專利名稱：膜形成方法、膜形成裝置及液晶裝置的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及將液體材料作為液滴噴出、并在基板上配置該液體材料的技術(shù)，尤其涉及將液體材料作為液滴噴出并在基板上形成其薄膜的方法和裝置，以及從噴出裝置噴出液晶、在基板上配置液晶的配置方法及其裝置。
背景技術(shù)：
例如，在液晶裝置中，作為液晶分子的取向用而在基板上形成取向膜。
這樣的膜是在基板上形成液體材料的塗膜，并干燥該液體材料的途膜而形成的。
作為在基板上形成液體材料膜的技術(shù)已知有，印刷法、旋轉(zhuǎn)涂膜法等。而且，為了達(dá)到減少材料使用量等目的，將液體材料作為液滴噴出、在基板上以規(guī)定的節(jié)距著落、形成塗膜的技術(shù)。(例如，特開平9-138410號公報)。
并且例如，在液晶裝置中，作為顯示的控制裝置的一部分，使用在基板上配置的液晶。
作為在基板上配置液晶的技術(shù)已知有，用分配器(Dispenser)等噴出裝置將液晶按規(guī)定量逐次噴出的方法。而且，為了更高精度地進行液晶的配置，有用噴出裝置把液晶呈液滴狀噴出、配置在基板上的技術(shù)。(例如，特開平5-281562號公報)。
在將液體材料作為液滴噴出、在基板上形成膜的技術(shù)、在基板上以液滴狀噴出液晶并配置的技術(shù)中，液滴的邊緣部作為滴下痕跡容易形成斑紋并殘留。此斑紋是膜厚均勻性降低的原因，在液晶裝置等顯示裝置中，可能導(dǎo)致可視性降低。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述問題而進行的，目的在于提供一種能實現(xiàn)滴下痕跡的減輕、在基板上形成均勻涂膜的膜形成方法和膜形成裝置。
而且，本發(fā)明的另一目的是，提供一種能在基板上均勻配置液晶、而且減輕滴下痕跡的液晶配置方法及其裝置。
本發(fā)明的目的并且，提供一種能提高可視性的液晶裝置及其制造方法。
本發(fā)明的目的并且，提供一種能提高質(zhì)量的電子設(shè)備。
本發(fā)明的膜形成方法是，將液體材料作為液滴噴出、在基板上形成膜的方法，其特征在于，具有將上述液滴在上述基板上以規(guī)定的節(jié)距著落、在上述基板上形成塗膜的涂敷工序、上述規(guī)定的節(jié)距是根據(jù)上述液滴著落基板后的直徑來決定的。
在這里，所謂液滴向基板著落后的直徑是指，經(jīng)過著落規(guī)定時間(例如，0～300秒)后、在基板上留下的液滴直徑。
在上述膜形成方法中，由于液體材料呈液滴狀噴出，能精確控制在基板上配置的液體材料的量和位置，能形成均勻的塗膜。而且，由于在基板上液體材料呈液滴狀細(xì)微分散配置，用肉眼很難看出斑紋。并且，此膜形成方法中，根據(jù)液體材料向基板的著落直徑、來決定液滴在基板上的著落節(jié)距，能實現(xiàn)膜厚的均勻化。
例如，通過使上述規(guī)定的節(jié)距與上述液滴著落后的直徑大致相同，能實現(xiàn)膜厚的均勻化。
在這里，上述液滴的配置節(jié)距優(yōu)選，上述液滴著落后的直徑(以下，根據(jù)需要稱為“著落直徑”)的50％以上、150％以下。并且，更優(yōu)選為著落直徑的80％以上、120％以下。若液滴的配置節(jié)距不足著落直徑的50％，由于液滴之間產(chǎn)生的干涉等，可能造成明顯的滴下痕跡，所以不好。如果超過150％，則液滴之間不相互結(jié)合，而以液滴的形狀原樣殘留在基板上等，也可能造成明顯的滴下痕跡，所以也不令人滿意。通過使液晶的配置節(jié)距為著落直徑80％以上、120％以下，能確實可靠地實現(xiàn)滴下痕跡的減輕。
在上述膜形成方法中，作為上述液體材料可以舉出，例如取向膜的形成材料等。
在此情況下，取向膜的滴下痕跡減輕、該膜厚的均勻性提高。
并且，在此情況下，上述液體材料的粘度優(yōu)選為2.0mPa·s以上、20mPa·s以下。
若液體材料的粘度不足2.0mPa·s或超過20mPa·s，則容易造成液滴的噴出不穩(wěn)定，故不好。
并且，在此情況下，上述液體材料的表面張力優(yōu)選為20mN/m以上、70mN/m以下。
若液體材料的表面張力低于20mN/m或超過70mN/m，則容易造成液滴的噴出不穩(wěn)定，故不好。
而且，在上述的膜形成方法中優(yōu)選，在上述基板上、排列多個像素區(qū)域，在上述多個像素區(qū)域的各個中心位置著落上述液滴。這樣，使液滴之間的結(jié)合部分處于多個像素區(qū)域的邊界，能抑制由在結(jié)合部分產(chǎn)生的滴下痕跡引起的像素的可視性降低。
在此情況下，通過上述液滴著落后的直徑與上述多個像素區(qū)域的排列節(jié)距大致相同，液滴的配置節(jié)距與液滴的著落直徑大致相同，如上上述，能實現(xiàn)滴下痕跡的減輕。
而且，在上述的膜形成方法中優(yōu)選，在上述涂敷工序之前，具有使對上述液體材料具有親液性地處理上述基板的表面的親液化工序。
這樣，能進一步實現(xiàn)膜厚均勻性的提高。
本發(fā)明的膜形成裝置是，將液體材料作為液滴噴出、在基板上形成膜的裝置，其特征在于具有將上述液滴在上述基板上以規(guī)定的節(jié)距著落、在上述基板上形成塗膜的噴出頭，上述規(guī)定的節(jié)距是根據(jù)、上述液滴向上述基板著落后的直徑來決定的。
在上述的膜形成裝置中，能夠通過上述構(gòu)成實施上述的膜形成方法，所以能精確控制配置在基板上的液體材料的量和位置等，能形成均勻的塗膜。根據(jù)液體材料向基板的著落直徑來決定液滴向基板的著落節(jié)距，能實現(xiàn)膜厚的均勻化。
例如，由于上述規(guī)定的節(jié)距與液滴的著落直徑大致相同，能實現(xiàn)膜厚的均勻化。
而且，在上述的膜形成裝置中優(yōu)選，在上述噴出頭上，形成呈液滴狀噴出上述液晶的噴嘴，上述噴出頭的上述噴嘴周圍、以使之對于上述液體材料呈規(guī)定的接觸角的方式進行表面處理。
這樣，液滴的噴出狀態(tài)穩(wěn)定。
在此狀態(tài)，通過使上述規(guī)定的接觸角在30°以上、170°以下，能確實可靠地穩(wěn)定液滴的噴出狀態(tài)。
而且，在上述的膜形成裝置中，最好具有多個像素區(qū)域在上述基板上排列，使上述噴嘴和上述基板作相對移動、使上述液滴的著落位置與上述多個像素區(qū)域的各自位置一致的驅(qū)動系統(tǒng)。這樣，液滴之間的結(jié)合部分就處于多個像素區(qū)域的邊界，能抑制由在結(jié)合部分產(chǎn)生的滴下痕跡引起的像素的可視性降低。
本發(fā)明的液晶裝置，其特征為，用上述的膜形成裝置來形成取向膜。
該液晶裝置，由于用上述的膜形成裝置來形成取向膜，所以膜厚不均勻很少，液晶的取向不均勻減輕，能實現(xiàn)可視性的提高。
本發(fā)明的電子設(shè)備其特征為，具有上述的液晶裝置。
在該電子設(shè)備中，由于具有可視性高的液晶裝置，所以能實現(xiàn)質(zhì)量的提高。
本發(fā)明的液晶的配置方法是，從噴出裝置噴出液晶、在基板上配置液晶的方法，其特征為上述噴出裝置具有，能呈液滴狀噴出上述液晶的多個噴嘴，根據(jù)上述液滴向上述基板著落后的直徑、來決定上述液滴在上述基板的配置節(jié)距。
在這里，所謂液滴向基板著落后的直徑是指，經(jīng)過著落的規(guī)定時間(例如，0～300秒)后在基板上擴散的液滴直徑。
在上述液晶的配置方法中，由于液晶呈液滴狀噴出，能精確控制在基板上配置的液體材料的量和位置，能實現(xiàn)液晶的均勻配置。而且，由于在基板上、液體材料以液滴狀細(xì)微分散配置，滴下痕跡也細(xì)小分散而不突出。因此，本發(fā)明也適用于具有液晶的裝置的高精細(xì)化或小尺寸化。并且，在此配置方法中，根據(jù)液滴向基板著落后的直徑來決定液滴在基板的配置節(jié)距，能實現(xiàn)滴下痕跡的減輕。
例如，由于上述液滴的配置節(jié)距與上述液滴著落后的直徑大致相同，相鄰液滴之間結(jié)合、在基板上形成液晶膜時，能減小該結(jié)合部分的尺寸、能實現(xiàn)滴下痕跡的減輕。
在這里，上述液滴的配置節(jié)距優(yōu)選，為上述液滴著落后的直徑(以下，根據(jù)需要稱為“著落直徑”)的50％以上、150％以下。并且，更優(yōu)選為著落直徑的80％以上、120％以下。若液滴的配置節(jié)距不足著落直徑的50％，由于液滴之間產(chǎn)生的干涉等，可能造成滴下痕跡明顯，所以不令人滿意。如果超過150％，則液滴之間不相互結(jié)合而原樣殘留在基板上等，也可能造成滴下痕跡明顯，也不令人滿意。由于液晶的配置節(jié)距在著落直徑的80％以上、120％以下，能確實可靠地實現(xiàn)減輕滴下痕跡。
而且，在上述液晶的配置方法中優(yōu)選，在上述基板上形成多個由多個象素構(gòu)成的像素區(qū)域的情況下，在上述多個像素區(qū)域分別涂敷上述液滴。這樣，液滴之間的結(jié)合部分處于多個像素區(qū)域的邊界，能抑制由在結(jié)合部分產(chǎn)生的滴下痕跡造成的像素的可視性降低。這時，作為像素區(qū)域，可以舉出例如在母體基板上，1個芯片內(nèi)的某特定像素區(qū)域等。
在此情況下，上述液滴著落后的直徑與上述多個像素區(qū)域的排列節(jié)距大致相同，由此液滴的配置節(jié)距與液滴的著落直徑大致相同。這樣，能實現(xiàn)滴下痕跡的減輕。
本發(fā)明液晶的配置裝置是，從噴出裝置噴出液晶、在基板上配置上述液晶的裝置，其特征為，上述的噴出裝置具有，以液滴狀噴出上述液晶的多個噴嘴，并根據(jù)向上述基板著落后的直徑來決定上述多個噴嘴的間隔。
在上述的液晶的配置裝置中，根據(jù)上述構(gòu)成，能實施上述液晶的配置方法，能精確控制配置的液晶在基板上的量和位置，能實現(xiàn)液晶的均勻配置。而且，根據(jù)液滴向基板著落后的直徑(著落直徑)、來決定上述多個噴嘴的間隔，能實現(xiàn)滴下痕跡的減輕化。
例如，上述多個噴嘴的間隔與上述液滴著落后的直徑大致相同，由此基板上的液滴的配置節(jié)距與液滴著落后的直徑大致相同，相鄰液滴之間結(jié)合、在基板上形成液晶膜時，能減小該結(jié)合部分的尺寸、能實現(xiàn)滴下痕跡的減輕。
而且，在上述液晶的配置裝置中最好具有在上述基板上，排列著多個像素區(qū)域、使上述多個噴嘴和上述基板作相對移動、使上述液滴的著落位置與上述多個像素區(qū)域的各個中心位置一致的驅(qū)動系統(tǒng)。這樣，液滴之間的結(jié)合部分處于多個像素區(qū)域的邊界，能抑制由在結(jié)合部分產(chǎn)生的滴下痕跡引起的像素的可視性降低。
在此狀態(tài)，上述液滴著落后的直徑與上述多個像素區(qū)域的排列節(jié)距大致相同，由此液滴的配置節(jié)距與液滴的著落直徑大致相同。這樣，能實現(xiàn)滴下痕跡的減輕。
本發(fā)明的液晶裝置，其特征為，用上述的液晶的配置裝置來配置液晶。
由于該液晶裝置是用上述的液晶的配置裝置來配置液晶，故滴下痕跡不明顯，能實現(xiàn)可視性的提高。
本發(fā)明的電子設(shè)備，其特征為，具有上述的液晶裝置。
在該電子設(shè)備中，由于具有可視性高的液晶裝置，所以能實現(xiàn)質(zhì)量的提高。
本發(fā)明液晶裝置的制造方法，其特征在于，具有用噴墨工藝在基板上形成取向膜的工序，和在形成有上述取向膜的基板上、用噴墨工藝涂敷液晶的工序。
而且，本發(fā)明液晶裝置的制造方法是，在一對基板間進行液晶配置的液晶裝置的制造方法，其特征在于具有，在基板上、用噴墨工藝形成濾色器的工序，在形成有上述濾色器的基板上、用噴墨工藝形成取向膜的工序，和在上述一對基板中的一個基板、用噴墨工藝形成液晶的工序。


圖1為模式化表示本發(fā)明的膜形成裝置(液晶的配置裝置)實施方式的一例的圖。
圖2為說明由壓電方式噴出液體材料的原理的圖。
圖3為表示用膜形成裝置在基板上形成取向膜的例(或是配置液晶的例)的圖。
圖4為模式化表示液體噴出頭的噴出面的圖。
圖5為表示在實際處理用的基板上、配置了取向膜的液體材料(或液晶)的外觀圖。
圖6為表示液體噴出頭的驅(qū)動電壓Vh(V)變化時、液滴噴出速度(飛行速度)Vm(m/s)變化情形的一例的圖。
圖7為表示驅(qū)動頻率變化時，驅(qū)動電壓Vh(V)和液滴重量Iw(ng)的關(guān)系的變化情形一例的圖。
圖8為模式化表示液晶裝置(液晶顯示裝置)的剖面結(jié)構(gòu)一例的圖。
圖9為模式化表示液晶裝置的制造方法的圖，(a)和(b)表示在玻璃基板上定量配置液晶的工序，(c)和(d)表示液晶封固工序。
圖10(a)表示把本發(fā)明的電子設(shè)備應(yīng)用于手機的例，(b)表示把本發(fā)明的電子設(shè)備應(yīng)用于攜帶型信息處理裝置的例，(c)表示把本發(fā)明的電子設(shè)備應(yīng)用于手表型電子設(shè)備的例的圖。
圖11表示將TFT應(yīng)用于開關(guān)元件的有源矩陣(Active matrix)型的液晶裝置(液晶顯示裝置)一例的圖，(a)為表示此例的液晶顯示裝置的整體結(jié)構(gòu)的立體圖，(b)為(a)中一個像素的放大圖。
圖12為表示用大型基板制作液晶裝置用基板(Panel)的所謂多面處理例的模式圖。
圖13為表示有源矩陣型液晶裝置(液晶顯示裝置)的剖面結(jié)構(gòu)的圖。
圖14為說明濾色器的制造方法一例的圖，(a)為在基板上已形成分隔墻的圖，(b)為R的墨滴在基板上著落的圖，(c)為對墨水進行預(yù)燒結(jié)、形成了著色層R的圖，(d)為著色層G和B形成后的圖，(e)為包覆各著色層和分隔墻的外涂層形成后的圖。
具體實施例方式
以下，結(jié)合

有關(guān)本發(fā)明的實施方式。
圖1為模式化表示本發(fā)明的膜形成裝置的實施方式一例的圖。
并且，圖1的膜形成裝置，如后面所述的那樣，也適用于作為本發(fā)明的液晶的配置裝置。
在圖1中，膜形成裝置10具有底座112，在底座112上設(shè)置、支撐基板20的基板支撐臺22，介于底座112和基板支撐臺22之間、可移動地支撐基板支撐臺22的第1移動裝置(移動裝置)114，可向被基板支撐臺22支撐的基板20噴出處理液體的液體噴出頭21，可移動地支撐液體噴出頭21的第2移動裝置116，和控制液體噴出頭21的液滴噴出動作的控制裝置23。并且，膜形成裝置10具有設(shè)置在底座112上的作為重量測量裝置的電子天秤(未圖示)，壓蓋(capping)單元25，清洗單元24。而且，包含第1移動裝置114和第2移動裝置116的膜形成裝置10的動作是由控制裝置23控制的。
第1移動裝置114在底座112上設(shè)置、在沿Y方向被定位。第2移動裝置116用支柱16A、16A豎立安裝在底座112上、并裝配在底座112后部12A。第2移動裝置116的X方向(第2方向)為與第1移動裝置114的Y方向(第1方向)垂直的方向。在這里，Y方向是沿底座112前部12B和后部12A的方向。相應(yīng)地，X方向是沿底座112的左右方向的方向、各自呈水平。而且，Z方向是與X方向和Y方向垂直的方向。
第1移動裝置114例如由直線電動機構(gòu)成，具有導(dǎo)軌140、140，和能沿該導(dǎo)軌140移動地設(shè)置的滑塊142。該直線電動機形式的第1移動裝置114的滑塊142能沿導(dǎo)軌140在Y方向移動定位。
而且，滑塊142具有Z軸轉(zhuǎn)動(θZ)用的電動機144。該電動機144例如為直接驅(qū)動電動機，電動機144的轉(zhuǎn)子固定在基板支撐臺22上。這樣，通過對電動機144通電，轉(zhuǎn)子和基板支撐臺22能夠沿θZ方向旋轉(zhuǎn)、對基板支撐臺22(旋轉(zhuǎn)分度)進行分度。即，第1移動裝置114能使基板支撐臺22在Y方向(第1方向)和θZ方向移動。
基板支撐臺22保持基板20、并將其定位于規(guī)定位置。而且，基板支撐臺22還具有對未圖示的吸附保持裝置，根據(jù)吸附保持裝置的動作、通過基板支撐22的孔46A將基板20在基板支撐臺22上吸住并保持。
第2移動裝置116由直線電動機構(gòu)成，并具有在支柱16A，16A固定的立柱16B，由該立柱16B支撐的導(dǎo)軌62A，和可沿導(dǎo)軌62A在X方向移動支撐的滑塊160?；瑝K160能沿導(dǎo)軌62A在X方向移動定位，液體噴出頭21安裝在滑塊160上。
液體噴出頭21具有，決定作為搖擺定位裝置的電動機62、64、67、68。啟動電動機62，則液體噴出頭21能沿Z軸上下移動定位。該Z軸是與X軸和Y軸分別垂直的方向(上下方向)。啟動電動機64，則液體噴出頭21能沿著圍繞Y軸的β方向搖擺并定位。啟動電動機67，則液體噴出頭21能沿著圍繞X軸的γ方向搖擺并定位。啟動電動機68，則液體噴出頭21能沿著圍繞Z軸的α方向搖擺并定位。也就是，第2移動裝置116可向X方向(第1方向)和Z方向移動地支撐液體噴出頭21的同時，可向θX方向、θY方向和θZ方向移動地支撐該液體噴出頭21。
這樣，圖1的液體噴出頭21，在滑塊160上能在Z軸方向直線移動并定位，也能沿α，β，γ方向搖擺定位。液體噴出頭21的液滴噴出面11P能對基板支撐臺22一側(cè)的基板20正確地進行位置或姿勢的控制。并且，在液體噴出頭21的液滴噴出面11P上設(shè)置有噴出液滴的多個噴嘴。
液體噴出頭21是，由所謂液體噴出方式(液滴噴出方式)、從噴嘴噴出液體材料(抗蝕劑)的部件。作為液體噴出方式可以應(yīng)用作為壓電體元件的壓電元件噴出墨水的壓電方式，以加熱液體材料而產(chǎn)生的泡(Bubble)噴出液體材料的方式等公知的各種技術(shù)。其中，壓電方式由于不對液體材料加熱，具有不影響材料組成等的優(yōu)點。并且，本例使用了上述壓電方式。
圖2為說明基于壓電方式的液體材料的噴出原理的圖。在圖2中，與容納液體材料的儲液室31相鄰設(shè)置著壓電元件32。通過包含容納液體材料的材料箱的液體材料供給系統(tǒng)34向儲液室31供給液體材料。壓電元件32與驅(qū)動電路33連接、通過該驅(qū)動電路33向壓電元件32加載電壓。通過使壓電元件32變形，儲液室31變形，液體材料從噴嘴30噴出。此時，通過改變加載電壓的值來控制壓電元件32的變形量，通過改變加載電壓的頻率來控制壓電元件32變形的速度。也就是，液體噴出頭21是通過控制壓電元件32的加載電壓來控制從噴嘴30噴出的液體材料。
回到圖1，為了測量、管理從液體噴出頭21的噴嘴噴出的液滴每一滴的重量，電子天秤(未圖示)例如從液體噴出頭21的噴嘴接納5000滴液滴。電子天秤通過將這5000滴液滴的重量除以5000，便能正確地測量出每一滴液滴的重量?；谠撘旱蔚臏y定值，能最適宜地控制從液體噴出頭21噴出的液滴量。
清洗單元24，在器件制造工序中和待機時、對液體噴出頭21的噴嘴等進行定期的或隨時清洗。壓蓋單元25，為了不使液體噴出頭21的液滴噴出面11P變得干燥，而在不制造器件的待機狀態(tài)、在該液滴噴出面11P上加蓋。
通過液體噴出頭21由第2移動裝置116在X方向移動，能夠使液體噴出頭21在電子天秤、清洗單元24或壓蓋單元25的上部選擇性地定位。也就是，即使在器件制造作業(yè)途中，若使液體噴出頭21向例如電子天秤一側(cè)移動，則也能夠測量液滴的重量。并且，若液體噴出頭21在清洗單元24上移動，則能對液體噴出頭21進行清洗。若液體噴出頭21在壓蓋單元25上移動，則液體噴出頭21的液滴噴出面11P被蓋上蓋封住、從而防止干燥。
也就是，此電子天秤、清洗單元24、和壓蓋單元25，在底座112的后端一側(cè)，在液體噴出21的移動路線正下方，與基板支撐臺22離開配置。對于基板支撐臺22、基板20的給料作業(yè)和排料作業(yè)在底座112的前端進行，所以該電子天秤，清洗單元24或壓蓋單元25不會對作業(yè)造成障礙。
如圖1所示，在基板支撐臺22內(nèi)支撐基板20以外的部分，液體噴出頭21進行液滴遺棄噴出或者試噴出(預(yù)備噴出)用的預(yù)備噴出區(qū)域(預(yù)備噴出區(qū)域)152與清洗單24分開設(shè)置。該預(yù)備噴出區(qū)域152如圖1所示，在基板支撐臺22的后端部一側(cè)沿X方向設(shè)置。該預(yù)備噴出區(qū)域152由固定在基板支撐臺22上、并設(shè)置有上方開口的剖面呈凹字狀的受液部件，和可自由更換地設(shè)置在受液部件的凹部、吸收噴出的液滴的吸收部件構(gòu)成。
作為基板20可使用玻璃基板、硅基板、石英基板、陶瓷基板、金屬基板、塑料基板、塑料薄膜基板等各種材料基板。而且，也包含在這些各種材料基板表面作為基底層而形成有半導(dǎo)體膜、金屬膜、介質(zhì)膜、有機膜等的基板。而且，作為上述塑料可使用例如，聚烯烴、聚酯、聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚醚砜和聚醚酮等。
下面，對本發(fā)明的膜形成方法進行說明。
圖3(a)～(c)表示用上述構(gòu)成的膜形成裝置10、在上述基板20上形成取向膜的方法的一例。
首先，使對取向膜的液體材料具有親液性地處理基板20的表面(親液化工序)。
作為親液化處理的有，例如，常壓等離子體法、UV處理法、和有機薄膜法(癸烷膜、聚乙烯膜)等。在等離子體法中，通過在對象物體的表面、照射等離子態(tài)氧使該表面親液化或活化。這樣，使基板20表面的浸潤性提高(基板20表面的接觸角在處理前為70°左右，處理后例如變成20°以下)，能夠提高后述的塗膜均勻性。
下面，把取向膜的液體材料作為液滴、在基板20上以規(guī)定的節(jié)距著落，在基板20上形成塗膜(涂敷工序)。
作為取向材料的液體材料可使用含有，例如，固形成分的聚酰亞胺(固形成分濃度3～5％)和，γ-丁內(nèi)酯(γ-Butyrolactone)等有機溶劑。
并且，在此狀態(tài)下，取向膜液體材料的粘度優(yōu)選2.0mPa·s以上、20mPa·s以下。若液體材料的粘度不足2.0mPa·s，則液滴噴出頭噴嘴內(nèi)的液體材料的彎液面(Meniscus)不穩(wěn)定、容易造成液滴噴出不穩(wěn)定，因此不理想。而且，若液體材料的粘度超過20mPa·s，則液體噴出頭向儲液室供給材料不能順利進行，也容易造成液滴噴出不穩(wěn)定，因此不理想。
并且，在此狀態(tài)下，取向膜液體材料的表面張力優(yōu)選20mN/m以上、70mN/m以下。若液體材料的表面張力低于20mN/m，液體噴出頭的噴出面液體材料的浸潤性增加，更容易產(chǎn)生飛行彎曲、容易造成液滴噴出不穩(wěn)定，因此不理想。而且，若液體材料的表面張力超過70mN/m，則液滴噴出頭噴嘴內(nèi)的液體材料的彎液面不穩(wěn)定、容易造成液滴噴出不穩(wěn)定，因此不理想。
本例的膜形成方法，如圖3(b)和(c)所示，取向膜的液體材料從液體噴出頭21上設(shè)置的噴嘴呈液滴狀噴出、液滴著落在基板20上。這樣，通過反復(fù)此液滴噴出動作，在基板20上形成取向膜的塗膜。
此時，液滴的配置節(jié)距，預(yù)先根據(jù)液滴向基板20著落后的直徑來決定。也就是，如圖3(a)所示，在液滴配置前，測量液滴向基板20著落后的直徑(著落直徑)，并根據(jù)其測量結(jié)果來決定液滴的配置節(jié)距。
在這里，液滴著落直徑的測量，不只限于使用該實際處理用的基板20的方法。作為測量對象，也可以使用具有至少表面一部分與該實際處理基板20相同的材料和特性的物質(zhì)、間接地進行。在此狀態(tài)，例如，如圖3(a)所示，在該實際處理基板20和具相同特性的基板20b的表面，從液體噴出頭21液體材料呈液滴狀噴出，在經(jīng)過著落規(guī)定時間(例如，0～300秒)后、對在該基板20b上擴散的液滴直徑(著落直徑L1)進行測量也可以。
而且，在本例中，如圖3(b)和(c)所示，以配置在基板20上的液滴之間的間隔(配置節(jié)距P1)與上述液滴的著落直徑L1大致相同的方式，液體材料從液體噴出頭21呈液滴狀向基板20上噴出。
此時，能夠根據(jù)液體噴出頭21的噴出噴嘴的間隔、及液體噴出頭21和基板20的相對移動距離等，對液滴的配置節(jié)距P1進行控制。
例如，如圖3(b)所示，由于液體噴出頭21的噴出噴嘴的間隔L2與液滴的著落直徑L1大致相同，則以與上述著落直徑L1大致相同的節(jié)距P1在基板20上配置液滴。
而且，如圖3(c)所示，每次從液體噴出頭21向基板20噴出液滴時、液體噴出頭21與基板20僅相對移動與上述著落直徑L1大致相同的距離(L3)，以與上述著落直徑L1大致相同的節(jié)距P1在基板20上配置液滴。
在這里，例如，根據(jù)從在液體噴出頭21形成的多個噴嘴中選擇使用噴嘴來對液體噴出頭21噴出噴嘴的間隔L2進行控制。
圖4(a)～(c)為表示液體噴出頭21的噴出面的模式圖。
如圖4(a)所示，在液體噴出頭21，排列形成多個噴嘴30，由于全部的噴嘴30都被使用，液滴噴出噴嘴的間隔最小。
針對這這種情況，如圖4(b)或圖4(c)所示，通過在多個噴嘴30中，將使用的噴嘴(使用的噴嘴用30a表示，未使用的噴嘴用30b表示)為每隔1個或每隔2個(或2個以上)，能改變噴出液滴的噴嘴的間隔。并且，由于在多個噴嘴中使用的噴嘴數(shù)量不同而造成噴出精度不同的情況下，可以考慮該噴出精度而選擇使用的噴嘴數(shù)量。
而且，液體噴出頭21噴嘴的周圍優(yōu)選，進行表面處理使其對液體材料規(guī)定的接觸角在30°以上、170°以下的范圍。此表面處理可以對液體噴出頭21的噴出面進行疏液化處理或親液化處理。作為疏液化處理的方法可以采用例如等離子處理法(等離子聚合法)、共析鍍層法等，以及用金硫醇疏液化法，或利用FAS(烷基氟硅烷)進行疏液處理的方法等，各種公知的方法。其中，等離子處理法，具有根據(jù)原料的選擇等，能在處理對象表面賦予各種特性，并且容易進行控制的優(yōu)點。而且，關(guān)于親液化處理與上述的同樣。
在此狀態(tài)，若接觸角低于30°，對噴嘴面的浸潤性增加、容易造成液滴噴出不穩(wěn)定，因此不理想。而且，若接觸角超過170°，液滴噴出頭的噴嘴內(nèi)的液體材料的彎液面(Meniscus)不穩(wěn)定、也容易造成液滴噴出不穩(wěn)定，因此不理想。
圖5(a)和(b)分別表示基于上述的膜形成方法，在實際處理用的基板20上配置取向膜的液體材料的情形，圖5(a)表示剛配置液滴之后，圖(b)表示在經(jīng)過規(guī)定時間后的情形。
如圖5(a)和(b)所示，向基板20著落后，液滴在基板20上擴散，相鄰液滴之間互相結(jié)合，這樣在基板20上形成取向膜。
在本例中，如上述那樣，以液滴的著落直徑L1大致相同的配置節(jié)距P1在基板20上配置液滴。因此，液滴之間結(jié)合時，該結(jié)合部分的尺寸變小。即，由于液滴的著落直徑與液滴的配置節(jié)距大致相同，結(jié)合后液滴擴散少、結(jié)合部分很難變大。與之相對，若液滴的著落直徑比液滴的配置節(jié)距過大，結(jié)合后液滴進一步擴散、相鄰液滴之間的材料混合，結(jié)合部分的尺寸變大。而且，若液滴的著落直徑比液滴的配置節(jié)距過小，液滴之間不結(jié)合，液滴的邊緣部作為滴下痕跡而容易照原樣殘留。根據(jù)本例，由于液滴之間的結(jié)合、較小地控制該部分的尺寸，能實現(xiàn)滴下痕跡的減輕。這樣，用該膜形成方法能實現(xiàn)膜厚的均勻化。
在這里，根據(jù)上述膜形成方法、在基板上形成取向膜。
噴出條件為著落直徑96μm，液滴量13ng/dot。
此時，使液滴的配置節(jié)距以40μm、55μm、96μm、110μm、141μm變化，對途膜的膜厚的均勻性進行了考察。
其結(jié)果是，液滴的配置節(jié)距為40m時±34％，55μm時±25％，96μm時±4％，110μm時±10％，114μm時±14％。
從這個結(jié)果可看出，液滴的配置節(jié)距優(yōu)選，在液滴的著落直徑的50％以上、150％以下。并且，更優(yōu)選為著落直徑的80％以上、120％以下。若液滴的配置節(jié)距是著落直徑的50％以下，由于液滴之間產(chǎn)生的干涉等、有可能會產(chǎn)生明顯滴下痕跡。但若超過150％，則有可能液滴之間不結(jié)合而仍以液滴狀態(tài)原樣殘留在基板上，滴下痕跡明顯，所以不理想。通過使液晶的配置節(jié)距為著落直徑的80％以上、120％以下，可以確實可靠地實現(xiàn)減輕滴下痕跡。
而且，在本例中，在基板20上排列多個像素區(qū)域PX、使液滴著落在該多個像素區(qū)域PX的各個中心位置。因此，液滴之間的結(jié)合部分位于多個像素區(qū)域PX的邊界(例如，圍堰部分)、能抑制由結(jié)合部分產(chǎn)生的滴下痕跡引起的像素的可視性降低。也就是，即使在結(jié)合部分產(chǎn)生液滴的滴下痕跡，由于其位于非顯示區(qū)域，所以也能抑制可視性的降低。
在此狀態(tài)下，液滴著落后的直徑L1與多個像素區(qū)域PX的排列節(jié)距P2大致相同，則液滴的配置節(jié)距P1與液滴的著落直徑L1大致相同。由于上述理由，能確實實現(xiàn)減輕滴下痕跡。
下面，對有關(guān)本發(fā)明液晶的配置方法進行說明。
在本例液晶的配置方法中，使用上述構(gòu)成的膜形成裝置10作為液晶的配置裝置，在基板20上定量配置規(guī)定量的液晶。
以下，參照前面所示的圖3(a)～(c)、圖4(a)～(c)、圖5(a)，(b)等，對有關(guān)在基板20上定量配置規(guī)定量的液晶的方法的一例進行說明。
在本例中，圖3(a)～(c)表示用上述構(gòu)成的膜形成裝置(液晶的配置裝置)10，在基板20上定量配置規(guī)定量的液晶的方法的一例。
在本例的液晶的配置方法中，如圖3(b)和(c)所示，從在液體噴出頭21設(shè)置的噴嘴以液滴狀噴出液晶、液滴在基板20著落。然后，通過重復(fù)該液滴噴出動作、在基板20上配置規(guī)定量的液晶。
此時，液滴的配置節(jié)距是預(yù)先根據(jù)液滴向基板20著落后的直徑來決定的。也就是，如圖3(a)所示，在配置液晶之前，測量液滴向基板20著落后的直徑(著落直徑)，并根據(jù)其測量結(jié)果來決定液滴的配置節(jié)距。
在這里，液滴著落直徑的測量，不只限于使用該實際處理用的基板20的方法，作為測量對象，使用具有至少表面部分與該實際處理基板20相同的材料和特性的物體，間接地進行也可以。在此狀態(tài)下，例如，如圖3(a)所示，在該實際處理基20和具相同特性的基板20b的表面，從液體噴出頭21液體材料呈液滴狀噴出，在經(jīng)過著落規(guī)定時間(例如，0～300秒)后、對在該基板20b上擴散的液滴直徑(著落直徑L1)進行測量也可以。
然后，在本例中，如圖3(b)和(c)所示，在基板20上配置液滴之間的間隔(配置節(jié)距P1)使之與上述液滴的著落直徑L1大致相同，在基板20上、液體材料從液體噴出頭21呈液滴狀噴出。
此時，根據(jù)液體噴出頭21的噴出噴嘴的間隔及液體噴出頭21和基板20的相對移動距離等，對液滴的配置節(jié)距P1進行控制。
例如，如圖3(b)所示，通過使液體噴出頭21的噴出噴嘴的間隔L2與液滴的著落直徑L1大致相同，以與上述著落直徑L1大致相同的節(jié)距P1在基板20上配置液滴。
而且，如圖3(c)所示，每次從液體噴出頭21向基板20噴出液滴時、液體噴出頭21與基板20僅相對移動與上述著落直徑L1大致相同的距離(L3)，由此以與上述著落直徑L1大致相同的節(jié)距P1在基板20上配置液滴。
在這里，例如，根據(jù)從在液體噴出頭21形成的多個噴嘴中選擇使用的噴嘴來對液體噴出頭21噴出噴嘴的間隔L2進行控制。
如前面所述，圖4(a)～(c)為表示液體噴出頭21的噴出面的模式圖。
如圖4(a)所示，在液體噴出頭21上排列形成多個噴嘴30，通過使用全部的噴嘴30，液滴噴出噴嘴的間隔最小。
針對這這種情況，如圖4(b)或圖4(c)所示，通過在多個噴嘴30中，將使用的噴嘴(使用的噴嘴用30a表示，未使用的噴嘴用30b表示)為每隔1個或每隔2個(或2個以上)，能改變液滴噴出噴嘴的間隔。并且，由于在多個噴嘴中使用的噴嘴數(shù)量不同而造成噴出精度不同的情況下，可以考慮其噴出精度而選擇噴嘴數(shù)量。
而且，從液體噴出頭21噴出液晶時優(yōu)選，實現(xiàn)如前面圖2所示的壓電元件32的驅(qū)動電壓、驅(qū)動頻率的最優(yōu)化。
圖6所示的圖表示液體噴出頭21的驅(qū)動電壓Vh(V)變化時、其液滴噴出速度(飛行速度)Vm(m/s)變化的情況一例。
在圖6所示的例中，優(yōu)選驅(qū)動電壓在20V以上、32V以下。若驅(qū)動電壓低于20V、則噴出速度慢、液滴的飛行狀態(tài)變得不穩(wěn)定，因此不理想。而且，若驅(qū)動電壓高于32V、噴出速度稍微加快、液滴的飛行狀態(tài)也變得不穩(wěn)定，因此不理想。并且，通過改變驅(qū)動電壓值，每1點的噴出量、墨水速度變化。
圖7所示的圖為表示將驅(qū)動頻率分別變化為1kHz、3kHz、5kHz時、驅(qū)動電壓Vh(V)與液滴重量Iw(ng)之間的關(guān)系變化的情況的一例。
在圖7所示的例中，優(yōu)選驅(qū)動頻率低于5kHz。驅(qū)動頻率為1kHz、3kHz的情況下，液滴重量隨驅(qū)動電壓的升高而成比例增加。而與之對照，驅(qū)動頻率若在5kHz以上，可以看出狀態(tài)變得不穩(wěn)定，因此不理想。
從液體噴出頭21噴出液晶時，通過實現(xiàn)驅(qū)動電壓、驅(qū)動頻率的最優(yōu)化，能實現(xiàn)液滴噴出量和噴出位置的精度的提高。并且，在上述例中，驅(qū)動電壓為20V以上、低于32V，且驅(qū)動頻率低于5kHz的狀態(tài)下，噴出的一滴液滴的重量為8ng～16ng。
在本例中，圖5(a)和(b)為分別表示，根據(jù)上述液晶的配置方法，在實際處理用的基板20上配置液晶的情形。圖5(a)為液滴剛配置后，(b)為經(jīng)過規(guī)定時間后。
如圖5(a)和(b)所示，液滴在基板20著落后、在基板20上擴散，相鄰液滴之間互相結(jié)合，由此在基板20上形成液晶的膜。
在本例中，如前面所述，以與液滴著落直徑L1大致相同的配置節(jié)距P1在基板20上配置液滴。因此，在液滴之間結(jié)合時，該結(jié)合部分的尺寸變小。即，由于液滴的著落直徑與液滴的配置節(jié)距大致相同，結(jié)合后液滴擴散少、結(jié)合部分很難變大。與之相對，若液滴的著落直徑比液滴的配置節(jié)距過大，結(jié)合后液滴進一步擴散、相鄰液滴之間的材料混合，結(jié)合部分的尺寸變大。而且，若液滴的著落直徑比液滴的配置節(jié)距過小，液滴之間不結(jié)合，液滴的邊緣部作為滴下痕跡而容易照原樣殘留。根據(jù)本例，液滴之間結(jié)合、對該部分的尺寸進行控制，能實現(xiàn)滴下痕跡的減輕。
在這里，液滴的配置節(jié)距優(yōu)選，在液滴的著落直徑的50％以上、150％以下，并且更優(yōu)選為著落直徑的80％以上、120％以下。若液滴的配置節(jié)距低于著落直徑的50％，由于液滴之間產(chǎn)生的干涉等，會產(chǎn)生明顯滴下痕跡。但若超過150％，液滴之間不結(jié)合，而以液滴的狀態(tài)原樣殘留在基板上，也會產(chǎn)生明顯滴下痕跡，所以不理想。由于液晶的配置節(jié)距為著落直徑的80％以上、120％以下，能夠確實實現(xiàn)減輕滴下痕跡。
而且，在本例中，在基板20上排列多個像素區(qū)域PX、液滴著落在該多個像素區(qū)域PX的各個中心位置。因此，液滴之間的結(jié)合部分位于多個像素區(qū)域PX的邊界(例如，圍堰部分)，能抑制由結(jié)合部分產(chǎn)生的滴下痕跡引起的像素的可視性降低。也就是，即使在結(jié)合部分產(chǎn)生液滴的滴下痕跡，由于其位于非顯示區(qū)域，所以能抑制可視性的降低。
在此狀態(tài)下，液滴著落后的直徑L1與多個像素區(qū)域PX的排列節(jié)距P2大致相同，由此液滴的配置節(jié)距P1與液滴的著落直徑L1大致相同。由于上述理由，能確實實現(xiàn)減輕滴下痕跡。
下面，對將上述膜形成方法和液晶的配置方法用于液晶裝置的制造過程的例進行說明。首先，對有關(guān)液晶裝置的構(gòu)成例進行說明。
圖8為模式化表示無源矩陣(Passive Matrix)型液晶裝置(液晶顯示裝置)的剖面構(gòu)造的圖。液晶裝置200為透過型的結(jié)構(gòu)、由在一對玻璃基板201，202之間夾持由STN(Super Twisted Nematic，超扭曲向列型)液晶等構(gòu)成的液晶層203的結(jié)構(gòu)形成。此外，還具有向液晶層供給驅(qū)動信號的驅(qū)動器IC213，和作為光源的背面光214。
在玻璃基板201上，在其內(nèi)面設(shè)置有濾色器204。濾色器204由紅色(R)，綠色(G)，藍(lán)色(B)等各顏色構(gòu)成的著色層204R、204G、204B等規(guī)則地排列而形成。并且，在這些著色層204R(204G、204B)之間，形成由黑底和圍堰等構(gòu)成的分隔墻205。而且，在濾色器204和分隔墻205上，設(shè)置著外涂層206以消除濾色器204、分隔墻205等形成的臺階、達(dá)到平坦化。
在外涂層206上，多個電極207呈條紋狀形成、并且在其上形成取向膜208。
在另一玻璃基板202上，在其內(nèi)面以與上述濾色器204一側(cè)的電極直交的方式，以條紋狀形成多個電極209，在這些電極209上形成取向膜210。并且，上述濾色器204的各著色層204R，204G，204B分別在玻璃基板202的電極209與上述玻璃基板201的電極207的交叉位置相對應(yīng)的位置進行配置。而且，電極207、209是由ITO(Indium Tin Oxide)等透明半導(dǎo)體材料形成的。在玻璃基板202和濾色器204的外面?zhèn)确謩e設(shè)置著各種偏轉(zhuǎn)板(未圖示)。在玻璃基板201，202相互之間設(shè)置有用于保持這些基板201、202之間的間隔(Cell Gap)的未圖示的間隔體，和將液晶203與大氣隔絕的密封材料212。作為密封材料212例如采用熱硬化型或光硬化型樹脂。
在該液晶裝置200中，利用上述膜形成方法、在玻璃基板上形成上述取向膜208，210。而且，用上述配置方法、在玻璃基板上配置上述液晶層203。因此，在該液晶裝置200中，在取向膜208、210和液晶層203中，滴下痕跡不明顯，能實現(xiàn)可視性的提高。
圖9(a)～(d)為模式化地表示上述液晶裝置200的制造方法的圖。圖9(a)和(b)表示在玻璃基板上定量配置液晶的工序，圖9(c)和(d)為表示封固液晶的工序。并且，在圖9(a)～(d)中，為了簡化，上述玻璃基板上的電極、濾色器間隔體等圖示被省略。
在圖9(a)和(b)中，在配置液晶的工序中，用上述配置方法，在玻璃基板201上定量配置規(guī)定量的液晶。
即，如圖9(a)所示，使液滴噴出頭21一邊相對于玻璃基板201作相對移動，一邊從液滴噴出頭21的噴嘴將液晶作為液滴Ln噴出，并在玻璃基板201上配置該液滴Ln。然后，如圖9(b)所示，一直到在玻璃基板201上配置的液晶達(dá)到規(guī)定量為止，多次重復(fù)該液滴Ln的配置動作。在玻璃基板201上配置的液晶的規(guī)定量與封固后在玻璃基板之間形成的空間的容量幾乎一樣。
液晶的定量配置時，控制液滴Ln的體積及其配置位置等液滴Ln的噴出條件。在本例中，由于使液晶作為液滴Ln在玻璃基板201上配置，所以能對玻璃基板201上配置液晶的量、位置等進行精確控制，從而能在玻璃基板201上均勻配置液晶203。
下面，在圖9(c)和(d)中，通過密封材料212、在配置有規(guī)定量的液晶203的玻璃基板201上、在減壓環(huán)境下粘合另一玻璃基板202。
具體地，首先如圖9(c)所示，壓力主要加在配置了密封材料212的玻璃基板201、202的邊緣部位，使密封材料212與玻璃基板201，202粘結(jié)在一起。之后，經(jīng)過規(guī)定時間后，待密封材料212干燥到一定程度后，在玻璃基板201，202的整個外面加上壓力，使液晶203充滿兩基板201，201之間包夾的整個空間。
在此狀態(tài)，由于液晶203與密封材料212接觸時，密封材料212已經(jīng)干燥到一定程度，所以很少有由與液晶203的接觸引起的密封材料212的性能降低或液晶203的惡化。
玻璃基板201、202之間粘合后，用熱、光等處理密封材料212、使密封材料212硬化。這樣，液晶被封固在玻璃基板201，202之間。
像這樣制造的液晶裝置，液晶消耗量少、成本低。而且，由液晶滴下痕跡引起的顯示質(zhì)量的降低也少。
圖10(a)～(c)為表示本發(fā)明的電子設(shè)備的實施的方式例。
本例的電子設(shè)備具有本發(fā)明的液晶裝置作為顯示裝置。
圖10(a)為表示手機的一例的立體圖。在圖10(a)中，符號1000表示手機本體，符號1001表示使用上述液晶裝置的顯示部。
圖10(b)為表示手表型電子設(shè)備的一例的立體圖。在圖10(b)中，符號1100表示表本體，符號1101表示使用上述液晶裝置的顯示部。
圖10(c)為表示文字處理機、個人計算機等攜帶型處理裝置的一例的立體圖。在圖10(c)中，符號1200表示信息處理裝置，符號1202表示鍵盤等輸入部，符號1204表示信息處理裝置本體，符號1206表示使用上述液晶裝置的顯示部。
圖10(a)～(c)所示的各電子設(shè)備具有本發(fā)明的液晶裝置作為顯示裝置，能實現(xiàn)高可視性、提高質(zhì)量。
并且，本實施方式為無源矩陣型的液晶裝置，但也可以為將TFD(ThinFilm Diode薄膜二極管)、TFT(Thin Film Transistor薄膜晶體管)作為開關(guān)元件使用的有源矩陣型的液晶裝置。
圖11為表示將TFT用于開關(guān)元件的有源矩陣型液晶裝置(液晶顯示裝置)的一例的圖，(a)為表示該例的液晶顯示裝置的整體結(jié)構(gòu)的立體圖，(b)為在(a)一個像素的放大圖。
在圖11中，本例的液晶裝置580，形成有TFT元件的元件基板(第1基板)574和對向基板(第2基板)575相向配置，在這些基板間、密封材料573呈畫框型被配置，在基板間的密封材料573圍成的區(qū)域裝入液晶層(圖示省略)。
在這里，圖12為表示用大型基板(例如，1500mm×1800mm)制作液晶裝置用的上述元件基板(第1基板)或?qū)ο蚧?第2基板)的所謂多面處理例的模式圖。在圖12的例中，從1個大型基板作成多個(在本例為6個)面板(例如，元件基板574)，在各元件基板574上分別形成如前面的圖11所示的TFT元件。并且，前面的圖11所示的對向基板575也同樣，也可用1個大型基板形成多個。
回到圖11，在元件基板574的液晶側(cè)表面上，多個源極線576(數(shù)據(jù)線)和多個柵極線577(掃描線)設(shè)置成互相交叉的格狀。TFT元件578在各源極線576和各柵極線577交叉點附近形成，通過各TFT元件578連接像素電極579，多個像素電極579平面視呈矩陣狀配置。另一方面，在對向基板575的液晶層一側(cè)的表面上，對應(yīng)于顯示區(qū)域形成由IT0等透明導(dǎo)電材料制成的共用電極585。
如圖11(b)所示，TFT元件578具有，從柵極線577延伸的柵電極581、包覆柵電極581的絕緣膜(圖示省略)、在絕緣膜上形成的半導(dǎo)體層582、從與半導(dǎo)體層582中的源區(qū)域連接的源極線576延伸的源電極583、和與半導(dǎo)體層582中的漏區(qū)域連接的漏電極584。而且，TFT元件578的漏電極584與像素電極579連接。
圖13為表示有源矩陣型液晶裝置(液晶顯示裝置)的剖面結(jié)構(gòu)的圖。
液晶裝置580主要由具有互相對向配置的元件基板574和對向基板575、被挾持其間的液晶層702、在對向基板575附設(shè)的相位差板715a，偏光板716a、在元件基板574附設(shè)的相位差板715b、和偏光板716b的液晶面板構(gòu)成。通過在該液晶面板上安裝液晶驅(qū)動用驅(qū)動芯片、傳輸電信號的配線、支撐體等附帶要件等，制成最終產(chǎn)品液晶裝置。
對向基板575主要由透光性基板742、和在該基板742上形成的濾色器751構(gòu)成。濾色器751由分隔墻706、作為濾波元件的著色層703R、703G、703B、分隔墻706、和覆蓋著色層703R、703B、703G的保護膜704形成。
分隔墻706是將作為形成各著色層703R、703G、703B的著色層形成區(qū)域的濾波元件形成區(qū)域707各自包圍、形成的格狀的分隔物，在基板742的一個面742a上形成。
而且，分隔墻706例如由黑色感光性樹脂膜構(gòu)成。作為此黑顏色感光性樹脂膜，例如可以使用如通常使用的光致抗蝕劑那樣的正性(Positive)型或負(fù)性(Negative)型感光性樹脂，和至少含有碳黑等黑色無機顏料或黑色有機顏料的膜。該分隔墻706含有黑色無機顏料或有機顏料，由于在除著色層703R、703G、703B的形成位置之外的部分形成，故能夠遮擋光在著色層703R、703G、703B之間透過，所以該分隔墻706也有作為遮光膜的功能。
著色層703R、703G、703B，通過在從分隔墻706的內(nèi)壁到基板742設(shè)置的濾波元件形成區(qū)域707，以噴墨方式導(dǎo)入、即噴出紅色(R)，綠(G)，藍(lán)(B)的各濾波元件材料，之后干燥而形成。
并且，由IT0(Indium Tin Oxide)等透明導(dǎo)電材料構(gòu)成的液晶驅(qū)動用電極層705在保護膜704的大致整個面上形成。并且，設(shè)置有包覆該液晶驅(qū)動用電極層705的取向膜719a。而且，元件基板574一側(cè)的像素電極579上也設(shè)置有取向膜719b。
元件基板574，在透光性基板714上形成未圖示的絕緣層。并且，在該絕緣層上形成TFT元件578和像素電極579。而且，在基板714上形成的絕緣層上，如前面的圖11所示，以矩陣狀形成多個掃描線和多個信號線，在每個被該掃描線和信號線包圍的區(qū)域、設(shè)置有前面的像素電極579。在各像素電極579、掃描線和信號線的電連接位置、組裝有TFT元件578。通過對掃描線、信號線加載信號、來接通/斷開TFT元件578，從而進行對像素電極579的通電控制。而且，在對向基板575一側(cè)形成的電極層705，在此實施方式中為覆蓋整個像素區(qū)域的全面電極。并且，在TFT的配線電路、像素電極中，能夠應(yīng)用各種結(jié)構(gòu)。
元件基板574和對向基板575通過在沿對向基板575的外周邊形成的密封材料573、通過規(guī)定的空隙粘合而成。并且，符號756為用于在基板面內(nèi)將兩基板間的間隔(Cell Gap)保持固定的間隔體。在元件基板574和對向基板575之間，用平面看大致呈畫框狀的密封材料573劃分形成矩形的液晶封入?yún)^(qū)域，在此液晶封入?yún)^(qū)域內(nèi)、封入液晶。
圖14為說明濾色器751的制造方法的一例的圖。
首先，如圖14(a)所示，在透明基板742的一個面上形成分隔墻706(黑底)。在形成該分隔墻706時，用旋轉(zhuǎn)涂膜等方法以規(guī)定的厚度(例如2μm程度)涂敷非透光性樹脂(優(yōu)選黑色樹脂)，用光蝕刻技術(shù)形成圖案?；蛘?，也可以用噴墨工藝。關(guān)于該分隔墻706的格子圍成的最小顯示要素，即濾波元件形成區(qū)域707，例如，X軸方向的寬度為30μm，Y軸方向的長度為100μm左右。
下面，如圖14(b)所示，噴出R的墨滴790R(液狀體)，并在基板742上著落。噴出的墨滴790R的量為考慮到加熱工序中墨水的體積減少的充分的量。隨后，對墨水進行預(yù)燒結(jié)，制成如圖14(c)所示的R著色層703R。在R，G，B的各顏色中、重復(fù)以上工序，如圖14(d)所示，依次形成著色層703G、703B。待著色層703R、703G、703B全部形成后，將著色層703R、703G、703B一起燒結(jié)。
下面，為了使基板742平坦化，并且保護著色層703R，703G，703B，如圖14(e)所示，形成覆蓋各著色層703R、703G、703B和分隔墻706的外涂層(保護膜704)。在該保護膜704的形成中，可以采用旋轉(zhuǎn)涂膜法，輥涂法，剝層(Ripping)法等方法，也可以與著色層703R、703G、703B的場合同樣地采用噴墨工藝。
并且，作為本發(fā)明的液晶裝置，除了透過型面板外，還適用于反射型面板，半透過反射型面板。
以上，參照附圖對本發(fā)明的適宜的實施方式進行了說明，但是當(dāng)然不僅限于本發(fā)明的實施例。在上述例中所示的各構(gòu)成部件的各種形狀或組合等僅為一例，在不脫離本發(fā)明主旨的范圍內(nèi)、可根據(jù)設(shè)計要求等進行各種變更。
權(quán)利要求
1.一種膜形成方法，將液體材料作為液滴噴出、在基板上形成膜，其特征在于，具有對著落后的所述液滴的直徑預(yù)先進行測定的工序；基于測定的結(jié)果，對作為所述的液滴的噴出間隔的節(jié)距進行設(shè)定的工序；以及使所述液滴在所述基板上以所述節(jié)距著落而在所述基板上形成涂膜的涂敷工序。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜形成方法，其特征在于，所述規(guī)定的節(jié)距與所述液滴著落后的直徑大致相同。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的膜形成方法，其特征在于，所述液體材料是取向膜的形成材料。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的膜形成方法，其特征在于，所述液體材料的粘度為2.0mPa·s以上、20mPa·s以下。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的膜形成方法，其特征在于，所述液體材料的表面張力為20mN/m以上、70mN/m以下。
6.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項所述的膜形成方法，其特征在于，在所述基板上，排列著多個像素區(qū)域，使所述液滴著落在所述多個像素區(qū)域的各自的中心位置。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的膜形成方法，其特征在于，所述液滴著落后的直徑與所述多個像素區(qū)域的排列節(jié)距大致相同。
8.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任一項所述的膜形成方法，其特征在于，在所述涂敷工序之前，具有使之對于所述液體材料具親液性地處理所述基板的表面的親液化工序，由此控制所述基板表面的潤濕性。
9.一種膜形成裝置，將液體材料作為液滴噴出、在基板上形成膜，其特征在于，具有測定裝置，其對著落后的所述液滴的直徑進行測定；噴出頭，其使所述液滴在所述基板上以規(guī)定節(jié)距著落而在所述基板上形成涂膜，基于由所述測定裝置所測定的所述液滴的直徑，對作為所述液滴的噴出間隔的節(jié)距進行設(shè)定，使所述液滴在所述基板上以所述節(jié)距著落，而在所述基板上形成涂膜。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的膜形成裝置，其特征在于，所述規(guī)定的節(jié)距與所述液滴著落后的直徑大致相同。
11.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的膜形成裝置，其特征在于，在所述噴出頭上，形成將所述液晶以液滴狀噴出的噴嘴，在所述噴出頭的所述噴嘴周圍，以使之對于所述液體材料呈規(guī)定的接觸角的方式進行表面處理。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的膜形成裝置，其特征在于，所述規(guī)定的接觸為30°以上、170°以下。
13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的膜形成裝置，其特征在于，在所述基板上，排列著多個像素區(qū)域，具有使所述噴嘴與所述基板相對移動、使所述液滴的著落位置與所述多個像素區(qū)域的各個位置一致的驅(qū)動系統(tǒng)。
14.一種液晶裝置，其特征在于，利用權(quán)利要求9～13中任一項所述的膜形成裝置，形成取向膜。
15.一種液晶的配置方法，從噴出裝置噴出液晶，并在基板上配置所述液晶，其特征在于，具有對著落后的所述液滴的直徑預(yù)先進行測定的工序；基于測定的結(jié)果，對作為所述的液滴的噴出間隔的節(jié)距進行設(shè)定的工序，所述液滴噴出裝置，具有以液滴狀噴出所述液晶的多個噴嘴，使所述液晶在所述基板上以所述節(jié)距著落。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的液晶的配置方法，其特征在于，所述液滴的配置節(jié)距與所述液滴的著落后的直徑大致相同。
17.根據(jù)權(quán)利要求15或16所述的液晶的配置方法，其特征在于，在所述基板上形成多個由多個像素構(gòu)成的像素區(qū)域，在所述多個像素區(qū)域分別涂敷所述液滴。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的液晶的配置方法，其特征在于，所述液滴的著落后的直徑與所述多個像素區(qū)域的排列節(jié)距大致相同。
19.一種液晶的配置裝置，將液晶作為液滴噴出，并在基板上配置液晶，其特征在于，備有測定裝置，其對著落后的所述液滴的直徑進行測定；噴出裝置，其具有將所述液晶以液滴狀噴出的多個噴嘴；基于由所述測定裝置所測定的所述液晶的直徑，而設(shè)定作為所述液晶的噴出間隔的節(jié)距，將所述液晶在所述基板上以所述節(jié)距配置。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的液晶的配置裝置，其特征在于，所述節(jié)距的間隔，與所述液滴的著落后的直徑大致相同。
21.根據(jù)權(quán)利要求19或20所述的液晶的配置裝置，其特征在于，在所述基板上排列多個像素區(qū)域，具有驅(qū)動系統(tǒng)，其使所述多個噴嘴與所述基板相對移動，并使所述液滴的著落位置與所述多個像素區(qū)域的各個位置一致。
22.一種液晶裝置，其特征在于，利用權(quán)利要求19～21中任一項所述的液晶的配置裝置來配置液晶。
23.根據(jù)權(quán)利要求9所述的膜形成裝置，其特征在于，所述液體材料，是取向膜的形成材料。
全文摘要
一種膜形成方法、膜形成裝置及液晶裝置的制造方法。膜形成裝置(10)將液體材料作為液滴噴出，使該液滴在基板(20)上、以規(guī)定的節(jié)距(P1)著落并在基板(20)上形成涂膜。規(guī)定的節(jié)距(P1)根據(jù)液滴向基板(20)著落后的直徑(L1)來決定。由此，可以實現(xiàn)滴下痕跡的減輕，在基板上形成均勻的涂膜。
文檔編號G02F1/133GK1908775SQ20061009274
公開日2007年2月7日 申請日期2004年3月9日 優(yōu)先權(quán)日2003年3月12日
發(fā)明者蛭間敬 申請人:精工愛普生株式會社