)于參考第七實(shí)施方式的圖31。如圖38及圖39所示，第九實(shí)施方式的圖像形成裝置具有圍繞頭部10d的周圍的形成為大致呈長(zhǎng)方形的框狀的框架部件65?？蚣懿考?5的內(nèi)周面與頭部10d的側(cè)面相對(duì)。此處，框架部件65只要是具有與頭部10d的側(cè)面相對(duì)的部分的形狀就可以，并不限于圖38所示的形狀。
在第七實(shí)施方式中，示出了在頭部10d上的在與感光鼓110相反側(cè)的表面上配置多個(gè)彈性體631的結(jié)構(gòu)的例子。對(duì)此，在第九實(shí)施方式中，通過配置在頭部10d的邊側(cè)的彈性體將該頭部10d推壓向感光鼓110側(cè)。對(duì)于在第九實(shí)施方式中與第七實(shí)施方式相同的要素付與共用的符號(hào)，適當(dāng)省略其說明。
多個(gè)彈性體632介于框架部件65的內(nèi)周面與頭部10d的側(cè)面之間。各彈性體632的一端被固定在框架部件65的內(nèi)周面，另一端被固定在頭部10d的側(cè)面。更具體地說，如圖38所示，在大致呈長(zhǎng)方形的頭部10d上的與長(zhǎng)邊相當(dāng)?shù)母鱾?cè)面上等間隔地固定了配置的三個(gè)彈性體632的一端，在與該側(cè)面相對(duì)的框架部件65的內(nèi)周面上固定這些彈性體632的另一端。另外，在與頭部10d的短邊相當(dāng)?shù)母鱾?cè)面上在中央固定了一個(gè)彈性體632的一端，在與該側(cè)面相對(duì)的框架部件65的內(nèi)周面上固定該彈性體632的另一端。
另外，在框架部件65上的在感光鼓110的相反側(cè)的表面上配置多個(gè)彈性體633。各彈性體633是用于將框架部件65向感光鼓110側(cè)推壓的元件，介于圖像形成裝置的框體60與框架部件65之間。在第九實(shí)施方式中，在框架部件65的各個(gè)角部的附近與其長(zhǎng)度方向的中央部的附近配置了共計(jì)六個(gè)彈性體633。彈性體632及彈性體633是與第七實(shí)施方式的彈性體631相同的要素(例如螺旋彈簧或板簧)。
在以上的結(jié)構(gòu)中，通過彈性體633將框架部件65按壓向感光鼓110側(cè)，彈性體632伸長(zhǎng)，通過該彈性體632產(chǎn)生的彈力將頭部10d推壓向感光鼓110側(cè)。因此，在第九實(shí)施方式中，也能得到與第七實(shí)施方式相同的效果。
以上，雖然示出了通過彈性體633將框架部件65按壓向感光鼓110側(cè)的結(jié)構(gòu)的例子，但是如圖40所示，也可以形成根據(jù)固定框架部件65的位置將頭部10d推壓向感光鼓110側(cè)的結(jié)構(gòu)。即，在該結(jié)構(gòu)中，可以將框架部件65固定在框體60上，使得與在該彈性體632上的被固定在頭部10d上的端部P2相比，在各彈性體632上的被固定在框架部件65上的端部P1位于感光鼓110側(cè)。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，因?yàn)橥ㄟ^彈性體632的彈力將頭部10d推壓向感光鼓110側(cè)，所以起著與上述相同的效果。但是，根據(jù)該結(jié)構(gòu)，因?yàn)闆]有必要在頭部10d或框架部件65上的在與感光鼓110相反側(cè)的部位上配置彈性體633，所以可以削減在頭部10d的上方的應(yīng)該確保的空間。
在圖38至圖40中，雖然示出了推壓第七實(shí)施方式的頭部10d的結(jié)構(gòu)的例子，但是與第八實(shí)施方式相同，也可以采用通過框架部件65或彈性體632的第九實(shí)施方式的要素，將頭部10推壓向感光鼓110側(cè)的結(jié)構(gòu)。
<第七至第九實(shí)施方式的變形例>
分別對(duì)于上述的第七至第九實(shí)施方式可以施加各種變形例。以下作為第八及第九的變形例示出了具體的變形的方式。也可以將第八及第九的變形例進(jìn)行適當(dāng)組合。
<第一變形例>
在第七至第九實(shí)施方式中，雖然示出了鼓相對(duì)面Sa1包括傾斜面的結(jié)構(gòu)的例子，但是該傾斜面并不是一定必要的要素。例如，在第七或第九實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)中，如圖41所示，也可以使用鼓相對(duì)面Sa1在全部區(qū)域上形成為具有與感光鼓110的外周面21大致相等的曲率的滑動(dòng)面41j的密封體36a來代替密封體36d，在第八實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)中，如圖42所示，也可以使用鼓相對(duì)面Sa1在全部區(qū)域上形成為具有與感光鼓110的內(nèi)周面22大致相等的曲率的滑動(dòng)面41k的密封體36b來代替密封體36d。
<第二變形例>
分別在第七至第九實(shí)施方式中，也可以使光學(xué)要素介于各發(fā)光元件38與感光鼓110之間。例如，也可以將將來自各發(fā)光元件38的出射光引導(dǎo)到感光鼓110的表面上的導(dǎo)光體(例如是光纖)；或可將來自各發(fā)光元件38的出射光集中的透鏡，配置在發(fā)光元件38與感光鼓110之間。
圖43是表示將第七或第九實(shí)施方式變形而得到的第二變形例的圖像形成裝置的頭部的結(jié)構(gòu)的截面圖。在該結(jié)構(gòu)中，將用于集中來自發(fā)光元件38的出射光的微型透鏡55b配置在各發(fā)光元件38與感光鼓110之間。這些微型透鏡55b被排列成陣列狀，使得每個(gè)都與發(fā)光元件38相對(duì)。在圖43的結(jié)構(gòu)中，板材56b重疊在覆蓋各發(fā)光元件38的密封體36c的感光鼓110側(cè)。該板材56b可以是由樹脂材料形成在密封體36c表面上的膜體，也可以是被貼合在密封體36c的表面上的板材的部件。在密封體36c上的與板材56b相對(duì)的表面上，在與各發(fā)光元件38相對(duì)應(yīng)的位置上形成了曲面形狀的多個(gè)凹部36c1。同樣地，在板材56b上的與密封體36c相對(duì)的表面上，在與各發(fā)光元件38相對(duì)應(yīng)的位置上也形成了曲面形狀的多個(gè)凹部56b1。在板材56b上的與感光鼓110的外周面21相對(duì)的表面成為具有與該外周面21大致相等的曲率的滑動(dòng)面41m。
在由密封體36c的凹部36c1與板材56b的凹部56b1圍成的空間，通過填充有折射率與密封體36c及板材56b不同的樹脂材料，形成了雙凸透鏡的微型透鏡55b。這些微型透鏡55b通過使來自分別對(duì)應(yīng)的發(fā)光元件38的出射光集中，在感光鼓110的表面上成像。微型透鏡55b的形狀或其配置的方法并不限于圖43的示例。例如，也可以形成在密封體表面上形成凸向感光鼓110側(cè)的微型透鏡的結(jié)構(gòu)。
在這樣的通過微型透鏡55b使來自發(fā)光元件38的出射光集中的結(jié)構(gòu)中，即使在發(fā)光元件38與感光鼓110的距離有微小變化的情況下，在感光鼓110的表面上的來自發(fā)光元件38的出射光到達(dá)的點(diǎn)域面積的變化變得顯著。根據(jù)本實(shí)施方式，因?yàn)橥ㄟ^使具有與感光鼓110的表面大致相等的曲率的滑動(dòng)面與感光鼓110面接觸，可以精度良好地維持各發(fā)光元件38與感光鼓110的表面的距離大致固定，所以即使在通過微型透鏡55b謀求提高光的利用效率的結(jié)構(gòu)中，也可以在感光鼓110的表面上精度良好地形成所希望的潛像。即，如圖43所示，可以說在發(fā)光元件38與感光鼓110的間隙內(nèi)配置微型透鏡55b等的光學(xué)要素的結(jié)構(gòu)中，可以維持發(fā)光元件38與感光鼓110的表面的距離的本發(fā)明的效果顯得特別有效。
<第三變形例>
在第一至第九實(shí)施方式中，雖然示出了包括由有機(jī)EL材料制成的發(fā)光層的發(fā)光元件的例子，但是，利用排列包括由有機(jī)EL材料制成的發(fā)光層的發(fā)光元件的頭部；或利用排列LED(Light Emitting Diode)來作為發(fā)光元件的頭部，也可以實(shí)現(xiàn)上述的各實(shí)施方式的各變形例的形態(tài)。即，不僅可以利用包括由有機(jī)EL材料制成的發(fā)光層的發(fā)光元件，也可以利用通過施加電能而發(fā)光的單元。
<第十至第十三實(shí)施方式>
圖44是表示本發(fā)明的第十至第十三實(shí)施方式的圖像形成裝置的主要部分的截面圖。如該圖所示，各實(shí)施方式的圖像形成裝置都具有感光鼓或感光帶等的圖像擔(dān)載體110a；與在圖像擔(dān)載體110a上形成潛像的頭部10。圖像擔(dān)載體110a由圖像形成裝置的框體支持，具有形成潛像的圖像擔(dān)載面S110。在形成潛像時(shí)，圖像擔(dān)載面S110向圖中箭頭所示的方向A3行進(jìn)。頭部10由圖像形成裝置的框體支持，具有與圖像擔(dān)載面S110相接的接觸面S10，光從接觸面S10照射向圖像擔(dān)載面S110。通過該照射，在圖像擔(dān)載面S110上形成潛像。來自頭部10的照射光沿著橫切在方向A3上行進(jìn)的圖像擔(dān)載面S110的方向X1形成一列，通過來自頭部10的照射及圖像擔(dān)載面S110的行進(jìn)，在圖像擔(dān)載面S110上形成的潛像成為二維模式。在圖像擔(dān)載體110a是感光鼓時(shí)，方向X1與鼓軸方向X一致。
以下對(duì)于本發(fā)明的第十至第十三實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。在該說明中參考的截面圖中，只對(duì)主要部分附加剖面線。另外，因?yàn)楦鲗?shí)施方式的圖像形成裝置相互不同之處只是在于頭部10的結(jié)構(gòu)，所以在以下的說明中，著眼于頭部10的結(jié)構(gòu)。頭部10在第十實(shí)施方式中被標(biāo)記成頭部200，在第十一實(shí)施方式中被標(biāo)記成頭部300，第十二實(shí)施方式中被標(biāo)記成頭部201，第十三實(shí)施方式中被標(biāo)記成頭部301。
<第十實(shí)施方式>
圖45是表示本發(fā)明的第十實(shí)施方式的圖像形成裝置的頭部200的結(jié)構(gòu)的俯視圖。如該圖所示，在頭部200中，多個(gè)發(fā)光元件205沿著方向X1被排列成兩列且形成孤島狀。這些發(fā)光元件205被板狀的密封基板230覆蓋。密封基板230的表面為出射面S200，內(nèi)表面與發(fā)光元件205相對(duì)。出射面S200即為圖44的接觸面S10。重疊在密封基板230的發(fā)光元件205的部分上每個(gè)發(fā)光元件205都形成了圓柱狀的光波導(dǎo)路235。
圖46是圖45的C-C′截面圖。如該圖所示，頭部200具有由平板狀的主基板220與平板狀的密封基板230夾有的多個(gè)發(fā)光元件205的結(jié)構(gòu)。主基板220由玻璃、石英或塑料形成，在該主基板220上形成發(fā)光元件205。發(fā)光元件205是施加電能后發(fā)光的有機(jī)EL單元，形成發(fā)光元件205的區(qū)域被區(qū)分為氧化膜260和形成在氧化膜260上的隔壁(bank)。在各區(qū)域，從主基板220側(cè)按順序積層有起陰極作用的電極240、由有機(jī)EL材料形成的面發(fā)光的發(fā)光層210、光穿透性的空穴注入層250及起陽極作用的透明電極280。
在形成發(fā)光元件205的主基板220上，重疊固定了密封基板230，使其密封發(fā)光元件205和主基板220。通過密封，將發(fā)光元件205與外部空氣(特別是水和氧氣)隔絕，抑制其劣化。使用具有光穿透性的粘合劑290來將密封基板230固定在主基板220上?？梢允褂美鐭嵊不驼澈蟿┗蜃贤饩€硬化型粘合劑來作為粘合劑290。
在這個(gè)領(lǐng)域適用的密封的種類有膜密封，其通過粘合劑290將密封基板230的一面整體與主基板220接合；蓋密封，其通過粘合劑290將密封基板230的邊緣部與主基板220接合，在發(fā)光元件205的周圍形成由密封基板230與主基板220限定的空間。在蓋密封時(shí)在該空間內(nèi)配置干燥劑。在第十實(shí)施方式中，雖然使用膜密封，但也可以利用蓋密封。
密封基板230是在平板231內(nèi)配置多個(gè)光波導(dǎo)路235而形成的?？梢允褂貌ＡА⒔饘?、陶瓷或塑料來形成平板231。各光波導(dǎo)路235從密封基板230的表面貫穿到背面，其中心軸沿著密封基板230的厚度方向，通過平板231覆蓋其周圍表面。在光波導(dǎo)路235的前端面上，發(fā)光元件205側(cè)的部分成為密封基板230的背面的一部分，相反側(cè)的部分成為密封基板230的表面(出射面S200)的一部分。從出射面S200一側(cè)觀察，光波導(dǎo)路235的發(fā)光元件205側(cè)的前端面覆蓋了對(duì)應(yīng)的發(fā)光元件205的發(fā)光層210。
另外，光波導(dǎo)路235是由具有光穿透性的材料形成的。該材料的折射率比粘合劑290的折射率大或相同，比形成平板231的材料的折射率大。
另外，光波導(dǎo)路235被固定在平板231上。該固定方法是任意的，但在使用光波導(dǎo)路235的周圍表面與平板231沒有相接的方法時(shí)要注意。可以考慮通過粘合劑將光波導(dǎo)路235固定在平板231上的方法。在這種情況下，有必要使用折射率比形成光波導(dǎo)路235的材料低的粘合劑。即，必須通過折射率比該材料低的材料覆蓋光波導(dǎo)路235的周圍表面。
圖47是用于說明頭部200的光學(xué)的作用的截面圖。在頭部200中，如果通過電極240及透明電極280施加電壓，則夾在它們之間的發(fā)光層210發(fā)光。從發(fā)光層210向密封基板230行進(jìn)的光的大部分幾乎沿著與密封基板230正交的方向直行行進(jìn)，透過空穴注入層250、透明電極280及粘合劑290到達(dá)密封基板230的背面，更具體地，到達(dá)光波導(dǎo)路235的發(fā)光元件205側(cè)的前端面。因?yàn)樾纬晒獠▽?dǎo)路235的材料的折射率比粘合劑290的折射率大或相同，所以到達(dá)該前端面的全部的光容易射入光波導(dǎo)路235。因此，到達(dá)的光的大部分射入光波導(dǎo)路235并在光波導(dǎo)路235內(nèi)行進(jìn)。
在光波導(dǎo)路235內(nèi)行進(jìn)的光如果到達(dá)光波導(dǎo)路235的周圍表面，則其大部分都全反射。即，光波導(dǎo)路235起著大直徑的一根光纖的磁心的作用，引導(dǎo)入射的光。引起全反射的原因是到達(dá)光波導(dǎo)路235的周圍表面的光的行進(jìn)方向與該周圍表面形成的角一般非常小。換言之，是因?yàn)楣獠▽?dǎo)路235的周圍表面的入射角一般非常大。以下進(jìn)行更詳細(xì)地說明。
因?yàn)樾纬晒獠▽?dǎo)路235的材料的折射率比覆蓋其周圍表面的材料(例如形成平板231的材料或粘合劑)的折射率高，所以在光波導(dǎo)路235內(nèi)行進(jìn)的光在該周圍表面全反射。但是，在全反射上有必要使入射角在基于上述兩個(gè)折射率之比而確定的臨界角之上。但是如上所述，因?yàn)橐话阒車砻娴娜肷浣嵌挤浅４螅灾灰皇褂贸蔀闃O限臨界角的材料，到達(dá)周圍表面的光的大部分就都被全反射。顯然，優(yōu)選的是確定形成光波導(dǎo)路235的材料及覆蓋其周圍表面的材料，使得足夠多的光被全反射。
這樣，在光波導(dǎo)路235內(nèi)行進(jìn)的光被導(dǎo)向光波導(dǎo)路235并從出射面S200側(cè)的前端面射出。由此，在出射面S200上形成點(diǎn)像(光像)。
圖48是表示由頭部200形成的點(diǎn)像的示意圖。該點(diǎn)像的形狀、大小及形成位置與光波導(dǎo)路235的出射面S200側(cè)的前端面一致。另外，該點(diǎn)像的亮度的分布大致均勻。另外，因?yàn)閬碜园l(fā)光層210的光在粘合劑290與光波導(dǎo)路235的邊界面沒有被全部反射，更加提高了來自發(fā)光層210的光的利用效率。
另外，由于緊密連接部分的磨耗，密封基板230變薄，即使光波導(dǎo)路235變短，因?yàn)楣獠▽?dǎo)路235是通過在周圍表面的全反射來引導(dǎo)光的柱狀物體，其中心軸沿著由于磨耗的接觸面的后退方向，所以露出在出射面S200的光波導(dǎo)路235的前端面的形狀及大小幾乎沒有變化。因此，形成在出射面S200的點(diǎn)像的形狀及大小也幾乎沒有變化。
如以上說明，根據(jù)第十實(shí)施方式的圖像形成裝置，與圖像擔(dān)載體110a接觸的頭部200的曝光無關(guān)，可以不用將來自發(fā)光層210的光引向密封基板230而可以穩(wěn)定并得到鮮明的點(diǎn)像。即，可以更小地維持點(diǎn)像的面積或形狀的偏差。該效果有利于印刷質(zhì)量的提高及穩(wěn)定。另外，因?yàn)樾纬稍诿芊饣迳系墓獠▽?dǎo)路不要求主基板那樣的表面精度，所以與具有在主基板上形成光波導(dǎo)路的型式的頭部的圖像形成裝置相比，更容易制造。
然后，對(duì)于頭部200的制造方法的一個(gè)例子進(jìn)行說明。
圖49是表示頭部200的制造方法的一個(gè)例子的最初工序的示意圖。如該圖所示，首先，在平板231上開多個(gè)圓柱狀的孔。這些孔以后被填滿成為光波導(dǎo)路235，開孔使得前端面能夠覆蓋發(fā)光層210?？梢圆捎眠m合于形成平板231的材料的公知的方法來開孔。例如，在由玻璃形成平板231的情況下，可以采用通過氟酸蝕刻來開孔的方法。另外例如，在可以由紫外線硬化型樹脂形成平板231的情況下，也可以采用通過掩膜對(duì)平板231的一部分進(jìn)行紫外線照射使其硬化，切削非硬化部分的方法。
圖50是表示圖49的下一道工序的示意圖。如該圖所示，進(jìn)行埋孔，制作形成光波導(dǎo)路235的密封基板230。該埋孔是這樣的操作在開的孔內(nèi)填入作為形成光波導(dǎo)路235的材料的樹脂，使得密封基板230的表面及背面分別平齊。作為埋孔的方法有用橡皮拖把填入樹脂的方法、通過噴墨等的分配器涂抹的方法等。通過埋孔，在制作密封基板230時(shí)，形成光波導(dǎo)路235的材料雖然被限定于樹脂，但是通過其他方法來制作密封基板230時(shí)沒有限制。
圖51是表示圖50的下一道工序的示意圖。如該圖所示，在主基板220上形成多個(gè)發(fā)光元件205。
圖52是表示圖51的下一道工序的示意圖。如該圖所示，在形成主基板220的發(fā)光元件205的面(或密封基板230的背面)上涂抹粘合劑290，通過該粘合劑290將密封基板230固定連接在主基板220上。此時(shí)，配置主基板220及密封基板230，使得與各光波導(dǎo)路235的主基板220相對(duì)的前端面覆蓋對(duì)應(yīng)的發(fā)光元件205的發(fā)光層210。這樣完成頭部200。
如上所述，在該制造方法中，有必要切削基板。但是，被切削的是密封基板，并沒有切削主基板。因此，可以不會(huì)降低要求高利用效率的主基板的利用效率，并在量產(chǎn)時(shí)起到有效的效果。
<第十一實(shí)施方式>
圖53是表示本發(fā)明的第十一實(shí)施方式的圖像形成裝置的頭部300的結(jié)構(gòu)的截面圖。該頭部300與圖46的頭部200的較大不同點(diǎn)在于，沒有在密封基板而是在主基板上形成光波導(dǎo)路。由于該不同點(diǎn)在頭部300中，使用發(fā)光元件305代替發(fā)光元件205，繼續(xù)使用平板231作為密封基板，使用主基板320代替主基板220。
另外，形成主基板320的發(fā)光元件305的面的內(nèi)側(cè)的面成為出射面S300。出射面S300即為圖44的接觸面S10。發(fā)光元件305與發(fā)光元件205的不同點(diǎn)只在于起陽極作用的透明電極340代替了起陰極作用的電極240，起陰極作用的電極380代替了起陽極作用的透明電極280。
主基板320在平板321內(nèi)每個(gè)發(fā)光元件305都形成了圓柱狀的光波導(dǎo)路323。各光波導(dǎo)路323重疊在對(duì)應(yīng)的發(fā)光元件305上。使用玻璃、石英或塑料來形成平板321。各光波導(dǎo)路323從主基板320的表面貫穿到背面，其中心軸沿著主基板320的厚度方向，通過平板321覆蓋其周圍表面。在光波導(dǎo)路323的前端面上，發(fā)光元件305側(cè)的部分成為主基板320的背面的一部分，相反側(cè)的部分成為主基板320的表面(出射面S300)的一部分。
從出射面S300一側(cè)觀察，光波導(dǎo)路323的發(fā)光元件305側(cè)的前端面覆蓋了對(duì)應(yīng)的發(fā)光元件305的發(fā)光層210。另外，光波導(dǎo)路323是由具有光穿透性的材料形成的。該材料的折射率比形成平板321的材料的折射率大。即，在平板321上固定光波導(dǎo)路323，通過折射率比該材料低的材料覆蓋其周圍表面。
圖54是用于說明頭部300的光學(xué)的作用的截面圖。在頭部300中，如果通過透明電極340及電極380施加電壓，則夾在它們之間的發(fā)光層210發(fā)光。從發(fā)光層210向主基板320行進(jìn)的光的大部分幾乎沿著與主基板320正交的方向直行行進(jìn)，透過透明電極340到達(dá)主基板320的背面，更具體地，到達(dá)光波導(dǎo)路323的發(fā)光元件305側(cè)的前端面。到達(dá)該前端面的光射入光波導(dǎo)路323，在光波導(dǎo)路323內(nèi)行進(jìn)。因?yàn)楣獠▽?dǎo)路323起著大直徑的一根光纖的磁心的作用，所以射入光波導(dǎo)路323的光的大部分被導(dǎo)向光波導(dǎo)路323并從出射面S300側(cè)的前端面射出。
根據(jù)第十一實(shí)施方式的圖像形成裝置，可以得到與第十實(shí)施方式的圖像形成裝置相同的效果。但是，因?yàn)楣獠▽?dǎo)路形成在主基板上，所以得不到光波導(dǎo)路形成在密封基板上所得到的效果。
另外，在第十一實(shí)施方式的圖像形成裝置中，因?yàn)楣獠▽?dǎo)路323形成在主基板320上，所以與第十實(shí)施方式的圖像形成裝置相比，從發(fā)光層到光波導(dǎo)路的距離短。這有利于提高點(diǎn)像的亮度。
<第十二實(shí)施方式>
圖55是表示本發(fā)明的第十二實(shí)施方式的圖像形成裝置的頭部201的結(jié)構(gòu)的俯視圖。如該圖所示，在頭部201中，多個(gè)發(fā)光元件205沿著方向X1被排列成兩列且形成孤島狀。這些發(fā)光元件205被密封基板238覆蓋，而且被埋入密封基板238的槽(凹部)239內(nèi)的平板狀的光波導(dǎo)板236覆蓋。光波導(dǎo)板236的表面為出射面S201，內(nèi)表面通過密封基板238與發(fā)光元件205相對(duì)。出射面S201是形成點(diǎn)像的面，成為圖44的接觸面S10的一部分。重疊在光波導(dǎo)板236的發(fā)光元件205的部分上每個(gè)發(fā)光元件205都形成了圓柱狀的光波導(dǎo)路233。
圖56是圖55的G-G′截面圖。如該圖所示，頭部201具有由平板狀的主基板220與密封基板238夾有的多個(gè)發(fā)光元件205的結(jié)構(gòu)。在形成發(fā)光元件205的主基板220上，重疊固定了密封基板238，使其密封發(fā)光元件205和主基板220。可以使用具有光穿透性的粘合劑290來將密封基板238固定在主基板220上。
密封基板238是在與發(fā)光元件205相對(duì)的面(背面)的內(nèi)側(cè)的面(表面)一側(cè)上形成槽239的平板。密封基板239的底面是平面。一般可以使用玻璃、金屬、陶瓷或塑料來形成密封基板。因?yàn)橛斜匾箒碜园l(fā)光層210的光透過，所以由具有光穿透性的材料形成密封基板238。另外，形成密封基板238的材料的折射率比粘合劑290的折射率大或相同。
光波導(dǎo)板236被固定在密封基板238上，使其背面與槽239的底面相接觸。雖然可以采用任意的方法作為光波導(dǎo)板236的固定方法，但是必須使遮光性的材料介于其背面與槽239的底面之間。光波導(dǎo)板236的結(jié)構(gòu)是將多個(gè)光波導(dǎo)路233配置在表面及背面是長(zhǎng)方形的平板237上。
各光波導(dǎo)路233引導(dǎo)來自發(fā)光層210的光，從光波導(dǎo)板236的表面貫穿到背面，其中心軸沿著光波導(dǎo)板236的厚度方向，通過平板237覆蓋其周圍表面。在光波導(dǎo)路233的前端面上，發(fā)光元件205側(cè)的部分成為光波導(dǎo)板236的背面的一部分，相反側(cè)的部分成為光波導(dǎo)板236的表面(出射面S201)的一部分。從出射面S201一側(cè)觀察，光波導(dǎo)路233的發(fā)光元件205側(cè)的前端面覆蓋了對(duì)應(yīng)的發(fā)光元件205的發(fā)光層210。
另外，光波導(dǎo)路233是由具有光穿透性的材料形成的。該材料的折射率比形成密封基板238的材料的折射率大或相同，比形成平板237的材料的折射率大。另外，光波導(dǎo)路233被固定在平板237上。該固定方法是任意的，但在使用光波導(dǎo)路233的周圍表面與平板237沒有相接的方法時(shí)要注意?？梢钥紤]通過粘合劑將光波導(dǎo)路233固定在平板237上的方法。在這種情況下，有必要使用折射率比形成光波導(dǎo)路233的材料低的粘合劑。即，必須通過折射率比該材料低的材料覆蓋光波導(dǎo)路233的周圍表面。
設(shè)定槽239的寬度、長(zhǎng)度及深度，使得光波導(dǎo)板236的表面與除去槽239以后的密封基板238的表面平齊。即，對(duì)應(yīng)于光波導(dǎo)板236的寬度、長(zhǎng)度及深度。光波導(dǎo)板236的寬度及長(zhǎng)度為可以將多個(gè)光波導(dǎo)路233配置在光波導(dǎo)板236內(nèi)的最小的值。即，對(duì)應(yīng)于發(fā)光元件205的配置。具體地說，槽239的寬度為數(shù)百μm左右。
光波導(dǎo)板236的厚度由與密封基板238的厚度的配合決定。
因?yàn)楣獠▽?dǎo)路233引導(dǎo)來自發(fā)光層210的光，所以發(fā)光元件205側(cè)的前端面最好接近于發(fā)光元件205。因此，在自發(fā)光層210的光的利用效率的觀點(diǎn)上，最好采用厚的光波導(dǎo)板236。但是，要加厚光波導(dǎo)板236，有必要使形成密封基板238的槽239的部分的厚度變薄。此處該考慮的是密封基板238的剛性。與槽239的寬度為數(shù)百μm左右相對(duì)，因?yàn)槊芊饣?38的寬度(圖55中的短邊的長(zhǎng)度)為15mm～20mm左右，所以即便使密封基板238的槽239的部分的厚度變得很薄，也可以得到足夠的剛性。但是，當(dāng)然，要是太薄的話就得不到足夠的剛性。另外密封的作用也被降低。因此，在不會(huì)產(chǎn)生這樣的危害的范圍內(nèi)，應(yīng)該盡量增加光波導(dǎo)板236的厚度。
圖57是用于說明頭部201的光學(xué)的作用的截面圖。在頭部201中，如果通過電極240及透明電極280施加電壓，則夾在它們之間的發(fā)光層210發(fā)光。從發(fā)光層210向密封基板238行進(jìn)的光的大部分幾乎沿著與密封基板238正交的方向直行行進(jìn)，透過空穴注入層250、透明電極280及粘合劑290到達(dá)密封基板238的背面。因?yàn)樾纬擅芊饣?38的材料的折射率比粘合劑290的折射率大或相同，所以到達(dá)密封基板238的背面的光容易射入密封基板238。因此，到達(dá)的光的大部分射入密封基板238。
因?yàn)楦采w密封基板238的發(fā)光元件205的部分比較薄，所以射入密封基板238的光馬上到達(dá)密封基板238的表面(槽239的底面)。更具體地，到達(dá)光波導(dǎo)路233的發(fā)光元件205側(cè)的前端面。因?yàn)樾纬晒獠▽?dǎo)路233的材料的折射率比形成密封基板238的材料的折射率大或相同，所以到達(dá)該前端面的全部的光容易射入光波導(dǎo)路233。因此，到達(dá)的光的大部分射入光波導(dǎo)路233并在光波導(dǎo)路233內(nèi)行進(jìn)。
在光波導(dǎo)路233內(nèi)行進(jìn)的光如果到達(dá)光波導(dǎo)路233的周圍表面，則其大部分都全反射。即，光波導(dǎo)路233起著大直徑的一根光纖的磁心的作用，引導(dǎo)入射的光。引起全反射的原因與第十實(shí)施方式所述的相同。優(yōu)選的是確定形成光波導(dǎo)路233的材料及覆蓋其周圍表面的材料，使得足夠多的光被全反射。
這樣，在光波導(dǎo)路233內(nèi)行進(jìn)的光被導(dǎo)向光波導(dǎo)路233并從出射面S201側(cè)的前端面射出。由此，在出射面S201上形成如圖48所示的點(diǎn)像(光像)。該點(diǎn)像的形狀、大小及形成位置與光波導(dǎo)路233的出射面S201側(cè)的前端面一致。另外，該點(diǎn)像的亮度的分布大致均勻。
另外，由于緊密連接部分的磨耗，光波導(dǎo)板236及密封基板238變薄，即使光波導(dǎo)路233變短，因?yàn)楣獠▽?dǎo)路233是通過在周圍表面的全反射來引導(dǎo)光的柱狀物體，其中心軸沿著由于磨耗的接觸面的后退方向，所以露出在出射面S201的光波導(dǎo)路233的前端面的形狀及大小幾乎沒有變化。因此，形成在出射面S200的點(diǎn)像的形狀及大小也幾乎沒有變化。
如以上說明，根據(jù)第十二實(shí)施方式的圖像形成裝置，與圖像擔(dān)載體110a接觸的頭部201的曝光無關(guān)，可以不用將來自發(fā)光層210的光引向密封基板238而可以穩(wěn)定并得到鮮明的點(diǎn)像。即，可以更小地維持點(diǎn)像的面積或形狀的偏差。該效果有利于印刷質(zhì)量的提高及穩(wěn)定。另外，因?yàn)樵谡澈蟿?90與密封基板238的邊界面、在密封基板238與光波導(dǎo)路233的邊界面上，來自發(fā)光層210的光都難以被反射，所以更加提高了來自發(fā)光層210的光的利用效率。
另外，在密封基板238上形成一個(gè)槽239。因此，與在密封基板上直接形成貫穿密封基板的光波導(dǎo)路的方式相比，可以容易地制作密封基板。另外，與在密封基板的整個(gè)表面區(qū)域上切削的方式相比，可以降低制造成本。
另外，因?yàn)闆]有要求形成光波導(dǎo)路233的光波導(dǎo)板236有密封的功能，所以對(duì)于平板237的形成材料沒有嚴(yán)格的要求。另外，光波導(dǎo)板236比密封基板238小。因此，與在密封基板上直接形成貫穿密封基板的光波導(dǎo)路的方式相比，可以容易地形成光波導(dǎo)路233。
另外，在頭部201上，因?yàn)槊芊饣?38上的與主基板220相對(duì)的表面沒有裂縫(接縫)，可以確切地維持密封的功能。另外，因?yàn)楣獠▽?dǎo)路233形成在光波導(dǎo)板236上，而沒有形成在密封基板238或主基板220上，所以在光波導(dǎo)板236上、主基板上、密封基板上都沒有由光波導(dǎo)路233的熱收縮(膨脹)率與周圍部分(平板237或粘合劑)的熱收縮率的差引起的直接變形。即，不會(huì)發(fā)生由于形成光波導(dǎo)路233而使主基板或密封基板容易變形。
然后，對(duì)于頭部201的制造方法的一個(gè)例子進(jìn)行說明。
圖58是表示頭部201的制造方法的一個(gè)例子的最初工序的示意圖。如該圖所示，首先，在平板237上開多個(gè)圓柱狀的孔。這些孔以后被填滿成為光波導(dǎo)路233，開孔使得前端面能夠覆蓋發(fā)光層210。該開孔的方法任意，例如可以采用第十實(shí)施方式的開孔的方法。
圖59是表示圖58的下一道工序的示意圖。如該圖所示，進(jìn)行埋孔，制作形成光波導(dǎo)路233的光波導(dǎo)板236。該埋孔是這樣的操作在開的孔內(nèi)填入作為形成光波導(dǎo)路233的材料的樹脂，使得光波導(dǎo)板236的表面及背面分別平齊。埋孔的方法可以任意，例如可以采用第十實(shí)施方式的埋孔的方法。
圖60是表示圖59的下一道工序的示意圖。如該圖所示，切削密封基板238形成槽239，在該槽239中埋入固定光波導(dǎo)板236。由此，光波導(dǎo)板236的前端面與槽239的底面相接觸。另一方面，在主基板220上形成多個(gè)發(fā)光元件205。
圖61是表示圖60的下一道工序的示意圖。如該圖所示，在形成主基板220的發(fā)光元件205的面(或密封基板238的背面)上涂抹粘合劑290，通過該粘合劑290將密封基板238固定連接在主基板220上。此時(shí)，配置主基板220及密封基板238，使得與各光波導(dǎo)路233的主基板220相對(duì)的前端面覆蓋對(duì)應(yīng)的發(fā)光元件205的發(fā)光層210。這樣完成頭部201。
如上所述，在該制造方法中，有必要切削基板。但是，被切削的是密封基板238及平板237，并沒有切削主基板220。因此，可以不會(huì)降低要求高利用效率的主基板的利用效率，并在量產(chǎn)時(shí)起到有效的效果。
在該制造方法中，雖然在將密封基板238固定在主基板220上之前，將光波導(dǎo)板236埋入密封基板238的槽239中，但是也可以在將密封基板238固定在主基板220上之后，將光波導(dǎo)板236埋入密封基板238的槽239中。
<第十三實(shí)施方式>
圖62是表示本發(fā)明的第十三實(shí)施方式的圖像形成裝置的頭部301的結(jié)構(gòu)的截面圖。該頭部301與圖56的頭部201的較大不同點(diǎn)在于，沒有在密封基板側(cè)而是在主基板側(cè)上形成光波導(dǎo)路。由于該不同點(diǎn)在頭部301中，使用發(fā)光元件305代替發(fā)光元件205，繼使用平板231作為密封基板，使用形成槽239的平板狀的主基板328代替主基板220。
平板231與圖56的密封基板238不同點(diǎn)在于沒有形成槽；和由具有遮光性的材料形成。發(fā)光元件305與發(fā)光元件205的不同點(diǎn)在于起陽極作用的透明電極340代替了起陰極作用的電極240，起陰極作用的電極380代替了起陽極作用的透明電極280。
發(fā)光元件305被主基板328覆蓋，而且被埋入主板328的槽239內(nèi)的被固定在主基板328上的平板狀的光波導(dǎo)板326覆蓋。雖然可以舉出玻璃、石英或塑料來作為主基板328的形成材料，但不論哪一個(gè)，都必須是具有光穿透性的材料。通過與圖56的光波導(dǎo)板236與密封基板238的固定方法相同的方法，來將光波導(dǎo)板326固定在主基板328上。光波導(dǎo)板326的表面為形成點(diǎn)像的出射面S301，成為圖44的接觸面S10的一部分。背面通過主基板238與發(fā)光元件305相對(duì)。
槽329是在與主基板328的發(fā)光元件305相對(duì)的面(背面)的內(nèi)側(cè)的面(表面)一側(cè)上形成的。槽239的底面是平面，光波導(dǎo)板236的背面與該底面相接觸。與槽239同樣地設(shè)定槽329的寬度、長(zhǎng)度及深度，使得光波導(dǎo)板326的表面(出射面S301)與除去槽329以后的主基板328的表面平齊。即，對(duì)應(yīng)于光波導(dǎo)板326的寬度、長(zhǎng)度及深度。另外，與光波導(dǎo)板326同樣地設(shè)定光波導(dǎo)板326的寬度、長(zhǎng)度及厚度。
重疊在光波導(dǎo)板326的發(fā)光元件305的部分上每個(gè)發(fā)光元件305都形成了圓柱狀的光波導(dǎo)路233。各光波導(dǎo)路233引導(dǎo)來自發(fā)光層210的光，從光波導(dǎo)板326的表面貫穿到背面，其中心軸沿著光波導(dǎo)板326的厚度方向，通過平板327覆蓋其周圍表面。在光波導(dǎo)路323的前端面上，發(fā)光元件305側(cè)的部分成為光波導(dǎo)板326的背面的一部分，相反側(cè)的部分成為光波導(dǎo)板326的表面(出射面S301)的一部分。從出射面S301一側(cè)觀察，光波導(dǎo)路323的發(fā)光元件305側(cè)的前端面覆蓋了對(duì)應(yīng)的發(fā)光元件305的發(fā)光層210。
另外，光波導(dǎo)路323是由具有光穿透性的材料形成的。該材料的折射率比形成主基板328的材料的折射率大或相同，比形成平板327的材料的折射率大。另外，通過任意的方法在平板327上固定光波導(dǎo)路323。該方法不管是什么方法，必須用折射率比該材料低的材料覆蓋光波導(dǎo)路233的周圍表面。
圖63是用于說明頭部301的光學(xué)的作用的截面圖。在頭部301中，如果通過透明電極340及電極380施加電壓，則夾在它們之間的發(fā)光層210發(fā)光。從發(fā)光層210向主基板328行進(jìn)的光的大部分幾乎沿著與主基板328正交的方向直行行進(jìn)，透過透明電極340射入主基板328。
因?yàn)楦采w主基板328的發(fā)光元件305的部分比較薄，所以射入主基板328的光馬上到達(dá)主基板328的表面(槽329的底面)。更具體地，到達(dá)光波導(dǎo)路323的發(fā)光元件305側(cè)的前端面。因?yàn)樾纬晒獠▽?dǎo)路323的材料的折射率比形成主基板328的材料的折射率大或相同，所以到達(dá)該前端面的光容易射入光波導(dǎo)路323。因此，到達(dá)的光的大部分射入光波導(dǎo)路323并在光波導(dǎo)路323內(nèi)行進(jìn)。因?yàn)楣獠▽?dǎo)路323起著大直徑的一根光纖的磁心的作用，所以射入光波導(dǎo)路323的光的大部分被導(dǎo)向光波導(dǎo)路323并從出射面S301側(cè)的前端面射出。
根據(jù)第十三實(shí)施方式的圖像形成裝置，可以得到與第十二實(shí)施方式的圖像形成裝置相同的效果。但是，因?yàn)楣獠▽?dǎo)路形成在主基板上，所以得不到光波導(dǎo)路形成在密封基板上所得到的效果。
另外，在本實(shí)施方式的圖像形成裝置中，因?yàn)楣獠▽?dǎo)路323形成在主基板328上，所以與第十二實(shí)施方式的圖像形成裝置相比，從發(fā)光層到光波導(dǎo)路的距離短。這有利于提高點(diǎn)像的亮度。
<第十至第十三實(shí)施方式的變形例>
分別對(duì)于上述的第十至第十三實(shí)施方式可以施加各種變形例。以下作為第十一及第十三的變形例示出了具體的變形的方式。也可以將第十一及第十三的變形例進(jìn)行適當(dāng)組合。
<第一變形例>
在第十至第十三實(shí)施方式中，雖然示出了圓柱狀的光波導(dǎo)路的例子，但是光波導(dǎo)路的形狀并不限于此。例如，可以是棱柱狀，前端面也可以是半圓形的柱狀。即，可以為任意的柱狀。
<第二變形例>
在第十至第十三實(shí)施方式中，雖然示出了利用有機(jī)EL單元作為發(fā)光元件的例子，但是也可以使用無機(jī)EL單元。
<第三變形例>
在第十至第十三實(shí)施方式中，雖然采用了作為一根光纖起作用的光波導(dǎo)路，但也可以采用捆扎多根光纖的光纖列作為光波導(dǎo)路。此時(shí)，在光纖列的前端面上，一方的前端面成為出射面(接觸面)的一部分，另一方的前端面覆蓋發(fā)光層210。光纖將從一端入射的光通過在其周圍表面上的全反射導(dǎo)向另一端，各光纖的一端成為光纖列的一方的前端面的一部分，令一端成為光纖列的另一方的前端面的一部分。圖64所示的是在這種變形例中得到的點(diǎn)像。如該圖所示，利用光纖列在接觸面S10上形成的點(diǎn)像的形狀與形成在發(fā)光層210上的形狀有稍許不同，其亮度的分布并不均勻。但是，除這點(diǎn)之外，可以得到與通過第十至第十三實(shí)施方式得到的效果相同的效果。
<圖像形成裝置的整體結(jié)構(gòu)>
圖65是表示本發(fā)明的實(shí)施方式的圖像形成裝置的整體結(jié)構(gòu)的一個(gè)例子的縱截面圖。該圖像形成裝置是利用帶中間轉(zhuǎn)印體方式的前后排列型的全色圖像形成裝置。
在該圖像形成裝置中，分別在同樣結(jié)構(gòu)的四個(gè)感光鼓(圖像擔(dān)載體)110K、110C、110M及110Y的曝光位置上配置同樣結(jié)構(gòu)的四個(gè)頭部10K、10C、10M及10Y。頭部10K、10C、10M及10Y是上述實(shí)施方式的圖像形成裝置的頭部的任意一個(gè)，是排列包括由有機(jī)EL材料制成的發(fā)光層的有機(jī)EL單元作為發(fā)光元件的有機(jī)EL列曝光頭。
如圖65所示，在該圖像形成裝置上，設(shè)置了驅(qū)動(dòng)輥121與從動(dòng)輥122，在這些輥121、122上纏繞無頭的中間轉(zhuǎn)印帶120，如箭頭所示在輥121、122的周圍旋轉(zhuǎn)。圖中雖然沒有示出，但也可以設(shè)置對(duì)中間轉(zhuǎn)印帶120施加張力的張緊輥等的張力施加單元。
在該中間轉(zhuǎn)印帶120的周圍，留有預(yù)定間隔地相互配置外層面具有感光層的四個(gè)感光鼓110K、110C、110M及110Y。這些感光鼓分別是上述實(shí)施方式的圖像形成裝置的感光鼓(圖像擔(dān)載體)的任意一個(gè)，下標(biāo)K、C、M及Y分別表示用于形成黑色、青綠色、紅紫色及黃色的顯像而使用的。對(duì)于其他的部件也一樣。感光鼓110K、110C、110M及110Y與中間轉(zhuǎn)印帶120的驅(qū)動(dòng)同步被驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)。
在各感光鼓110(K、C、M及Y)的周圍，配置電暈充電器111(K、C、M及Y)、頭部10(K、C、M及Y)及顯像器114(K、C、M及Y)。電暈充電器111(K、C、M及Y)均勻地使與其對(duì)應(yīng)的感光鼓110(K、C、M及Y)的外周面帶電。頭部10(K、C、M及Y)在感光鼓的被帶電的外周面上寫入潛像。設(shè)置各頭部10(K、C、M及Y)，使多個(gè)發(fā)光元件沿著感光鼓110(K、C、M及Y)的母線(主掃描方向)排列。通過多個(gè)發(fā)光元件將光照射到感光鼓上來進(jìn)行潛像的寫入。顯像器114(K、C、M及Y)通過將作為顯像劑的調(diào)色劑附著在潛像上，在感光鼓上形成顯像即可視像。
通過這樣四色的單色顯像形成裝置形成的黑色、青綠色、紅紫色及黃色的各顯像，通過在中間轉(zhuǎn)印帶120上被順次一次轉(zhuǎn)印，在中間轉(zhuǎn)印帶120上重疊，其結(jié)果是得到了全色的顯像。在中間轉(zhuǎn)印帶120的內(nèi)側(cè)，配置四個(gè)一次轉(zhuǎn)印電暈管(轉(zhuǎn)印器)112(K、C、M及Y)。一次轉(zhuǎn)印電暈管112(K、C、M及Y)分別被配置在感光鼓110(K、C、M及Y)的附近，通過從感光鼓110(K、C、M及Y)靜電吸引顯像，在通過感光鼓與一次轉(zhuǎn)印電暈管之間的中間轉(zhuǎn)印帶120上轉(zhuǎn)印顯像。
通過抬升輥103，作為最終形成圖像的對(duì)象的紙張102從送紙盒101被一張一張地送出，被送到連接在驅(qū)動(dòng)輥121上的中間轉(zhuǎn)印帶120與二次轉(zhuǎn)印輥126之間的夾縫。中間轉(zhuǎn)印帶120上的全色的顯像通過二次轉(zhuǎn)印輥126在紙張102的單面上被共同二次轉(zhuǎn)印，通過作為固定部的固定輥對(duì)127被固定在紙張102上。之后，通過排紙輥對(duì)128，將紙張102向形成在裝置上部的排紙盒上排出。
圖66是表示本發(fā)明的各實(shí)施方式的圖像形成裝置的整體結(jié)構(gòu)的其他例子的縱截面圖。該圖像形成裝置是利用帶中間轉(zhuǎn)印體方式的旋轉(zhuǎn)顯像式的全色圖像形成裝置。如圖66所示，在感光鼓165的周圍設(shè)置了電暈充電器168、旋轉(zhuǎn)式的顯像單位161、頭部167及中間轉(zhuǎn)印帶169。
電暈充電器168使感光鼓165的外周面均勻地帶電。頭部167在感光鼓165的被帶電的外周面上寫入潛像。感光鼓165是上述實(shí)施方式的圖像形成裝置的感光鼓(圖像擔(dān)載體)的任意一個(gè)。頭部167是上述實(shí)施方式的圖像形成裝置的頭部的任意一個(gè)，是排列包括由有機(jī)EL材料制成的發(fā)光層的有機(jī)EL單元作為發(fā)光元件的有機(jī)EL列曝光頭。設(shè)置頭部167使多個(gè)發(fā)光元件沿著感光鼓165的母線(主掃描方向)排列。通過將來自這些發(fā)光元件的光照射到感光鼓165上來進(jìn)行潛像的寫入。
顯像單位161是配置四個(gè)顯像器163Y、163C、163M及163K留有90°角的間隔的輥，可以以軸161a為中心逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)。顯像器163Y、163C、163M及163K分別向感光鼓165提供黃色、青綠色、紅紫色及黑色的調(diào)色劑，通過將作為顯像劑的調(diào)色劑附著在潛像上，在感光鼓165上形成顯像即可視像。
無頭的中間轉(zhuǎn)印帶169被纏繞在驅(qū)動(dòng)輥170a、從動(dòng)輥170b、一次轉(zhuǎn)印輥166及張緊輥上，在這些輥的周圍向箭頭所示的方向旋轉(zhuǎn)。一次轉(zhuǎn)印輥166通過從感光鼓165靜電吸引顯像，在通過感光鼓與一次轉(zhuǎn)印輥166之間的中間轉(zhuǎn)印帶169上轉(zhuǎn)印顯像。
具體地說，在感光鼓165的最初的一圈旋轉(zhuǎn)中，通過頭部167寫入用于黃色(Y)像的潛像，通過顯像器163Y形成同色的顯像，并轉(zhuǎn)印在中間轉(zhuǎn)印帶169上。另外，在下一圈旋轉(zhuǎn)中，通過頭部167寫入用于青綠色(C)像的潛像，通過顯像器163C形成同色的顯像，轉(zhuǎn)印在中間轉(zhuǎn)印帶169上使得與黃色的顯像重疊。然后，這樣在感光鼓165旋轉(zhuǎn)四圈時(shí)，黃色、青綠色、紅紫色及黑色的顯像順次重疊在中間轉(zhuǎn)印帶169上，其結(jié)果是在轉(zhuǎn)印帶169上形成全色的顯像。在作為最終形成圖像的對(duì)象的紙張的兩面上形成圖像時(shí)，在中間轉(zhuǎn)印帶169上轉(zhuǎn)印表面與背面的同色的顯像，然后以在中間轉(zhuǎn)印帶169上轉(zhuǎn)印表面與背面的下一顏色的顯像的形式，在中間轉(zhuǎn)印帶169上得到全色的顯像。
在圖像形成裝置中，設(shè)置了使紙張通過的紙張傳送路174。通過抬升輥179一張一張地從送紙盒178中取出紙張，通過傳送輥被送到紙張傳送路174，通過連接在驅(qū)動(dòng)輥170a上的中間轉(zhuǎn)印帶169與二次轉(zhuǎn)印輥171之間的夾縫。二次轉(zhuǎn)印輥171通過從中間轉(zhuǎn)印帶169上總括并靜電吸引全色的顯像，在紙張的單面上轉(zhuǎn)印顯像。通過圖中未示出的離合器使二次轉(zhuǎn)印輥171與中間轉(zhuǎn)印帶169接近或分離。而且，在紙張上轉(zhuǎn)印全色的顯像時(shí)，二次轉(zhuǎn)印輥171與中間轉(zhuǎn)印帶169接近，在中間轉(zhuǎn)印帶169上重疊顯像時(shí)，從二次轉(zhuǎn)印輥171分離。
如上所述，被轉(zhuǎn)印圖像的紙張被送到固定器172，通過使其通過固定器172的加熱輥172a與加壓輥172b之間，固定紙張上的顯像。固定處理后的紙張被引入排紙輥對(duì)176，向箭頭F的方向行進(jìn)。在兩面印刷時(shí)，在紙張的大部分通過排紙輥對(duì)176之后，排紙輥對(duì)176向逆向旋轉(zhuǎn)，如箭頭G所示，被導(dǎo)入兩面印刷用傳送路175。然后，通過二次轉(zhuǎn)印輥171在紙張的另一面上轉(zhuǎn)印顯像，在再次用固定器172進(jìn)行固定處理之后，通過排紙輥對(duì)176排出紙張。
圖65及圖66所示的圖像形成裝置因?yàn)槔昧擞袡C(jī)EL單元作為寫入元件(曝光元件)，所以與利用激光掃描光學(xué)類的情況相比，可以謀求裝置的小型化。在采用了上述示出的以外的結(jié)構(gòu)的電子照像方式的圖像形成裝置上，也可以使用上述各實(shí)施方式的頭部。例如，在不使用中間轉(zhuǎn)印帶而從感光鼓直接向紙張轉(zhuǎn)印顯像的類型的圖像形成裝置上，或在形成單色圖像的圖像形成裝置上，或在配有感光帶來代替感光鼓的圖像形成裝置上，都可以使用這些頭部。
權(quán)利要求
1.一種圖像形成裝置，其特征在于，具備具有向一個(gè)方向行進(jìn)的圖像擔(dān)載面的圖像擔(dān)載體；與圖像擔(dān)載體對(duì)置的支持體；多個(gè)發(fā)光元件，其被設(shè)置在所述支持體上的與所述圖像擔(dān)載體相對(duì)的部位，通過發(fā)光而在該圖像擔(dān)載體上形成潛像；輥，其以使其旋轉(zhuǎn)軸朝向橫切所述圖像擔(dān)載面的方向的方式被配置在所述支持體上的與所述圖像擔(dān)載體相對(duì)的部位上；推壓部，將所述支持體推壓向所述圖像擔(dān)載體側(cè)、使得所述輥與所述圖像擔(dān)載體相接觸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像形成裝置，其特征在于，所述推壓部包括多個(gè)彈性體，所述彈性體被設(shè)置在所述支持體上的與所述圖像擔(dān)載體相反側(cè)的部位上，并推壓該支持體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像形成裝置，其特征在于，所述推壓部包括具有與所述支持體的側(cè)面相對(duì)的部分的框架部件；介于所述支持體的側(cè)面與所述框架部件之間的彈性體。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的圖像形成裝置，其特征在于，所述推壓部包括將所述框架部件推壓向所述圖像擔(dān)載體側(cè)的彈性體。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像形成裝置，其特征在于，在所述支持體上的與所述圖像擔(dān)載體相對(duì)的部位上，形成了向橫切所述圖像擔(dān)載面的方向延伸的槽，所述輥以使外周面的一部分從在所述支持體上的與所述圖像擔(dān)載體相對(duì)的表面向所述圖像擔(dān)載體側(cè)突出的方式被收容在所述槽內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的圖像形成裝置，其特征在于，具有輔助輥，其被配置在所述槽的底面，且其側(cè)面與所述輥的側(cè)面相接觸。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像形成裝置，其特征在于，具有在所述支持體上的夾著所述多個(gè)發(fā)光元件而相對(duì)的各位置上配置的多個(gè)所述輥，各輥在橫跨所述圖像擔(dān)載體的整個(gè)寬度上與該圖像擔(dān)載體的表面相對(duì)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像形成裝置，其特征在于，具有介于所述圖像擔(dān)載體與所述發(fā)光元件之間的，使來自該發(fā)光元件的出射光集中的透鏡。
9.一種圖像形成裝置，具備使曲面的圖像擔(dān)載面向一個(gè)方向行進(jìn)的圖像擔(dān)載體；滑動(dòng)體，其具有光穿透性、并且具有與所述圖像擔(dān)載面大致相等的曲率的滑動(dòng)面，該滑動(dòng)面與該圖像擔(dān)載面進(jìn)行面接觸；發(fā)光元件，其以夾著所述滑動(dòng)體而與所述圖像擔(dān)載體相對(duì)的方式被固定在該滑動(dòng)體上，通過向所述圖像擔(dān)載面進(jìn)行光照射而在所述圖像擔(dān)載體上形成潛像。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的圖像形成裝置，其中，所述圖像擔(dān)載面是大致呈圓柱面的外周面，所述滑動(dòng)體以使所述滑動(dòng)面與所述圖像擔(dān)載面進(jìn)行面接觸的方式被配置在所述圖像擔(dān)載體的外側(cè)。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的圖像形成裝置，其中，所述圖像擔(dān)載面是大致呈圓柱面的內(nèi)周面，所述滑動(dòng)體以使所述滑動(dòng)面與所述圖像擔(dān)載面進(jìn)行面接觸的方式被配置在所述圖像擔(dān)載體的內(nèi)側(cè)。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的圖像形成裝置，其中，具有將所述滑動(dòng)體推壓向所述圖像擔(dān)載體的推壓部。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的圖像形成裝置，其中，所述滑動(dòng)體是在與所述滑動(dòng)面相反側(cè)的表面上形成發(fā)光元件的板材，在所述滑動(dòng)體上的與所述滑動(dòng)面相反一側(cè)的表面上形成了覆蓋所述發(fā)光元件的密封體。
14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的圖像形成裝置，其中，所述滑動(dòng)體具有傾斜面，該傾斜面位于該滑動(dòng)體上的、所述圖像擔(dān)載面的行進(jìn)方向的上流側(cè)的側(cè)面與所述滑動(dòng)面之間，且以與所述圖像擔(dān)載面之間的仰角形成銳角的方式傾斜。
15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的圖像形成裝置，其中，具有介于所述圖像擔(dān)載面與所述發(fā)光元件之間的，集中來自該發(fā)光元件的出射光的透鏡。
16.根據(jù)權(quán)利要求9所述的圖像形成裝置，其中，所述滑動(dòng)體具有第一部分，其在與所述圖像擔(dān)載面的相對(duì)面上形成所述發(fā)光元件；第二部分，其在橫切所述圖像擔(dān)載面的方向上，被配置在夾著所述第一部分的各位置上，且與所述第一部分相比更向所述圖像擔(dān)載面一側(cè)突出，所述滑動(dòng)面是所述第二部分上的與所述圖像擔(dān)載面相對(duì)的面。
17.根據(jù)權(quán)利要求9所述的圖像形成裝置，其特征在于，具有與所述圖像擔(dān)載面相對(duì)的、在與所述圖像擔(dān)載面的相對(duì)面上形成所述發(fā)光元件的基板，所述滑動(dòng)體被固定在所述基板上并介于所述發(fā)光元件與所述圖像擔(dān)載體之間。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的圖像形成裝置，其特征在于，所述滑動(dòng)體是與所述基板協(xié)同而覆蓋所述發(fā)光元件的密封體。
19.一種圖像形成裝置，其特征在于，具備圖像擔(dān)載面向規(guī)定方向行進(jìn)的圖像擔(dān)載體；主基板；形成在所述主基板上的、通過發(fā)光而在所述圖像擔(dān)載面上形成潛像的發(fā)光元件；重疊在所述主基板上而密封所述發(fā)光元件的密封基板，所述主基板或所述密封基板構(gòu)成了與所述圖像擔(dān)載面相接觸的接觸面，在構(gòu)成所述接觸面的基板中埋入柱狀的光波導(dǎo)路，該光波導(dǎo)路的一方的前端面構(gòu)成所述接觸面的一部分，所述光波導(dǎo)路的另一方的前端面與所述發(fā)光元件相對(duì)并覆蓋所述發(fā)光元件，所述光波導(dǎo)路將從所述發(fā)光元件通過所述另一前端面而入射的光，通過在其周圍的面進(jìn)行全反射，導(dǎo)向所述一方的前端面。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的圖像形成裝置，其特征在于，所述光波導(dǎo)路將構(gòu)成所述接觸面的基板從表面貫穿到背面。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的圖像形成裝置，其特征在于，在構(gòu)成所述接觸面的基板的所述圖像擔(dān)載體側(cè)上形成凹部，在所述凹部?jī)?nèi)固定光波導(dǎo)板，所述光波導(dǎo)路形成于所述光波導(dǎo)板上。
22.根據(jù)權(quán)利要求19所述的圖像形成裝置，其特征在于，構(gòu)成所述接觸面的基板是所述密封基板。
23.根據(jù)權(quán)利要求19所述的圖像形成裝置，其特征在于，構(gòu)成所述接觸面的基板是所述主基板。
全文摘要
圖像形成裝置包括圖像擔(dān)載面行進(jìn)的圖像擔(dān)載體；將光照射在圖像擔(dān)載面上而形成點(diǎn)像的發(fā)光元件；更小地維持點(diǎn)像的面積或形狀的偏差的元件。因?yàn)槟芨〉鼐S持點(diǎn)像的面積或形狀的偏差，所以可以維持圖像形成的高質(zhì)量。
文檔編號(hào)G03G15/00GK1818805SQ200610006148
公開日2006年8月16日 申請(qǐng)日期2006年1月19日 優(yōu)先權(quán)日2005年2月9日
發(fā)明者平山浩志, 五味二夫, 櫻井和德 申請(qǐng)人:精工愛普生株式會(huì)社