專(zhuān)利名稱(chēng)：化學(xué)研磨裝置及其玻璃基板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及有效地化學(xué)研磨用于液晶顯示器裝置等的玻璃基板的化學(xué)研磨裝置以及化學(xué)研磨方法。
背景技術(shù)：
液晶顯示器不僅僅用于家庭用彩色電視，也作為電腦以及移動(dòng)電話(huà)機(jī)等的顯示裝置被廣泛使用。于是，根據(jù)使液晶顯示器進(jìn)一步小型化以及輕量化的要求，通過(guò)以氟酸為主要成分的研磨液化學(xué)研磨封入液晶物質(zhì)前的膠結(jié)玻璃基板，使之薄壁化的情況很多。
例如，在專(zhuān)利文獻(xiàn)1所述的化學(xué)研磨裝置中，在液槽的底面，配置將桿狀的多孔質(zhì)體形成為多列的氣泡產(chǎn)生部，通過(guò)氣泡產(chǎn)生的研磨液的上升流，化學(xué)研磨膠結(jié)玻璃基板。根據(jù)該裝置，即使很深地研磨膠結(jié)玻璃基板，在研磨量方面位置上的差異也很少，實(shí)現(xiàn)了高品質(zhì)的化學(xué)研磨處理。
特開(kāi)2003-20255號(hào)公報(bào)但是，在上述的裝置中，由于是對(duì)應(yīng)作為研磨對(duì)象的膠結(jié)玻璃基板的大型化，桿狀的多孔質(zhì)體也必需很長(zhǎng)，所以存在僅僅這部分就引起增大氣孔阻塞的可能性的問(wèn)題。另外，即使完全沒(méi)有引起氣孔阻塞，也存在著在桿狀的多孔質(zhì)體中，在氣泡的產(chǎn)生上，產(chǎn)生位置上的差異，并且在各玻璃基板中，在氣泡的供給不充分的部位及不足的部位，在研磨量方面產(chǎn)生位置上的差，不能徹底對(duì)應(yīng)今后的嚴(yán)厲的研磨品質(zhì)的要求的可能性。
另外，在專(zhuān)利文獻(xiàn)1所述的裝置中，因?yàn)槭鞘寡心ヒ簭囊翰壑羞B續(xù)溢出，除去反應(yīng)生成物，所以需要連續(xù)補(bǔ)給與溢出量相當(dāng)?shù)难心ヒ?，存在著被補(bǔ)給液的流動(dòng)帶動(dòng)，被薄型化了的大型玻璃基板脈動(dòng)，產(chǎn)生龜裂等的破損的可能性。
本發(fā)明就是鑒于上述的問(wèn)題點(diǎn)而產(chǎn)生，其目的在于提供一種化學(xué)研磨裝置以及化學(xué)研磨方法，該化學(xué)研磨裝置以及化學(xué)研磨方法難以引起氣孔阻塞，因此，被供給到玻璃基板上的氣泡沒(méi)有位置上的差異，能夠?qū)崿F(xiàn)高品質(zhì)的化學(xué)研磨處理。另外，以提供一種被高品質(zhì)地研磨處理的沒(méi)有研磨不均的玻璃基板以及以這樣的玻璃基板為構(gòu)成要素的顯示器裝置為目的。

發(fā)明內(nèi)容
為了達(dá)到上述的目的，有關(guān)權(quán)利要求1的化學(xué)研磨裝置具有多列的中空管、供氣部和吊籃，該多列的中空管被配置在保有含有氟酸的研磨液的化學(xué)研磨槽中，并且以規(guī)定的間距設(shè)置著直徑為0.3mm-2mm的氣泡開(kāi)口；該供氣部將氣體連續(xù)地供給到上述多列的中空管，在上述化學(xué)研磨槽中產(chǎn)生氣泡；該吊籃在上述多列的中空管的上部，隔開(kāi)與上述開(kāi)口間距對(duì)應(yīng)并較寬地被確保的擴(kuò)散空間，以垂直姿勢(shì)保持多個(gè)玻璃基板，在多次反復(fù)進(jìn)行以上述吊籃為單位實(shí)行的化學(xué)研磨處理后，對(duì)上述多列中空管進(jìn)行清洗處理，以不存在閉塞狀態(tài)的氣泡開(kāi)口為條件，再次使用上述多列的中空管。
本發(fā)明的氣泡開(kāi)口最好朝上設(shè)置，在這里，朝上并非一定限定在垂直方向，而是包含傾斜上方在內(nèi)的概念。
在本發(fā)明中，因?yàn)槭且砸?guī)定的開(kāi)口間距配置直徑為0.3mm-2mm的氣泡開(kāi)口，所以氣孔阻塞的可能性低。而且，在本發(fā)明中，在多次反復(fù)進(jìn)行以吊籃為單位實(shí)行的化學(xué)研磨處理后，對(duì)多列中空管進(jìn)行清洗處理，以不存在閉塞狀態(tài)的氣泡開(kāi)口為條件，再次使用多列的中空管。因此，因?yàn)橥耆朔磻?yīng)生成物的氣孔阻塞的問(wèn)題，其結(jié)果是穩(wěn)定地供給均勻的氣泡，所以在研磨處理后的玻璃基板上不會(huì)產(chǎn)生位置上的研磨不均。另外，玻璃基板可以是膠結(jié)玻璃基板，也可以是單一的玻璃基板。
在本發(fā)明中，直徑為0.3mm-2mm的氣泡開(kāi)口更好的是直徑為0.5mm-1.5mm。另外，最好中空管的配設(shè)間距被設(shè)定為與開(kāi)口間距同等的程度，作為整體，被排列為鋸齒狀。在這里，大致鋸齒狀的排列的概念排除了方格狀的排列，表示相鄰的中空管的氣泡開(kāi)口的配設(shè)位置相互錯(cuò)開(kāi)。最好使相鄰的中空管的氣泡開(kāi)口的配設(shè)位置應(yīng)該錯(cuò)開(kāi)1/2間距。
總之，在本發(fā)明中，最好將中空管的配設(shè)間距和氣泡開(kāi)口的開(kāi)口間距設(shè)定在同等程度，這些都應(yīng)該小于等于50mm。最好小于等于20mm，更好的是小于等于10mm。另外，設(shè)置在中空管的上部的擴(kuò)散空間與氣泡開(kāi)口的開(kāi)口間距對(duì)應(yīng)地較寬地形成，在氣泡開(kāi)口的開(kāi)口間距為50mm左右的情況下，通過(guò)在垂直方向設(shè)置100-150mm左右的擴(kuò)散空間，可以使氣泡大致均勻地?cái)U(kuò)散。另外，在氣泡開(kāi)口的間隔小于等于10mm的情況下，通過(guò)向中空管供給適當(dāng)量的氣體，可以省略作為擴(kuò)散空間的特殊的空間。
總之，在本發(fā)明中，因?yàn)槭褂弥睆綖?.3mm-2mm的氣泡開(kāi)口，所以若從供氣部供給的氣體量不足，則上浮到研磨槽的氣泡不均勻。另一方面，若供給的氣體量過(guò)多，則在玻璃基板薄的情況下，存在由于液流損壞玻璃基板的可能。因此，對(duì)于研磨槽的化學(xué)研磨液V(立升)，應(yīng)供給10×V～60×V(立升/時(shí)間)的氣體。
若設(shè)定為這種程度的氣體供給量，則能夠與設(shè)置在中空管的上部的擴(kuò)散空間相輔相成，保證供給到玻璃基板的氣泡的一致性，而且，不會(huì)損壞玻璃基板。在這里，具體的氣體供給量，若其他的研磨條件相同，則由作為研磨對(duì)象的玻璃基板的板厚決定，板厚越厚，氣體供給量設(shè)定得越高。另外，作為氣體，典型地是使用空氣。
但是，本發(fā)明的化學(xué)研磨槽是以封閉狀態(tài)保有研磨液，換言之，是不使研磨液溢出。因此，在本發(fā)明中，與不溢出的化學(xué)研磨槽的構(gòu)成相對(duì)應(yīng)，最好在清洗處理中空管時(shí)等更換研磨液。若采用這樣的構(gòu)成，則事實(shí)上總是通過(guò)新鮮的研磨液進(jìn)行化學(xué)研磨，可以愈發(fā)提高研蘑品質(zhì)。
另外，有關(guān)權(quán)利要求8的化學(xué)研磨裝置，具有多列的中空管、供氣部、吊籃和沉淀空間，該多列的中空管被配置在儲(chǔ)存有含有氟酸的研磨液的化學(xué)研磨槽中，并且以規(guī)定的間距設(shè)置著氣泡開(kāi)口；該供氣部將氣體連續(xù)地供給到上述多列的中空管，在上述化學(xué)研磨槽中產(chǎn)生氣泡；該吊籃在上述多列的中空管的上部，隔開(kāi)與上述開(kāi)口間距對(duì)應(yīng)并較寬地被確保的擴(kuò)散空間，以垂直姿勢(shì)保持多個(gè)玻璃基板；該沉淀空間形成于上述中空管和上述化學(xué)研磨槽的底部之間，上述研磨液不會(huì)從上述化學(xué)研磨槽中溢出，可通過(guò)上述氣泡流動(dòng)而構(gòu)成。
根據(jù)該構(gòu)成，因?yàn)槟軌蛞种埔翰蹆?nèi)的流動(dòng)，所以可以使基于化學(xué)研磨的反應(yīng)生成物切實(shí)地沉淀在液槽的底部，在此基礎(chǔ)上，即使是使大型的玻璃基板薄型化，也不會(huì)被液流帶動(dòng)而較大地脈動(dòng)，不存在龜裂等的破損的可能性。
根據(jù)上述所說(shuō)明的本發(fā)明，可以實(shí)現(xiàn)一種化學(xué)研磨裝置，該化學(xué)研磨裝置難以引起氣孔阻塞，并且，被供給到玻璃基板上的氣泡沒(méi)有位置上的差異，能夠?qū)崿F(xiàn)高品質(zhì)的化學(xué)研磨。


圖1是表示配置在第一實(shí)施例的化學(xué)研磨裝置的底面的氣泡產(chǎn)生部的俯視圖。
圖2是詳細(xì)地圖示圖1的一部分的重要部位剖視圖。
圖3是說(shuō)明第一實(shí)施例的變形例的重要部位剖視圖。
圖4是表示配置在第二實(shí)施例的化學(xué)研磨裝置的底面的氣泡產(chǎn)生部的俯視圖。
圖5是詳細(xì)地圖示圖4的一部分的重要部位剖視圖。
圖6是表示收容多個(gè)玻璃基板的吊籃的立體圖。
圖7是表示吊籃的俯視圖。
圖8是表示第三實(shí)施例的化學(xué)研磨裝置的圖面。
具體實(shí)施例方式
下面，根據(jù)實(shí)施例，進(jìn)一步詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明。但是，在各實(shí)施例中的具體的記載內(nèi)容絲毫不是對(duì)本發(fā)明進(jìn)行限定。另外，在沒(méi)有特別提出的情況下，在各實(shí)施例中，同一個(gè)引用符號(hào)表示同一個(gè)部件。
圖1是針對(duì)有關(guān)第一實(shí)施例的化學(xué)研磨裝置，表示配置在研磨槽的底部的氣泡產(chǎn)生部CH1的俯視圖。在第一實(shí)施例的化學(xué)研磨裝置中，在儲(chǔ)存有含有氟酸的研磨液的化學(xué)研磨槽的底部，配置圖1所示的氣泡產(chǎn)生部CH1。從圖示的氣泡產(chǎn)生部CH1，連續(xù)產(chǎn)生氣泡，在氣泡產(chǎn)生部CH1的上部，配置保持多個(gè)玻璃基板GL的吊籃。
這樣，多個(gè)玻璃基板GL其基板面全部在Y方向延伸，在吊籃中沿垂直方向排列并被保持。雖然被排列的多個(gè)玻璃基板GL的相鄰間隔為一定值T，但是，也可以在相鄰的玻璃基板之間，配置與玻璃基板形狀相同的氯乙烯板。另外，在本實(shí)施例中，因?yàn)闅馀蓍_(kāi)口HO的開(kāi)口間距P1小于等于10mm，所以在緊靠氣泡產(chǎn)生部CH1的上部，留有若干的間隙，配置吊籃。即，在本實(shí)施例中，不存在作為擴(kuò)散空間的特殊的空間。
在該實(shí)施例中，通過(guò)使比較大的氣泡從直徑為0.5-1.5mm左右的朝上的氣泡開(kāi)口HO連續(xù)產(chǎn)生，可以謀求研磨處理的迅速化。但是，由于通過(guò)直徑為1mm前后的大粒的氣泡，促進(jìn)了研磨液的上升流的流動(dòng)，所以成為研磨不均的原因，不能兼顧。因此，在本實(shí)施例中，使研磨液不能從液槽溢出，防止促進(jìn)研磨液的流動(dòng)。
另外，在該化學(xué)研磨裝置中，在多次反復(fù)進(jìn)行以吊籃為單位實(shí)行的化學(xué)研磨處理后，排出使用后的研磨液，更換為新鮮的研磨液。因此，研磨槽的玻璃基板總是被新鮮的研磨液研磨，也不存在從玻璃基板中溶出的反應(yīng)生成物(淤泥)封閉了氣泡開(kāi)口HO，使玻璃基板的品質(zhì)劣化的情況。另外，被排出的研磨液可以經(jīng)化學(xué)處理后廢棄或者經(jīng)再生處理后再利用。
接著，就圖1所示的氣泡產(chǎn)生部CH1的具體的構(gòu)成進(jìn)行說(shuō)明。氣泡產(chǎn)生部CH1是由接受來(lái)自供氣泵的加壓空氣的供氣基礎(chǔ)部1、與供氣基礎(chǔ)部1正交地配置的多個(gè)歧管2、使各歧管2…2的前端部封閉，并且一體地保持各歧管2…2的保持部3構(gòu)成。在該實(shí)施例中，上述各部1-3的構(gòu)成部件例如是氯乙烯構(gòu)成。另外，供氣基礎(chǔ)部1的長(zhǎng)度方向?yàn)閄方向，與其正交的歧管2的長(zhǎng)度方向?yàn)閅方向。
供氣基礎(chǔ)部1是以由中空管構(gòu)成的多根連接管10和將連接管10連結(jié)在一條直線(xiàn)上的多個(gè)T字管11為中心構(gòu)成的。這樣，基端側(cè)的連接管10S經(jīng)由垂直中空管12，與供氣泵連接。另外，前端側(cè)的T字管11E其連接開(kāi)口被密封部件13封閉。
如圖2所示，T字管11在三方向具有連接開(kāi)口，但是，是將連接管10插入并固定在位于一條直線(xiàn)上的第一連結(jié)口11a和第二連結(jié)口11b中。這樣，T字管11的配設(shè)間距P0與氣泡開(kāi)口HO的開(kāi)口間距P1大致對(duì)應(yīng)地被設(shè)定為10-50mm左右。另外，供氣基礎(chǔ)部1的內(nèi)徑D被設(shè)定為直徑7-25mm左右，在該例中，被設(shè)定為直徑為20mm左右的內(nèi)徑。
另一方面，保持部3是以多根的連結(jié)桿30和將連結(jié)桿30連結(jié)在一條直線(xiàn)上的多個(gè)T字管31為中心構(gòu)成的。另外，T字管31與T字管11的構(gòu)成相同，連結(jié)桿30的外徑以及軸向長(zhǎng)度與連接管10相同。這樣，通過(guò)將連結(jié)桿30插入T字管31的第一連結(jié)口31a和第二連結(jié)口31b中，切實(shí)地封閉了T字管31的兩個(gè)連結(jié)口31a、31b。另外，基端側(cè)的連結(jié)桿30S被屈曲為L(zhǎng)字狀，其垂直部VT作為取出該氣泡產(chǎn)生部CH1時(shí)的操作部而發(fā)揮功能。另外，前端側(cè)的T字管31E與供氣基礎(chǔ)部1同樣，被密封部件13封閉。
歧管2是由具有與連接管10程度相同的內(nèi)徑的中空管構(gòu)成，歧管2的兩端被嵌合固定在供氣基礎(chǔ)部1和保持部3的T字管11、31的第三聯(lián)絡(luò)口11c、31c上。這樣，在各歧管2上，以規(guī)定的開(kāi)口間距P1形成氣泡開(kāi)口HO。如上述說(shuō)明，氣泡開(kāi)口HO被設(shè)定成直徑為0.5-1.5mm左右，在該實(shí)施例中被設(shè)定成1mm。雖然氣泡開(kāi)口HO的開(kāi)口間距P1也受到氣泡開(kāi)口HO的大小的限制，但是最好是小于等于50mm，更好的是應(yīng)設(shè)定為20mm。在該實(shí)施例中，設(shè)定為10mm。
如圖1所示那樣，各中空管被配置成氣泡開(kāi)口HO作為整體被配置為鋸齒狀。即，相鄰的中空管通過(guò)以氣泡開(kāi)口HO的位置錯(cuò)開(kāi)1/2間距的方式被配置，作為整體成為鋸齒排列。在這里，對(duì)于相鄰的中空管的氣泡開(kāi)口HO，雖然可以考慮使其位置一致，配置成方格狀，但是若考慮所產(chǎn)生的氣泡的均勻分散性，則與方格排列相比，還是鋸齒排列更有效。
但是，根據(jù)本發(fā)明者的實(shí)驗(yàn)研究，若開(kāi)口間距P1在50mm以?xún)?nèi)，則通過(guò)在氣泡產(chǎn)生部CH1和保持玻璃基板的吊籃之間設(shè)置適宜的自由空間(擴(kuò)散空間)，能夠克服研磨品質(zhì)的劣化。即，在氣泡開(kāi)口HO的開(kāi)口間距P1大的情況下，如果氣泡產(chǎn)生部CH1和吊籃的距離近，則由于來(lái)自氣泡開(kāi)口HO的氣泡沒(méi)有同樣地?cái)U(kuò)展到吊籃整體(產(chǎn)生偏流)，所以在各玻璃基板的研磨量方面分別產(chǎn)生位置上的研磨不均，但是由于上述擴(kuò)散空間的存在，能夠消除位置上的研磨不均。例如，即使是在開(kāi)口間距P1為50mm的情況下，通過(guò)在氣泡產(chǎn)生部CH1的上方設(shè)置具有開(kāi)口間距P1的兩倍或多于兩倍的垂直距離的自由空間，可以消除研磨不均。另外，消除研磨不均是考慮到為了使從各氣泡開(kāi)口HO依次產(chǎn)生的氣泡在浮阻力小的自由空間充分地在水平方向擴(kuò)展分散。
另外，雖然在圖1的實(shí)施例中，各歧管2的前端側(cè)被保持部3封閉，但是，當(dāng)然也可以省略保持部3。圖3是表示省略了保持部3的情況下的圖面，各歧管2被密封部件13封閉。在該構(gòu)成的情況下，雖然在作為氣泡產(chǎn)生部的整體的機(jī)械一體性方面稍微欠缺，但是，在僅僅更換特定的歧管那樣的情況下，作業(yè)性良好。
圖4以及圖5圖示了第二實(shí)施例的化學(xué)研磨裝置，在這里，圖4所示的氣泡產(chǎn)生部CH2配置在研磨槽的底部。于是，在氣泡產(chǎn)生部CH2上平行地設(shè)置2個(gè)供氣基礎(chǔ)部1A、1B。即，第二實(shí)施例的氣泡產(chǎn)生部CH2的構(gòu)成具有第一供氣基礎(chǔ)部1A、第二供氣基礎(chǔ)部1B、均勻地向2個(gè)供氣基礎(chǔ)部1A、1B的上游側(cè)供給加壓空氣的2個(gè)連結(jié)管CN、CN。另外，連結(jié)管CN、CN分別是由尺寸相同的中空的彎管構(gòu)成。
如圖5所示，歧管2被分為第二供氣基礎(chǔ)部1B側(cè)的終端被封閉的中空管20A，和第一供氣基礎(chǔ)部1A側(cè)的終端被封閉的中空管20B，它們交互地配置。因此，通過(guò)圖1所示的氣泡產(chǎn)生部CH1，使各歧管2…2的內(nèi)部壓力均勻化，提高了從各氣泡開(kāi)口HO產(chǎn)生的氣泡的均勻性。
在上述所說(shuō)明的化學(xué)研磨裝置中，就板厚0.7mm，尺寸400mm×500mm的膠結(jié)玻璃基板GL而言，作為整體，進(jìn)行400μm化學(xué)研磨時(shí)，確認(rèn)板厚的差異被抑制到了小于等于±25μm。若考慮消除了氣孔阻塞的優(yōu)點(diǎn)，則這種研磨品質(zhì)具有充分的實(shí)用性。另外，因?yàn)槭鞘褂冒搴?.7mm的膠結(jié)玻璃基板，所以各玻璃基板的板厚是0.35mm左右，研磨量?jī)H為各玻璃基板的單面200μm。
圖6是表示被配置在氣泡產(chǎn)生部CH的上部，并保持多個(gè)玻璃基板GL的吊籃40的立體圖。圖7是表示在收容著玻璃基板GL的狀態(tài)下的吊籃40的俯視圖。
該吊籃40由一對(duì)矩形板41、41、連結(jié)矩形板41、41的4根連結(jié)桿42、被固定在矩形板41、41上，并以直立狀態(tài)保持玻璃基板GL的支撐桿43、44構(gòu)成，作為整體被形成為長(zhǎng)方體狀的箱形。
連結(jié)桿42和支撐桿43、44使用耐酸性合成樹(shù)脂制的圓桿，在它們的兩端突出地形成稍小徑的安裝部42b、43b、44b。于是，通過(guò)在支撐桿43、44的安裝部43b、44b上擰入螺母NT，連結(jié)桿42和支撐桿43、44被固定在矩形板41上。
在支撐桿43、44的主體部43a、44a上，以規(guī)定間隔，形成俯視大致V字狀的V字環(huán)狀槽45、46，通過(guò)使各玻璃基板GL的周緣與該V字環(huán)狀槽45、46轉(zhuǎn)動(dòng)配合，各玻璃基板GL不會(huì)受到應(yīng)力地被保持。即，如圖6所示，從吊籃40的上面插入玻璃基板GL，玻璃基板GL的周緣被卡定在支撐桿43、44的V字環(huán)狀槽45、46上。這樣，吊籃40在保持著多片玻璃基板的狀態(tài)下，被收容在化學(xué)研磨槽中。
圖8是表示有關(guān)第三實(shí)施例的化學(xué)研磨裝置50的圖面。該化學(xué)研磨裝置50是由儲(chǔ)存有含有氟酸的研磨液的化學(xué)研磨槽51、被配置在化學(xué)研磨槽51的大致中央部附近的氣泡產(chǎn)生部CH、收容著多個(gè)玻璃基板的吊籃40構(gòu)成，在化學(xué)研磨槽51的底部和氣泡產(chǎn)生部CH之間，形成使反應(yīng)生成物沉淀的沉淀空間。
化學(xué)研磨槽51其上面被開(kāi)口，另一方面，在底部形成有將沉淀的反應(yīng)生成物排出的排出口(未圖示)。另外，在化學(xué)研磨槽51中儲(chǔ)存有研磨液52，以使配置在化學(xué)研磨槽內(nèi)部的吊籃40整體浸漬，通過(guò)因氣泡的產(chǎn)生而產(chǎn)生的研磨液52的上升流動(dòng)，研磨液流動(dòng)。氣泡產(chǎn)生部CH使用第一實(shí)施例的氣泡產(chǎn)生部CH1、第二實(shí)施例的氣泡產(chǎn)生部CH2中的任意一個(gè)氣泡產(chǎn)生部均可，在化學(xué)研磨槽51的內(nèi)部，通過(guò)支撐部件(未圖示)，以水平狀態(tài)被固定在化學(xué)研磨槽51的高度方向的中央附近。另外，吊籃40留有若干擴(kuò)散空間地被配置在氣泡產(chǎn)生部CH的上部。
在有關(guān)第三實(shí)施例的化學(xué)研磨裝置50中，因?yàn)閷馀莓a(chǎn)生部CH配置在化學(xué)研磨槽51的高度方向的大致中央附近，所以在化學(xué)研磨槽51的底部和氣泡產(chǎn)生部CH之間，形成使反應(yīng)生成物沉淀的沉淀空間。
在上述那樣構(gòu)成的化學(xué)研磨裝置50中，如圖8所示，通過(guò)從氣泡產(chǎn)生部CH產(chǎn)生的氣泡，研磨液52向上方流動(dòng)。這樣，在研磨玻璃基板GL后，與從玻璃基板GL析出的反應(yīng)生成物一起，向玻璃基板GL的左右兩側(cè)面流動(dòng)，向化學(xué)研磨槽51的底流動(dòng)。于是，在反復(fù)多次進(jìn)行以吊籃為單位實(shí)行的化學(xué)研磨處理后，從化學(xué)研磨槽51的排出口排出沉淀的反應(yīng)生成物。
在該化學(xué)研磨裝置50中，因?yàn)榉磻?yīng)生成物積存在沉淀空間，所以氣泡開(kāi)口HO被阻塞的可能性低。另外，通過(guò)從排出口排出積存在沉淀空間的反應(yīng)生成物，繼續(xù)補(bǔ)足新鮮的研磨液，可以不必全部更換研磨液，連續(xù)進(jìn)行化學(xué)研磨作業(yè)。另外，由于研磨液52是通過(guò)氣泡的上升緩慢地流動(dòng)，所以即使使大型的玻璃基板GL薄型化，也不會(huì)因?yàn)檠心ヒ?2的流動(dòng)而較大地脈動(dòng)，可以防止玻璃基板GL的破損。
上面，就本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明，但具體記載的內(nèi)容并非是特別限定本發(fā)明的意思。特別是，各構(gòu)成部件的形狀或尺寸絲毫不受例示的限定。
權(quán)利要求
1.一種化學(xué)研磨裝置，其特征在于，具有多列的中空管、供氣部和吊籃，該多列的中空管被配置在保有含有氟酸的研磨液的化學(xué)研磨槽中，并且以規(guī)定的間距設(shè)置著直徑為0.3mm-2mm的氣泡開(kāi)口；該供氣部將氣體連續(xù)地供給到上述多列的中空管，在上述化學(xué)研磨槽中產(chǎn)生氣泡；該吊籃在上述多列的中空管的上部，隔開(kāi)與上述開(kāi)口間距對(duì)應(yīng)并較寬地被確保的擴(kuò)散空間，以垂直姿勢(shì)保持多個(gè)玻璃基板，在多次反復(fù)進(jìn)行以上述吊籃為單位實(shí)行的化學(xué)研磨處理后，對(duì)上述多列中空管進(jìn)行清洗處理，以不存在閉塞狀態(tài)的氣泡開(kāi)口為條件，再次使用上述多列的中空管。
2.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)研磨裝置，其特征在于，上述中空管的配設(shè)間距被設(shè)定為與上述開(kāi)口間距同等的程度，作為整體被排列為大致鋸齒狀。
3.如權(quán)利要求1或2所述的化學(xué)研磨裝置，其特征在于，上述供氣部的氣體供給量與玻璃基板的板厚相對(duì)應(yīng)地被設(shè)定。
4.一種玻璃基板，其特征在于，是被權(quán)利要求1至3中的任一項(xiàng)所述的化學(xué)研磨裝置研磨處理的玻璃基板。
5.一種顯示器裝置，其特征在于，是以被權(quán)利要求1至3中的任一項(xiàng)所述的化學(xué)研磨裝置研磨處理的玻璃基板為構(gòu)成要素的顯示器裝置。
6.一種化學(xué)研磨方法，其特征在于，具有多列的中空管、供氣部和吊籃，該多列的中空管被配置在保有含有氟酸的研磨液的化學(xué)研磨槽中，并且以規(guī)定的間距設(shè)置著直徑為0.3mm-2mm的氣泡開(kāi)口；該供氣部將氣體連續(xù)地供給到上述多列的中空管，在上述化學(xué)研磨槽中產(chǎn)生氣泡；該吊籃在上述多列的中空管的上部，隔開(kāi)與上述開(kāi)口間距對(duì)應(yīng)并較寬地被確保的擴(kuò)散空間，以垂直姿勢(shì)保持多個(gè)玻璃基板，在多次反復(fù)進(jìn)行以上述吊籃為單位實(shí)行的化學(xué)研磨處理后，對(duì)上述多列中空管進(jìn)行清洗處理，以不存在閉塞狀態(tài)的氣泡開(kāi)口為條件，再次使用上述多列的中空管。
7.一種薄型玻璃基板的制造方法，其特征在于，具有多列的中空管、供氣部和吊籃，該多列的中空管被配置在保有含有氟酸的研磨液的化學(xué)研磨槽中，并且以規(guī)定的間距設(shè)置著直徑為0.3mm-2mm的氣泡開(kāi)口；該供氣部將氣體連續(xù)地供給到上述多列的中空管，在上述化學(xué)研磨槽中產(chǎn)生氣泡；該吊籃在上述多列的中空管的上部，隔開(kāi)與上述開(kāi)口間距對(duì)應(yīng)并較寬地被確保的擴(kuò)散空間，以垂直姿勢(shì)保持多個(gè)玻璃基板，在多次反復(fù)進(jìn)行以上述吊籃為單位實(shí)行的化學(xué)研磨處理后，對(duì)上述多列中空管進(jìn)行清洗處理，以不存在閉塞狀態(tài)的氣泡開(kāi)口為條件，再次使用上述多列的中空管。
8.一種化學(xué)研磨裝置，其特征在于，具有多列的中空管、供氣部、吊籃和沉淀空間，該多列的中空管被配置在儲(chǔ)存有含有氟酸的研磨液的化學(xué)研磨槽中，并且以規(guī)定的間距設(shè)置著氣泡開(kāi)口；該供氣部將氣體連續(xù)地供給到上述多列的中空管，在上述化學(xué)研磨槽中產(chǎn)生氣泡；該吊籃在上述多列的中空管的上部，隔開(kāi)與上述開(kāi)口間距對(duì)應(yīng)并較寬地被確保的擴(kuò)散空間，以垂直姿勢(shì)保持多個(gè)玻璃基板；該沉淀空間形成于上述中空管和上述化學(xué)研磨槽的底部之間，上述研磨液不會(huì)從上述化學(xué)研磨槽中溢出，可通過(guò)上述氣泡流動(dòng)而構(gòu)成。
9.一種化學(xué)研磨裝置，其特征在于，在上述化學(xué)研磨槽的底部形成排出口，在多次反復(fù)進(jìn)行以上述吊籃為單位實(shí)行的化學(xué)研磨處理后，沉淀在上述沉淀空間的反應(yīng)生成物從上述排出口被排出。
全文摘要
具有化學(xué)研磨槽、多列的中空管(2)、供氣泵和吊籃，該化學(xué)研磨槽以封閉狀態(tài)，保有含有氟酸的研磨液；該多列的中空管(2)以規(guī)定的間隔，向上設(shè)置著直徑為0.3mm－2mm左右的氣泡開(kāi)口HO；該供氣泵將空氣連續(xù)地供給到多列的中空管(2)，在化學(xué)研磨槽中產(chǎn)生氣泡；該吊籃在多列的中空管(2)的上部，隔開(kāi)規(guī)定的擴(kuò)散空間，以垂直姿勢(shì)保持多個(gè)玻璃基板。在多次反復(fù)進(jìn)行以吊籃為單位實(shí)行的化學(xué)研磨處理后，沉淀在沉淀空間的反應(yīng)生成物從排出口被排出。根據(jù)本發(fā)明，可以提供一種難以引起氣孔阻塞，被供給到玻璃基板上的氣泡沒(méi)有位置上的差異，能夠?qū)崿F(xiàn)高品質(zhì)的化學(xué)研磨的化學(xué)研磨裝置。
文檔編號(hào)G02F1/1333GK1974123SQ20061010154
公開(kāi)日2007年6月6日 申請(qǐng)日期2006年7月10日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月2日
發(fā)明者西山智弘 申請(qǐng)人:西山不銹化學(xué)股份有限公司