專利名稱：電子照相感光體、處理盒和成像設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及電子照相感光體、處理盒和成像設(shè)備。

背景技術(shù)：
作為使用電子照相方式的成像設(shè)備，這樣的設(shè)備是傳統(tǒng)上已知的，該設(shè)備通過使用電子照相感光體(下文有時簡稱為“感光體”)依次進行包括充電、曝光、顯影、轉(zhuǎn)印和清潔的步驟。近年來，在成像設(shè)備領(lǐng)域中，對于提高圖像品質(zhì)和設(shè)備的使用壽命的要求日益增長，為了滿足這些要求，一直在對部件和系統(tǒng)的改善進行研究。
例如，用于寫入圖像的感光體在充電和清潔過程中容易受到壓力，并且感光體的表面上出現(xiàn)的裂紋和磨損會導致圖像缺陷。與感光體接觸的部件(例如充電輥和清潔刮刀)也會受到壓力，必需防止這些零部件損壞。
因此，已經(jīng)提出了這樣的方法通過將感光層最外層的動態(tài)硬度限定在13.0×109N/m2～100.0×109N/m2之間，防止感光體表面損壞，并防止與感光體相接觸的部件損壞(例如，參見JP-A-2002-318459)。
近年來，由于圖像向紙轉(zhuǎn)印的自由度的提高，因此通過使用中間轉(zhuǎn)印材料而轉(zhuǎn)印圖像的系統(tǒng)頻繁得到使用。然而，在配備有中間轉(zhuǎn)印材料的成像設(shè)備中，在某些情況下在設(shè)備中生成的或進入到設(shè)備中的雜質(zhì)會插入到中間轉(zhuǎn)印材料和感光體之間，從而損壞感光體，或雜質(zhì)刺入感光體而達到導電性支持體。特別是當中間轉(zhuǎn)印材料與電子照相感光體相比具有相對較高的硬度時，容易出現(xiàn)該問題。該問題會導致感光體漏電(這是過量電流在感光體中局部流過的現(xiàn)象)，這會帶來圖像品質(zhì)上的缺陷，例如所形成圖像上的色斑。
此外，近年來，作為電子照相設(shè)備的充電裝置，一直在使用接觸充電方式的充電裝置(例如充電輥)來代替非接觸型充電裝置(例如電暈放電裝置)。接觸型充電裝置具有臭氧產(chǎn)生少和電力消耗低的優(yōu)點，但是，使用接觸型充電裝置比使用非接觸型充電裝置對感光體施加的電壓高，從而在存在前述問題的感光體中容易出現(xiàn)漏電。
與長期使用成像設(shè)備相關(guān)，設(shè)備中所生成的雜質(zhì)(例如，由劣化的顯影劑和中間轉(zhuǎn)印介質(zhì)生成的雜質(zhì))或進入至設(shè)備中的雜質(zhì)的量會有所增加，因此，防止出現(xiàn)漏電對于獲得更高水準的較長的設(shè)備使用壽命和高圖像品質(zhì)是很重要的。
JP-A-2002-318459中所披露的方法的一個目標就是防止形成感光體裂紋，但是作為發(fā)明人的研究結(jié)果已經(jīng)證明JP-A-2002-318459的方法不足以防止漏電的發(fā)生，而JP-A-2002-318459中所披露的感光體在防止漏電方面仍然存在著改進的空間。


發(fā)明內(nèi)容
在上述背景下開發(fā)出了本發(fā)明，并且本發(fā)明提供了一種能夠充分防止因漏電導致的圖像缺陷的產(chǎn)生，從而提供延長的使用壽命和高圖像品質(zhì)的電子照相感光體，還提供了具有該電子照相感光體以獲得延長的使用壽命和高圖像品質(zhì)的處理盒和成像設(shè)備。
本發(fā)明的電子照相感光體包含導電性支持體和設(shè)置在所述導電性支持體上的感光層，感光層的動態(tài)硬度為20×109N/m2～150×109N/m2，彈性形變率為15％～80％。
這里所說的“動態(tài)硬度”定義如下。將Bercovici壓頭(三角錐形、頂角為115°、前端曲率半徑小于或等于0.1μm的金剛石壓頭)以0.3mN的壓力垂直地壓在電子照相感光體的感光層的表面上，以測量壓頭的壓入深度。本發(fā)明中的動態(tài)硬度是通過使用以下方程(1)由壓入深度計算得到的值 DH＝3.8584×(P/D2)(1) 其中DH表示動態(tài)硬度(N/m2)，P表示壓入載荷(N)，D表示壓入深度(m)。金剛石壓頭是安裝在微硬度測量設(shè)備(DUH-201，島津制作所社生產(chǎn))上的壓頭。壓入深度由壓頭的位移讀取，壓入載荷由安裝在壓頭上的測壓儀讀取。
這里所說的“彈性形變率”定義如下。將Bercovici壓頭(三角錐形、頂角為115°、前端曲率半徑小于或等于0.1μm的金剛石壓頭)以0.3mN的壓力垂直地壓在電子照相感光體的感光層的表面上，然后將施加至壓頭的壓力釋放至0mN，以測量對壓頭施加0.3mN的壓力的壓入深度，以及釋放壓力后壓頭的位移。本發(fā)明中的彈性形變率通過使用以下方程(2)由壓入深度和壓頭位移來進行計算 ED＝(D-M)/D×100(2) 其中ED表示彈性形變率(％)，M表示釋放壓力后壓頭的位移(m)，D表示壓入深度(m)。金剛石壓頭是安裝在微硬度測量設(shè)備(DUH-201，島津制作所社生產(chǎn))上的壓頭。壓入深度由壓頭的位移讀取，壓入載荷由安裝在壓頭上的測壓儀讀取。
彈性形變率將參照附圖做進一步的說明。圖11顯示了在前述測試中壓頭的壓入載荷與壓頭的位移之間的關(guān)系圖。在本發(fā)明中，圖11中的P1為0.3mN。隨著施加至壓入感光層的壓頭上的壓力從0增加到P1，壓入感光層中的壓頭的位移增加至D1(曲線A-B)。然后，隨著施加至壓頭上的壓力從P1減小到0，壓頭以這樣的程度被推回，即感光層發(fā)生彈性形變從而使壓頭位移從D1改變?yōu)镸1(曲線A-B)。M1值表示感光層的塑性形變量，通過從總形變量D1中減去塑性形變量M1(D1-M1)所得到的值表示感光層的彈性形變量。因此，感光層的彈性形變率(％)可以通過計算(D1-M1)/D1×100而獲得。
根據(jù)本發(fā)明的電子照相感光體，可以充分防止因漏電導致的圖像缺陷的產(chǎn)生，從而以高水準提供延長的使用壽命和高圖像品質(zhì)。
本發(fā)明人推測本發(fā)明能夠獲得上述優(yōu)點的原因如下當在如JP-A-2002-318459所披露的方法中僅將感光層的表面硬化時，據(jù)認為當調(diào)色劑載體的碎片或進入至設(shè)備中的硬物刺入感光層中時，感光層在刺入位置容易出現(xiàn)裂縫或碎片，或者難以除掉所刺入的雜質(zhì)。因此，據(jù)認為當設(shè)備中所產(chǎn)生的雜質(zhì)的量與長期使用有關(guān)時，無法充分防止漏電的發(fā)生。另一方面，在本發(fā)明的感光體中，感光體的硬度和彈性在上述范圍內(nèi)是平衡的，因此，據(jù)認為可以抑制雜質(zhì)刺入感光層，同時，即使當雜質(zhì)刺入感光層中時，在到達導電性支持體或其附近之前，也很容易將雜質(zhì)除去，因此，利用適當?shù)膹椥?，可以防止裂紋和碎片的出現(xiàn)。即，據(jù)認為根據(jù)本發(fā)明的感光體，即使當成像設(shè)備長期使用時，也可以充分減少導致漏電的因素，從而能夠充分防止由漏電導致的圖像品質(zhì)缺陷的發(fā)生，以高水準地獲得較長的使用壽命和高圖像品質(zhì)。此外，據(jù)認為能夠以高水準獲得較長的使用壽命和高圖像品質(zhì)的原因還包括感光層的硬度和彈性在上述范圍內(nèi)獲得了良好的平衡，從而可以防止感光層上缺陷的形成，并且可以充分防止在感光體和與所述感光體接觸的部件之間發(fā)生粘滯滑動現(xiàn)象。
當動態(tài)硬度小于20×109N/m2時，導電性雜質(zhì)容易刺入到感光層中，并且所刺入的導電性雜質(zhì)容易達到導電性支持體，因此長期使用時無法防止由于針孔漏電而導致的圖像品質(zhì)缺陷的出現(xiàn)。在動態(tài)硬度超過150×109N/m2的情況中，當雜質(zhì)刺入到感光層中時，感光層容易從刺入位置出現(xiàn)裂紋或碎片，因此長期使用時無法充分防止缺陷位置處因漏電導致的圖像品質(zhì)缺陷。
當彈性形變率小于15％時，感光層容易因調(diào)色劑載體的碎片或進入至設(shè)備中的硬物而產(chǎn)生裂紋或碎片，并且當導電性雜質(zhì)刺入到感光層中時，刺入位置處的裂紋和碎片會導致漏電，因此長期使用時無法充分防止因缺陷位置處的漏電而導致的圖像品質(zhì)缺陷的出現(xiàn)。當彈性變形率大于或等于80％時，在感光體和與感光體接觸的部件(例如清潔刮刀和中間轉(zhuǎn)印材料)之間容易發(fā)生粘滯滑動現(xiàn)象，從而出現(xiàn)圖像品質(zhì)缺陷(例如條紋)，從而無法獲得足夠高的圖像品質(zhì)。
由于以下因素，應用于彩色成像設(shè)備的本發(fā)明的電子照相感光體與傳統(tǒng)技術(shù)相比可以高水準地獲得長使用壽命和高圖像品質(zhì)。當在記錄介質(zhì)上形成彩色圖像時，優(yōu)選使用中間轉(zhuǎn)印材料，當導電性雜質(zhì)刺入感光體中導致漏電時，有時在記錄介質(zhì)上會形成包含不同顏色的斑點的珠狀色斑缺陷。另一方面，根據(jù)本發(fā)明的電子照相感光體，即使是使用中間轉(zhuǎn)印材料，仍可充分防止雜質(zhì)刺入感光體和感光體上缺陷的形成，因此，在彩色成像設(shè)備中可以充分防止漏電的發(fā)生，并且可以充分防止感光體上珠狀色斑缺陷的形成。
本發(fā)明的處理盒包含本發(fā)明的電子照相感光體和選自以下單元的至少一個單元對電子照相感光體充電的充電單元、用調(diào)色劑使形成在電子照相感光體上的靜電潛像顯影以形成調(diào)色劑圖像的顯影單元、以及用于除掉殘留在電子照相感光體表面上的調(diào)色劑的清潔單元。
本發(fā)明的成像設(shè)備包含本發(fā)明的電子照相感光體、對電子照相感光體充電的充電單元、在經(jīng)充電的電子照相感光體上形成靜電潛像的曝光單元、用調(diào)色劑使靜電潛像顯影以形成調(diào)色劑圖像的顯影單元、以及將調(diào)色劑圖像從電子照相感光體轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印材料的轉(zhuǎn)印單元。
本發(fā)明的處理盒和成像設(shè)備通過包含在其中的電子照相感光體可以長期提供具有高品質(zhì)的圖像。



本發(fā)明的優(yōu)選實施方案將基于以下附圖進行詳細說明，其中 圖1是顯示本發(fā)明的電子照相感光體的一個優(yōu)選實施方案的橫截面示意圖； 圖2是顯示本發(fā)明的電子照相感光體的另一優(yōu)選實施方案的橫截面示意圖； 圖3是顯示本發(fā)明的電子照相感光體的又一優(yōu)選實施方案的橫截面示意圖； 圖4是顯示本發(fā)明的電子照相感光體的再一優(yōu)選實施方案的橫截面示意圖； 圖5是顯示本發(fā)明的電子照相感光體的又再一優(yōu)選實施方案的橫截面示意圖； 圖6是顯示本發(fā)明的成像設(shè)備的一個優(yōu)選實施方案的示意圖； 圖7是顯示本發(fā)明的成像設(shè)備的另一優(yōu)選實施方案的示意圖； 圖8是顯示本發(fā)明的成像設(shè)備的又一優(yōu)選實施方案的示意圖； 圖9是顯示本發(fā)明的成像設(shè)備的再一優(yōu)選實施方案的示意圖； 圖10是顯示本發(fā)明處理盒的一個優(yōu)選實施方案的示意圖；和 圖11是顯示用于測量感光層彈性形變率的方法的說明圖。

具體實施例方式 如前所述，本發(fā)明的電子照相感光體包含導電性支持體和設(shè)置在所述導電性支持體上的感光層，并且必需滿足感光層的動態(tài)硬度為20×109N/m2～150×109N/m2，彈性形變率為15％～80％。根據(jù)此構(gòu)成，可以充分防止因漏電導致的圖像缺陷的產(chǎn)生，從而高水準地獲得長使用壽命和高圖像品質(zhì)。
在本發(fā)明中，感光層的動態(tài)硬度優(yōu)選為25×109N/m2～75×109N/m2，更優(yōu)選為25×109N/m2～45×109N/m2。
感光層的彈性形變率優(yōu)選為20％～80％，更優(yōu)選為20％～45％。
在本發(fā)明的電子照相感光體中，優(yōu)選感光層在感光層的導電性支持體側(cè)具有底涂層，并且所述底涂層包含受體化合物和金屬氧化物微粒。可選地，優(yōu)選底涂層包含金屬氧化物微粒和具有能夠通過與金屬氧化物微粒反應而鍵接到金屬氧化物微粒上的基團的受體化合物。
通過使用底涂層，即使當將感光層的彈性形變率設(shè)定在上述范圍內(nèi)時，也可以通過增加底涂層的厚度而充分防止因重復使用導致的殘余電勢的升高，從而可以確保防止導電性雜質(zhì)達到導電性支持體，同時可以充分抑制圖像品質(zhì)的惡化。根據(jù)此構(gòu)成，能夠以更高的水準獲得高圖像品質(zhì)。
為了確保獲得前述優(yōu)點，底涂層的厚度優(yōu)選為15μm～50μm，更優(yōu)選為17μm～30μm。
在本發(fā)明的電子照相感光體中，優(yōu)選感光層在感光層上距導電性支持體最遠側(cè)具有包含酚樹脂的層，該包含酚樹脂的層包含具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)和電荷傳輸特性的酚樹脂。設(shè)置包含酚樹脂的層改善了感光層表面的耐磨性，在長期使用時可以抑制其厚度的降低，從而能夠確保防止導電性雜質(zhì)達到導電性支持體。此外，感光層的機械強度和電性能均獲得了提高，因此可以獲得更高水準的高圖像品質(zhì)和長使用壽命。
包含酚樹脂的層優(yōu)選包含由具有羥甲基基團的苯酚衍生物和具有活性官能團的電荷傳輸材料形成的酚樹脂。根據(jù)此構(gòu)成，可以獲得更高水準的高圖像品質(zhì)和長使用壽命。據(jù)認為這些優(yōu)點是通過以下因素獲得的。當包含酚樹脂的層是通過使用苯酚衍生物和電荷傳輸材料形成時，電荷傳輸材料化學地結(jié)合到酚樹脂的交聯(lián)結(jié)構(gòu)中，從而進一步改善了由此形成的包含酚樹脂的層的機械強度和電學特性。
電荷傳輸材料優(yōu)選具有選自羥基、羧基、烷氧基甲硅烷基、環(huán)氧基、碳酸酯基、硫醇基和氨基的至少一種官能團。
電荷傳輸材料優(yōu)選為由以下通式(I)、(II)、(III)、(IV)和(V)表示的化合物 F[-(X1)n-R1-Z1H]m(I) 其中F表示由具有空穴傳輸能力的化合物衍生的有機基團，X1表示氧原子或硫原子，R1表示亞烷基，Z1表示氧原子、硫原子、NH或COO，n表示0或1，m表示1～4的整數(shù)， F[-(X2)n1-(R2)n2-(Z2)n3G]n4(II) 其中F表示由具有空穴傳輸能力的化合物衍生的有機基團，X2表示氧原子或硫原子，R2表示亞烷基，Z2表示氧原子、硫原子、NH或COO，G表示環(huán)氧基，n1、n2和n3各自獨立地表示0或1，n4表示1～4的整數(shù)， F[-D-Si(R3)(3-a)Qa]b(III) 其中F表示由具有空穴傳輸能力的化合物衍生的有機基團，D表示具有柔性的二價基團，R3表示氫原子、具有取代基的或不具有取代基的烷基或者具有取代基的或不具有取代基的芳基，Q表示水解性基團，a表示1～3的整數(shù)，b表示1～4的整數(shù)，
其中F表示具有空穴傳輸能力的n5價有機基團，T表示二價基團，Y表示氧原子或硫原子，R4、R5和R6各自獨立地表示氫原子或一價有機基團，R7表示一價有機基團，ml表示0或1，n5表示1～4的整數(shù)，條件是R6和R7能夠鍵合以形成含有Y作為雜原子的雜環(huán)。

其中F表示具有空穴傳輸能力的n6價有機基團，T表示二價基團，R8表示一價有機基團，m2表示0或1，n6表示1～4的整數(shù)。
當包含酚樹脂的層包含選自由通式(I)～(V)表示的化合物中的至少一種化合物時，可以進一步改善包含酚樹脂的層的機械強度和電學特性，因此可以獲得更高水準的高圖像品質(zhì)和長使用壽命。
例如，通過適當?shù)剡x擇構(gòu)成感光層的層的組成和厚度，能夠以滿足前述要求的方式獲得本發(fā)明的電子照相感光體，這將在后面的電子照相感光體的實施方案中進行說明。
在本發(fā)明中，從可靠地并容易地獲得長使用壽命和高圖像品質(zhì)的角度來看，感光層具有保護層和底涂層，特別優(yōu)選控制這些層的組成和厚度，以提供滿足前述要求的感光層。
下面將參照附圖對本發(fā)明的優(yōu)選實施方案進行詳細描述。在對附圖的說明中，相同部件或相應部件均對應于相同的符號，并省略重復的說明。
(電子照相感光體) 圖1是顯示本發(fā)明的電子照相感光體的一個優(yōu)選實施方案的橫截面示意圖。圖1所示的電子照相感光體由導電性支持體2和感光層3構(gòu)成。感光層3具有包含依次層疊在導電性支持層2上的底涂層4、電荷產(chǎn)生層5、電荷傳輸層6和保護層7的結(jié)構(gòu)。
圖2～圖5是顯示本發(fā)明的電子照相感光體的其他優(yōu)選實施方案的橫截面示意圖。圖2和圖3所示的電子照相感光體具有感光層3，該感光層3功能性地劃分為電荷產(chǎn)生層5和電荷傳輸層6，這與圖1所示的電子照相感光體類似。在圖4和圖5所示的電子照相感光體中，電荷產(chǎn)生材料和電荷傳輸材料包含在同一層(單層型感光層8)中。
圖2中所示的電子照相感光體1具有在導電性支持體2上依次層疊電荷產(chǎn)生層5、電荷傳輸層6以及保護層7的結(jié)構(gòu)。圖3中所示的電子照相感光體1具有在導電性支持體2上依次層疊底涂層4、電荷傳輸層6、電荷產(chǎn)生層5以及保護層7的結(jié)構(gòu)。
圖4中所示的電子照相感光體1具有在導電性支持體2上依次層疊底涂層4、單層型感光層8以及保護層7的結(jié)構(gòu)。圖5中所示的電子照相感光體1具有在導電性支持體2上依次層疊單層型感光層8和保護層7的結(jié)構(gòu)。
如前所述，本發(fā)明的電子照相感光體中所包含的感光層可以是在同一層中包含電荷產(chǎn)生材料和電荷傳輸材料的單層型感光層，也可以是具有分開提供的包含電荷產(chǎn)生材料的層(電荷產(chǎn)生層)和包含電荷傳輸材料的層(電荷傳輸層)的功能分離型感光層。在功能分離型感光層的情況中，電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層的層疊順序不受限制。因為功能的分離(即各層可以分別僅滿足自身的功能)，因此功能分離型感光層能夠?qū)崿F(xiàn)更高的功能。
下面將對作為代表性實例的圖1所示的電子照相感光體1的構(gòu)成要素進行描述。
導電性支持體2的實例包括金屬板、金屬鼓和金屬帶，它們由諸如金屬(例如鋁、銅、鋅、不銹鋼、鉻、鎳、鉬、釩、銦、金和鉑)和合金等材料構(gòu)成。作為導電性支持體2，也可以使用其上涂布、氣相沉積或?qū)訅河袑щ娦跃酆衔铩щ娦曰衔?例如氧化銦)和金屬或合金(例如鋁、鈀和金)的紙和塑料膜或帶等材料。
優(yōu)選將導電性支持體2的表面粗糙化至中心線平均粗糙度Ra為0.04μm～0.05μm，以防止在激光照射時出現(xiàn)干涉條紋。當導電性支持體2的表面粗糙度Ra小于0.04μm時，該表面接近于鏡面，存在不能充分防止出現(xiàn)干涉條紋的趨勢。當表面粗糙度Ra超過0.5μm時，盡管會在其上形成層，但存在所得圖像品質(zhì)不足的趨勢。當使用非相干光作為光源時，則不必對表面進行粗糙化以防止出現(xiàn)干涉條紋，并且導電性支持體2可以防止因?qū)щ娦灾С煮w2上的凸凹而形成的缺陷，從而提供長使用壽命。
表面粗糙化的方法優(yōu)選向支持體上噴灑懸浮在水中的研磨劑的濕式珩磨法、通過將旋轉(zhuǎn)的磨石壓在支持體上對支持體進行連續(xù)研磨的無心研磨法和陽極氧化法。
表面粗糙化的方法的其他優(yōu)選實例包括這樣的方法不直接對導電性支持體2進行粗糙化，但將分散在樹脂中的導電性粉末或半導電性粉末涂布在導電性支持體以在支持體表面上形成層，從而利用分散在層中的粉末使支持體的表面粗糙化。
陽極氧化法是通過在電解液中對作為陽極的鋁進行陽極氧化，從而在鋁表面上形成氧化膜的方法。電解液的實例包括硫酸溶液和草酸溶液。但是，所得的多孔陽極氧化膜本身是化學活性的并易于被污染，所以電阻會根據(jù)環(huán)境而波動。因此要進行密封處理，在該處理中，通過在加壓蒸汽或沸水(其中可以加入金屬鹽，例如鎳鹽)中的水合作用所引起的體積膨脹將陽極氧化膜的微孔封閉，從而形成了穩(wěn)定的水合氧化物。
陽極氧化膜的厚度優(yōu)選為0.3μm～15μm。當厚度小于0.3μm時，存在防止注入的阻隔性不佳從而所提供的效果不足的趨勢。另一方面，當厚度超過15μm時，存在當反復使用時殘余電勢升高的趨勢。
可以使用酸性水溶液或勃姆石處理來處理導電性支持體2。使用包含磷酸、鉻酸和氫氟酸的酸性處理液的處理以如下方式進行。首先制備酸性處理液。酸性處理液中的磷酸、鉻酸和氫氟酸的混合比例優(yōu)選為10重量％～11重量％磷酸、3重量％～5重量％鉻酸和0.5重量％～2重量％氫氟酸，酸的總濃度優(yōu)選為13.5重量～18重量％。處理溫度優(yōu)選為42℃～48℃，并且通過保持高處理溫度可以迅速獲得較厚的涂層。膜的厚度優(yōu)選為0.3μm～15μm。當厚度小于0.3μm時，存在防止注入的阻隔性不佳從而所提供的效果不足的趨勢。另一方面，當厚度超過15μm時，存在當反復使用時殘余電勢升高的趨勢。
勃姆石處理可以通過在90℃～100℃的溫度下浸入純水中5分鐘～60分鐘來進行，或者在90℃～120℃的溫度下與熱蒸汽接觸5分鐘～60分鐘來進行。膜的厚度優(yōu)選為0.1μm～5μm?？梢酝ㄟ^使用對膜具有低溶解性的電解液對膜進一步進行陽極氧化處理，對膜具有低溶解性的電解液包括己二酸、硼酸、硼酸鹽、磷酸鹽、鄰苯二甲酸鹽、馬來酸鹽、苯甲酸鹽、酒石酸鹽和檸檬酸鹽。
底涂層4形成在導電性支持體2上。在對具有層疊結(jié)構(gòu)的感光層3充電時，底涂層4具有防止電荷從導電性支持體2注入感光層3的功能，并且底涂層4還具有將感光層3和導電性支持體2粘結(jié)并保持為一體的粘結(jié)層的功能。在某些情況下，對于導電性支持體2，底涂層4可以具有對光的防反射性能。特別是，當使用已經(jīng)進行了酸性溶液處理或勃姆石處理的支持體時，支持體趨向于具有較差的缺陷遮蓋力，因此優(yōu)選提供底涂層。
從保持具有高圖像品質(zhì)的圖像的角度來看，本發(fā)明的電子照相感光體優(yōu)選配有底涂層，并且優(yōu)選提供以下底涂層，這是因為感光層的彈性形變率容易控制，并且通過抑制重復使用時殘余電勢的升高，可以進一步改善防漏電性。
底涂層4優(yōu)選由包含受體化合物和金屬氧化物微粒的復合物以及粘合劑樹脂構(gòu)成。
作為復合物中所包含的受體化合物，可以使用能夠提供預期特性的任何化合物，并特別優(yōu)選使用具有醌基的化合物。優(yōu)選使用具有蒽醌結(jié)構(gòu)的受體化合物。除蒽醌以外，具有蒽醌結(jié)構(gòu)的化合物的實例還包括羥基蒽醌化合物、氨基蒽醌化合物和氨基羥基蒽醌化合物，可以優(yōu)選使用這些化合物。其更具體的實例包括蒽醌、茜素、醌茜、蒽絳酚和紅紫素，可以特別優(yōu)選使用這些化合物。
復合物中所包含的金屬氧化物微粒優(yōu)選具有約102Ω·cm～1011Ω·cm的粉末電阻(體積電阻率)。根據(jù)該構(gòu)成，底涂層4可以具有適于獲得防漏電性的電阻。當金屬氧化物微粒的電阻小于前述范圍的下限時，存在無法獲得足夠的防漏電性的趨勢，當金屬氧化物微粒的電阻高于前述范圍的上限時，存在殘余電勢升高的趨勢。
在此實施方案中，優(yōu)選使用具有前述電阻的金屬氧化物微粒，例如氧化錫、氧化鈦、氧化鋅和氧化鋯。特別是，優(yōu)選使用氧化鋅。金屬氧化物微?？梢允莾煞N或兩種以上金屬氧化物微粒，例如已經(jīng)進行了不同的表面處理的金屬氧化物微粒和具有不同粒徑的金屬氧化物微粒的混合物。
金屬氧化物微粒優(yōu)選具有大于或等于10m2/g的比表面積。比表面積小于10m2/g的金屬氧化物微粒容易導致充電特性的降低，從而存在不能獲得理想的電子照相特性的趨勢。
獲得受體化合物和金屬氧化物微粒的復合物的方法的實例包括以下方法將溶解在有機溶劑中的受體化合物逐滴加入至用具有大剪切力的攪拌器攪拌的金屬氧化物微粒中，然后將該混合物與干燥的空氣或氮氣一起噴霧，以將受體化合物均勻地施加在金屬氧化物微粒上。受體化合物的加入和噴霧操作優(yōu)選在低于溶劑沸點的溫度下進行。在超過溶劑沸點的溫度進行噴霧操作是不優(yōu)選的，這是因為溶劑在均勻攪拌前即蒸發(fā)，受體化合物會局部地聚集，從而無法進行均勻處理。在加入或噴霧之后，可以在超過溶劑沸點的溫度下干燥該混合物。所述方法的另一個實例包括以下方法將金屬氧化物微粒在溶劑中攪拌，并使用超聲波、砂磨機、磨碎機或球磨機進行分散，向其中加入溶解在有機溶劑中的受體化合物溶液，在回流狀態(tài)下或在低于溶劑沸點的溫度下對該混合物進行攪拌或分散，然后除去溶劑，從而將受體化合物均勻地施加到微粒上。溶劑的除去可以通過過濾、蒸餾和加熱干燥進行。
受體化合物的施加量可以在能夠提供預期特性的范圍內(nèi)任意確定，并且受體化合物優(yōu)選以0.01重量％～20重量％的量施加到金屬氧化物微粒上，更優(yōu)選以0.05重量％～10重量％的量施加到金屬氧化物微粒上。當受體化合物的施加量小于0.01重量％時，無法提供足以有助于改善底涂層4中的電荷累積的受體特性，因此，難以獲得充分抑制重復使用時殘余電勢升高的效果。當受體化合物的施加量超過20重量％時，容易發(fā)生金屬氧化物的聚集，這會使在形成底涂層4時利用底涂層4中的金屬氧化物形成理想的電路變得復雜，因此不僅維護特性惡化(例如重復使用時殘余電勢的升高)，而且容易出現(xiàn)圖像品質(zhì)缺陷(例如黑點)。
在施加受體化合物之前，可以對金屬氧化物微粒進行表面處理。只要能夠獲得所需特性，表面處理劑可以任意選擇，并且可以選自已知材料。其實例包括硅烷偶合劑、鈦酸酯偶合劑、鋁偶合劑和表面活性劑。特別地，由于硅烷偶合劑能夠提供理想的電子照相特性，因此優(yōu)選使用硅烷偶合劑。還優(yōu)選使用具有氨基的硅烷偶合劑，因為它可以為底涂層4提供理想的防粘性。
只要能夠獲得所需的電子照相特性，可以任意選擇具有氨基的硅烷偶合劑。其具體實例包括γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷和N，N-二(β-羥乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷，但是本發(fā)明并不局限于此。
硅烷偶合劑可以作為它們兩種或兩種以上的混合物使用?？梢耘c具有氨基的硅烷偶合劑組合使用的硅烷偶合劑的實例包括乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基-三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、β-(3，4-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巰基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷、N，N-二(β-羥乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷和γ-氯丙基三甲氧基硅烷，但是本發(fā)明并不局限于此。
可以任意選擇表面處理的方法，可以采用干法或濕法。
使用干法進行表面處理時，在使用具有大剪切力的攪拌器進行攪拌下，將硅烷偶合劑直接或溶解于有機溶劑之后滴加到金屬氧化物微粒中，然后將混合物與干燥的空氣或氮氣一起噴霧，以均勻地進行處理。添加和噴霧操作優(yōu)選在低于溶劑沸點的溫度下進行。在超過溶劑沸點的溫度進行噴霧操作是不優(yōu)選的，這是因為溶劑在均勻攪拌前即蒸發(fā)，硅烷偶合劑會局部聚集，從而無法進行均勻處理。添加或噴霧后，可以在大于或等于100℃對混合物進行焙燒操作。只要能獲得所需的電子照相特性，焙燒操作可以在任意溫度下進行任意長的時間。
使用濕法進行表面處理時，將金屬氧化物微粒在溶劑中攪拌，并用超聲波、砂磨機、磨碎機或球磨機使其分散，并向其中加入溶解在有機溶劑中的硅烷偶合劑，然后除去溶劑，以進行均勻處理。溶劑的除去可以通過過濾、蒸餾和加熱干燥進行。除去溶劑后，可以在大于或等于100℃下對混合物進行焙燒操作。只要能獲得所需的電子照相特性，焙燒操作可以在任意溫度下進行任意長的時間。在濕法中，可以在添加表面處理劑之前除掉金屬氧化物微粒中含有的水分，該方法的實例包括在用于表面處理的溶劑中攪拌加熱來除掉水分的方法，以及通過與溶劑共沸除掉水分的方法。
只要能夠獲得所需的電子照相特性，底涂層4中硅烷偶合劑相對于金屬氧化物微粒的量可以任意確定。
底涂層4中所包含的粘合劑樹脂可以任意選自已知的材料，只要能夠形成理想的膜并且能夠獲得理想的特性即可，該粘合劑樹脂的實例包括已知的聚合物樹脂，例如縮醛樹脂(例如聚乙烯醇縮醛)、聚乙烯醇樹脂、酪蛋白、聚酰胺樹脂、纖維素樹脂、明膠、聚氨酯樹脂、聚酯樹脂、甲基丙烯酸樹脂、丙烯酸樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚乙酸乙烯酯樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-馬來酸酐樹脂、硅酮樹脂、硅酮-醇酸樹脂、酚樹脂、酚醛樹脂、三聚氰胺樹脂、氨基甲酸酯樹脂、具有電荷傳輸基團的電荷傳輸性樹脂和例如聚苯胺的導電性樹脂。其中優(yōu)選使用不溶于用于涂層上層所使用的溶劑的樹脂，特別是優(yōu)選使用丁醛樹脂、酚樹脂、酚醛樹脂、三聚氰胺樹脂、氨基甲酸酯樹脂和環(huán)氧樹脂。
底涂層4優(yōu)選通過包含金屬氧化物微粒、具有能夠通過與金屬氧化物微粒反應而鍵接到金屬氧化物微粒上的基團的受體化合物(下文有時簡稱為具有活性官能團的受體化合物)和粘合劑樹脂而構(gòu)成。
具有活性官能團的受體化合物可以選自具有能夠與金屬氧化物微粒反應從而獲得理想的特性的基團的任何化合物，特別是，優(yōu)選使用具有羥基的化合物。優(yōu)選使用具有包含羥基的蒽醌結(jié)構(gòu)的受體化合物。具有包含羥基的蒽醌結(jié)構(gòu)的化合物的實例包括羥基蒽醌化合物和氨基羥基蒽醌化合物，此二者均優(yōu)選使用。其具體實例包括茜素、醌茜、蒽絳酚、紅紫素、1-羥基蒽醌、2-氨基-3-羥基蒽醌和1-氨基-4-羥基蒽醌，這些可以特別優(yōu)選地使用。
作為金屬氧化物微粒，可以使用類似前述復合物中所使用的那些金屬氧化物微粒?？梢詫饘傺趸镂⒘＿M行表面處理，表面處理劑和表面處理方法可以與前述復合物中所使用的相類似。
優(yōu)選將具有活性官能團的受體化合物以相對于金屬氧化物微粒為0.01重量％～20重量％的量，更優(yōu)選為0.05重量～10重量％的量混合在底涂層4中。
底涂層4可以通過使用用于形成底涂層的涂布組合物形成，該涂布組合物通過將構(gòu)成底涂層的成分分散到溶劑中而獲得。在能夠獲得電子照相感光體的所需特性的范圍內(nèi)，在用于形成底涂層的涂布組合物中，復合物和粘合劑樹脂的混合比、以及金屬氧化物微粒、具有活性官能團的受體化合物和粘合劑樹脂的混合比可以任意確定。
可以向用于形成底涂層的涂布組合物中添加各種添加劑，以提高環(huán)境穩(wěn)定性和圖像品質(zhì)。添加劑的實例包括諸如以下已知物質(zhì)醌類化合物，例如氯醌和溴醌；四氰基醌基二甲烷化合物；芴酮化合物，例如2，4，7-三硝基芴酮和2，4，5，7-四硝基-9-芴酮；噁二唑化合物，例如2-(4-聯(lián)苯)-5-(4-叔丁基苯基)-1，3，4-噁二唑、2，5-二(4-萘基)-1，3，4-噁二唑和2，5-二(4-二乙基氨基苯基)-1，3，4-噁二唑；氧雜蒽酮化合物；噻吩化合物；聯(lián)苯醌(diphenoquinone)化合物，例如3，3′，5，5′-四叔丁基聯(lián)苯醌；電子傳輸性顏料，例如多環(huán)縮合化合物和偶氮化合物；鋯螯合物；鈦螯合物；鋁螯合物；烷氧鈦化合物；有機鈦化合物和硅烷偶合劑。
硅烷偶合劑用于金屬氧化物微粒的表面處理，還可以用作涂布組合物的添加劑。這里使用的硅烷偶合劑的具體實例包括乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基-三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、β-(3，4-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巰基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷、N，N-二(β-羥基乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷和γ-氯丙基三甲氧基硅烷。
鋯螯合物的實例包括丁氧鋯、乙基乙酰乙酸鋯、三乙醇胺鋯、乙酰丙酮化丁氧鋯、乙基乙酰乙酸丁氧鋯、乙酸鋯、草酸鋯、乳酸鋯、磷酸鋯、辛酸鋯、環(huán)烷酸鋯(zirconium naphthenoate)、月桂酸鋯、硬脂酸鋯、異硬脂酸鋯、甲基丙烯酸丁氧鋯、硬脂酸丁氧鋯和異硬脂酸丁氧鋯。
鈦螯合物的實例包括鈦酸四異丙酯、鈦酸四正丁酯、鈦酸丁酯二聚物、四(2-乙基己基)鈦酸酯、乙酰丙酮化鈦、聚乙酰丙酮化鈦、亞辛基乙醇酸鈦、乳酸鈦銨鹽、乳酸鈦、鈦乳酸乙酯、三乙醇胺化鈦和聚羥基硬脂酸鈦。
鋁螯合物的實例包括異丙醇鋁、二異丙醇單丁氧基鋁、丁酸鋁、二乙基乙酰乙酸二異丙醇鋁和三(乙基乙酰乙酸)鋁。
這些化合物可以單獨使用或者作為多種化合物的混合物或縮聚物使用。
用于制備用于形成底涂層的涂布組合物的溶劑可以任意選自已知的有機溶劑，例如醇類溶劑、芳香溶劑、鹵代烴溶劑、酮溶劑、酮醇溶劑、醚溶劑和酯溶劑。其具體實例包括常用有機溶劑，例如甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基纖維素、乙基纖維素、丙酮、甲基乙基酮、環(huán)己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氫呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯和甲苯。這些溶劑可以作為多種溶劑的混合物使用。當這些溶劑作為多種溶劑的混合物使用時，可以使用能夠溶解粘合劑樹脂的任意組合。
使成分分散的方法可以是任何已知方法，例如輥磨機、球磨機、振動球磨機、磨碎機、砂磨機、膠體磨和油漆混合器。
對涂布組合物進行涂布以形成底涂層的方法可以是任何常用方法，例如刮涂法、繞線棒涂布法、噴涂法、浸涂法、珠涂法、氣刀涂布法和幕涂法。
底涂層通過涂覆涂布組合物，然后干燥所涂覆的組合物而形成，干燥操作可以在能夠蒸發(fā)溶劑以形成膜的任意溫度下進行。
優(yōu)選底涂層4的動態(tài)硬度為大于或等于15×109N/m2，彈性形變率大于或等于25％。
只要能夠獲得所需特性，底涂層4的厚度可以任意確定，優(yōu)選為大于或等于15μm，更優(yōu)選為15μm～50μm。當?shù)淄繉拥暮穸刃∮?5μm時，存在無法獲得足夠的防漏電性的趨勢，當厚度超過50μm時，存在長期使用而保留殘余電勢，從而導致圖像濃度不正常的趨勢。
優(yōu)選將底涂層4的表面粗糙度控制在曝光用激光波長λ的1/4n(其中n表示上層的折射率)至1/2λ的范圍內(nèi)。為了將表面粗糙度控制在該范圍內(nèi)，例如可以將樹脂顆粒添加到底涂層中。樹脂顆粒的實例包括硅酮樹脂顆粒和交聯(lián)的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)樹脂顆粒。
可以對底涂層進行拋光以控制表面粗糙度。拋光方法的實例包括拋光輪拋光法、噴砂處理、濕式珩磨法和研磨處理。
電荷產(chǎn)生層5包含電荷產(chǎn)生材料或者包含電荷產(chǎn)生材料和粘合劑樹脂。
電荷產(chǎn)生材料的實例包括諸如雙偶氮顏料和三偶氮顏料的偶氮顏料、二萘嵌苯顏料、吡咯并吡咯顏料、酞菁顏料、氧化鋅和三角硒(trigonalselenium)。其中，對于近紅外區(qū)的激光曝光，優(yōu)選金屬或非金屬酞菁顏料，特別優(yōu)選使用JP-A-5-263007和JP-A-5-279591中所披露的羥基鎵酞菁、JP-A-5-98181中所披露的氯化鎵酞菁、JP-A-5-140472和JP-A-5-140473中所披露的二氯化錫酞菁、JP-A-4-189873和JP-A-5-43823中所披露的鈦氧基酞菁。對于近紫外區(qū)的激光曝光，更優(yōu)選稠環(huán)芳香染料，例如二溴蒽(dibormoanthanthracene)、硫靛顏料、porphiradine化合物、氧化鋅和三角硒。
粘合劑樹脂可以選自范圍很廣的絕緣樹脂，也可以選自有機導電性聚合物，例如聚-N-乙烯基咔唑、聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙烯基芘和聚硅烷。粘合劑樹脂的優(yōu)選實例包括聚乙烯基縮丁醛樹脂、聚芳酯樹脂(例如雙酚化合物和芳族二羧酸的縮聚物)、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、苯氧基樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚酰胺樹脂、丙烯酸樹脂、聚丙烯酰胺樹脂；聚乙烯基吡啶樹脂、纖維素樹脂、氨基甲酸酯樹脂、環(huán)氧樹脂、酪蛋白、聚乙烯醇樹脂和聚乙烯基吡咯烷酮樹脂。這些粘合劑樹脂可以單獨使用或者作為多種樹脂的混合物使用。電荷產(chǎn)生材料和粘合劑樹脂的混合比的優(yōu)選為10/1至1/10(重量比)。
電荷產(chǎn)生層5可以通過使用具有分散在前述溶劑中的電荷產(chǎn)生材料和粘合劑樹脂的涂布組合物形成。溶劑的實例包括甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丙酮、甲基乙基酮、環(huán)己酮、乙酸甲酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氫呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯和甲苯，它們可以單獨使用或者作為多種溶劑的混合物使用。
在溶劑中分散電荷產(chǎn)生材料和粘合劑樹脂的方法的實例包括常用分散方法，例如球磨機分散法、磨碎機分散法和砂磨機分散法。使用這些分散方法可以避免電荷產(chǎn)生層材料的晶形發(fā)生改變。電荷產(chǎn)生材料的平均粒徑小于或等于0.5μm，優(yōu)選小于或等于0.3μm，更優(yōu)選小于或等于0.15μm時對電荷產(chǎn)生材料的分散是有效的。
可以使用常用涂布方法形成電荷產(chǎn)生層5，例如刮涂法、邁耶棒涂布法、噴涂法、浸涂法、珠涂法、氣刀涂布法和幕涂法。
由此獲得的電荷產(chǎn)生層5的厚度優(yōu)選為0.1μm～0.5μm，更優(yōu)選為0.2μm～2.0μm。
電荷傳輸層6包含電荷傳輸材料和粘合劑樹脂，或者包含聚合物電荷傳輸材料。
電荷傳輸材料的實例包括電子傳輸性化合物和空穴傳輸性化合物，其中電子傳輸性化合物的實例包括醌類化合物，例如對苯醌、氯醌、溴醌和蒽醌；四氰基醌基二甲烷化合物；芴酮化合物，例如2，4，7-三硝基芴酮；氧雜蒽酮化合物；二苯甲酮化合物；氰基乙烯基化合物(cyanovinylcompound)和乙烯化合物；空穴傳輸性化合物的實例包括三芳基胺化合物、聯(lián)苯胺化合物、芳基烷烴化合物、具有芳基取代基的乙烯化合物、芪化合物、蒽化合物和腙化合物。電荷傳輸材料可以單獨使用或者作為多種材料的混合物使用。
也可以將聚合物電荷傳輸材料用作電荷傳輸材料。聚合物電荷傳輸材料的實例包括具有電荷傳輸特性的已知化合物，例如聚-N-乙烯基咔唑和聚硅烷。特別是，JP-A-8-176293和JP-A-8-208820中所披露的聚酯聚合物電荷傳輸材料由于其具有高電荷傳輸特性因而是特別優(yōu)選的。聚合物電荷傳輸材料可以單獨形成膜，也可以通過與下述粘合劑樹脂混合而形成膜。
從遷移率的角度考慮，優(yōu)選將由以下通式(a-1)、(a-2)或(a-3)代表的化合物作為電荷傳輸材料。

其中R34表示氫原子或甲基，k10表示1或2，Ar6和Ar7各自表示具有取代基的或不具有取代基的芳基-C6H4-C(R38)＝C(R39)(R40)或-C6H4-CH＝CH-CH＝(Ar)2。取代基的實例包括鹵素原子、具有1～5個碳原子的烷基、具有1～5個碳原子的烷氧基和由取代有具有1～3個碳原子的烷基的氨基。R38、R39和R40各自表示氫原子、具有取代基的或不具有取代基的烷基或具有取代基的或不具有取代基的芳基，Ar表示具有取代基的或不具有取代基的芳基。

其中R35和R35′各自獨立地表示氫原子、鹵素原子、具有1～5個碳原子的烷基或具有1～5個碳原子的烷氧基，R36、R36′、R37和R37′各自獨立地表示鹵素原子、具有1～5個碳原子的烷基、具有1～5個碳原子的烷氧基、取代有具有1個或2個碳原子的烷基的氨基、具有取代基的或不具有取代基的芳基、-C(R38)＝C(R39)(R40)或-CH＝CH-CH＝C(Ar)2，R38、R39和R40各自獨立地表示氫原子、具有取代基的或不具有取代基的烷基或具有取代基的或不具有取代基的芳基，Ar表示具有取代基的或不具有取代基的芳基，m4和m5各自獨立地表示0～2的整數(shù)。

其中R41表示氫原子、具有1～5個碳原子的烷基、具有1～5個碳原子的烷氧基、具有取代基的或不具有取代基的芳基或-CH＝CH-CH＝C(Ar)2，Ar表示具有取代基的或不具有取代基的芳基，R42、R42′、R43和R43′各自獨立地表示氫原子、鹵素原子、具有1～5個碳原子的烷基、具有1～5個碳原子的烷氧基、取代有具有1個或2個碳原子的烷基的氨基或具有取代基的或不具有取代基的芳基。
電荷傳輸層6中所使用的粘合劑樹脂的實例包括聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚芳酯樹脂、甲基丙烯酸樹脂、丙烯酸樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚偏氯乙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙酸乙烯酯樹脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯-馬來酸酐共聚物、硅酮樹脂、硅酮-醇酸樹脂、酚醛樹脂、苯乙烯-醇酸樹脂、聚-N-乙烯基咔唑樹脂和聚硅烷。如前所述，也可以使用聚合物電荷傳輸材料，例如JP-A-8-176293和JP-A-8-208820中所披露的聚酯聚合物電荷傳輸材料。這些粘合劑樹脂可以單獨使用或者作為多種粘合劑樹脂的混合物使用。電荷傳輸材料和粘合劑樹脂的混合比優(yōu)選為10/1至1/5(重量比)。
電荷傳輸層6可以通過使用將電荷傳輸材料和粘合劑樹脂分散在前述溶劑中而獲得的涂布組合物形成。溶劑的實例包括常用有機溶劑，例如芳香溶劑(例如苯、甲苯、二甲苯和氯苯)、酮溶劑(例如丙酮和2-丁酮)、鹵代脂肪烴溶劑(例如二氯甲烷、氯仿和氯乙烯)和環(huán)狀的醚或直鏈的醚溶劑(例如四氫呋喃和乙醚)，它們可以單獨使用或作為多種溶劑的混合物使用。
涂布方法的實例包括常用涂布方法，例如刮涂法、邁耶棒涂布法、噴涂法、浸涂法、珠涂法、氣刀涂布法和幕涂法。
電荷傳輸層6的厚度優(yōu)選為5μm～50μm，更優(yōu)選為10μm～30μm。
保護層7優(yōu)選為包含酚樹脂的層，該包含酚樹脂的層包含具有電荷傳輸特性和交聯(lián)結(jié)構(gòu)的酚樹脂。這種酚樹脂優(yōu)選包含具有羥甲基的苯酚衍生物和具有活性官能團的電荷傳輸材料。具有活性官能團的電荷傳輸材料優(yōu)選作為酚樹脂的構(gòu)成成分結(jié)合在交聯(lián)結(jié)構(gòu)中。
具有羥甲基的苯酚衍生物的實例包括單體，例如單羥甲基苯酚化合物、二羥甲基苯酚化合物和三羥甲基苯酚化合物及其混合物，還包括這些單體的低聚物和所述單體和低聚物的混合物。具有羥甲基的苯酚衍生物如下獲得將具有苯酚結(jié)構(gòu)的化合物(例如間苯二酚和雙酚)、具有取代基的含一個羥基的苯酚化合物(例如苯酚、甲酚、二甲苯酚、對烷基苯酚和對苯基苯酚)、具有取代基的含兩個羥基的苯酚(例如鄰苯二酚、間苯二酚和對苯二酚)、雙酚化合物(例如雙酚A和雙酚Z等雙酚化合物)與甲醛、多聚甲醛等化合物在酸性催化劑或堿性催化劑存在的條件下反應，并且通?？梢允褂蒙藤彨@得的酚樹脂化合物。此處術(shù)語“低聚物”是指具有約2～20個相對較大數(shù)量重復單元的分子，并且在此將分子量小于低聚物的分子稱為“單體”。
酸性催化劑的實例包括硫酸、對甲苯磺酸和磷酸。堿性催化劑的實例包括堿金屬或堿土金屬的氫氧化物，例如NaOH、KOH、Ca(OH)2和Ba(OH)2及胺類催化劑。
胺類催化劑的實例包括氨水、六甲撐四胺、三甲胺、三乙胺和三乙醇胺，但本發(fā)明并不局限于此。當使用堿性催化劑時，存在載體被殘余催化劑大量捕獲，因此使電子照相特性變差的趨勢。因此，優(yōu)選通過用酸進行中和、或者通過與吸收劑(例如硅膠)或離子交換樹脂接觸來使堿催化劑減活并除去。
具有活性官能團的電荷傳輸材料的實例包括具有選自羥基、羧基、烷氧基、環(huán)氧基、碳酸酯基、硫醇基和氨基中的至少一種基團的電荷傳輸材料。
具有活性官能團的電荷傳輸材料的優(yōu)選實例包括由以下通式(I)、(II)、(III)、(IV)或(V)表示的化合物，這是因為它們具有優(yōu)異的成膜性、機械強度和穩(wěn)定性 F[-(X1)n-R1-Z1H]m(I) 其中F表示由具有空穴傳輸能力的化合物衍生的有機基團，X1表示氧原子或硫原子，R1表示亞烷基，Z1表示氧原子、硫原子、NH或COO，n表示0或1，m表示1～4的整數(shù)， F[-(X2)n1-(R2)n2-(Z2)n3G]n4(II) 其中F表示由具有空穴傳輸能力的化合物衍生的有機基團，X2表示氧原子或硫原子，R2表示亞烷基，Z2表示氧原子、硫原子、NH或COO，G表示環(huán)氧基，n1、n2和n3各自獨立地表示0或1，n4表示1～4的整數(shù)， F[-D′-Si(R3)(3-a)Qa]b(III) 其中F表示由具有空穴傳輸能力的化合物衍生的有機基團，D′表示具有柔性的二價基團，R3表示氫原子、具有取代基的或不具有取代基的烷基(優(yōu)選具有1～15個碳原子，更優(yōu)選具有1～10個碳原子)或者具有取代基的或不具有取代基的芳基(優(yōu)選具有6～20個碳原子，更優(yōu)選具有6～15個碳原子)，Q表示水解性基團，a表示1～3的整數(shù)，b表示1～4的整數(shù)，
其中F表示具有空穴傳輸能力的n5價有機基團，T表示二價基團，Y表示氧原子或硫原子，R4、R5和R6各自獨立地表示氫原子或一價有機基團，R7表示一價有機基團，ml表示0或1，n5表示1～4的整數(shù)，條件是R6和R7能夠鍵合以形成含有Y作為雜原子的雜環(huán)，
其中F表示具有空穴傳輸能力的n6價有機基團，T表示二價基團，R8表示一價有機基團，m2表示0或1，n6表示1～4的整數(shù)。
在由通式(I)～(V)表示的電荷傳輸材料中，更優(yōu)選具有由以下通式(VI)表示的結(jié)構(gòu)的化合物
其中Ar1～Ar4可以相同或不同，各自表示具有取代基的或不具有取代基的芳基，Ar5表示具有取代基的或不具有取代基的芳基或亞芳基，c各自獨立地表示0或1，k表示0或1，D表示由以下通式(VII)、(VIII)、(IX)、(X)或(XI)表示的一價有機基團，條件是c的總數(shù)為1～4 -(X1)n-R1-Z1H(VII) 其中X1表示氧原子或硫原子，R1表示亞烷基，Z1表示氧原子、硫原子、NH或COO，n表示0或1， 其中X2表示氧原子或硫原子，R2表示亞烷基，Z2表示氧原子、硫原子、NH或COO，G表示環(huán)氧基，n1、n2和n3各自獨立地表示0或1， 其中D′表示具有柔性的二價基團，R3表示氫原子、具有取代基的或不具有取代基的烷基或具有取代基的或不具有取代基的芳基，Q表示水解性基團，a表示1～3的整數(shù)， 其中T表示二價基團，Y表示氧原子或硫原子，R4、R5和R6各自獨立地表示氫原子或一價有機基團，R7表示一價有機基團，ml表示0或1，條件是R6和R7可以鍵合以形成含有Y作為雜原子的雜環(huán)，
其中T表示二價基團，R8表示一價有機基團，m2表示0或1。
作為通式(VI)中由Ar1～Ar4表示的具有取代基的或不具有取代基的芳基，優(yōu)選為由以下通式(1)～(7)表示的芳基。
在通式(1)至(7)中，R9表示氫原子、具有1～4個碳原子的烷基、具有1～4個碳原子的烷氧基、具有這些基團作為取代基的苯基、不具有取代基的苯基或具有7～10個碳原子的芳烷基，R10～R12各自表示氫原子、具有1～4個碳原子的烷基、具有1～4個碳原子的烷氧基、具有1～4個碳原子的烷氧基、具有這些基團作為取代基的苯基、不具有取代基的苯基、具有7～10個碳原子的芳烷基或鹵素原子，Ar表示具有取代基的或不具有取代基的亞芳基，D表示由通式(VII)～(XI)表示的一種結(jié)構(gòu)，Z′表示二價基團，c和s各自表示0或1，t表示1～3的整數(shù)。
作為由通式(7)表示的芳基中由Ar表示的基團，優(yōu)選為由以下通式(8)和(9)表示的亞芳基 在通式(8)和(9)中，R13和R14各自表示氫原子、具有1～4個碳原子的烷基、具有1～4個碳原子的烷氧基、含有具有1～4個碳原子的烷氧基作為取代基的苯基、不具有取代基的苯基、具有7～10個碳原子的芳烷基或鹵素原子，t各自表示1～3的整數(shù)。
作為由通式(7)表示的芳基中由Z′表示的基團，優(yōu)選為由以下通式(10)～(17)表示的二價基團 在通式(10)～(17)中，R15和R16各自表示氫原子、具有1～4個碳原子的烷基、具有1～4個碳原子的烷氧基、含有具有1～4個碳原子的烷氧基作為取代基的苯基、不具有取代基的苯基、具有7～10個碳原子的亞芳基或鹵素原子，W表示二價基團，q和r各自表示1～10的整數(shù)，t各自表示1～3的整數(shù)。
在通式(16)和(17)中，W表示由以下通式(18)～(26)中的一個通式表示的二價基團，其中通式(25)中的u表示0～3的整數(shù) 通式(VI)中Ar5的結(jié)構(gòu)的具體實例包括當k＝0時c＝1的前述Ar1～Ar4的具體結(jié)構(gòu)，和當k＝1時c＝0的前述Ar1～Ar4的具體結(jié)構(gòu)。
由通式(I)表示的化合物的具體實例包括以下化合物(I-1)～(I-37)。在以下表示化合物的結(jié)構(gòu)式中，未顯示有取代基的化學鍵表示甲基。
由通式(II)表示的化合物的具體實例包括以下化合物(II-1)～(II-47)。在以下表示化合物的結(jié)構(gòu)式中，Me和未顯示有取代基的化學鍵均表示甲基，Et表示乙基。
由通式(III)表示的化合物的具體實例包括下表中所示的化合物(III-1)～(III-61)。以下化合物(III-1)～(III-61)是這樣的化合物由通式(VI)表示的化合物中的Ar1～Ar5和k為如下表所定義的組合，并且由S表示的烷氧基甲硅烷基如下表中所定義。以下“No.”表示編號。
由通式(IV)表示的化合物的具體實例包括以下化合物(IV-1)(IV-40)。在以下表示化合物的結(jié)構(gòu)式中，Me和未顯示有取代基的化學鍵均表示甲基，Et表示乙基。
由通式(V)表示的化合物的具體實例包括以下化合物(V-1)～(V-55)。在以下表示化合物的結(jié)構(gòu)式中，Me和未顯示有取代基的化學鍵均表示甲基。
可以將由以下通式(XII)表示的化合物添加到保護層7中，以控制保護層7的例如強度和膜電阻等各種特性。
Si(R50)(4-c)Qc(XII) 其中R50表示氫原子、烷基或具有取代基的或不具有取代基的芳基，Q表示水解性基團，c表示1～4的整數(shù)。
由通式(XII)表示的化合物的具體實例包括以下硅烷偶合劑。硅烷偶合劑的實例包括四官能性烷氧基硅烷(c＝4)，例如四甲氧基硅烷和四乙氧基硅烷；還包括三官能性烷氧基硅烷(c＝3)，例如甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、甲基三甲氧基乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、γ-縮水甘油氧基丙基甲氧基二乙氧基硅烷、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、(十三氟-1，1，2，2-四氫辛基)三乙氧基硅烷、(3，3，3-三氟丙基)三甲氧基硅烷、3-(七氟異丙氧基)丙基三乙氧基硅烷、1H，1H，2H，2H-全氟烷基三乙氧基硅烷、1H，1H，2H，2H-全氟癸基三乙氧基硅烷和1H，1H，2H，2H-全氟辛基三乙氧基硅烷；還包括二官能性烷氧基硅烷(c＝2)，例如二甲基二甲氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷和甲基苯基二甲氧基硅烷；還包括一官能性烷氧基硅烷(c＝1)，例如三甲基甲氧基硅烷。為提高膜的強度，三官能性和四官能性烷氧基硅烷是優(yōu)選的，為提高柔性和成膜性，一官能性和二官能性烷氧基硅烷是優(yōu)選的。
硅烷偶合劑可以以任意量使用，當使用含氟化合物時，含氟化合物的量優(yōu)選小于或等于不含氟化合物的0.25倍(重量)。當該量超過前述范圍時，有時交聯(lián)膜的成膜性會出現(xiàn)問題。
也可以使用用偶合劑制備的硅酮硬涂層劑。商業(yè)上可獲得的硬涂層劑的實例包括KP-85、X-40-9740和X-40-2239(Shin-Etsu Silicone Co.，Ltd.生產(chǎn))和AY42-440、AY42-441和AY49-208(Toray Dow Corning Co.，Ltd.生產(chǎn))。
優(yōu)選將由以下通式(XIII)表示的具有兩個或兩個以上硅原子的化合物添加到保護層7中以提高其強度 B-(Si(R51)(3-d)Qd)2(XIII) 其中B表示二價有機基團，R51表示氫原子、烷基或具有取代基的或不具有取代基的芳基，Q表示水解性基團，d表示1～3的整數(shù)。更具體地，由通式(XIII)表示的化合物的優(yōu)選實例包括以下化合物(XIII-1)～(XIII-16)。
可以向保護層7中添加樹脂以達到各種目的，例如耐放電氣體、機械強度、抗缺陷性、顆粒分散性、粘度控制、減小扭矩、磨損量控制以及適用期的延長。在該實施方案中，優(yōu)選還加入可溶于醇的樹脂?？扇苡诖嫉臉渲膶嵗ň垡蚁┐伎s丁醛樹脂、聚乙烯醇縮甲醛樹脂、聚乙烯醇縮乙醛樹脂(例如部分縮醛化的聚乙烯醇縮乙醛樹脂，其中使用甲醛、乙酰乙醛(acetoacetal)等(例如S-LEC B和K，積水化學社生產(chǎn))對部分丁縮醛進行了改性)、聚酰胺樹脂、纖維素樹脂和聚乙烯基苯酚樹脂。從提高電學特性的角度考慮，優(yōu)選使用聚乙烯醇縮乙醛樹脂和聚乙烯基苯酚樹脂。
樹脂的分子量優(yōu)選為2000～100,000，更優(yōu)選為5,000～50,000。當分子量小于2,000時，存在無法獲得所需效果的趨勢，當分子量超過100,000時，存在以下趨勢由于其溶解性降低，導致添加量受到限制，因此在涂布時會出現(xiàn)成膜不良。樹脂的添加量優(yōu)選為1重量％～40重量％，更優(yōu)選為1重量％～30重量％，最優(yōu)選為5重量％～20重量％。當添加量小于1重量％時，難以獲得所需效果，當添加量超過40重量％時，在高溫度和高濕度的環(huán)境中可能會出現(xiàn)圖像模糊。這些樹脂可以單獨使用或者作為多種樹脂的混合物使用。
優(yōu)選向保護層7中添加具有由以下通式(XIV)表示的重復單元的環(huán)狀化合物或該化合物的衍生物，以提高適用期和控制膜的特性
其中A1和A2各自獨立地表示一價有機基團。
具有由通式(XIV)表示的重復單元的環(huán)狀化合物的實例包括可商業(yè)獲得的環(huán)狀硅氧烷化合物。環(huán)狀硅氧烷化合物的具體實例包括環(huán)狀二甲基環(huán)硅氧烷化合物，例如六甲基環(huán)三硅氧烷、八甲基環(huán)四硅氧烷、十甲基環(huán)五硅氧烷和十二甲基環(huán)六硅氧烷；環(huán)狀甲基苯基環(huán)硅氧烷化合物，例如1，3，5-三甲基-1，3，5-三苯基環(huán)三硅氧烷、1，3，5，7-四甲基-1，3，5，7-四苯基環(huán)四硅氧烷和1，3，5，7，9-五甲基-1，3，5，7，9-五苯基環(huán)五硅氧烷；環(huán)狀苯基環(huán)硅氧烷化合物，例如六苯基環(huán)三硅氧烷；包含氟原子的環(huán)狀硅氧烷化合物，例如3-(3，3，3-三氟丙基)甲基環(huán)三硅氧烷；包含氫化甲硅烷基的環(huán)狀硅氧烷化合物，例如甲基氫化硅氧烷混合物、五甲基環(huán)五硅氧烷和苯基氫化環(huán)硅氧烷；包含乙烯基的環(huán)狀硅氧烷化合物，例如五乙烯基五甲基環(huán)五硅氧烷。這些環(huán)狀硅氧烷化合物可以單獨使用或者作為多種環(huán)狀硅氧烷化合物的混合物使用。
可以向保護層7中添加各種微粒，以控制電子照相感光體表面的耐污染物附著性、潤滑性和硬度等。這些微?？梢詥为毺砑踊蛘咦鳛槎喾N微粒的混合物添加。
微粒的實例包括包含硅原子的微粒和包含氟原子的樹脂微粒。包含硅原子的微粒是包含硅作為構(gòu)成元素的微粒，其具體實例包括硅膠和硅酮微粒。用作包含硅原子的微粒的硅膠優(yōu)選體積平均粒徑為1nm～100nm，更優(yōu)選為10nm～30nm。硅膠優(yōu)選為選自分散在有機溶劑，例如醇、酮或酯中的那些硅膠，并且可以選自商業(yè)上可獲得的產(chǎn)品。保護層7中硅膠的固體含量不受特別限制，從成膜性、電學特性和強度方面考慮，相對于保護層7中的總固體含量，硅膠的固體含量優(yōu)選為0.1重量％～50重量％，更優(yōu)選為0.1重量％～30重量％。
用作包含硅原子的微粒的硅酮微粒優(yōu)選為球形，并且體積平均粒徑為1nm～500nm，更優(yōu)選為10nm～100nm。優(yōu)選硅酮微粒選自硅酮樹脂顆粒、硅酮橡膠顆粒和經(jīng)硅酮表面處理的二氧化硅微粒，并且可以選自商業(yè)上可獲得的產(chǎn)品。
硅酮微粒是化學惰性的，是在樹脂中具有優(yōu)異分散性的小粒徑顆粒，并且為得到足夠的特性所需要的添加量很低，因此，它們可以提高電子照相感光體的表面特性，而不會削弱交聯(lián)反應。換句話說，均勻地加入到牢固的交聯(lián)結(jié)構(gòu)中的硅酮微粒可以提高電子照相感光體表面的潤滑性和防水性，還能使電子照相感光體表面在長期使用時仍可以保持良好的耐磨性和抗污染物附著性。相對于保護層7中的總固體含量，保護層7中硅酮微粒的含量優(yōu)選為0.1重量～30重量％，更優(yōu)選為0.5重量％～10重量％。
包含氟原子的樹脂顆粒的實例包括氟微粒(例如通過聚合四氟乙烯、三氟乙烯、六氟丙烯、氟乙烯和偏二氟乙烯獲得的微粒)和如Preprints ofthe 8th Polymer Material Forum，第89頁所述的通過將氟樹脂和具有羥基的單體共聚所得到的樹脂的微粒。
其他微粒的實例包括半導電性金屬氧化物微粒，例如ZnO-Al2O3、SnO2-Sb2O3、In2O3-SnO2、ZnO-TiO2、MgO-Al2O3、FeO-TiO2、TiO2、SnO2、In2O3、ZnO和MgO。
可以向保護層7中添加油類(例如硅油)，以實現(xiàn)類似目的。硅油的實例包括諸如二甲基聚硅氧烷、二苯基聚硅氧烷和苯基甲基聚硅氧烷等硅油，以及活性硅油，例如氨基改性的聚硅氧烷、環(huán)氧改性的聚硅氧烷、羧基改性的聚硅氧烷、甲醇改性的聚硅氧烷、甲基丙烯酸改性的聚硅氧烷、巰基改性的聚硅氧烷和苯酚改性的聚硅氧烷。油類可以預先添加到用于形成保護層的涂布組合物中，或者在制成感光體后在減壓或增壓的條件下浸入保護層。
保護層7可以包含諸如增塑劑、表面改進劑、抗氧化劑和光劣化防止劑等添加劑。增塑劑的實例包括聯(lián)苯、氯代聯(lián)苯、三聯(lián)苯、鄰苯二甲酸二丁酯、鄰苯二甲酸二乙二醇酯、鄰苯二甲酸二辛酯、磷酸三苯酯、甲基萘、二苯甲酮、氯化石蠟、聚丙烯、聚苯乙烯和各種氟代烴。
特別優(yōu)選向保護層7中添加抗氧化劑，以防止因充電裝置中所產(chǎn)生的氧化性氣體(例如臭氧)所導致的劣化。當感光體由于其表面機械強度提高而獲得了延長的使用壽命時，感光體會長期與氧化性氣體接觸，因此與傳統(tǒng)產(chǎn)品相比需要具有更高的抗氧化性。抗氧化劑的優(yōu)選實例包括受阻酚類抗氧化劑和受阻胺類抗氧化劑，也可以使用例如以下這些已知的抗氧化劑有機硫抗氧化劑、亞磷酸酯抗氧化劑、二硫代氨基甲酸酯抗氧化劑、硫脲抗氧化劑和苯并咪唑抗氧化劑。保護層7中抗氧化劑的添加量優(yōu)選為小于或等于20重量％，更優(yōu)選為小于或等于10重量％。
受阻酚類抗氧化劑的實例包括2，6-二叔丁基-4-甲基苯酚、2，5-二叔丁基對苯二酚、N，N′-六亞甲基二(3，5-二叔丁基-4-羥基氫化肉桂酰胺、3，5-二叔丁基-4-羥基芐基膦酸二乙基酯、2，4-二((辛硫基)甲基)-鄰甲酚、2，6-二叔丁基-4-乙基苯酚、2，2′-亞甲基二(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，2′-亞甲基二(4-乙基-6-叔丁基苯酚)、4，4′-亞丁基二(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，5-二叔戊基對苯二酚、2-叔丁基-6-(3-丁基-2-羥基-5-甲基芐基)-4-甲基苯基丙烯酸酯和4，4′-亞丁基二(3-甲基-6-叔丁基苯酚)。
商業(yè)上可獲得的受阻酚類抗氧化劑的實例包括Sumilizer BHT-R、Sumilizer MDP-S、Sumilizer BBM-S、Sumilizer WX-R、Sumilizer NW、Sumilizer BP-76、Sumilizer BP-101、Sumilizer GA-80、Sumilizer GM和Sumilizer GS，均由住友化學社生產(chǎn)；IRGANOX 1010、IRGANOX 1035、IRGANOX 1076、IRGANOX 1098、IRGANOX 1135、IRGANOX 1141、IRGANOX 1222、IRGANOX 1330、IRGANOX 1425WL、IRGANOX1520L、IRGANOX 245、IRGANOX 259、IRGANOX 3114、IRGANOX3790、IRGANOX 5057和IRGANOX 565，均由Ciba Specialty Chemicals，Inc.生產(chǎn)；和ADEKA STUB AO-20、ADEKA STUB AO-30、ADEKA STUBAO-40、ADEKA STUB AO-50、ADEKA STUB AO-60、ADEKA STUBAO-70、ADEKA STUB AO-80和ADEKA STUB AO-330，均由旭電化社生產(chǎn)。商業(yè)上可獲得的受阻胺類抗氧化劑的實例包括Sanol LS2626、SanolLS756、Sanol LS770和Sanol LS744，均由Sankyo Lifetech Co.，Ltd.生產(chǎn)；TINUVIN 144和TINUVIN 622LD，均由Ciba Specialty Chemicals，Inc.生產(chǎn)；MARK LA57、MARK LA67、MARK LA62、MARK LA68和MARKLA63，均由旭電化社生產(chǎn)；和Sumilizer TPS，由住友化學社生產(chǎn)。商業(yè)上可獲得的硫醚抗氧化劑的實例包括Sumilizer TP-D，由住友化學社生產(chǎn)。商業(yè)上可獲得的亞磷酸酯抗氧化劑的實例包括MARK 2112、MARKPEP-8、MARK PEP-24G、MARK PEP-36、MARK 329K和MARK HP-10，均由旭電化社生產(chǎn)。這些抗氧化劑可以用諸如能夠與形成交聯(lián)膜的材料發(fā)生交聯(lián)反應的烷氧基甲硅烷基等取代基進行改性。
保護層7可以包含絕緣樹脂，例如聚乙烯醇縮丁醛樹脂、聚芳酯樹脂(雙酚A與鄰苯二甲酸的縮聚物)、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、苯氧基樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚酰胺樹脂、丙烯酸樹脂、聚丙烯酰胺樹脂、聚乙烯基吡啶樹脂、纖維素樹脂、氨基甲酸酯樹脂、環(huán)氧樹脂、酪蛋白、聚乙烯醇樹脂和聚乙烯基吡咯烷酮樹脂。在此情況下，可以包含所需比例的絕緣樹脂，以改善與電荷傳輸層6的粘附性，并且可以抑制由于熱收縮和排斥性導致的涂布膜中所出現(xiàn)的缺陷。
為了降低殘余電勢，可以向保護層7中添加導電性顆粒。導電性顆粒的實例包括金屬、金屬氧化物和炭黑，并且優(yōu)選金屬和金屬氧化物。金屬的實例包括鋁、鋅、銅、鉻、鎳、銀和不銹鋼，還包括氣相沉積有這些金屬的塑料顆粒。金屬氧化物的實例包括氧化鋅、氧化鈦、氧化錫、氧化銻、氧化銦、氧化鉍、摻雜有錫的氧化銦、摻雜有銻或鉭的氧化錫以及摻雜有銻的氧化鋯。它們可以單獨使用或者多種混合使用。當其多種以上組合使用時，可以將其簡單混合，或者使其形成為固溶體或熔合的復合物。從保護層的透明性的角度考慮，導電性顆粒的平均粒徑優(yōu)選小于或等于0.3μm，特別優(yōu)選小于或等于0.1μm。
保護層7可以通過使用包含前述構(gòu)成材料的用于形成保護層的涂布組合物來形成。
保護層7通過使用具有活性官能團的電荷傳輸材料形成，因此，優(yōu)選向用于形成保護層的涂布組合物中添加催化劑，或者在生產(chǎn)用于形成保護層的涂布組合物時使用催化劑。所用催化劑的實例包括無機酸(例如鹽酸、乙酸、磷酸和硫酸)、有機酸(例如甲酸、丙酸、草酸、對甲苯磺酸、苯甲酸、鄰苯二甲酸和馬來酸)、堿性催化劑(例如氫氧化鉀、氫氧化鈉、氫氧化鈣、氨水和三乙胺)和不溶于體系的固體催化劑。
為了在生產(chǎn)時從具有羥甲基的苯酚衍生物中除去催化劑，優(yōu)選將該苯酚衍生物溶解于適當溶劑(例如甲醇、乙醇、甲苯和乙酸乙酯)中，然后用水洗滌，并用不良溶劑進行再沉淀，或者使用離子交換樹脂或無機固體進行處理。
離子交換樹脂的實例包括陽離子交換樹脂，例如Amberlite 15、Amberlite 200C和Amberlist 15E，均由Rohm & Haas Company生產(chǎn)；Dowex MWC-1-H、Dowex 88和Dowex HCR-W2，均由Dow ChemicalCompany生產(chǎn)；Lewatit SPC-108和Lewatit SPC-118，由Bayer AG生產(chǎn)；Diaion RCP-150H，由三菱化成社生產(chǎn)，Sumikaion KC-470、Duolite C26-C、Duolite C-433和Duolite 464，均由住友化學社生產(chǎn)，還包括陰離子交換樹脂，例如Amberlite IRA-400和Amberlite IRA-45，均由Rohm & HaasCompany生產(chǎn)。
無機固體的實例包括具有與其表面鍵接的包含質(zhì)子酸的基團的無機固體(例如Zr(O3PCH2CH2SO3H)2和Th(O3PCH2CH2COOH)2)、包含質(zhì)子酸的聚有機硅氧烷(例如具有磺酸基的聚有機硅氧烷)、雜多酸(例如鎢酸鈷和磷鉬酸鹽)、同多酸(例如鈮酸、鉭酸和鉬酸)、單元素金屬氧化物(例如硅膠、氧化鋁、氧化鉻、氧化鋯、CaO和MgO)、復合金屬氧化物(例如二氧化硅-氧化鋁、二氧化硅-氧化鎂、二氧化硅-氧化鋯和沸石)、粘土礦物(例如酸性粘土、活性粘土、蒙脫石和高嶺石)、金屬硫酸鹽(例如Li2SO4和MgSO4)、金屬磷酸鹽(例如磷酸鋯和磷酸鑭)、金屬硝酸鹽(例如LiNO3和Mn(NO3)2)、具有與其表面鍵接的包含氨基的基團的無機固體(例如通過將氨基丙基三乙氧基硅烷在硅膠上進行反應獲得的固體)以及包含氨基的聚有機硅氧烷(例如氨基改性的硅酮樹脂)。
在用于形成保護層的涂布組合物中，可以根據(jù)需要使用各種溶劑，例如醇(例如甲醇、乙醇、丙醇和丁醇)、酮(例如丙酮和甲基乙基酮)四氫呋喃和醚(例如乙醚和二噁烷)，以及其他各種溶劑。在使用浸涂法(該方法常用于生產(chǎn)電子照相感光體)時，優(yōu)選使用醇溶劑、酮溶劑或其混合溶劑。優(yōu)選使用的溶劑的沸點為50℃～150℃，可以作為以上溶劑的混合物使用。
由于優(yōu)選使用醇溶劑、酮溶劑及其混合溶劑作為溶劑，因此保護層中所使用的電荷傳輸材料優(yōu)選溶于這些溶劑。
溶劑的量可以任意確定，并且相對于用于形成保護層的涂布組合物中的每一重量份的固體含量，溶劑的量優(yōu)選為0.5重量份～30重量份，更優(yōu)選為1重量份～20重量份，這是因為當溶劑量過少時，涂布組合物的構(gòu)成材料容易發(fā)生沉淀。
通過使用用于形成保護層的涂布組合物來形成保護層的涂布方法的實例包括常用方法，例如刮涂法、繞線棒涂布法、噴涂法、浸涂法、珠涂法、氣刀涂布法和幕涂法。當通過一次涂布操作無法獲得所需的厚度時，可以通過重復進行涂布操作來獲得所需的厚度。當重復進行涂布操作時，對每次涂布操作均可進行加熱操作，或者可以在進行多次涂布操作后進行加熱操作。
通過使用用于形成保護層的涂布組合物而形成的保護層7具有優(yōu)異的機械強度，并且還具有足夠的光電特性，因此其自身還可以用作層疊型感光體的電荷傳輸層。
當生產(chǎn)如圖4和圖5所示的感光體中的單層型感光層8時，該單層型感光層8包含電荷產(chǎn)生材料、電荷傳輸材料和粘合劑樹脂。作為這些成分，可以使用前述的用于電荷產(chǎn)生層5和電荷傳輸層6的那些材料。相對于單層型感光層中的總固體含量，單層型感光層8中電荷產(chǎn)生材料的含量優(yōu)選為10重量～85重量％，更優(yōu)選為20重量％～50重量％。相對于單層型感光層中的總固體含量，單層型感光層8中電荷傳輸材料的含量優(yōu)選為5重量～50重量％。用于涂布的溶劑和涂布法可以與前述其他層相同。單層型感光層的厚度優(yōu)選為5μm～50μm，更優(yōu)選為10μm～40μm。
在本發(fā)明中，只要感光層滿足本發(fā)明所限定的動態(tài)硬度和彈性形變率，就不必一定具有保護層。例如，當如圖1所示的電子照相感光體中的電荷傳輸層6中包含前述酚樹脂時，可以省略保護層7。具體地，感光層可以具有依次包含底涂層、電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層的構(gòu)成。
感光層3可以包含至少一種受電子性物質(zhì)，以用于改善感光度、降低殘余電勢和降低重復使用時的疲勞等目的。
受電子性物質(zhì)的實例包括琥珀酸酐、馬來酸酐、二溴馬來酸酐、鄰苯二甲酸酐、四溴鄰苯二甲酸酐、四氰乙烯、四氰基醌基二甲烷、鄰二硝基苯、間二硝基苯、氯醌、二硝基蒽醌、三硝基芴酮、苦味酸、鄰硝基苯甲酸、對硝基苯甲酸和鄰苯二甲酸。其中，特別優(yōu)選芴酮化合物、醌化合物和具有諸如Cl、CN和NO2等吸電子取代基的苯衍生物。
感光層3可以包含諸如抗氧化劑、光穩(wěn)定劑和熱穩(wěn)定劑等添加劑，以防止感光體由于受到成像設(shè)備中所產(chǎn)生的臭氧和氧化性氣體、光和熱的影響而劣化。
抗氧化劑的實例包括受阻酚、受阻胺、對苯二胺、芳基烷烴、對苯二酚、螺色滿(spirochroman)、螺茚滿酮(spiroindanone)以及它們的衍生物、有機硫化合物和有機磷化合物。光穩(wěn)定劑的實例包括二苯甲酮、苯并三唑、二硫代氨基甲酸酯和四甲基哌啶的衍生物。
優(yōu)選使用包含氟樹脂的水性分散液處理作為電子照相感光體1最外層的保護層7，從而減少旋轉(zhuǎn)電子照相感光體所需的扭矩，并提高轉(zhuǎn)印效率。
(成像設(shè)備和處理盒) 圖6是顯示基于本發(fā)明的成像方法形成圖像的成像設(shè)備的一個優(yōu)選實施方案的示意圖。在圖中未顯示的成像設(shè)備主體中，圖6中所示的成像設(shè)備100具有配備有電子照相感光體1的處理盒20、曝光裝置30、轉(zhuǎn)印裝置40和中間轉(zhuǎn)印材料50。在成像設(shè)備100中，曝光裝置30布置在通過處理盒20上的開口可以對電子照相感光體1進行曝光的位置，轉(zhuǎn)印裝置40隔著中間轉(zhuǎn)印材料50面對電子照相感光體1布置，中間轉(zhuǎn)印材料50以其一部分可以與電子照相感光體1相接觸的方式布置。
處理盒20在框架中具有充電單元21、顯影單元25和清潔單元27，它們通過用軌道結(jié)合而與電子照相感光體1一起集成?？蚣芫哂杏糜谄毓獾拈_口。
充電單元21的實例包括使用導電或半導電的充電輥、充電刷、充電膜、充電橡膠刮刀和充電管等的接觸式充電裝置。也可以使用其他已知的充電裝置，例如在感光體1附近使用充電輥的非接觸輥式充電裝置，以及利用電暈放電的scorotron充電裝置和電暈管充電裝置。
顯影單元25可以是能夠通過接觸或不接觸磁性或非磁性的單成分顯影劑或雙成分顯影劑來使靜電潛像顯影的常用顯影裝置。顯影裝置不受特別限制，只要具備前述功能即可，并且可以根據(jù)目的適當選擇。例如，可以使用具有通過利用刷或輥將單成分顯影劑或雙成分顯影劑附著到感光體1上的功能的已知顯影設(shè)備。
曝光裝置30的實例包括能夠利用半導體激光、LED光或液晶光閘光(shutter light)如所期望的圖像那樣曝光感光體1表面的光學裝置。光源的波長可以在感光體的光譜感光區(qū)域內(nèi)。半導體激光的主流波長為約780nm的近紅外區(qū)，但是本發(fā)明并不局限于此，也可以使用振動波長為600nm左右的激光和振動波長范圍約為400nm～450nm的藍光激光。為了形成彩色圖像，可以有效地使用能夠進行多束光輸出的面發(fā)光型激光源。
轉(zhuǎn)印裝置40的實例包括已知的轉(zhuǎn)印充電裝置，例如使用帶、輥、膜、橡膠刮刀等的接觸式轉(zhuǎn)印充電裝置和利用電暈放電的scorotron轉(zhuǎn)印充電裝置和電暈管轉(zhuǎn)印充電裝置。
中間轉(zhuǎn)印材料50的實例包括由聚酰亞胺、聚酰胺酰亞胺、聚碳酸酯、聚芳酯、聚酯或橡膠等形成的具有半導電性的帶狀材料(中間轉(zhuǎn)印帶)。中間轉(zhuǎn)印材料50的形狀除了帶狀外，可以為鼓狀。
除了上述裝置之外，成像設(shè)備100還可以配有對感光體1進行光除電的光除電裝置。
圖7是顯示本發(fā)明的成像設(shè)備的另一實施方案的示意圖；圖7中所示的成像設(shè)備110具有安裝在成像設(shè)備的主體上的電子照相感光體1和充電裝置22、顯影裝置25和清潔裝置27，所述充電裝置22、顯影裝置25和清潔裝置27分別獨立地形成盒從而構(gòu)成了充電處理盒、顯影處理盒和清潔處理盒。充電裝置22具有通過電暈放電方式進行充電的充電單元。
在成像設(shè)備110中，電子照相感光體1與其他裝置是分開的，并且充電裝置22、顯影裝置25和清潔裝置27分別可以通過拉、壓等拆下地安裝在成像設(shè)備的主體上，而不是通過螺絲、鎖縫、粘合或焊接固定。
在本發(fā)明的成像設(shè)備中，電子照相感光體1包含具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)的保護層，通過該保護層可以充分防止感光體表面的磨損。電子照相感光體1對設(shè)備中所生成的雜質(zhì)或進入到設(shè)備中的雜質(zhì)具有優(yōu)異的抵抗性，因此可以提供較長的使用壽命。按照此構(gòu)成，在某些時候電子照相感光體可以不形成為盒。因此，通過使用這種構(gòu)成充電裝置22、顯影裝置25和清潔裝置27分別可以通過拉、壓等拆下地安裝在成像設(shè)備的主體上，而不是通過螺絲、鎖縫、粘合或焊接固定，可以降低每份印刷材料所消耗的構(gòu)件成本。在這些裝置中，可以將兩個或兩個以上裝置一體化以形成盒，其能夠可拆下地安裝，從而進一步降低每份印刷材料所消耗的構(gòu)件成本。
除了充電裝置22、顯影裝置25和清潔裝置27分別為盒之外，成像設(shè)備110與成像設(shè)備100具有相同的構(gòu)成。
圖8是顯示本發(fā)明的成像設(shè)備的又一實施方案的示意圖；成像設(shè)備120是配有四個處理盒20的串聯(lián)型全色成像設(shè)備。在成像設(shè)備120中，四個處理盒20在中間轉(zhuǎn)印材料50上平行排列，每種顏色可以使用一個電子照相感光體。除了串聯(lián)方式之外，成像設(shè)備120與成像設(shè)備100具有相同的構(gòu)成。
在串聯(lián)型成像設(shè)備120中，使用本發(fā)明的電子照相感光體作為用于形成各色調(diào)色劑圖像的感光體。因此，即使長期使用時也可以充分抑制因?qū)щ娦噪s質(zhì)導致的針孔漏電的發(fā)生，從而充分防止珠狀色點缺陷的形成，從而在長期使用中仍能形成高品質(zhì)的圖像。
圖9是顯示本發(fā)明的成像設(shè)備的再一實施方案的示意圖；圖9中所示的成像設(shè)備130是所謂的四循環(huán)成像設(shè)備，其中使用一個電子照相感光體形成多種顏色的調(diào)色劑圖像。成像設(shè)備130具有利用驅(qū)動裝置(圖中未顯示)而沿圖中箭頭A所示方向以預定轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)的感光體鼓1，和設(shè)置在感光體鼓1上方的用于對感光體鼓1的外表面充電的充電設(shè)備22。感光體鼓1具有與前述電子照相感光體1相同的構(gòu)成。
將具有面發(fā)光激光陣列作為曝光光源的曝光裝置30設(shè)置在充電裝置22的上方。曝光裝置30調(diào)制從光源發(fā)射的對應要形成的圖像的多個激光束，并且偏離主掃描方向使其以平行于感光體鼓1的軸的方向掃描感光體鼓1的外表面。由于此操作，在感光體鼓1的外表面上形成靜電潛像。
顯影裝置25布置在感光體鼓1側(cè)。顯影裝置25具有可旋轉(zhuǎn)地布置的輥狀收容體。收容體中形成有四個收容部，顯影單元25Y、25M、25C和25K分別設(shè)置在四個收容部中。顯影單元25Y、25M、25C和25K均具有顯影輥26，并分別包含Y(黃色)、M(品紅)、C(青色)和K(黑色)的調(diào)色劑。
在成像設(shè)備130中通過感光體鼓1的四次旋轉(zhuǎn)形成全色圖像。在感光體鼓1的四次旋轉(zhuǎn)期間，重復進行以下操作充電裝置22對感光體鼓1的外表面進行充電，曝光裝置20使用根據(jù)Y、M、C、K中的一種顏色的圖像數(shù)據(jù)調(diào)制的激光束，通過在感光體鼓1完成一次旋轉(zhuǎn)后切換用于調(diào)制激光束的圖像數(shù)據(jù)來掃描感光體鼓1的外表面。顯影裝置25開動顯影單元25Y、25M、25C和25K中的一個顯影單元，使它們的顯影輥26與感光體鼓1的外表面接觸，從而將感光體1外表面上所形成的靜電潛像顯影為特定顏色，并且在感光體鼓1完成一次旋轉(zhuǎn)后通過旋轉(zhuǎn)收容體以切換用于顯影靜電潛像的顯影單元來重復該操作。按照這種程序，顏色Y(黃色)、M(品紅)、C(青色)和K(黑色)的調(diào)色劑圖像就隨感光體鼓1的每次旋轉(zhuǎn)而依次形成在其外表面上。
環(huán)狀中間轉(zhuǎn)印帶50位于感光體鼓1的略下方。中間轉(zhuǎn)印帶50卷掛在輥51、53和55之間，并進行布置使其外表面與感光體鼓1的外表面相接觸。輥51、53和55通過傳送電動機(圖中未顯示)的驅(qū)動力而旋轉(zhuǎn)，從而以圖1中所示的箭頭B的方向驅(qū)動中間轉(zhuǎn)印帶50。
在中間轉(zhuǎn)印帶50與感光體鼓1相反的一側(cè)布置有轉(zhuǎn)印裝置(轉(zhuǎn)印單元)40，用轉(zhuǎn)印裝置40將形成在感光體鼓1外表面上的調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn)印帶50的成像表面上。中間轉(zhuǎn)印帶50隨感光體鼓1的旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)，這樣，在感光體鼓1完成四次旋轉(zhuǎn)后，全色調(diào)色劑圖像就形成在中間轉(zhuǎn)印帶50上。
在感光體鼓1與顯影裝置25相反的一側(cè)將潤滑劑供應裝置31和清潔裝置27布置在感光體鼓1的外表面上。當將形成在感光體鼓1外表面上的調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn)印帶50上之后，潤滑劑供應裝置31將潤滑劑供應到感光體鼓1的外表面上，并用清潔裝置27清潔外表面上保留有已轉(zhuǎn)印的調(diào)色劑圖像的區(qū)域。
托盤60布置在中間轉(zhuǎn)印帶50的下方，大量作為記錄材料的記錄紙P堆放在托盤60中。拾取輥61布置在托盤60的左斜上方，一對輥63和輥65依次布置在采用拾取輥61的紙P的拾取方向的下游側(cè)。通過旋轉(zhuǎn)拾取輥61可以從托盤60中拾取所堆積的記錄紙中的最上面一張并通過一對輥63和輥65傳送。
轉(zhuǎn)印裝置42布置在中間轉(zhuǎn)印帶50與輥55相反的一側(cè)。由一對輥63和輥65傳送的紙P在中間轉(zhuǎn)印帶50和傳送裝置42之間傳遞，用轉(zhuǎn)印裝置42將形成在中間轉(zhuǎn)印帶50的表面上的調(diào)色劑圖像轉(zhuǎn)印到紙P上。將裝有一對定影輥的定影裝置44布置在相對轉(zhuǎn)印裝置42的紙的傳送方向的下游側(cè)。用定影裝置44使轉(zhuǎn)印到紙P上的調(diào)色劑圖像熔融并定影在紙P上，并將其上定影有調(diào)色劑圖像的紙傳送到成像設(shè)備130的外面，并放置在紙傳遞托盤(圖中未顯示)上。
定影裝置44的實例包括通常用作定影裝置的裝置，例如熱輥定影裝置和烘箱定影裝置。用定影裝置44將轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印介質(zhì)上的調(diào)色劑圖像定影在轉(zhuǎn)印介質(zhì)上。
(處理盒) 下面將描述本發(fā)明的處理盒。圖10是顯示本發(fā)明的處理盒的一個優(yōu)選實施方案的示意圖。
處理盒300在框架300內(nèi)部具有充電單元21、曝光裝置30、顯影單元25、清潔單元27和安裝軌道313，它們與電子照相感光體1一起集成。處理盒300可拆下地安裝在包含轉(zhuǎn)印裝置40和定影裝置44的成像設(shè)備的主體(圖中未顯示)上，并與成像設(shè)備的主體一起構(gòu)成了成像設(shè)備。
[實施例] 本發(fā)明將參照實施例進行詳細描述，但是不應認為本發(fā)明僅限于這些實施例。
(電子照相感光體的制備) (實施例A-1) 制備圓筒狀鋁支持體(直徑30mm，長度404mm，厚度1mm)。
單獨將100重量份氧化鋅(MZ-300，Tayca Co.，Ltd.生產(chǎn)，平均粒徑70nm，比表面積15m2/g)和500重量份四氫呋喃通過攪拌混合在一起，并向其中加入1.25重量份硅烷偶合劑(KBM603，信越化學社生產(chǎn))，然后攪拌2小時。之后，通過減壓蒸餾蒸除四氫呋喃，并在150℃焙燒2小時以獲得用硅烷偶合劑進行過表面處理的氧化鋅。
將100重量份用硅烷偶合劑進行過表面處理的氧化鋅和500重量份四氫呋喃攪拌混合，向其中加入通過將1重量份茜素溶解在50重量份四氫呋喃中所獲得的溶液，然后在50℃攪拌5小時。接下來，通過減壓過濾來過濾附著有茜素的氧化鋅，然后在60℃減壓干燥以獲得附著有茜素的氧化鋅顏料(包含茜素和氧化鋅的復合物)。
將100重量份附著有茜素的氧化鋅顏料、作為硬化劑的13.5重量份封端的異氰酸酯(Sumidule 3175，Sumitomo Bayer Urethane Co.，Ltd.生產(chǎn))、15重量份丁醛樹脂(S-LEC BM-1，積水化學社生產(chǎn))和85重量份甲基乙基酮混合，并將38重量份所得溶液和25重量份甲基乙基酮混合，然后使用直徑為1mm的玻璃珠用砂磨機將其分散2小時，以獲得分散液。將0.005重量份作為催化劑的二辛基錫二月桂酸酯和40重量份硅酮樹脂顆粒(Tospearl 145，GE Toshiba Silicones Co.，Ltd.生產(chǎn))添加到所得分散液中，以獲得用于形成底涂層的涂布組合物。通過浸涂法將該涂布組合物涂布在前述鋁支持體上，并在170℃干燥固化40分鐘，以獲得厚度為18μm的底涂層。
將15重量份在使用CuKa X射線的X射線衍射光譜上在布拉格角(Bragg angle)(2θ±0.2°)至少為7.3°、16.0°、24.9°和28.0°處具有主衍射峰的羥基鎵酞菁與10重量份氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物樹脂(VMCH，Nippon Unicar Co.，Ltd.生產(chǎn))和200重量份乙酸正丁酯混合，使用砂磨機將該混合物與外徑為1 mm的玻璃珠一起分散4小時。向所得分散液中加入175重量份乙酸正丁酯和180重量份甲基乙基酮，以制備用于形成電荷產(chǎn)生層的涂布組合物。通過浸涂法將所得涂布組合物涂布在涂布有底涂層的導電性支持體上，并常溫干燥以形成厚度為0.2μm的電荷產(chǎn)生層。
將4重量份N，N′-二苯基-N，N′-二(3-甲基苯基)-[1，1′]聯(lián)苯基-4，4′-二胺和6重量份雙酚Z聚碳酸酯樹脂(粘均分子量40,000)充分溶解在80重量份氯苯中，以制備用于形成電荷傳輸層的涂布組合物。將所得涂布組合物涂布在電荷產(chǎn)生層上，然后加熱到130℃45分鐘，以形成厚度為20μm的電荷傳輸層。
將3重量份由式(I-2)表示的化合物、3重量份甲階酚醛樹脂型酚樹脂(RESITOP PL-2211，群榮化學社生產(chǎn))、0.3重量份硅膠、0.5重量份聚乙烯基酚樹脂(Sigma Aldrich，Inc.生產(chǎn))和0.4重量份3，5-二叔丁基-4-羥基甲苯(BHT)加入到5重量份異丙醇和5重量份甲基異丁基酮的混合溶劑中，以制備用于形成保護層的涂布組合物。通過環(huán)型浸涂法將該涂布組合物涂布在電荷傳輸層上，然后在室溫下風干30分鐘，并通過加熱到150℃固化1小時，以形成厚度為3.5μm的保護層。從而獲得包含其上設(shè)有感光層的導電性支持體的電子照相感光體，該感光層包含依次設(shè)置在導電性支持體上的底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層和保護層。將所得電子照相感光體稱為PR-A-1。
(實施例A-2) 除了使用由式(I-20)表示的化合物代替由式(I-2)表示的化合物以外，使用與實施例A-1相同的方式獲得包含其上設(shè)有感光層的導電性支持體的電子照相感光體，該感光層包含依次設(shè)置在導電性支持體上的底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層和保護層。將所得電子照相感光體稱為PR-A-2。
(實施例A-3) 除了使用由式(II-3)表示的化合物代替由式(I-2)表示的化合物以外，使用與實施例A-1相同的方式獲得包含其上設(shè)有感光層的導電性支持體的電子照相感光體，該感光層包含依次設(shè)置在導電性支持體上的底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層和保護層。將所得電子照相感光體稱為PR-A-3。
(實施例A-4) 除了使用由式(II-15)表示的化合物代替由式(I-2)表示的化合物以外，使用與實施例A-1相同的方式獲得包含其上設(shè)有感光層的導電性支持體的電子照相感光體，該感光層包含依次設(shè)置在導電性支持體上的底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層和保護層。將所得電子照相感光體稱為PR-A-4。
(實施例A-5) 除了使用由式(IV-2)表示的化合物代替由式(I-2)表示的化合物外，使用與實施例A-1相同的方式獲得包含其上設(shè)有感光層的導電性支持體的電子照相感光體，該感光層包含依次設(shè)置在導電性支持體上的底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層和保護層。將所得電子照相感光體稱為PR-A-5。
(實施例A-6) 除了使用由式(IV-25)表示的化合物代替由式(I-2)表示的化合物以外，使用與實施例A-1相同的方式獲得包含其上設(shè)有感光層的導電性支持體的電子照相感光體，該感光層包含依次設(shè)置在導電性支持體上的底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層和保護層。將所得電子照相感光體稱為PR-A-6。
(實施例A-7) 除了使用由式(V-4)表示的化合物代替由式(I-2)表示的化合物以外，使用與實施例A-1相同的方式獲得包含其上設(shè)有感光層的導電性支持體的電子照相感光體，該感光層包含依次設(shè)置在導電性支持體上的底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層和保護層。將所得電子照相感光體稱為PR-A-7。
(實施例A-8) 除了使用由式(V-19)表示的化合物代替由式(I-2)表示的化合物以外，使用與實施例A-1相同的方式獲得包含其上設(shè)有感光層的導電性支持體的電子照相感光體，該感光層包含依次設(shè)置在導電性支持體上的底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層和保護層。將所得電子照相感光體稱為PR-A-8。
(實施例A-9) 制備圓筒狀鋁支持體(直徑30mm，長度404mm，厚度1mm)。
單獨將100重量份氧化鋅(MZ-300，Tayca Co.，Ltd.生產(chǎn)，平均粒徑70nm)和500重量份四氫呋喃通過攪拌混合在一起，并向其中加入1.25重量份硅烷偶合劑(KBM603，信越化學社生產(chǎn))，然后攪拌2小時。接下來，通過減壓蒸餾蒸除四氫呋喃，并在120℃焙燒3小時以獲得用硅烷偶合劑進行過表面處理的氧化鋅。
將60重量份用硅烷偶合劑進行過表面處理的氧化鋅、0.6重量份茜素、13.5重量份作為硬化劑的封端的異氰酸酯(Sumidule 3175，SumitomoBayer Urethane Co.，Ltd.生產(chǎn))、15重量份丁醛樹脂(S-LEC BM-1，積水化學社生產(chǎn))和85重量份甲基乙基酮混合，并將38重量份所得溶液和25重量份甲基乙基酮混合，然后用直徑為1mm的玻璃珠用砂磨機將其分散2小時，以獲得分散液。將0.005重量份作為催化劑的二辛基錫二月桂酸酯和40重量份硅酮樹脂顆粒(Tospearl 145，GE Toshiba Silicones Co.，Ltd.生產(chǎn))添加到所得分散液中，以獲得用于形成底涂層的涂布組合物。通過浸涂法將該涂布組合物涂布在前述鋁支持體上，并在170℃干燥固化40分鐘，以獲得厚度為25μm的底涂層。
將15重量份在使用CuKa X射線的X射線衍射光譜上在布拉格角(Bragg angle)(2θ±0.2°)至少為7.3°、16.0°、24.9°和28.0°處具有主衍射峰的羥基鎵酞菁與10重量份氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物樹脂(VMCH，Nippon Unicar Co.，Ltd.生產(chǎn))和200重量份乙酸正丁酯混合，使用砂磨機將該混合物與外徑為1mm的玻璃珠一起分散4小時。向所得分散液中加入175重量份乙酸正丁酯和180重量份甲基乙基酮，以制備用于形成電荷產(chǎn)生層的涂布組合物。通過浸涂法將所得涂布組合物涂布在涂布有底涂層的導電性支持體上，并常溫干燥以形成厚度為0.2μm的電荷產(chǎn)生層。
將4重量份N，N′-二苯基-N，N′-二(3-甲基苯基)-[1，1′]聯(lián)苯基-4，4′-二胺和6重量份雙酚Z聚碳酸酯樹脂(粘均分子量40,000)充分溶解在80重量份氯苯中，以制備用于形成電荷傳輸層的涂布組合物。將所得涂布組合物涂布在電荷產(chǎn)生層上，然后加熱到130℃保持45分鐘，以形成厚度為20μm的電荷傳輸層。
將3重量份由式(I-2)表示的化合物和3重量份甲階酚醛樹脂型酚樹脂(RESITOP PL-2211，群榮化學社生產(chǎn))、0.3重量份硅膠、0.5重量份聚乙烯基酚樹脂(Sigma Aldrich，Inc.生產(chǎn))和0.4重量份3，5-二叔丁基-4-羥基甲苯(BHT)加入到5重量份異丙醇和5重量份甲基異丁基酮的混合溶劑中，以制備用于形成保護層的涂布組合物。通過環(huán)型浸涂法將該涂布組合物涂布在電荷傳輸層上，然后在室溫下風干30分鐘，并通過加熱到150℃固化1小時，以形成厚度為3.5μm的保護層。從而獲得包含其上設(shè)有感光層的導電性支持體的電子照相感光體，該感光層包含依次設(shè)置在導電性支持體上的底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層和保護層。將所得電子照相感光體稱為PR-A-9。
(實施例A-10) 除了使用由式(I-20)表示的化合物代替由式(I-2)表示的化合物以外，使用與實施例A-9相同的方式獲得包含其上設(shè)有感光層的導電性支持體的電子照相感光體，該感光層包含依次設(shè)置在導電性支持體上的底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層和保護層。將所得電子照相感光體稱為PR-A-10。
(實施例A-11) 除了使用由式(II-3)表示的化合物代替由式(I-2)表示的化合物以外，使用與實施例A-9相同的方式獲得包含其上設(shè)有感光層的導電性支持體的電子照相感光體，該感光層包含依次設(shè)置在導電性支持體上的底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層和保護層。將所得電子照相感光體稱為PR-A-11。
(實施例A-12) 除了使用由式(II-15)表示的化合物代替由式(I-2)表示的化合物以外，使用與實施例A-9相同的方式獲得包含其上設(shè)有感光層的導電性支持體的電子照相感光體，該感光層包含依次設(shè)置在導電性支持體上的底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層和保護層。將所得電子照相感光體稱為PR-A-12。
(實施例A-13) 除了使用由式(IV-2)表示的化合物代替由式(I-2)表示的化合物以外，使用與實施例A-9相同的方式獲得包含其上設(shè)有感光層的導電性支持體的電子照相感光體，該感光層包含依次設(shè)置在導電性支持體上的底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層和保護層。將所得電子照相感光體稱為PR-A-13。
(實施例A-14) 除了使用由式(IV-25)表示的化合物代替由式(I-2)表示的化合物以外，使用與實施例A-9相同的方式獲得包含其上設(shè)有感光層的導電性支持體的電子照相感光體，該感光層包含依次設(shè)置在導電性支持體上的底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層和保護層。將所得電子照相感光體稱為PR-A-14。
(實施例A-15) 除了使用由式(V-4)表示的化合物代替由式(I-2)表示的化合物以外，使用與實施例A-9相同的方式獲得包含其上設(shè)有感光層的導電性支持體的電子照相感光體，該感光層包含依次設(shè)置在導電性支持體上的底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層和保護層。將所得電子照相感光體稱為PR-A-15。
(實施例A-16) 除了使用由式(V-19)表示的化合物代替由式(I-2)表示的化合物以外，使用與實施例A-9相同的方式獲得包含其上設(shè)有感光層的導電性支持體的電子照相感光體，該感光層包含依次設(shè)置在導電性支持體上的底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層和保護層。將所得電子照相感光體稱為PR-A-16。
(實施例A-17) 重復與實施例A-1中相同的步驟，直至制備電荷傳輸層。然后，通過環(huán)型浸涂法將用與實施例A-1相同的方式獲得的用于形成保護層的涂布組合物涂布在電荷傳輸層上，接下來通過在190℃加熱固化1小時，以形成厚度為2.8μm的保護層。從而獲得包含其上設(shè)有感光層的導電性支持體的電子照相感光體，該感光層包含依次設(shè)置在導電性支持體上的底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層和保護層。將所得電子照相感光體稱為PR-A-17。
(比較例A-1) 重復與實施例A-1中相同的步驟，直至制備電荷傳輸層。然后，將2重量份由下式(CT-1)表示的化合物和2重量份由下式(CP-1)表示的化合物添加到包含5重量份異丙醇、3重量份四氫呋喃和0.3重量份蒸餾水的混合溶液中并混合，向所得混合物中加入0.05重量份離子交換樹脂(Amberlyst 15E，Rohm & Haas Company生產(chǎn))，然后在室溫下攪拌，水解24小時。在式(CT-1)中，i-Pr表示異丙基。

將0.04重量份三乙酰丙酮化鋁(Al(aqaq)3)加入到2重量份通過過濾水解產(chǎn)物以分離離子交換樹脂所獲得的溶液中，從而獲得用于保護層的涂布組合物。通過環(huán)形浸涂法將該涂布組合物涂布在電荷傳輸層上，然后在室溫下風干10分鐘，通過在140℃加熱固化40分鐘，以形成厚度為3μm的保護層。從而獲得包含其上設(shè)有感光層的導電性支持體的電子照相感光體，該感光層包含依次設(shè)置在導電性支持體上的底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層和保護層。將所得電子照相感光體稱為RPR-A-1。
(比較例A-2) 重復與實施例A-1中相同的步驟，直至制備電荷傳輸層。然后，將10重量份包含80摩爾％甲基硅氧烷單元和20摩爾％甲基苯基硅氧烷單元的聚硅氧烷樹脂(包含1重量％硅醇基)溶解在8重量份甲苯中，再向其中加入13.0重量份甲基三硅氧烷和0.2重量份二丁錫二乙酸酯，以獲得溶液。將20重量份甲苯和4重量份4-(N，N-二(3，4-二甲基苯基)氨基)-(2-(三乙氧基甲硅烷基)乙基)苯加入到10重量份所得溶液中，以得到用于形成保護層的涂布組合物。通過噴涂法將該涂布組合物涂布在電荷傳輸層上，然后在120℃風干10分鐘，并通過在170℃加熱固化2小時，以形成厚度為3μm的保護層。從而獲得包含其上設(shè)有感光層的導電性支持體的電子照相感光體，該感光層包含依次設(shè)置在導電性支持體上的底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層和保護層。將所得電子照相感光體稱為RPR-A-2。
(比較例A-3) 重復與實施例A-9中相同的步驟，直至制備電荷傳輸層。然后，通過環(huán)型浸涂法將用與比較例A-1相同的方式獲得的用于形成保護層的涂布組合物涂布在電荷傳輸層上，接下來在室溫下風干10分鐘，并通過在140℃加熱固化40分鐘，以形成厚度為3μm的保護層。從而獲得包含其上設(shè)有感光層的導電性支持體的電子照相感光體，該感光層包含依次設(shè)置在導電性支持體上的底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層和保護層。將所得電子照相感光體稱為RPR-A-3。
(比較例A-4) 重復與實施例A-9中相同的步驟，直至制備電荷傳輸層。然后，通過噴涂法將用與比較例A-2相同的方式獲得的用于形成保護層的涂布組合物涂布在電荷傳輸層上，隨后在120℃下風干10分鐘，并通過在170℃加熱固化2小時，以形成厚度為3μm的保護層。從而獲得包含其上設(shè)有感光層的導電性支持體的電子照相感光體，該感光層包含依次設(shè)置在導電性支持體上的底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層和保護層。將所得電子照相感光體稱為RPR-A-4。
(比較例A-5) 制備圓筒狀鋁支持體(直徑30mm，長度404mm，厚度1mm)。
將30重量份有機鋯化合物(乙酰丙酮丁酸鋯)、3重量份有機硅烷化合物(γ-氨基丙基三甲氧基硅烷)、4重量份聚乙烯醇縮丁醛樹脂(S-LECBM-S，積水化學社生產(chǎn))和170重量份正丁醇混合并攪拌，以形成用于形成底層的涂布組合物，通過浸涂法將其涂布在前述鋁支持體上，并在150℃固化1小時，以獲得厚度為1.2μm的底涂層。
以與實施例A-1相同的方式，在底涂層上形成電荷產(chǎn)生層，再在電荷產(chǎn)生層上形成電荷傳輸層。
通過環(huán)型浸涂法將用與實施例A-1相同方式獲得的用于形成保護層的涂布組合物涂布在電荷傳輸層上，隨后通過在190℃加熱固化1小時，以形成厚度為2.8μm的保護層。從而獲得包含其上設(shè)有感光層的導電性支持體的電子照相感光體，該感光層包含依次設(shè)置在導電性支持體上的底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷傳輸層和保護層。將所得電子照相感光體稱為RPR-A-5。
(動態(tài)硬度和彈性形變率的測量) 根據(jù)以下方式，對實施例A-1～A-17中所獲得電子照相感光體PR-A-1～PR-A-17和比較例A-1～A-5中所獲得的電子照相感光體RPR-A-1～RPR-A-5的感光層的動態(tài)硬度和彈性形變率進行測量。所獲結(jié)果如下表1所示。
(動態(tài)硬度) 將切割成10平方毫米的感光體放置到裝有Bercovici壓頭(三角錐形、頂角為115°、前端曲率半徑為0.07μm的金剛石壓頭)的超微硬度測試儀(DUH-201，島津制作所生產(chǎn))中，以壓頭加壓測量模式(加壓速率0.045mN/sec)測量感光層的硬度。在測量中，壓頭從保護層側(cè)以0.3mN的加壓載荷壓在感光層上，將0.3mN的壓力保持1秒鐘后，將施加到壓頭上的壓力釋放至0mN(釋放速率0.045mN/sec)。通過使用以下方程(1)，由以0.3mN的加壓載荷對壓頭加壓時所獲得的壓入深度計算硬度，將計算值指定為感光層的動態(tài)硬度。壓入深度由壓頭的位移讀取，壓入載荷由安裝在壓頭上的測壓儀讀取 DH＝3.8584×(P/D2)(1) 其中DH表示動態(tài)硬度，P表示壓入載荷(N)，D表示壓入深度(m)。
(彈性形變率) 通過使用以下方程(2)由以0.3mN的加壓載荷對壓頭加壓時所獲得的壓入深度和釋放載荷后壓頭的位移來計算彈性形變率 ED＝(D-M)/D×100(2) 其中ED表示彈性形變率(％)，M表示釋放壓力后壓頭的位移(m)，D表示壓入深度(m)。
(實施例(B-1)～(B-17)和比較例(B-1)～(B-5)) 將實施例A-1～A-17中所獲得的電子照相感光體PR-A-1～PR-A-17和比較例A-1～A-5中所獲得的電子照相感光體RPR-A-1～RPR-A-5各自安裝到全色打印機(DocuPrint C2220，富士施樂株式會社生產(chǎn))上，以制造成像設(shè)備，對它們進行以下成像測試1和2。
(成像測試1) 在30℃和85％RH的環(huán)境下使用成像設(shè)備連續(xù)進行30,000張的成像。然后，在同樣環(huán)境下成像(A3尺寸)，根據(jù)以下級別對其圖像品質(zhì)進行目視評價。所獲結(jié)果如下表1所示。
A 很好 B 發(fā)現(xiàn)可忽略的色點缺陷 C 發(fā)現(xiàn)明顯的色點或色線缺陷 對所出現(xiàn)的色點缺陷數(shù)進行了計數(shù)，所獲結(jié)果如表1中所示。
(成像測試2) 假定在當長期使用成像設(shè)備時劣化的顯影裝置和劣化的中間轉(zhuǎn)印材料所釋放的導電物質(zhì)刺入感光體中的場合中，將圓筒狀的碳纖維(直徑5μm～10μm，長度3μm～300μm)有意地加入到成像設(shè)備的調(diào)色劑盒中。所添加的碳纖維量應使調(diào)色劑/碳纖維為1000/1。在30℃和85％RH環(huán)境下使用成像設(shè)備連續(xù)進行10張的成像，根據(jù)以下級別對第十張圖像(A3尺寸)進行目視評價。所獲結(jié)果如下表1所示。
A 很好 B 發(fā)現(xiàn)可忽略的色點缺陷 C 發(fā)現(xiàn)明顯的色點或色線缺陷 對色點超過0.2mm的色點缺陷數(shù)和色點小于或等于0.2mm的色點缺陷數(shù)進行計數(shù)，所獲結(jié)果如表1中所示。
表1 (待續(xù)) 表1(續(xù)) 如表1中所示，證實了實施例(B-1)至(B-17)的成像設(shè)備在成像測試1和2中形成了理想的圖像，這些設(shè)備裝有包含感光層的感光體，其中感光層的動態(tài)硬度為20×109N/m2～150×109N/m2，彈性形變率為15％～80％。因此，根據(jù)本發(fā)明，可以充分防止由于漏電導致的圖像缺陷的發(fā)生，從而能夠長期形成具有高圖像品質(zhì)的圖像。
經(jīng)證實比較例(B-1)和(B-3)的成像設(shè)備在成像測試1和2中無法形成理想的圖像，這些設(shè)備裝有包含感光層的感光體，其中感光層的動態(tài)硬度小于20×109N/m2。經(jīng)證實比較例(B-2)和(B-4)的成像設(shè)備會出現(xiàn)大量超過0.2mm的色點(其原因可能在于感光層出現(xiàn)缺陷或裂紋)，這些設(shè)備裝有包含感光層的感光體，其中感光層的動態(tài)硬度超過150×109N/m2。經(jīng)證實比較例(B-5)的成像設(shè)備在成像測試1和2中無法形成理想的圖像并出現(xiàn)了大量超過0.2mm的色點(其原因可能在于感光層出現(xiàn)缺陷或裂紋)，該設(shè)備裝有包含感光層的感光體，其中感光層的彈性形變率小于15％。
根據(jù)本發(fā)明提供了一種電子照相感光體，它能夠充分防止因漏電導致的圖像缺陷的產(chǎn)生，從而提供延長的使用壽命和高圖像品質(zhì)，還提供了具有這種電子照相感光體以獲得延長的使用壽命和高圖像品質(zhì)的處理盒和成像設(shè)備。
2005年9月21日提交的申請?zhí)枮?005-274621的日本專利申請的全部內(nèi)容，包括說明書、權(quán)利要求書、附圖和摘要在此以參考的方式全部引入。
權(quán)利要求
1.一種電子照相感光體，所述電子照相感光體包含
導電性支持體；和
所述導電性支持體上的感光層，
其中所述感光層的動態(tài)硬度為20×109N/m2～150×109N/m2，彈性形變率為15％～80％。
2.如權(quán)利要求1所述的電子照相感光體，
其中所述感光層包含位于所述導電性支持體側(cè)的底涂層，并且所述底涂層包含受體化合物和金屬氧化物微粒的復合物。
3.如權(quán)利要求1所述的電子照相感光體，
其中所述感光層包含位于導電性支持體側(cè)的底涂層，并且所述底涂層包含金屬氧化物微粒；和具有能夠通過與所述金屬氧化物微粒反應而鍵接到所述金屬氧化物微粒上的基團的受體化合物。
4.如權(quán)利要求1所述的電子照相感光體，
其中所述感光層在所述感光層上距所述導電性支持體最遠側(cè)具有包含酚樹脂的層，所述包含酚樹脂的層包含具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)和電荷傳輸特性的酚樹脂。
5.如權(quán)利要求4所述的電子照相感光體，
其中所述酚樹脂形成自具有羥甲基的苯酚衍生物；和具有活性官能團的電荷傳輸材料。
6.如權(quán)利要求5所述的電子照相感光體，
其中所述具有活性官能團的電荷傳輸材料是具有選自羥基、羧基、烷氧基、環(huán)氧基、碳酸酯基、硫醇基和氨基中的至少一種活性官能團的電荷傳輸材料。
7.如權(quán)利要求5所述的電子照相感光體，
其中所述電荷傳輸材料由式(I)、(II)、(III)、(IV)或(V)表示
F[-(X1)n-R1-Z1H]m (I)
其中F表示由具有空穴傳輸能力的化合物衍生的有機基團，X1表示氧原子或硫原子，R1表示亞烷基，Z1表示氧原子、硫原子、NH或COO，n表示0或1，m表示1～4的整數(shù)；
F[-(X2)n1-(R2)n2-(Z2)n3G]n4(II)
其中F表示由具有空穴傳輸能力的化合物衍生的有機基團，X2表示氧原子或硫原子，R2表示亞烷基，Z2表示氧原子、硫原子、NH或COO，G表示環(huán)氧基，n1、n2和n3各自獨立地表示0或1，n4表示1～4的整數(shù)；
F[-D-Si(R3)(3-a)Qa]b (III)
其中F表示由具有空穴傳輸能力的化合物衍生的有機基團，D表示具有柔性的二價基團，R3表示氫原子、具有取代基的或不具有取代基的烷基或者具有取代基的或不具有取代基的芳基，Q表示水解性基團，a表示1～3的整數(shù)，b表示1～4的整數(shù)；
其中F表示具有空穴傳輸能力的n5價有機基團，T表示二價基團，Y表示氧原子或硫原子，R4、R5和R6各自獨立地表示氫原子或一價有機基團，R7表示一價有機基團，m1表示0或1，n5表示1～4的整數(shù)，條件是R6和R7能夠鍵合以形成含有Y作為雜原子的雜環(huán)；
其中F表示具有空穴傳輸能力的n6價有機基團，T表示二價基團，R8表示一價有機基團，m2表示0或1，n6表示1～4的整數(shù)。
8.一種處理盒，所述處理盒包含
電子照相感光體，所述電子照相感光體包含導電性支持體和所述導電性支持體上的感光層，其中所述感光層的動態(tài)硬度為20×109N/m2～150×109N/m2，彈性形變率為15％～80％；和
選自以下單元的至少一個單元用于對所述電子照相感光體進行充電的充電單元、用調(diào)色劑使形成在所述電子照相感光體上的靜電潛像顯影以形成調(diào)色劑圖像的顯影單元和用于除去殘留在所述電子照相感光體表面上的調(diào)色劑的清潔單元。
9.如權(quán)利要求8所述的處理盒，
其中所述感光層包含位于所述導電性支持體側(cè)的底涂層，并且所述底涂層包含受體化合物和金屬氧化物微粒的復合物。
10.如權(quán)利要求8所述的處理盒，
其中所述感光層包含位于導電性支持體側(cè)的底涂層，并且
所述底涂層包含金屬氧化物微粒；和具有能夠通過與所述金屬氧化物微粒反應而鍵接到所述金屬氧化物微粒上的基團的受體化合物。
11.如權(quán)利要求8所述的處理盒，
其中所述感光層在所述感光層上距所述導電性支持體最遠側(cè)具有包含酚樹脂的層，所述包含酚樹脂的層包含具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)和電荷傳輸特性的酚樹脂。
12.如權(quán)利要求11所述的處理盒，
其中所述酚樹脂形成自具有羥甲基的苯酚衍生物；和具有活性官能團的電荷傳輸材料。
13.如權(quán)利要求12所述的處理盒，
其中所述具有活性官能團的電荷傳輸材料是具有選自羥基、羧基、烷氧基、環(huán)氧基、碳酸酯基、硫醇基和氨基中的至少一種活性官能團的電荷傳輸材料。
14.一種成像設(shè)備，所述成像設(shè)備包含
電子照相感光體，所述電子照相感光體包含導電性支持體和所述導電性支持體上的感光層，其中所述感光層的動態(tài)硬度為20×109N/m2～150×109N/m2，彈性形變率為15％～80％；
用于對所述電子照相感光體進行充電的充電單元；
用于在經(jīng)充電的電子照相感光體上形成靜電潛像的曝光單元；
用調(diào)色劑使所述靜電潛像顯影以形成調(diào)色劑圖像的顯影單元；和
用于將所述調(diào)色劑圖像從所述電子照相感光體轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印材料的轉(zhuǎn)印單元。
15.如權(quán)利要求14所述的成像設(shè)備，
其中所述感光層包含位于所述導電性支持體側(cè)的底涂層，并且所述底涂層包含受體化合物和金屬氧化物微粒的復合物。
16.如權(quán)利要求14所述的成像設(shè)備，
其中所述感光層包含位于導電性支持體側(cè)的底涂層，并且所述底涂層包含金屬氧化物微粒；和具有能夠通過與所述金屬氧化物微粒反應而鍵接到所述金屬氧化物微粒上的基團的受體化合物。
17.如權(quán)利要求14所述的成像設(shè)備，
其中所述感光層在所述感光層上距所述導電性支持體最遠側(cè)具有包含酚樹脂的層，所述包含酚樹脂的層包含具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)和電荷傳輸特性的酚樹脂。
18.如權(quán)利要求17所述的成像設(shè)備，
其中所述酚樹脂形成自具有羥甲基的苯酚衍生物；和具有活性官能團的電荷傳輸材料。
19.如權(quán)利要求18所述的處理盒，
其中所述具有活性官能團的電荷傳輸材料是具有選自羥基、羧基、烷氧基、環(huán)氧基、碳酸酯基、硫醇基和氨基中的至少一種活性官能團的電荷傳輸材料。
全文摘要
本發(fā)明提供一種電子照相感光體，所述電子照相感光體包含導電性支持體和該導電性支持體上的感光層，其中感光層的動態(tài)硬度為20×109N/m2～150×109N/m2，彈性形變率為15％～80％。
文檔編號G03G21/16GK1936712SQ20061006642
公開日2007年3月28日 申請日期2006年3月30日 優(yōu)先權(quán)日2005年9月21日
發(fā)明者家村香於里, 額田克己, 額田秀美, 中村和行 申請人:富士施樂株式會社