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用于顯示裝置的過濾器和包括過濾器的等離子體顯示裝置的制作方法

文檔序號:2679826閱讀:123來源:國知局
專利名稱:用于顯示裝置的過濾器和包括過濾器的等離子體顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本文獻(xiàn)涉及一種顯示裝置,更具體地,涉及一種用于顯示裝置的過濾器以及一種包括該過濾器的等離子體顯示裝置。
背景技術(shù)
隨著近些年半導(dǎo)體技術(shù)的快速發(fā)展,已經(jīng)顯示出向著各種電子裝置的低電壓和低功率損耗以及電子器件小型化、薄化和重量輕巧化發(fā)展的傾向。因此,作為適合于根據(jù)這種傾向的新環(huán)境的電子顯示裝置,已經(jīng)快速地增長了對于平板型顯示裝置的要求。
已經(jīng)開發(fā)出了平板型顯示裝置,如等離子體顯示裝置、液晶顯示器、有機(jī)發(fā)光二極管。尤其,由于可將等離子體顯示裝置制造得薄且輕巧并具有大尺寸的屏幕,因此,等離子體顯示裝是下一代顯示裝置。
這些顯示裝置均具有取決于其類型的特定光學(xué)特性。顯示裝置具有如下問題由外界光在其顯示器表面上產(chǎn)生反射光。而且,顯示裝置具有另一問題當(dāng)驅(qū)動顯示裝置時,會從顯示器表面發(fā)出電磁波或近紅外線。為了克服上述問題,顯示裝置具有在顯示器表面之上形成的過濾器。該過濾器包括多個能夠解決上述問題的功能層。通過在每個基薄膜層上相應(yīng)地形成每個功能層、并且隨后使用粘合劑將功能層疊置起來,來制造該過濾器。因此,存在這樣的問題增加了顯示裝置的制造工藝的數(shù)目,并且由于多個功能層的制造工藝數(shù)目的增加和多個功能層的疊置工藝數(shù)目的增加,增加了顯示裝置的制造工藝數(shù)目并降低了制造產(chǎn)量。而且,顯示裝置的制造成本增加了。

發(fā)明內(nèi)容
因此,本發(fā)明的目的在于解決上述問題和背景技術(shù)中的缺點(diǎn)。
根據(jù)一個方面,提供一種用于顯示裝置的過濾器,其包括基薄膜層、形成于基薄膜層的一個表面上的抗反射層和形成于基薄膜層的另一表面上的電磁干擾屏蔽層。
根據(jù)另一方面,提供一種用于顯示裝置的過濾器,其包括基薄膜層,形成于基薄膜層上的電磁干擾屏蔽層和形成于電磁干擾屏蔽層上的粘合劑層,其中粘合劑層具有近紅外線阻擋功能或色彩校正功能中的至少一個。
根據(jù)再一方面,提供一種用于顯示裝置的過濾器,其包括基薄膜層,形成于基薄膜層的前表面上的抗反射層,形成于基薄膜層的后表面上的電磁干擾屏蔽層和用于在電磁干擾屏蔽層的邊緣表面處接觸電磁干擾屏蔽層的接地部件。
根據(jù)再一方面,提供一種等離子體顯示裝置,其包括根據(jù)上述方面的過濾器中的任一個。


將參考附圖詳細(xì)描述本發(fā)明,附圖中相同的數(shù)字表示相同的元件。
圖1示出了根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器;圖2示出了根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的包括用于顯示裝置的過濾器的等離子體顯示裝置;圖3示出了根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器;圖4示出了根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的包括用于顯示裝置的過濾器的等離子體顯示裝置;圖5示出了根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器;圖6示出了根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器的制造方法;
圖7示出了根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器的另一種制造方法;圖8示出了根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的包括用于顯示裝置的過濾器的等離子體顯示裝置;圖9示出了根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器的另一種制造方法;圖10示出了根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的包括用于顯示裝置的過濾器的等離子體顯示裝置的另一種結(jié)構(gòu)。
具體實(shí)施例方式
參考附圖以更詳細(xì)的方式描述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。
根據(jù)本發(fā)明各實(shí)施例用于顯示裝置的過濾器包括基薄膜層,形成于基薄膜層的一個表面上的抗反射層和形成于基薄膜層的另一表面上的電磁干擾屏蔽層。
優(yōu)選的是,用于顯示裝置的過濾器還包括形成于電磁干擾屏蔽層上的粘合劑層。
優(yōu)選的是,用于顯示裝置的過濾器還包括形成于粘合劑層上的保護(hù)層。
優(yōu)選的是,抗反射層包括外界光吸收型或外界光散射型中的至少一個。
優(yōu)選的是,電磁干擾屏蔽層包括網(wǎng)孔型(mesh type)或濺射型(sputter type)。
優(yōu)選的是,抗反射層直接形成于基薄膜層的前表面上,且電磁干擾屏蔽層直接形成于基薄膜層的后表面上。
根據(jù)本發(fā)明各實(shí)施例用于顯示裝置的過濾器包括基薄膜層,形成于基薄膜層上的電磁干擾屏蔽層和形成于電磁干擾屏蔽層上的粘合劑層,其中粘合劑層具有近紅外線阻擋功能或色彩校正功能中的至少一種。
優(yōu)選的是,粘合劑層包括近紅外線阻擋材料或色彩校正材料中的至少一種。
優(yōu)選的是,近紅外線阻擋材料包括近紅外線阻擋顏料(pigment)或近紅外線染料(dye)中的至少一種。
優(yōu)選的是,色彩校正材料包括色彩校正顏料或色彩校正染料中的至少一種。
優(yōu)選的是,用于顯示裝置的過濾器還包括用于吸收或散射外界光的抗反射層。
優(yōu)選的是,用于顯示裝置的過濾器還包括形成于粘合劑層上的保護(hù)層。
優(yōu)選的是,電磁干擾屏蔽層包括網(wǎng)孔型或濺射型(sputter type)。
根據(jù)本發(fā)明各實(shí)施例用于顯示裝置的過濾器包括基薄膜層,形成于基薄膜層的前表面上的抗反射層,形成于基薄膜層的后表面上的電磁干擾屏蔽層和用于在電磁干擾屏蔽層的邊緣表面處與電磁干擾屏蔽層接觸的接地部件。
優(yōu)接地部件延伸至抗反射層的前表面的周邊。
優(yōu)選的是,接地部件延伸至電磁干擾屏蔽層的后表面的周邊。
優(yōu)選的是,接地部件延伸至抗反射層的前表面的周邊,且延伸至電磁干擾屏蔽層的后表面的周邊。
優(yōu)選的是,接地部件包括導(dǎo)電膜。
優(yōu)選的是,接地部件包括導(dǎo)電帶。
優(yōu)選的是,基薄膜層、抗反射層和電磁干擾屏蔽層的邊緣基本相互相等。
優(yōu)選的是,用于顯示裝置的過濾器還包括形成于電磁干擾屏蔽層的后表面上的粘合劑層。
優(yōu)選粘合劑層具有近紅外線阻擋功能或色彩校正功能中的至少一種。
優(yōu)選的是,粘合劑層包括近紅外線阻擋材料或色彩校正材料中的至少一種。
優(yōu)選的是,用于顯示裝置的過濾器還包括形成于粘合劑層的后表面上的保護(hù)層。
優(yōu)選的是,電磁干擾屏蔽層包括網(wǎng)孔型或?qū)щ娔ば汀?br> 優(yōu)選的是,抗反射層包括外界光吸收型或外界光散射型中的至少一個。
優(yōu)選的是,抗發(fā)射層直接形成于基薄膜層的前表面上,和電磁干擾屏蔽層直接形成于基薄膜層的后表面上。
等離子體顯示裝置包括根據(jù)本發(fā)明各實(shí)施例的過濾器中的任一種。
優(yōu)選的是,過濾器包括玻璃過濾器或薄膜過濾器。
以下,將參考附圖詳細(xì)地描述本發(fā)明的示范性實(shí)施例。結(jié)合附圖,根據(jù)示范性實(shí)施例的以下描述,本發(fā)明的上述和/或其它方面以及優(yōu)點(diǎn)將變得更加顯而易見且更容易理解。
<第一實(shí)施例>
圖1示出了根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例用于顯示裝置的過濾器。
如圖1中所示,根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器包括基薄膜層110、抗反射層120和電磁干擾屏蔽層130。
基薄膜層110用作形成抗反射層120的基礎(chǔ)。基薄膜層110由能夠透射顯示裝置的顯示光的透明材料形成。優(yōu)選地,基薄膜層110由PET(聚丁二醇對苯二甲酸酯(PolyethyleneTerephthalate))膜、TAC(碳化鉭)膜等形成。
抗反射層120形成于基薄膜層110的一個表面上。根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的抗反射層120使用外界光吸收型或外界光散射型中的至少一種。換句話說,可以使用外界光吸收型的抗反射層、外界光散射型的抗反射層或外界光吸收型的抗反射層和外界光散射型的抗反射層的復(fù)合抗反射層。
外界光吸收型的抗反射層包括多個具有不同折射率的折射層。通過經(jīng)由該多個具有不同折射率的折射層吸收外界光,外界光吸收型的抗反射層具有抗反射的功能。換句話說,外界光吸收型的抗反射層具有相對高折射率的第一折射層和相對低折射率的第二折射層的疊置結(jié)構(gòu)。第一折射層和第二折射層構(gòu)造了一組,該組形成一個單元抗反射層。如果需要的話,則外界光吸收型的抗反射層可具有多個單元抗反射層的疊置結(jié)構(gòu)。第一折射層包括折射率約為1.46的TiO2或SnO2。第二折射層包括折射率約為1.65的SiO2。
外界光散射型的抗反射層包括形成抗反射層的第一材料和具有一尺寸的顆粒的第二材料的混合層,其中所述尺寸大于第一材料的顆粒尺寸。由此,外界光散射型的抗反射層具有形成于其表面上的彎曲的部分。通過經(jīng)由該彎曲的部分散射外界光,可以抑制外界光的反射。
電磁干擾屏蔽層130形成于與基薄膜層110的一個表面相對的另一表面上,在所述一個表面上形成了抗反射層120。電磁干擾屏蔽層130防止在顯示裝置中產(chǎn)生的電磁波穿過其前表面發(fā)射出去。根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的電磁干擾屏蔽層130使用網(wǎng)孔型或濺射型。
在圖1中示出網(wǎng)孔型的電磁干擾屏蔽層130。通過在基薄膜層110上以網(wǎng)孔圖案的形式形成導(dǎo)電金屬層來形成網(wǎng)孔型的電磁干擾屏蔽層130。網(wǎng)孔型的電磁干擾屏蔽層130的端部具有用于將網(wǎng)孔圖案的導(dǎo)電金屬層接地的接地部分131。
濺射型的電磁干擾屏蔽層具有介電層D和金屬層M的(DMD)n的結(jié)構(gòu)。該介電層D基本由透明導(dǎo)電材料如ITO、ZnO形成。該金屬層M由具有低電阻的金屬如Ag形成。作為在濺射型的電磁干擾屏蔽層中所包括的層的疊置數(shù)目的值n,該值n與濺射型的電磁干擾屏蔽層的電阻成反比。然而,值n的增加也增加了制造成本。由此,考慮到制造成本,有必要設(shè)置n的最佳值。濺射型的電磁干擾屏蔽層不只具有電磁干擾屏蔽功能,還具有近紅外線吸收功能。
在根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器中,抗反射層120直接形成于基薄膜層110的前表面上,電磁干擾屏蔽層130直接形成于基薄膜層110的后表面上。由此,降低了制造工藝的數(shù)目并增加了制造產(chǎn)量。
換句話說,由于抗反射層不是形成于分離的基薄膜層上,且電磁干擾屏蔽層130不是形成于分離的基薄膜層上,因此降低了每個功能層的制造工藝的數(shù)目和功能層的疊置數(shù)目。而且,降低了由于某些原因如不希望的物質(zhì)進(jìn)入功能層的疊置工藝中而引起的缺陷產(chǎn)生。
粘合劑層140形成于電磁干擾屏蔽層130上。粘合劑層140將根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器粘附到顯示裝置或另一功能層。
保護(hù)層150形成于粘合劑層140上。該保護(hù)層150保護(hù)完成的過濾器。在本發(fā)明的第一實(shí)施例中,保護(hù)層150僅僅形成于粘合劑層140上,以保護(hù)粘合劑層140。然而,如果需要的話,保護(hù)層150可形成于抗反射層上,或可形成于過濾器的邊緣表面上。當(dāng)在顯示裝置上形成過濾器之后,移除保護(hù)層150。
本發(fā)明的過濾器的每個功能層都不限于本發(fā)明的第一實(shí)施例。這些功能層可被增加或移除,以符合顯示裝置的功能要求。而且,為了便于過濾器的制造工藝,可以改變每個功能層的形成順序。
圖2示出了根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的包括用于顯示裝置的過濾器的等離子體顯示裝置。
如圖2中所示,根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的等離子體顯示裝置包括等離子體顯示板200和在等離子體顯示板200上形成的過濾器100。
等離子體顯示板200包括前板210和后板200,二者平行地耦合,從而以其間的給定距離相互相對。在作為顯示器表面的前板210的前玻璃襯底201上成對地形成多個掃描電極202和多個保持電極203,從而形成多個保持電極對,其中在所述顯示表面上顯示圖像。將多個地址電極213設(shè)置在構(gòu)成后表面的后板220的后玻璃襯底211上,從而與多個保持電極對交叉。
掃描電極202和保持電極203每一個都包括由透明的銦-錫-氧(ITO)材料制成的透明電極202a和203a及總線電極202b和203b。掃描電極202和保持電極203被覆蓋了上介電層204。在上介電層204之上形成保護(hù)層205。
多個間隔肋212形成于后板220上以形成多個放電單元。與間隔肋212平行地設(shè)置多個地址電極213。將紅(R)、綠(G)和藍(lán)(B)熒光體214涂敷在地址電極213上。下介電層215形成于地址電極113和熒光體114之間。在圖2中僅僅示出了等離子體顯示板的結(jié)構(gòu)實(shí)例。因此,如果需要的話,可改變在等離子體顯示板中電極的結(jié)構(gòu)或間隔肋的結(jié)構(gòu)。
形成于前板210和后板220之間的間隔肋212形成了一個單位單元。每個單元填充有含有主放電氣體(如,氖(Ne)、氦(He)或Ne-He氣體混合物)以及少量氙(Xe)的惰性氣體。當(dāng)高頻電壓產(chǎn)生放電時,在單元中的惰性氣體產(chǎn)生真空紫外線。該真空紫外線輻射形成于間隔肋212之間的熒光體214,以顯示圖像。
通過在用于顯示圖像的等離子體顯示板200的后表面上組裝框架、驅(qū)動裝置(未示出)等來制造等離子體顯示組件。然后,用于確定外部形狀的外殼(未示出)等被形成于等離子體顯示組合部件上,以完成等離子體顯示裝置。
由于上述結(jié)構(gòu)的等離子體顯示裝置通過施加高頻以產(chǎn)生等離子體放電來顯示圖像,因此其較彩色CRT或液晶顯示器發(fā)出更多的穿過其顯示器表面的電磁波。
因此,根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的等離子體顯示裝置包括根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器(參考圖1),其形成于等離子體顯示板400上。以下將參考圖2中表示的區(qū)域A更詳細(xì)地描述在根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的等離子體顯示裝置中包括的過濾器100的結(jié)構(gòu),圖2是等離子體顯示裝置的截面圖。等離子體顯示裝置的過濾器100包括基薄膜層100、直接形成于基薄膜層110的前表面上的抗反射層120、直接形成于基薄膜層110的后表面上的電磁干擾屏蔽層130和在等離子體顯示板200的前襯底201上的用于粘附過濾器100的粘合劑層140。
由于已經(jīng)參考圖1充分地描述了過濾器100的特性,因此省略了其描述。
如上所述,由于根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的等離子體顯示裝置包括根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器,因此,用于等離子體顯示裝置的該過濾器較包括在其它類型顯示裝置中的過濾器的電磁波屏蔽效果具有更好的電磁波屏蔽效果。此外,這提高了制造產(chǎn)量并降低了制造成本。
可以以膜型或玻璃型的形式形成根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的過濾器。過濾器的類型取決于用來在等離子體顯示板上形成過濾器的結(jié)構(gòu)。對于如在圖2中示出的膜型過濾器,過濾器100直接粘附在等離子體板200上。對于玻璃型過濾器,過濾器100是粘附在與等離子體顯示板200具有間隔的給定玻璃襯底上。
根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器具有這樣的結(jié)構(gòu)用于改善顯示裝置的各種功能的每個功能層被直接形成在一個基薄膜層上,而沒有分別地形成每個功能層。尤其,與用在其它類型顯示裝置中的過濾器相比,用在等離子體顯示裝置中的過濾器需要具有各種功能。因此,由于根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器用在等離子體顯示裝置中,因此,這提供了足夠的效果,如提高制造效率、降低等離子體顯示裝置的制造成本。
<第二實(shí)施例>
圖3示出了根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器。
如圖3中所示,根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器包括基薄膜層110、電磁干擾屏蔽層130和粘合劑層340。
與根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器不同,根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器包括粘合劑層340,該粘合劑層340具有近紅外線阻擋功能或色彩校正功能中的至少一個。
粘合劑層340包括近紅外線阻擋材料或色彩校正材料中的至少一種,以提供近紅外線阻擋功能或色彩校正功能。優(yōu)選的是,近紅外線阻擋材料使用近紅外線阻擋顏料和近紅外線阻擋染料中的至少一種。
而且,色彩校正材料使用色彩校正顏料或色彩校正染料中的至少一種。色彩校正功能涉及到用于校正由驅(qū)動顯示裝置產(chǎn)生的顯示光的色彩的顯示光色彩校正功能。顯示裝置根據(jù)其種類,具有其特定的顯示光學(xué)特性??蓪@示光學(xué)特性分成為兩種情況??蓪⑵浞殖梢环N情況一種特定波長范圍的色彩可比其它波長范圍的色彩看得更清楚;以及另一種情況和與其它波長范圍的色彩相比,一種特定波長范圍的色彩幾乎不能被人用肉眼識別出。所述的一種情況可以通過降低特定波長范圍的外界輻射來校正色彩,所述的另一種情況可通過增加特定波長的光的外界輻射來校正色彩。
根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的粘合劑層340包括用于顯示光色彩校正的顯示光色彩校正材料。優(yōu)選的是,顯示光色彩校正材料使用胺基染料、硫-胺基(sulfur-amine-based)染料、金屬氧化物顏料或有機(jī)顏料中的至少一種。
在此,本發(fā)明不限于通過將上述材料添加到粘合劑層340來實(shí)施粘合劑層的近紅外線阻擋功能或色彩校正功能的方法。例如,考慮到近紅外線受到導(dǎo)電膜疊置結(jié)構(gòu)等的阻擋,通過改變粘合劑層的結(jié)構(gòu)而不使用材料添加方法,可使本發(fā)明的粘合劑層具有近紅外線阻擋功能或色彩校正功能。
如上所述,由于根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的過濾器包括具有近紅外線阻擋功能或色彩校正功能的粘合劑層340,因此會降低制造工藝的數(shù)目并增加制造產(chǎn)量。
即,由于具有近紅外線阻擋功能的分離功能層形成于分離的基薄膜層上,且具有色彩校正功能的分離的功能層不形成于分離的基薄膜層上,因此降低了功能層的制造工藝數(shù)目和功能層的疊置工藝數(shù)目。而且,可降低由于某些原因如不希望的物質(zhì)進(jìn)入到功能層的疊置工藝中引起的缺陷產(chǎn)生。
根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的過濾器還包括用于吸收或散射外界光的抗反射層120。由于根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的過濾器包括具有各種功能的粘合劑層340,因此,以與第一實(shí)施例相同的方式,將抗反射層120直接形成于基薄膜層110的前表面上,且將電磁干擾屏蔽層130直接形成于基薄膜層110的后表面上,降低了過濾器的制造工藝的數(shù)目并增加了制造產(chǎn)量。
根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的過濾器還包括保護(hù)層150。電磁干擾屏蔽層130使用網(wǎng)孔型或濺射型中的至少一種。由于根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器的特性基本與參考圖1充分描述的根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的用于顯示裝置過濾器的那些相同,因此省略了其描述。
本發(fā)明的過濾器的功能層中的每一個都不限于本發(fā)明第二實(shí)施例。可添加或移除功能層,以符合顯示裝置的功能要求。而且,為了便于過濾器的制造工藝,可改變每個功能層的形成順序。
圖4示出了根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的包括用于顯示裝置的過濾器的等離子體顯示裝置。
如圖4中所示,根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的等離子體顯示裝置包括等離子體顯示板200和形成于等離子體顯示板200上的過濾器300。
等離子體顯示裝置不僅發(fā)出電磁波而且發(fā)出由惰性氣體如Ne、Xe引發(fā)的近紅外線。該近紅外線非常接近于家庭用具的遙控器的波長,由此引起等離子體顯示裝置的誤操作。此外,等離子體顯示裝置還具有這樣的特性由于熒光體的特性,較其它類型的顯示裝置發(fā)出更多的桔色波長范圍的光。
因此,根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的等離子體顯示裝置包括形成于等離子體顯示板200上的根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的過濾器(參考圖3)。
以下將參考圖4中示出的區(qū)域B,更詳細(xì)地描述包括在根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的等離子體顯示裝置中的過濾器300的結(jié)構(gòu),圖4是等離子體顯示裝置的截面圖。等離子體顯示裝置的過濾器300包括一個基薄膜層110、直接形成于基薄膜層110的前表面上的抗反射層120、直接形成于基薄膜層110的后表面上的電磁干擾屏蔽層130和用于將過濾器300粘附在等離子體顯示板200的前襯底201上、且具有近紅外線阻擋功能或色彩校正功能中的至少一種的粘合劑層340。
省略了根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的等離子體顯示裝置的基本與參考圖1至3描述的等離子體顯示裝置的那些特性和效果相同的特性和效果。
如上所述,由于根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的等離子體顯示裝置包括根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的顯示裝置的過濾器,因此可實(shí)現(xiàn)制造產(chǎn)量的增加和制造成本的降低,且可進(jìn)一步改善等離子體顯示裝置的功能。
<第三實(shí)施例>
圖5示出了根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器。
如圖5中所示,根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器包括基薄膜層110、抗反射層120、電磁干擾屏蔽層130和接地部件560。
與本發(fā)明的第一和第二實(shí)施例不同,根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器包括接地部件560,該接地部件560用于在電磁干擾屏蔽層130的邊緣表面處接觸電磁干擾屏蔽層130。優(yōu)選地,接地部件150使用導(dǎo)電帶。而且,優(yōu)選的是,接地部件150由導(dǎo)電膜形成。沿著電磁干擾屏蔽層130的邊緣表面形成該導(dǎo)電帶或?qū)щ娔?,以保護(hù)用于將電磁干擾屏蔽層130接地的接地空間,并由此可容易地將電磁干擾屏蔽層130接地。
電磁干擾屏蔽層需要用于將電磁干擾屏蔽層接地的接地部件。在本發(fā)明的第三實(shí)施例中,不需要暴露出電磁干擾屏蔽層的前表面或后表面來用于將電磁干擾屏蔽層分離地接觸至接地部件?;∧?10、抗反射層120和電磁干擾屏蔽層130的每一個都具有基本相同的邊緣。在此,相同的邊緣意味著基薄膜層110、抗反射層120和電磁干擾屏蔽層130的每一側(cè)的長度都相互相等。
在形成基薄膜層和抗反射層以暴露出電磁干擾屏蔽層的前表面或后表面之后,用于移除基薄膜層和抗反射層的周邊的工藝并不是必要的。基薄膜層和抗反射層等的周邊尺寸小于電磁干擾屏蔽層的周邊尺寸。在精確度地對準(zhǔn)每個基薄膜層和抗反射層等的每一個之后進(jìn)行的疊置工藝并不是必要的。由于在本發(fā)明的第三實(shí)施例中,接地部件接觸電磁干擾屏蔽層的邊緣表面,因此降低了過濾器的制造工藝的數(shù)目,增加了制造產(chǎn)量并通過安全的接地空間容易進(jìn)行接地操作。
由于在本發(fā)明第三實(shí)施例中,接地部件560延伸至抗反射層120的前表面的周邊,因此更容易地保護(hù)接地部件560的接地空間,且更穩(wěn)定地將電磁干擾屏蔽層130接地。由于接地部件560延伸至電磁干擾屏蔽層130的后表面的周邊,因此接地部件560和電磁干擾屏蔽層130的接觸表面寬且更穩(wěn)定地將電磁干擾屏蔽層130接地。而且,當(dāng)接地部件560延伸至抗反射層120的前表面周邊和電磁干擾屏蔽層130的后表面周邊時,進(jìn)一步增加了上述效果。
接地部件560連接至顯示裝置的接地電壓源。
如上所述,由于根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的過濾器具有更簡單的結(jié)構(gòu),因此可降低過濾器的制造工藝的數(shù)目并增加制造產(chǎn)量。
根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例用于顯示裝置的過濾器還包括具有近紅外線阻擋功能或色彩校正功能的粘合劑層340、和保護(hù)層150。由于已經(jīng)參考圖1至5充分地描述了根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器的、基本與根據(jù)本發(fā)明第一和第二實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器的那些特性和效果相同的特性和效果,因此省略了其描述。
圖6示出了根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器的制造方法。
如圖6中所示,根據(jù)本發(fā)明的第三實(shí)施例的過濾器通過以下工藝制造。
如圖6的(a)中所示,抗反射層120形成于透明基薄膜層110的前表面上。如圖6的(b)中所示,其上形成了用于形成電磁干擾屏蔽層130的圖案的掩模50被設(shè)置在基薄膜層110的后表面上。如圖6的(c)中所示,通過根據(jù)形成于掩模50上的圖案涂敷導(dǎo)電材料,形成電磁干擾屏蔽層130。如圖6的(d)中所示,沿著電磁干擾屏蔽層130的邊緣表面形成接地部件560。如圖6的(e)中所示,粘合劑層340形成于電磁干擾屏蔽層130的后表面上。如圖6的(f)中所示,保護(hù)層150形成于粘合劑層340的后表面上。
圖7示出了根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器的另一種制造方法。
如圖7中所示,通過以下工藝制造根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的過濾器。
如圖7的(a)中所示,抗反射層120形成于基薄膜層110的前表面上。如圖7的(b)中所示,導(dǎo)電金屬層60形成于基薄膜層110的后表面上。如圖7的(c)中所示,光致抗蝕劑層61涂敷于導(dǎo)電金屬層60上。如圖7的(d)中所示,其上形成了用于形成電磁干擾屏蔽層130的圖案的掩模63被設(shè)置在光致抗蝕劑61上。如圖7的(e)中所示,通過進(jìn)行顯影工藝、曝光工藝、蝕刻工藝等,根據(jù)形成于掩模63上的圖案形成電磁干擾屏蔽層130。如圖7的(f)中所示,沿著電磁干擾屏蔽層130的邊緣表面形成用于將電磁干擾屏蔽層130接地的接地部件560。如圖7的(g)中所示,粘合劑層340形成于電磁干擾屏蔽層130的后表面上。如圖7的(h)中所示,光致抗蝕劑層150形成于粘合劑層340的后表面上。
圖6和7中示出的過濾器的制造方法包括接地部件560的形成工藝。換句話說,在等離子體顯示裝置上形成過濾器之后,不必進(jìn)行接地部件560的形成工藝。通過使用導(dǎo)電帶,可容易地執(zhí)行圖6和7中示出的接地部件560的形成工藝。
圖8示出了根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的包括用于顯示裝置的過濾器的等離子體顯示裝置。
如圖8中所示,根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的等離子體顯示裝置包括等離子體顯示板200和形成于等離子體顯示板200上的過濾器500。
以下將參考圖8中示出的區(qū)域C更詳細(xì)地描述包括在根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的等離子體顯示裝置中的過濾器500的結(jié)構(gòu),圖8是等離子體顯示裝置的截面圖。等離子體顯示裝置的過濾器500包括一個基薄膜層110、直接形成于基薄膜層110的前表面上的抗反射層120、直接形成于基薄膜層110的后表面上的電磁干擾屏蔽層130、和用于將過濾器500粘附在等離子體顯示板200的前襯底201上、且具有近紅外線阻擋功能或色彩校正功能中至少一種的粘合劑層340。該過濾器500還包括用于在電磁干擾屏蔽層130的邊緣表面處直接接觸電磁干擾屏蔽層130的導(dǎo)電膜型接地部件。
省略了與參考圖1至7描述的等離子體顯示裝置的那些特性和效果基本相同的根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的等離子體顯示裝置的特性和效果。
如上所述,由于根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的等離子體顯示裝置包括根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的用于顯示裝置的過濾器,因此可實(shí)現(xiàn)制造產(chǎn)量的增加和制造成本的降低,且可改善等離子體顯示裝置的功能。
圖9示出了根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例用于顯示裝置的過濾器的另一種制造方法。
如圖9中所示,通過以下工藝制造根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的過濾器。
如圖9的(a)中所示,使用圖6或圖7中示出的方法制造過濾器500。圖9中示出的過濾器500的制造方法不包括接地部件的形成工藝。在粗略地疊置了過濾器500的每個功能層并粘附了每個功能層而沒有精確對準(zhǔn)每個功能層之后,切割功能層以使每個功能層每一側(cè)的長度都相互相等。因此,防止了由對準(zhǔn)誤差引起的制造產(chǎn)量降低。
如圖9的(b)中所示,使用疊置方法在顯示裝置900上形成過濾器500。此時,從過濾器500移除光致抗蝕劑層150。
如圖9的(c)中所示,沿著過濾器500的邊緣表面形成接地部件560。
如上所述,在圖9示出的制造方法中,與圖6和7中示出的制造方法不同,在顯示裝置上形成過濾器之后,形成接地部件。換句話說,過濾器的制造方法不包括接地部件的形成工藝。在圖9中示出的制造方法中,接地部件使用導(dǎo)電膜。換句話說,優(yōu)選通過絲網(wǎng)印刷使用導(dǎo)電膠形成接地部件。
圖10示出了根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的包括用于顯示裝置的過濾器的等離子體顯示裝置的另一種結(jié)構(gòu)。
如圖10中所示,根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的等離子體顯示裝置包括等離子體顯示板200和形成于等離子體顯示板200上的過濾器500。
以下參考圖10中示出的區(qū)域D更詳細(xì)地描述包括在根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的等離子體顯示裝置中的過濾器500的結(jié)構(gòu),圖10是等離子體顯示裝置的截面圖。等離子體顯示裝置的過濾器500包括一個基薄膜層110、直接形成于基薄膜層110的前表面上的抗反射層120、直接形成于基薄膜層110的后表面上的電磁干擾屏蔽層130、和用于將過濾器500粘附在等離子體顯示板200的前襯底201上、并具有近紅外線阻擋功能或色彩校正功能中的至少一種的粘合劑層340。該過濾器500還包括用于在電磁干擾屏蔽層130的邊緣表面處直接接觸電磁干擾屏蔽層130的導(dǎo)電膜型接地部件。
省略了與參考圖1至9描述的那些基本相同的具有根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的另一種結(jié)構(gòu)的顯示裝置的特性和效果。
如上所述,由于根據(jù)本發(fā)明各實(shí)施例的等離子體顯示裝置包括根據(jù)本發(fā)明各實(shí)施例用于顯示裝置的過濾器,因此可獲得制造產(chǎn)量的增長和制造成本的降低,且可改善等離子體顯示裝置的功能。
由此描述了本發(fā)明,很明顯,可以以多種方式改變本發(fā)明。不認(rèn)為這種改變脫離本發(fā)明的精神和范圍,且認(rèn)為對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來講明顯的所有這種修改都包括在下面權(quán)利要求的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種用于顯示裝置的過濾器,包括基薄膜層;形成于基薄膜層的一個表面上的抗反射層;和形成于基薄膜層的另一表面上的電磁干擾屏蔽層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的用于顯示裝置的過濾器,還包括形成于電磁干擾屏蔽層上的粘合劑層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2的用于顯示裝置的過濾器,還包括形成于粘合劑層上的保護(hù)層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的用于顯示裝置的過濾器,其中抗反射層包括外界光吸收型或外界光散射型中的至少一種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的用于顯示裝置的過濾器,其中電磁干擾屏蔽層包括網(wǎng)孔型或濺射型。
6.根據(jù)權(quán)利要求1的用于顯示裝置的過濾器,其中抗反射層直接形成于基薄膜層的前表面上,電磁干擾屏蔽層直接形成于基薄膜層的后表面上。
7.一種用于顯示裝置的過濾器,包括基薄膜層;形成于基薄膜層上的電磁干擾屏蔽層;和形成于電磁干擾屏蔽層上的粘合劑層,其中粘合劑層具有近紅外線阻擋功能或色彩校正功能中的至少一種。
8.根據(jù)權(quán)利要求7的用于顯示裝置的過濾器,其中粘合劑層包括近紅外線阻擋材料或色彩校正材料中的至少一種。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的用于顯示裝置的過濾器,其中近紅外線阻擋材料包括近紅外線阻擋顏料或近紅外線阻擋染料中的至少一種。
10.根據(jù)權(quán)利要求8的用于顯示裝置的過濾器,其中色彩校正材料包括色彩校正顏料或色彩校正染料中的至少一種。
11.根據(jù)權(quán)利要求7的用于顯示裝置的過濾器,還包括用于吸收或散射外界光的抗反射層。
12.根據(jù)權(quán)利要求7的用于顯示裝置的過濾器,還包括形成于粘合劑層上的保護(hù)層。
13.根據(jù)權(quán)利要求7的用于顯示裝置的過濾器,其中電磁干擾屏蔽層包括網(wǎng)孔型或濺射型。
14.一種用于顯示裝置的過濾器,包括基薄膜層;形成于基薄膜層的前表面上的抗反射層;形成于基薄膜層的后表面上的電磁干擾屏蔽層;和用于在電磁干擾屏蔽層的邊緣表面處接觸電磁干擾屏蔽層的接地部件。
15.根據(jù)權(quán)利要求14的用于顯示裝置的過濾器,其中接地部件延伸至抗反射層的前表面的周邊。
16.根據(jù)權(quán)利要求14的用于顯示裝置的過濾器,其中接地部件延伸至電磁干擾屏蔽層的后表面的周邊。
17.根據(jù)權(quán)利要求14的用于顯示裝置的過濾器,其中接地部件延伸至抗反射層的前表面的周邊,并延伸至電磁干擾屏蔽層的后表面的周邊。
18.根據(jù)權(quán)利要求14的用于顯示裝置的過濾器,其中接地部件包括導(dǎo)電膜。
19.根據(jù)權(quán)利要求14的用于顯示裝置的過濾器,其中接地部件包括導(dǎo)電帶。
20.根據(jù)權(quán)利要求14的用于顯示裝置的過濾器,其中基薄膜層、抗反射層和電磁干擾屏蔽層的邊緣基本相互相等。
21.根據(jù)權(quán)利要求14的用于顯示裝置的過濾器,還包括形成于電磁干擾屏蔽層的后表面上的粘合劑層。
22.根據(jù)權(quán)利要求21的用于顯示裝置的過濾器,其中粘合劑層具有近紅外線阻擋功能或色彩校正功能中的至少一種。
23.根據(jù)權(quán)利要求22的用于顯示裝置的過濾器,其中粘合劑層包括近紅外線阻擋材料或色彩校正材料中的至少一種。
24.根據(jù)權(quán)利要求21的用于顯示裝置的過濾器,還包括形成于粘合劑層的后表面上的保護(hù)層。
25.根據(jù)權(quán)利要求14的用于顯示裝置的過濾器,其中電磁干擾屏蔽層包括網(wǎng)孔型或?qū)щ娔ば汀?br> 26.根據(jù)權(quán)利要求14的用于顯示裝置的過濾器,其中抗反射層包括外界光吸收型或外界光散射型中的至少一種。
27.根據(jù)權(quán)利要求14的用于顯示裝置的過濾器,其中抗反射層直接形成于基薄膜層的前表面上,且電磁干擾屏蔽層直接形成于基薄膜層的后表面上。
28.一種等離子體顯示裝置,包括權(quán)利要求1、7或14任一項中要求的過濾器。
29.根據(jù)權(quán)利要求28的等離子體顯示裝置,其中過濾器包括玻璃過濾器或薄膜過濾器。
全文摘要
提供了一種用于顯示裝置的過濾器和包括該過濾器的等離子體顯示裝置。用于顯示裝置的過濾器具有其中抗發(fā)射層形成于基薄膜層的前表面上且電磁干擾屏蔽層形成于基薄膜層的后表面上的結(jié)構(gòu)。而且,用于顯示裝置的過濾器包括具有各種功能的粘合劑層。在電磁干擾屏蔽層的邊緣表面處形成接地部件。因此,可有效地改善用于顯示裝置的過濾器的功能和包括該過濾器的等離子體顯示裝置的功能。降低了制造成本并提高了制造產(chǎn)量。
文檔編號G02B5/28GK1862298SQ20061007996
公開日2006年11月15日 申請日期2006年4月29日 優(yōu)先權(quán)日2005年4月29日
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