專利名稱：：帶防反射膜的基體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及帶防反射膜的基體。
背景技術(shù)：
：汽車的風(fēng)窗玻璃(擋風(fēng)玻璃)被希望對(duì)可見光的透射率高、反射率低等。作為滿足該特性的低反射玻璃的防反射膜，使用了氮化鈦層和氧化硅層的層疊膜。另外，近年來(lái)，考慮到在窗罩玻璃上安裝天線，除了上述特性之外還希望不要屏蔽電磁波。但是，氮化鈦層和氧化硅層的層疊膜由于膜電阻率低，因此會(huì)屏蔽電磁波。與此相對(duì)，作為對(duì)可見光的透射率高、反射率低、膜電阻率高的防反射膜，已知由氧化鈦層和氧化硅層的層疊膜。但是，具有氧化鈦層和氧化硅層的層疊膜作為防反射膜的玻璃板具有在彎曲加工或強(qiáng)化加工時(shí)，由于熱處理在該層疊膜上出現(xiàn)裂紋的問題。
發(fā)明內(nèi)容因此，本發(fā)明的目的在于提供帶有對(duì)可見光的透射率高、反射率低、膜電阻率高、即使經(jīng)熱處理也不會(huì)出現(xiàn)裂紋的防反射膜的基體。本發(fā)明人為了完成上述目的，對(duì)氧化鈦層和氧化硅層的層疊膜進(jìn)行了認(rèn)真的研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)該層疊膜在經(jīng)熱處理時(shí)的出現(xiàn)裂紋是由于熱處理時(shí)氧化鈦層進(jìn)行結(jié)晶化而收縮造成的。本發(fā)明人進(jìn)一步進(jìn)行認(rèn)真的研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)通過使氧化鈦層含有氮的方法，或者與氧化鈦層鄰接設(shè)置氧化鋯層的方法，或者將這些并用的方法，從而可以達(dá)到即使經(jīng)熱處理也不出現(xiàn)裂紋。于是完成了本發(fā)明。艮P，本發(fā)明的要旨如下。帶防反射膜的基體，它是具有透明基體，以及將由折射率在1.90以上的高折射率材料所形成的被膜和由折射率在1.56以下的低折射率材料所形成的被膜從上述透明基體側(cè)開始按照該順序?qū)盈B偶數(shù)層而得的防反射膜的帶防反射膜的基體，其特征在于，由上述高折射率材料形成的被膜的至少1層是氮氧化鈦層的單層膜(a)、含有氧化鈦層和氧化鋯層的層疊膜(b)或者含有氮氧化鈦層和氧化鋯層的層疊膜(C)。帶防反射膜的基體，它是具有透明基體，以及將由折射率在1.90以上的高折射率材料所形成的被膜和由折射率在1.56以下的低折射率材料所形成的被膜從上述透明基體側(cè)開始按照該順序?qū)盈B偶數(shù)層而得的防反射膜的帶防反射膜的基體，其特征在于，由上述高折射率材料形成的被膜的至少1層是氮氧化鈦層的單層膜(a)、氧化鈦層與氧化鋯層的層疊膜(bl)或者氮氧化鈦層與氧化鋯層的層疊膜(cl)。如上述[2]所述的帶防反射膜的基體，其特征在于，由上述高折射率材料形成的被膜的至少1層是氮氧化鈦層和氧化鋯層的層疊膜(cl)。帶防反射膜的基體，它是具有透明基體，以及將由折射率在1.90以上的高折射率材料形成的被膜和由折射率在1.56以下的低折射率材料形成的被膜從上述透明基體側(cè)開始按照該順序?qū)盈B4層而得的防反射膜的帶防反射膜的基體，其特征在于，上述防反射膜是從透明基體側(cè)開始按順序?qū)盈B有由折射率在1.90以上的高折射率材料形成的被膜、氧化硅的單層膜、氮氧化鈦層和氧化鋯層的層疊膜(cl)、氧化硅的單層膜的防反射膜。如[4]所述的帶防反射膜的基體，其特征在于，由上述折射率在1.90以上的高折射率材料形成的被膜是氧化鈦層的單層膜。如上述[1][5]中任一項(xiàng)所述的帶防反射膜的基體，其特征在于，以入射角60°從上述防反射膜側(cè)入射的光被上述防反射膜面的反射按可見光的反射率計(jì)在6%以下。如上述[1][6]中任一項(xiàng)所述的帶防反射膜的基體，其特征在于，上述氮氧化鈦層中相對(duì)于鈦的氮量為0.l80at%。如上述[1][7]中任一項(xiàng)所述的帶防反射膜的基體，其特征在于，熱處理前上述氮氧化鈦層中相對(duì)于鈦的氮量為240at%。如上述[1][8]中任一項(xiàng)所述的帶防反射膜的基體，其特征在于，熱處理后上述氮氧化鈦層中相對(duì)于鈦的氮量為0.l20at%。帶防反射膜的基體的加工方法，其特征在于，具有將上述[1][9]中任一項(xiàng)所述的帶防反射膜的基體送入加熱爐內(nèi)加熱至彎曲成形溫度的加熱工序，以及彎曲成形為所希望的形狀的工序。本發(fā)明的帶防反射膜的基體對(duì)可見光的透射率高、反射率低、膜電阻率高、即使經(jīng)熱處理也不會(huì)在防反射膜中出現(xiàn)裂紋。具體實(shí)施例方式以下，詳細(xì)地說明本發(fā)明。本發(fā)明的帶防反射膜的基體是具有有透明基體，以及將由折射率在1.90以上的高折射率材料形成的被膜與由折射率在1.56以下的低折射率材料形成的被膜從上述透明基體側(cè)開始按照該順序?qū)盈B偶數(shù)層而得的防反射膜的帶防反射膜的基體，其中，由上述高折射率材料形成的被膜的至少l層是氮氧化鈦層的單層膜(a)、含有氧化鈦層和氧化鋯層的層疊膜(b)或者含有氮氧化鈦層和氧化鋯層的層疊膜(c)。優(yōu)選的是，本發(fā)明的帶防反射膜的基體為具有透明基體、以及將由折射率在1.90以上的高折射率材料形成的被膜和由折射率在1.56以下的低折射率材料形成的被膜從上述透明基體側(cè)開始按照該順序?qū)盈B偶數(shù)層而得防反射膜的帶防反射膜的基體，其中，由上述高折射率材料形成的被膜的至少l層是氮氧化鈦層的單層膜(a)、氧化鈦層與氧化鋯層的層疊膜(bl)或者氮氧化鈦層與氧化鋯層的層疊膜(cl)。本發(fā)明的帶防反射膜的基體優(yōu)選的是以入射角60°從防反射膜側(cè)入射的光被防反射膜面的反射按可見光反射率計(jì)在6%以下。如在上述范圍則防反射性能充分。本發(fā)明中使用的透明基體不限于無(wú)色透明的材料，在透射率不損害本發(fā)明的目的的范圍內(nèi)，也可以使用著色材料。特別優(yōu)選玻璃。對(duì)于玻璃沒有特別的限定，例如透明或著色的浮法玻璃(由浮法制得的玻璃)、使之著色的紅外線吸收玻璃。另外，也可以使用強(qiáng)化玻璃。具體優(yōu)選使用使鈉鈣玻璃中含有鐵粒子等著色成分的紅外線吸收玻璃。本發(fā)明的帶防反射膜的基體也可與其它任意的基板組合使用。例如，可以形成將作為透明基體使用玻璃板制得的本發(fā)明的帶防反射膜的基體，與另一張玻璃板夾著聚乙烯醇縮丁醛等中間膜層疊而得的復(fù)合玻璃來(lái)使用。該復(fù)合玻璃適合作為汽車的擋風(fēng)玻璃。本發(fā)明的帶反射膜的基體在上述的透明基體上具有由折射率在1.90以上的高折射率材料形成的被膜與由折射率在1.56以下的低折射率材料形成的被膜從透明基體側(cè)開始按照該順序?qū)盈B偶數(shù)層而得的防反射膜。本發(fā)明中，高折射率材料表示折射率在1.90以上的材料，低折射率材料是指折射率在1.56以下的材料。被層疊的由高折射率材料形成的被膜以及由低折射率材料形成的被膜優(yōu)選合計(jì)為2層、4層、6層或8層，更優(yōu)選2層、4層或6層，特別優(yōu)選4層。由高折射率材料形成的被膜的至少1層為氮氧化鈦層的單層膜(a)、含有氧化鈦層與氧化鋯層的層疊膜(b)或含有氮氧化鈦層和氧化鋯層的層疊膜(c)。這樣，通過使氧化鈦層中含有氮，或與氧化鈦層鄰接設(shè)置氧化鋯層，可以防止在熱處理時(shí)的裂紋出現(xiàn)。以下，對(duì)上述(a)(c)的各膜進(jìn)行說明?！吹趸亴拥膯螌幽?a)〉氮氧化鈦層的單層膜(a)是僅由氮氧化鈦(Ti0凡)層形成的膜。氮氧化鈦層與氧化鈦層相比較，熱處理時(shí)難以進(jìn)行結(jié)晶化。因此可以抑制裂紋的出現(xiàn)。氮氧化鈦(TiO凡)層優(yōu)選相對(duì)于鈦的氮量為0.l80at%。相對(duì)于鈦的氮量如在上述范圍內(nèi)，則抑制裂紋出現(xiàn)的效果更出色。為了抑制裂紋出現(xiàn)的效果更顯著，熱處理前的相對(duì)于鈦的氮量為240at%，特別優(yōu)選為340at%。另外，為了反射率、透射率等光學(xué)特性更加良好，熱處理后的相對(duì)于鈦的氮量?jī)?yōu)選為0.l20at%，特別優(yōu)選為0.l10at%，尤其優(yōu)選0.l5at%。另外，在本發(fā)明中，氮氧化鈦層的組成(相對(duì)于鈦的氮量)可以通過X射線光電子光譜法(XPS)、ESCA等來(lái)分析。氮氧化鈦層中氧與氮的比例(具體為x和y的值)難以直接測(cè)定。但是可以通過由測(cè)定求得的相對(duì)于鈦的氮量以及一般認(rèn)為(x+y)的值大致取1.82.1的值，來(lái)推測(cè)其大致的值。例如，相對(duì)于鈦的氮量如在0.1at^的范圍內(nèi)，將y的值固定時(shí)，則可推出x=1.7992.099、y=0.001。作為示例，將上述氮氧化鈦層的優(yōu)選組成中x以及y的值示于表1。該值基于與上述相同的前提，記載了將y的值固定而計(jì)算得的值。<table>tableseeoriginaldocumentpage7</column></row><table>熱處理可以采用通常的彎曲加工或強(qiáng)化加工中采用的條件來(lái)進(jìn)行，可以在55070(TC的溫度范圍內(nèi)、優(yōu)選60070(TC的溫度范圍內(nèi)來(lái)進(jìn)行。具體例如在設(shè)定溫度650°C、熱處理時(shí)間15分鐘的條件下來(lái)進(jìn)行。氮氧化鈦層的幾何厚度優(yōu)選為5160nm，更優(yōu)選為40140nm。如在上述范圍內(nèi)則防反射膜的防反射效果增大，并且不容易出現(xiàn)裂紋，而且也可以降低基體的翹度。另外，由于帶防反射膜的基體的反射色與透明基體的反射色大致相同，因此氮氧化鈦層的幾何厚度特別優(yōu)選為80120nm。對(duì)于氮氧化鈦層的制造方法如后述。〈含有氧化鈦層和氧化鋯層的層疊膜(b)>含有氧化鈦層和氧化鋯層的層疊膜(b)是含有1層以上的氧化鈦層與1層以上的氧化鋯層的層疊膜。層疊膜(b)中含有的氧化鈦層優(yōu)選為1層或2層，層疊膜(b)中含有的氧化鋯層優(yōu)選為l層或2層。另外，優(yōu)選的是層疊膜(b)中含有的氧化鈦層和氧化鋯層鄰接層疊。氧化鋯層在成膜時(shí)大部分單斜晶化。另外，氧化鋯層與氧化鈦層的晶格大小為同等程度，容易進(jìn)行晶格匹配。因此，通過鄰接這樣的氧化鋯層，可以抑制熱處理在氧化鈦層的內(nèi)部晶格再排列進(jìn)行結(jié)晶化，因而不容易引起熱處理時(shí)的收縮。另外也認(rèn)為，通過在成膜時(shí)氧化鈦層具有一定程度排列的結(jié)構(gòu)，從而難以引起氧化鈦的再排列(S卩，難以結(jié)晶化)。因此，可以抑制氧化鈦層出現(xiàn)裂紋。層疊膜(b)的構(gòu)造只要是將氧化鈦層和氧化鋯層鄰接層疊就沒有特別的限定，可例舉如下的構(gòu)造。氧化鈦層與氧化鋯層的層疊膜(bl)、氧化鈦層、氧化鋯層、氧化鈦層的層疊膜、氧化鋯層、氧化鈦層、氧化鋯層的層疊膜、氧化鈦層、氧化鋯層、氧化鈦層、氧化鋯層的層疊膜。其中，優(yōu)選層疊膜(bl)，層疊膜(bl)是將氧化鈦(Ti02)與氧化鋯(Zr02)層鄰接層疊的膜。層疊膜(bl)以較少的層數(shù)就可以抑制裂紋的發(fā)生，因此經(jīng)濟(jì)上優(yōu)良，實(shí)用上有用。更具體可例舉如下構(gòu)造。從透明基體側(cè)開始由Zr02/Ti02形成的2層構(gòu)造、從透明基體側(cè)開始由Ti02/Zr02/Ti02形成的3層構(gòu)造、從透明基體側(cè)開始由Zr02/Ti02/Zr02形成的3層構(gòu)造、從透明基體側(cè)開始由Zr(VTi02/Zr02/Ti02形成的4層構(gòu)造。在氧化鈦層的透明基體側(cè)具有氧化鋯層的構(gòu)造(例如[透明基體側(cè)]Zr02/Ti02[膜面?zhèn)萞的2層構(gòu)造)、2層的氧化鈦層之間具有氧化鋯層的構(gòu)造(例如，由[透明基體側(cè)]Zr02/Ti02/Zr02/Ti(U膜面?zhèn)萞形成的4層構(gòu)造、由[透明基體側(cè)]Ti(VZr02/Ti02[膜面?zhèn)萞形成的3層構(gòu)造)從抑制裂紋的出現(xiàn)的方面考慮優(yōu)選。其它也優(yōu)選從透明基體側(cè)開始由Zr02/Ti(VZr02/Ti02形成的4層構(gòu)造。如將該4層膜的合計(jì)厚度作為由高折射率材料形成的被膜的整體厚度，與由氧化鈦層和氧化鋯層形成的2層構(gòu)造相比，氧化鈦層的每1層的厚度可以更薄，由此也可以抑制裂紋的出現(xiàn)。只要不影響反射率、透射率、膜電阻值等特性，在不損害本發(fā)明目的的范圍內(nèi)，層疊膜(b)中也可以具有由高折射率材料形成的其它層。作為層疊膜(b)可具有的由高折射率材料形成的其它層，可以使用氧化鈦層、氧化鋅層、氧化鉭層、氧化鋯層、氧化鈮層、氮化硅層、氮化鋯層、氮化鋁層等。層疊膜(b)的幾何厚度優(yōu)選40160nm，更優(yōu)選50140nm。如在上述范圍，則防反射膜的防反射效果增大，并且不容易出現(xiàn)裂紋且還可以減少基體的翹曲。另外，如果層疊膜(b)的幾何厚度在80130mn,則帶防反射膜的基體的反射色與透明基體的反射色同等，因此特別優(yōu)選。層疊膜(b)為由Zr02/Ti02形成的2層構(gòu)造時(shí)，氧化鈦層在不超過層疊膜(b)的幾何厚度的范圍內(nèi)優(yōu)選30150nm，特別優(yōu)選70120nm。另外，由Ti02/Zr(VTi02形成的3層構(gòu)造以及由Zr02/Ti02/Zr(VTi02形成的4層構(gòu)造時(shí)，各氧化鈦層優(yōu)選為1080nm。另外，如果各氧化鈦層的幾何厚度為3060nm，則帶防反射膜的基體的反射色與透明基體的反射色同等，因此特別優(yōu)選。氧化鋯層的幾何厚度優(yōu)選550nm，特別優(yōu)選1040nm。氧化鋯層的幾何厚度在5rnn以上時(shí)，成膜時(shí)結(jié)晶化部分更多，可以更有效地抑制氧化鈦層中裂紋的出現(xiàn)。氧化鋯層的折射率較氧化鈦層的折射率更小。因此，層疊膜(b)的折射率較氧化鈦層的單層膜更小。氧化鋯層的幾何厚度在50nm以下時(shí)，層疊膜(b)的折射率充分高。另外，氧化鋯層的幾何厚度在50nm以下時(shí)，可以有效抑制氧化鋯層自身具有較大應(yīng)力而在熱處理時(shí)出現(xiàn)裂紋的可能性。層疊膜(b)可以由氧化鈦層、氧化鋯層以及根據(jù)需要的限于不影響反射率、透射率、膜電阻值等特性的由其它高折射率材料形成的層層疊而得。作為由該高折射率層形成的層，可例舉如氧化鈦層、氧化鋅層、氧化鉅層、氧化鋯層、氧化鈮層、氮化硅層、氮化鋯層、氮化鋁層等。關(guān)于各層的制造方法如后述。〈含有氮氧化鈦層和氧化鋯層的層疊膜(C)〉含有氮氧化鈦層和氧化鋯層的層疊膜(C)是含有1層以上的氮氧化鈦層和1層以上的氧化鋯層的層疊膜。層疊膜(C)中含有的氮氧化鈦層優(yōu)選為l層或2層，層疊膜(c)中含有的氧化鋯層優(yōu)選為1層或2層。另外，優(yōu)選將層疊膜(c)中含有的氮氧化鈦層與氧化鋯層鄰接層疊。由于層疊膜(c)兼具上述的單層膜(a)的效果與層疊膜(b)的效果，因此可以更有效地抑制裂紋的出現(xiàn)。層疊膜(c)的氮氧化鈦(TiO,Ny)層中相對(duì)于鈦的氮量與上述(a)的氮氧化鈦(TiOxNy)層的單層膜中相對(duì)于鈦的氮量相同，對(duì)于x以及y的值也相同。層疊膜(c)的構(gòu)造只要是氮氧化鈦層與氧化鋯層鄰接被層疊就沒有特別的限定，可舉例如以下的構(gòu)造。氮氧化鈦層與氧化鋯層的層疊膜(cl)、氮氧化鈦層、氧化鋯層、氮氧化鈦層的層疊膜、氧化鋯層、氮氧化鈦層、氧化鋯層的層疊膜、氮氧化鈦層、氧化鋯層、氮氧化鈦層、氧化鋯層的層疊膜。其中優(yōu)選層疊膜(cl)。氮氧化鈦層與氧化鋯層的層疊膜(cl)是氮氧化鈦(TiO凡)層與氧化鋯(Zr02)層鄰接被層疊的膜。更具體優(yōu)選以下的構(gòu)造。從透明基體側(cè)開始由Zr(yTiO凡形成的2層構(gòu)造(cl-l)、從透明基體側(cè)開始由Ti(XNy/Zr(VTiOxNy形成的3層構(gòu)造、從透明基體側(cè)開始由Zr(VTi(XNy/Zr02形成的3層構(gòu)造、從透明基體側(cè)開始由Zr02/Ti0xNy/Zr(VTi0xNy形成的4層構(gòu)造.其中，氮氧化鈦層的透明基體側(cè)具有氧化鋯層的構(gòu)造(例如[透明基體側(cè)]Zr02/TiO凡[膜面?zhèn)萞的2層構(gòu)造)、2層氮氧化鈦層之間具有氧化鋯層的構(gòu)造[例如由Zr02/Ti0凡/Zr02/Ti0xNy形成的4層構(gòu)造])從抑制裂紋發(fā)生的方面優(yōu)選，特別優(yōu)選[透明基體側(cè)]Zr02/Ti0凡[膜面?zhèn)萞的2層構(gòu)造(層疊膜(cl-1))。層疊膜(c)的幾何厚度優(yōu)選40160nm，更優(yōu)選50140nm。如果在上述范圍內(nèi)，則防反射膜的防反射效果增大，并且不容易出現(xiàn)裂紋，而且也可以減少基體的翹曲。另外，層疊膜(c)的幾何厚度如果在80130nm，則帶防反射膜的基體的反射色與透明基體的反射色相同，因此特別優(yōu)選。層疊膜(c)為由Zr02/Ti0凡形成的2層構(gòu)造時(shí)，氮氧化鈦的厚度在不超過層疊膜(c)的幾何厚度的范圍內(nèi)優(yōu)選為30150nm，特別優(yōu)選70120nm。另夕卜，為由Ti(XNy/Zr(VTiOxNy形成的3層構(gòu)造以及由Zr02/TiOxNy/Zr02/TiOxNy形成的4層構(gòu)造時(shí)，優(yōu)選各氮氧化鈦層為1080mn。另外，各氮氧化鈦層的幾何厚度為3060nm時(shí)，帶防反射膜的基體的反射色與透明基體的反射色同等，因此特別優(yōu)選。氧化鋯層的幾何厚度優(yōu)選為550nm，更優(yōu)選為1040mn。氧化鋯層的幾何厚度在5nm以上時(shí)，成膜時(shí)結(jié)晶化部分更多，可以更有效地抑制氮氧化鈦層中裂紋的出現(xiàn)。氧化鋯層的折射率較氮氧化鈦層的折射率更小。因此，層疊膜(c)的折射率與氮氧化鈦層的單層膜相比更小。如果氧化鋯層的幾何厚度在50nm以下，層疊膜(c)的折射率充分高。另外，氧化鋯層的幾何厚度在50nm以下時(shí)，可以有效抑制氧化鋯層自身具有較大應(yīng)力而熱處理時(shí)出現(xiàn)裂紋的可能性。層疊膜(cl-l)中，TiOxNy層的幾何厚度優(yōu)選為70120nm，特別優(yōu)選90110nm。Zr02層的幾何厚度優(yōu)選為550nm。Zr02層的幾何厚度如果過小，則防反射膜的耐磨耗性有時(shí)下降，因此特別優(yōu)選為830nm。TiOxNy的幾何厚度以及Zr02層的幾何厚度只要滿足上述范圍，就可以充分具有防反射效果和防止裂紋出現(xiàn)效果。除了這些效果，為了抑制在熱處理時(shí)帶防反射膜的基體的翹曲，Zr02層的幾何厚度與TiO,Ny的幾何厚度之比，在各層的幾何厚度滿足上述范圍內(nèi)時(shí)，Zr02層/TiO凡層優(yōu)選為1/(414)。另外，層疊膜(c)只要不影響反射率、透射率、膜電阻值等特性，在不損害本發(fā)明目的的范圍內(nèi)也可以具有由高折射率材料形成的其它層。作為由高折射率材料形成的其它層，可例舉如氧化鈦層、氧化鋅層、氧化鉭層、氧化鋯層、氧化鈮層、氮化硅層、氮化鋯層、氮化鋁層等。其中優(yōu)選氧化鈦層。作為具有氧化鈦層的層疊膜(c)的構(gòu)造可例舉如由Ti02/Zr02/TiO凡形成的3層構(gòu)造、由Zr(yTi02/Zr02/TiOxNy形成的4層構(gòu)造、由Zr02/TiOxNy/Zr02/Ti02形成的4層構(gòu)造。為由Ti02/Zr02/TiO凡形成的3層構(gòu)造時(shí)，各氮氧化鈦層以及氧化鈦層優(yōu)選為1080rnn。由Zr02/Ti02/Zr(VTiO凡形成的4層構(gòu)造以及由Zr02/TiOxNy/Zr02/Ti02形成的4層構(gòu)造的各氮氧化鈦層以及氧化鈦層優(yōu)選為1080nm。另外，各氮氧化鈦層以及氧化鈦層的幾何厚度如果為3060nm，則帶防反射膜的基體的反射色與透明基體的反射色相同，因此特別優(yōu)良。另外，對(duì)于各層的制造方法如后述。本發(fā)明中，作為由高折射率材料形成的被膜，上述(a)(c)中優(yōu)選為含有氮氧化鈦層和氧化鋯層的層疊膜(c)，特好為氮氧化鈦層和氧化鋯層的層疊膜(cl)，特別優(yōu)選從基體側(cè)開始由Zr02層/Ti0凡層形成的2層構(gòu)造(cl-l)。本發(fā)明中，由高折射率材料形成的被膜的至少1層為上述的(a)(c)的任一種即可。S卩，由高折射率材料形成的被膜有2層以上時(shí)，也可以具有上述(a)(c)之外的層。這種情況時(shí)，優(yōu)選為離透明基體最遠(yuǎn)的由高折射率材料形成的被膜為上述的(a)(c)的任一種。對(duì)上述(a)(c)之外的層沒有特別的限定，可以使用以往公知的層。例如，氧化鈦層、氧化鋅層、氧化鉭層、氧化鋯層、氧化鈮層、氮化硅層、氮化鋯層、氮化鋁層。其中，優(yōu)選氧化鈦層。本發(fā)明中，由于層疊在基體上的由高折射率材料形成的被膜以及由低折射率材料形成的被膜的合計(jì)總數(shù)優(yōu)選為4層，因此優(yōu)選為，相當(dāng)于第3層的由高折射率材料形成的被膜為上述(a)(c)的任一種，相當(dāng)于第1層的高折射率材料的層為由上述以往公知的高折射率材料形成的層。上述(a)(c)以外的由高折射率材料形成的被膜的幾何厚度當(dāng)該被膜為氧化鈦層、氧化鋅層、氧化鉭層、氧化鋯層、氧化鈮層時(shí)優(yōu)選為5200nm，更優(yōu)選為5100nm，特別優(yōu)選為560mn。另外，該被膜為氮化硅層、氮化鋯層、氮化鋁層時(shí)優(yōu)選為5160nm，更優(yōu)選為5100nm，特別優(yōu)選為560nm。如在上述范圍內(nèi)，則防反射膜的防反射效果增大，并且不容易出現(xiàn)裂紋，還可以減少基體的翹曲。由高折射率材料形成的被膜的折射率在1.90以上即可，優(yōu)選在2.002.60，更優(yōu)選在2.202.60。對(duì)由低折射率材料形成的被膜沒有特別的限定，可以使用以往公知的層。例如可優(yōu)選氧化硅(Si02)層。由低折射率材料形成的被膜的幾何厚度優(yōu)選為5220nm，更優(yōu)選為20140nm。如果在上述范圍內(nèi)，則防反射效果增大，并且不容易出現(xiàn)裂紋，而且也可以減少基體的翹曲。由低折射率材料形成的被膜的折射率在1.56以下即可，但優(yōu)選在1.45以上。本發(fā)明中，由高折射率材料形成的被膜與由低折射率材料形成的被膜的合計(jì)總數(shù)在4層以上時(shí)，復(fù)數(shù)存在的由高折射率材料形成的被膜的幾何厚度可以采用同等的厚度也可以有差別。這對(duì)于復(fù)數(shù)存在的由低折射率材料形成的被膜也是同樣的。如果示例復(fù)數(shù)存在的被膜的幾何厚度有差別的情況，可例如合計(jì)總數(shù)為4層時(shí)，第l層的由高折射率材料形成的被膜的幾何厚度為520nm，第2層的由低折射率材料形成的被膜的幾何厚度為2060nm,第3層的由高折射率材料形成的被膜的幾何厚度為70130nm，第4層的由低折射率材料形成的被膜的幾何厚度為80120nm。本發(fā)明的帶防反射膜的基體可如下獲得在上述的透明基體上，將由上述高折射率材料形成的被膜與由上述低折射率材料形成的被膜，從上述透明基體側(cè)開始按照該順序?qū)盈B偶數(shù)層，從而形成防反射膜。以下說明各層的制造方法。對(duì)于氮氧化鈦層、氧化鈦層、氧化鋯層以及根據(jù)需要層疊的其它的由高折射率材料形成的層，以及構(gòu)成由低折射率材料所形成的被膜的層的制造方法沒有特別的限定，可以使用以往公知的方法，均優(yōu)選通過濺射法來(lái)成膜。濺射法可例舉如直流濺射法、交流濺射法、高頻濺射法、磁控管濺射法。其中，由于工藝穩(wěn)定、容易大面積成膜，因此優(yōu)選直流磁控管濺射法、交流磁管濺射法。在氮氧化鈦層的制造中，優(yōu)選例如使用Ti(X(Kx〈2)作為靶、使用含有含氮原子的氣體的氣體作為濺射氣體來(lái)進(jìn)行反應(yīng)性濺射法的方法。在氧化鈦層的制造中，優(yōu)選例如使用TiOx(Kx〈2)作為靶、使用含有含氧原子的氣體的氣體作為濺射氣體來(lái)進(jìn)行反應(yīng)性濺射法的方法。在氧化鋯層的制造中，優(yōu)選例如使用鋯作為耙、使用含有含氧原子的氣體的氣體作為濺射氣體來(lái)進(jìn)行反應(yīng)性濺射法的方法。在氧化硅層的制造中，優(yōu)選例如使用碳化硅(SiC)作為靶、使用含有含氧原子的氣體的氣體作為濺射氣體來(lái)進(jìn)行反應(yīng)性濺射法的方法。在耙中，也可以在不損害本發(fā)明的特征的范圍內(nèi)摻入A1、Si、Zn等公知的摻雜劑。這種情況時(shí)，慘雜劑的量?jī)?yōu)選相對(duì)于靶中所含全部金屬原子在20aty。以下。含有含氮原子的氣體的氣體只要含有含氮原子的氣體就沒有特別的限定，可例舉如含氮原子的氣體，含氮原子的氣體與惰性氣體的混合氣體。含氮原子的氣體可例舉如氮?dú)?N2)、N20、NO、N02、NH3。作為惰性氣體可例舉如氦氣、氖氣、氬氣、氪氣、氙氣等稀有氣體。其中，從經(jīng)濟(jì)性以及放電的容易性考慮，優(yōu)選為氬氣。它們可單獨(dú)使用也可將2種以上混合使用。含有含氧原子的氣體的氣體只要含有含氧原子的氣體就沒有特別的限定，可例舉如含氧原子的氣體、含氧原子的氣體與惰性氣體的混合氣體。作為含氧原子的氣體，可例舉如氧氣(02)、二氧化碳?xì)怏w(C02)。對(duì)于惰性氣體與上述同樣。它們可以單獨(dú)使用也可以將2種以上混合使用。濺射的條件可以根據(jù)成膜的膜的種類、厚度等來(lái)適當(dāng)確定。另外，濺射氣體的總壓力是穩(wěn)定進(jìn)行輝光放電的壓力即可。以下例舉本發(fā)明的帶防反射膜的基體的優(yōu)選實(shí)施方式(1)(4)。其中優(yōu)選實(shí)施方式(1)(3)，特別優(yōu)選實(shí)施方式(2)。以下，透明基體用G表示，由高折射率材料形成的被膜作為H，由低折射率材料形成的被膜作為L(zhǎng)，各自的從透明基體側(cè)開始的層疊順序用添加的數(shù)字表示。(1)G/仏/L,所示的，具有H!為上述的(a)、(b)或(c)的，由2層形成的防反射膜的透明基體。(2)G/HyiVH2/U所示的，具有H2為上述的(a)、(b)或(c)的，由4層形成的防反射膜的透明基體。(3)G/HyLi/lVL2/H3/L3所示的，具有H3為上述的(a)、(b)或(c)的，由6層形成的防反射膜的透明基體。(4)G/U/LVH2/L2/H3/L3/H4/U所示的，具有H4為上述的(a)、(b)或(c)的，由8層形成的防反射膜的透明基體。對(duì)于實(shí)施方式(2)，例舉以下更具體的優(yōu)選示例。(2-1)中Zr02/Ti02/Zr02/Ti02、(2-2)中的Ti02/Zr02/Ti02、(2-3)中的Zr02/Ti02、(2—4)中的Zr02/TiOxNy、(2-5)中的TiOxNy相當(dāng)于上述的H2。(2-1)G/Ti02/Si02/Zr02/Ti02/Zr02/Ti02/Si02(2-2)G/Ti02/Si02/Ti02/Zr02/Ti02/Si02(2-3)G/Ti02/Si02/Zr02/Ti02/Si02(2-4)G/Ti02/Si02/Zr02/TiOxNy/Si02(2-5)G/Ti02/Si02/TiOxNy/Si02對(duì)本發(fā)明的帶防反射膜的基體的用途沒有特別的限定，可以用于廣泛的用途。適合用于例如汽車的風(fēng)窗玻璃或頂棚窗、各種顯示器用玻璃、建筑用玻璃、太陽(yáng)電池用覆蓋玻璃等，特別適合用于汽車的風(fēng)窗玻璃。汽車的風(fēng)窗玻璃等具有曲面的物品可通過將本發(fā)明的帶防反射膜的基體送入加熱爐內(nèi)，進(jìn)行加熱至彎曲成形溫度的加熱工序以及彎曲成形成希望的形狀的工序而獲得。彎曲成形可以在60070(TC左右的溫度范圍(優(yōu)選為65070(TC)內(nèi)進(jìn)行。實(shí)施例以下例舉實(shí)施例說明本發(fā)明。但本發(fā)明不限于此。以下所示的示例中，例114為實(shí)施例，例15以及例16為比較例。(帶防反射膜的玻璃基體的制造)作為玻璃基體使用紅外線吸收玻璃(廿y夕'y—>，旭硝子公司制，厚度2mm、2.3mm。以下稱為"VFL")以及無(wú)色透明玻璃(旭硝子公司制，厚度2.3醒。以下稱為"FL")，在其上如后述形成各層，得到具有以下所示構(gòu)成的例115的帶防反射膜的玻璃基體。另外，以下所示構(gòu)成中，各層的形成從左按順序進(jìn)行。另外，各層的幾何厚度示于括號(hào)內(nèi)。例如，在例1中，VFL上形成Ti02層，接著在Ti02層上形成Si02層，再接著在Si02層上形成Zr02層，在ZrU層上形成Ti02層，在Ti02層上形成Si02層。這樣，在基體上從左開始按照順序形成各層。另外，將VFL本身作為例16。例1:VFL(2mm)/Ti02(12nm)/Si02(41nm)/Zr02(20nm)/Ti02(109nm)/Si02(111nm)例2:VFL(2mm)/Ti02(12nm)/Si02(41nm)/Zr02(15nm)/Ti02(45nm)/Zr02(15nm)/Ti02(40nm)/Si02(119nm)例3:VFL(2mm)/Ti02(12nm)/Si02(39nm)/Ti02(45nm)/ZrO2(20nm)/TiO2(40nm)/Si02(94nm)例4:VFL(2mm)/Ti02(13nm)/Si02(44nm)/Ti0xNy(120nm)/Si02(112nm)例5:VFL(2ram)/Ti02(10nin)/SiO2(32nm)/ZrO2(20nm)/Ti0xNy(100nm)/SiO2(107nm)例6:VFL(2ram)/Ti02(12nm)/Si02(39nm)/TiOxNy(113nra)/Si02(106nm)例7:VFL(2,)/Ti02(llnm)/Si02(35nm)/Zr02(20nm)/TiOxNy(106nm)/Si02(108nm)例8:VFL(2.3mm)/Ti02(7.5nm)/Si02(30nm)/Zr02(10nm)/TiOxNy(97nm)/Si02(97nm)例9:FL(2.3mm)/Ti02(7nm)/Si02(29nm)/Zr02(19nm)/Ti0xNy(103nm)/Si0"99nm)例10:FL(2.3)/Ti02(8nm)/Si02(32nm)/Zr02(16nm)/Ti0xNy(98nm)/Si02(100rnn)例11:FL(2.3mm)/Ti02(8nm)/Si02(32nm)/Zr02(30nm)/TiOxNy(98nm)/Si02(100run)例12:FL(2.3mm)/Ti02(8nm)/Si02(32mn)/Zr02(8nm)/Ti(XNy(98rnn)/Si02(lOOnm)例13:FL(2.3mm)/TiO2(8nm)/SiO2(32nm)/TiOxNy(98nm)/SiO2(100nm)例14:VFL(2.3mm)/Ti02(8nm)/Si02(27nra)/Zr02(20nm)/TiOxNy(97nm)/Si02(91nm)例15:VFL(2mm)/Ti02(13nm)/Si02(43nm)/Ti02(120nm)/Si02(112nm)例16;VFL(2mm)對(duì)于例17以及例15如下形成各層?！碩i。2層〉在真空槽內(nèi)將TiOx(Kx〈2)靶作為濺射靶設(shè)置在陰極上，使真空槽排氣至1.3X10—3Pa以下。接著，作為濺射氣體導(dǎo)入氬氣96sccm與氧氣4sccm的混合氣體。此時(shí)，壓力成為5.7X10—卞a。在該狀態(tài)下，使用DC脈沖電源進(jìn)行反應(yīng)性濺射法，使設(shè)置在真空槽內(nèi)的被處理體上形成Ti02層?！碨i。2層〉在真空槽內(nèi)將SiC靶作為濺射靶設(shè)置在陰極上，使真空槽排氣至1.3X10—3Pa以下。接著，作為濺射氣體導(dǎo)入氧氣100sccm。此時(shí)，壓力成為5.1X10—'Pa。在該狀態(tài)下，使用DC脈沖電源進(jìn)行反應(yīng)性濺射法，使設(shè)置在真空槽內(nèi)的被處理體上形成Si02層?！碯r。2層〉在真空槽內(nèi)將Zr靶作為濺射靶設(shè)置在陰極上，使真空槽排氣至1.3X10—3Pa以下。接著，作為濺射氣體導(dǎo)入氧氣60sccm。此時(shí)，壓力成為3.3X10—卞a。在該狀態(tài)下，使用DC脈沖電源進(jìn)行反應(yīng)性濺射法，使設(shè)置在真空槽內(nèi)的被處理體上形成Zr02層?！碩iOxNy層〉在真空槽內(nèi)將Ti0x(Kx〈2)靶作為濺射靶設(shè)置在陰極上，使真空槽排氣至1.3X10—3Pa以下。接著，作為濺射氣體導(dǎo)入氬氣與氮?dú)獾幕旌蠚怏w。此時(shí)，壓力成為5.7X10—卞a。在該狀態(tài)下，使用DC脈沖電源進(jìn)行反應(yīng)性濺射法，使設(shè)置在真空槽內(nèi)的被處理體上形成TiO爲(wèi)層。另外，作為例4和例5中的濺射氣體，使用氬氣90sccm與氮?dú)?0sccm的混合氣體，作為例6和例7的濺射氣體，使用氬氣80sccm和氮?dú)?0sccm的混合氣體。對(duì)于例813，如下形成各層?！碩i。2層〉在真空槽內(nèi)將Ti靶作為濺射靶設(shè)置在陰極上，使真空槽排氣至2.7X10—3Pa以下。接著，作為濺射氣體以50:50(摩爾比)導(dǎo)入氬氣與氧氣直到壓力成為4.0X10—'Pa。在該狀態(tài)下，使用DC脈沖電源進(jìn)行反應(yīng)性濺射法，使設(shè)置在真空槽內(nèi)的被處理體上形成Ti02層。〈Si。2層〉在真空槽內(nèi)將多晶Si靶作為濺射靶設(shè)置在陰極上，使真空槽排氣至2.7X10—卞a以下。接著，作為濺射氣體導(dǎo)入氬氣與氧氣的混合氣體[混合比=60:40(摩爾比)]直到壓力成為4.0Xl(TPa。在該狀態(tài)下，使用AC電源進(jìn)行反應(yīng)性濺射法，使設(shè)置在真空槽內(nèi)的被處理體上形成Si02層。〈Zr。2層〉在真空槽內(nèi)將Zr靶作為濺射耙設(shè)置在陰極上，使真空槽排氣至2.7X10—3Pa以下。接著，作為濺射氣體導(dǎo)入氬氣與氧氣的混合氣體[混合比=70:30(摩爾比)]直到壓力成為6.7X10—'Pa。在該狀態(tài)下，使用DC脈沖電源進(jìn)行反應(yīng)性濺射法，使設(shè)置在真空槽內(nèi)的被處理體上形成ZiU層。〈TiOxNy層〉在真空槽內(nèi)將TiOx(1<x<2)靶作為濺射靶設(shè)置在陰極上，使真空槽排氣至2.7X10—3Pa以下。接著，作為濺射氣體導(dǎo)入氬氣、氧氣與氮?dú)獾幕旌蠚怏w[混合比=75:10:15(摩爾比)]。此時(shí)，壓力成為6.7X10—卞a。在該狀態(tài)下，使用DC脈沖電源進(jìn)行反應(yīng)性濺射法，使設(shè)置在真空槽內(nèi)的被處理體上形成TiO凡層。對(duì)于例14如下形成各層?！碩i。2層〉在真空槽內(nèi)將TiOx(l<x<2)靶作為濺射靶設(shè)置在陰極上，使真空槽排氣至2.0X10—卞a以下。接著，以93:7(摩爾比)的比例導(dǎo)入氬氣與氧氣作為濺射氣體直到壓力成為4.3X10—卞a。在該狀態(tài)下，使用AC電源進(jìn)行反應(yīng)性濺射法，使設(shè)置該科里奧利古魯模塊被配置用來(lái)顯示指導(dǎo)該用戶使用該科里奧利流量計(jì)來(lái)完成該預(yù)定任務(wù)的過程的序列步驟。雌地，該方法進(jìn)一步包括的序列步驟包括提示該用戶輸入檢驗(yàn)運(yùn)行信息；使用所輸入的該檢驗(yàn)運(yùn)行信息配置該科里奧利流量計(jì)，用于檢驗(yàn)運(yùn)行；在該檢驗(yàn)運(yùn)行期間調(diào)整該科里奧利流量計(jì)的操作。雌地，該方法進(jìn)一步包括的序列步驟包括提示用戶輸入來(lái)自兩個(gè)檢驗(yàn)運(yùn)行的數(shù)據(jù)，其中該兩個(gè)檢驗(yàn)運(yùn)行使用不同的流速；使用來(lái)自該兩個(gè)檢驗(yàn)運(yùn)行的數(shù)據(jù)計(jì)算新科里奧利流量校準(zhǔn)(CFC)和新零點(diǎn)偏移；更新該科里奧利流量計(jì)CFC和零點(diǎn)偏移。雌地，該方法進(jìn)一步包括的序列步驟包括提示用戶選擇具有已知密度的材料；指導(dǎo)該用戶將該材料流經(jīng)通過該科里奧利流量計(jì)；使用該科里奧利流量計(jì)測(cè)量該材料的密度；將所測(cè)得的密度與該已知密度進(jìn)行比較；當(dāng)所測(cè)得的密度與該已知密度相差超過預(yù)定量時(shí)，警示該用戶存在錯(cuò)誤狀況。優(yōu)選地，該方法進(jìn)一步包括提示用戶選擇用于該科里奧利流量計(jì)的所需精度；確定對(duì)應(yīng)于該所需精度的與該已知密度的密度偏差；設(shè)定所述預(yù)定量等于該密度偏差。優(yōu)選地，該方法進(jìn)一步包括其中該所需精度(RC)與該密度偏差(DD)之間關(guān)系為<formula>formulaseeoriginaldocumentpage10</formula>。tm地，該方法進(jìn)一步包括另外，對(duì)于例47，對(duì)于在玻璃基體上僅形成TiOxNy層的樣品進(jìn)行測(cè)定。認(rèn)為即使是僅形成Ti0爲(wèi)層的結(jié)構(gòu)，相對(duì)于鈦的氮量也與帶防反射膜的基體中測(cè)定的情況沒有變化。<table>tableseeoriginaldocumentpage19</column></row><table>(2)光學(xué)特性對(duì)上述所得的例115的帶防反射膜的玻璃基體以及例16的VFL求得以下的各光學(xué)特性。另外，例17的光學(xué)特性的結(jié)果為由VFL以及各層的厚度以及折射率通過模擬求得的值。結(jié)果示于表4。(i)防反射膜的反射率(Rv)使用可見光反射率Rv作為反射率，為從防反射膜面?zhèn)热肷涞墓獗环婪瓷淠っ娣瓷涞闹?。即，求出僅為防反射膜的反射率。以JISR3106作為基準(zhǔn)，光源為D65光源，入射角為60°。另外，對(duì)于例16，求得熱處理之后的VFL的反射率(ii透射率(Tv))使用視感透射率Tv作為透射率。以JISR3106作為基準(zhǔn)，光源為A光源，入射角為0。。(iii)色調(diào)(反射色)作為色調(diào)使用來(lái)自玻璃面?zhèn)鹊闹?x，y)。光源為D65光源，入射角為60。。(3)膜電阻值對(duì)于熱處理后的帶防反射膜的玻璃基體，使用2探針電阻計(jì)(八一1/7夕IP，三菱油化公司制)，測(cè)定防反射膜的膜電阻值。在例16中，與上述同樣，測(cè)定熱處理后的VFL。將結(jié)果示于表4。(4)裂紋對(duì)于熱處理后的帶防反射膜的玻璃基體，通過光學(xué)顯微鏡肉眼觀察防反射膜有無(wú)出現(xiàn)裂紋。將結(jié)果示于表4。(5)基體的彎曲對(duì)于熱處理后的帶防反射膜的玻璃基體，使用數(shù)字游標(biāo)卡尺在玻璃基體的對(duì)角線的交點(diǎn)測(cè)定膜面作為內(nèi)側(cè)的翹曲的凹陷量。將結(jié)果示于表4。(6)耐磨耗性對(duì)于熱處理后的帶防反射膜的玻璃基體，使用泰氏磨損試驗(yàn)機(jī)，用旋轉(zhuǎn)磨耗輪摩擦膜面，觀察試驗(yàn)后的膜剝離的狀態(tài)。對(duì)于沒有膜剝離的測(cè)定試驗(yàn)前后的霧度，求得ATO(試驗(yàn)前后的霧度之差)。將結(jié)果示于表4。另外，泰氏磨損試驗(yàn)的條件為荷重2.45NX500轉(zhuǎn)。霧度越小表明耐磨耗性越優(yōu)良。從實(shí)用上考慮優(yōu)選在5%以下，特別優(yōu)選在3%以下。<table>tableseeoriginaldocumentpage20</column></row><table>由表4可知，本發(fā)明的帶防反射膜的玻璃基體(例114)顯示高電阻值，而且沒有因熱處理出現(xiàn)裂紋。另外，光學(xué)特性為低反射率且高透射率，色調(diào)與沒有形成防反射膜的玻璃基體本身大致相等。與此相對(duì)，由高折射率材料形成形成的被膜均為氧化鈦層的單層(例15)的情況下出現(xiàn)了由熱處理造成的裂紋。產(chǎn)業(yè)上利用的可能性如果作為本發(fā)明的帶防反射膜的基體的透明基體使用玻璃板，則可以得到即使為了將玻璃板彎曲加工而進(jìn)行將玻璃板加熱至63070(TC的熱處理，防反射膜也不出現(xiàn)裂紋，也不著色的效果。另外，為了強(qiáng)化加工玻璃板而將玻璃板在550700"c加熱時(shí)也獲得同樣的效果。本發(fā)明的帶防反射膜的基體，作為汽車的風(fēng)窗用玻璃用的低反射玻璃，或者作為建筑用、各種產(chǎn)業(yè)用的低反射率玻璃有用。另外，在此引用2005年1月31日申請(qǐng)的日本專利申請(qǐng)2005-023769號(hào)的說明書，權(quán)利要求以及摘要的全部?jī)?nèi)容，作為本發(fā)明的說明書的公開內(nèi)容。權(quán)利要求1.帶防反射膜的基體，它是具有透明基體，以及將由折射率在1.90以上的高折射率材料所形成的被膜和由折射率在1.56以下的低折射率材料所形成的被膜從上述透明基體側(cè)開始按照該順序?qū)盈B偶數(shù)層而得的防反射膜的帶防反射膜的基體，其特征在于，由上述高折射率材料形成的被膜的至少1層是氮氧化鈦層的單層膜(a)、含有氧化鈦層和氧化鋯層的層疊膜(b)或者含有氮氧化鈦層和氧化鋯層的層疊膜(c)。2.帶防反射膜的基體，它是具有透明基體，以及將由折射率在1.90以上的高折射率材料所形成的被膜和由折射率在l.56以下的低折射率材料所形成的被膜從上述透明基體側(cè)開始按照該順序?qū)盈B偶數(shù)層而得的防反射膜的帶防反射膜的基體，其特征在于，由上述高折射率材料形成的被膜的至少1層是氮氧化鈦層的單層膜(a)、氧化鈦層與氧化鋯層的層疊膜(bl)或者氮氧化鈦層與氧化鋯層的層疊膜(cl)。3.如權(quán)利要求2所述的帶防反射膜的基體，其特征在于，由上述高折射率材料形成的被膜的至少1層是氮氧化鈦層和氧化鋯層的層疊膜(cl)。4.帶防反射膜的基體，它是具有透明基體，以及將由折射率在1.90以上的高折射率材料所形成的被膜和由折射率在1.56以下的低折射率材料所形成的被膜從上述透明基體側(cè)開始按照該順序?qū)盈B4層而得的防反射膜的帶防反射膜的基體，其特征在于，上述防反射膜是從透明基體側(cè)開始按順序?qū)盈B有由折射率在1.90以上的高折射率材料形成的被膜、氧化硅的單層膜、氮氧化鈦層和氧化鋯層的層疊膜(cl)、氧化硅的單層膜的防反射膜。5.如權(quán)利要求4所述的帶防反射膜的基體，其特征在于，由上述折射率在1.90以上的高折射率材料形成的被膜是氧化鈦層的單層膜。6.如權(quán)利要求15中任一項(xiàng)所述的帶防反射膜的基體，其特征在于，以入射角60°從上述防反射膜側(cè)入射的光被上述防反射膜面的反射按可見光的反射率計(jì)在6%以下。7.如權(quán)利要求16中任一項(xiàng)所述的帶防反射膜的基體，其特征在于，上述氮氧化鈦層中相對(duì)于鈦的氮量為0.l80at%。8.如權(quán)利要求17中任一項(xiàng)所述的帶防反射膜的基體，其特征在于，熱處理前上述氮氧化鈦層中相對(duì)于鈦的氮量為240at%。9.如權(quán)利要求18中任一項(xiàng)所述的帶防反射膜的基體，其特征在于，熱處理后上述氮氧化鈦層中相對(duì)于鈦的氮量為0.l20at%。10.帶防反射膜的基體的加工方法，其特征在于，具有將權(quán)利要求19中任一項(xiàng)所述的帶防反射膜的基體送入加熱爐內(nèi)加熱至彎曲成形溫度的加熱工序，以及彎曲成形為所希望的形狀的工序。全文摘要本發(fā)明提供了對(duì)可見光的透射率高、反射率低、膜電阻率高、即使經(jīng)熱處理也不會(huì)出現(xiàn)裂紋的帶防反射膜的基體。該帶防反射膜的基體是具有透明基體，以及將由折射率在1.90以上的高折射率材料所形成的被膜和由折射率在1.56以下的低折射率材料所形成的被膜從上述透明基體側(cè)開始按照該順序?qū)盈B偶數(shù)層而得的防反射膜的帶防反射膜的基體，其中，由上述高折射率材料形成的被膜的至少1層是氮氧化鈦層的單層膜(a)、含有氧化鈦層和氧化鋯層的層疊膜(b)或者含有氮氧化鈦層和氧化鋯層的層疊膜(c)。文檔編號(hào)G02B1/11GK101111783SQ20068000338公開日2008年1月23日申請(qǐng)日期2006年1月30日優(yōu)先權(quán)日2005年1月31日發(fā)明者木村幸雄,片山佳人,矢尾板和也申請(qǐng)人:旭硝子株式會(huì)社