專利名稱：：包括高折射率涂層和抗反射涂層的光學薄膜的制作方法包括高折射率涂層和抗反射涂層的光學薄膜相關專利申請的交叉引用本申請要求提交于2006年6月13日的美國臨時申請No.60/804591、提交于2006年6月28日的美國臨時申請No.60/806017的優(yōu)先權；并且本申請還要求提交于2005年11月5日的待審美國專利申請No.11/267790以及提交于2005年12月19日、并以W02006/073773公開的PCT專利申i青No.US2005/045876的優(yōu)先權。
背景技術：
：人們已經(jīng)描述了多種抗反射聚合物薄膜("AR膜")?？狗瓷浔∧ず屯繉影l(fā)揮作用的物理原理己為人們所熟知。例如，一些綜述可以從(9/7tica2i^7^7.zeerj'/^,S.MuskiantEd，Vol.6.，(9pticaJi/ate/^als，Chap.7，p161，1985中找到，并且如美國專利No.3,833,368(Land等人)中所述。AR薄膜通常由具有適當光學厚度的交替的高折射率("RI")聚合物層和低折射率聚合物層構成。對于可見光來說，這一厚度的數(shù)量級大約為待反射的光的波長的四分之一。人眼對于550nm左右的光最敏感。因此，希望以這樣一種方式設計高折射率涂層和低折射率涂層的厚度，該方式使得上述光學范圍內(nèi)的反射光的量達到最小化(例如，3%或以下)。正如在Groh禾口Zimmerman,yf/acro頂cJecwJes,Vol.24p.6660(1991)中所描述，眾所周知，含氟材料具有較低的折射率，因此可用在AR膜的低折射率層中。人們還描述了使用含氟(甲基)丙烯酸酯聚合物和含氟材料的各種AR涂層。盡管氟含量的增加會減小低折射率涂層組合物的折射率，但同時產(chǎn)生的表面能的減少可能導致差的涂層性能及視覺外觀，并且導致低折射率層與相鄰高折射率層的界面附著力降低。此外，據(jù)人們所知，高度氟化的材料會降低涂層的硬度和耐久性。
發(fā)明內(nèi)容在一個實施例中，描述了一種反射偏振光學薄膜，該反射偏振光學薄膜包括這樣的抗反射薄膜，該抗反射薄膜包括連接到所述反射偏振光學薄膜的高折射率層和連接到該高折射率層的低折射率表面層，其中所述反射偏振薄膜的增益增加值為至少0.01(優(yōu)選為至少0.02)。優(yōu)選的抗反射薄膜產(chǎn)生具有相同或更高的(例如偏振)透射率的薄膜。該反射偏振薄膜優(yōu)選為可任選地與微結構化薄膜組合的多層薄膜。優(yōu)選的抗反射薄膜包括低折射率表面層，根據(jù)在使用400g砝碼的條件下的鋼絲棉耐久性測試，該表面層經(jīng)過10次刮擦后所呈現(xiàn)的劃痕少于10道。在另一個實施例中，描述了一種增亮膜，該增亮膜包括抗反射薄膜，根據(jù)在使用400g砝碼的條件下的鋼絲棉耐久性測試，該抗反射薄膜在經(jīng)過10次刮擦后所呈現(xiàn)的劃痕少于10道。在另一個實施例中，描述了一種反射偏振薄膜，其包括可提高耐久性的高折射率表面層。根據(jù)在使用400g砝碼的條件下的鋼絲棉耐久性測試，該表面層經(jīng)過10次刮擦后所呈現(xiàn)的劃痕優(yōu)選少于10道。在一個方面，抗反射薄膜的低折射率層優(yōu)選包含可聚合組合物的反應產(chǎn)物，該可聚合組合物包含至少一種氟化自由基聚合型材料和經(jīng)表面改性的無機納米顆粒。高折射率層優(yōu)選包含分散在交聯(lián)的有機材料中的經(jīng)表面改性的無機納米顆粒(例如，折射率為至少1.60的無機納米顆粒)。高折射率層優(yōu)選包含5體積％到約40體積％的經(jīng)表面改性的氧化鋯納米顆粒。優(yōu)選的高折射率層不會降低增益。抗反射薄膜和/或高折射率層可以被設置在一個主表面上或同時設置在兩個主表面上。圖1是本發(fā)明的示例性的具有微結構的光學產(chǎn)品的透視圖。具體實施例方式由端點描述的數(shù)值范圍包括該范圍內(nèi)所包含的所有數(shù)值(例如，從1到10的范圍包括1、1.5、3.33禾口10)。術語"自由基聚合型"是指具有在暴露于適當?shù)淖杂苫磿r參與交聯(lián)反應的官能團的單體、低聚物和聚合物。自由基聚合型基團包括(例如)(甲基)丙烯?；?SH、烯丙基或乙烯基。自由基聚合型基團可以被鹵化，例如被氟鹵化，例如在-C0CF=CH2的情況中。優(yōu)選的自由基聚合型單體和低聚物通常具有一個或多個"(甲基)丙烯?；?基團，其包括可任選地被(例如)氟和硫取代的(甲基)丙烯酰胺和(甲基)丙烯酸酯。優(yōu)選的(甲基)丙烯?；鶠楸┧狨セ鶊F。多(甲基)丙烯酸酯材料包含至少兩個可聚合的(甲基)丙烯酸酯基團；而單(甲基)丙烯酸酯材料則具有單一一個(甲基)丙烯酸酯基團。作為選擇，多(甲基)丙烯酸酯單體化合物的一端可包含兩個或更多個(甲基)丙烯酸酯基團。自由基聚合型含氟聚合物通常包含與(甲基)丙烯酸酯基團或其它(甲基)丙烯?；磻墓倌軋F。如本文所用，"固體重量百分比"是指除溶劑外的組分之和。在某些情況下，所描述的是可聚合有機組合物的固體重量百分比，這是指除溶劑和無機(例如顆粒)材料之外的組分之和。本文描述了僅具有高折射率涂層的光學薄膜，或具有高折射率涂層與低折射率涂層的組合、從而提供抗反射薄膜的光學薄膜。在優(yōu)選實施例中，高折射率涂層和/或抗反射薄膜涂層會使增益提高和/或耐久性增強。一般來講，光學薄膜是可透射光的薄膜。許多光學薄膜被設計用來改變波矢量，并由此改變光通過該薄膜的光線路徑。這可以通過(例如)引入微結構化的表面、啞光表面、鏡面以及體漫射特性得以實現(xiàn)。各種透射光的光學薄膜是已知的，這些膜包括(但不限于)多層光學薄膜、微結構化薄膜(例如逆向反射片材和增亮薄膜)、偏振薄膜(例如，反射性或吸收性偏振薄膜)、漫射薄膜、以及延遲薄膜(例如，雙軸延遲薄膜)和補償薄膜(例如2004年1月29日提交的美國專利申請公開No.2004/0184150中所描述的那些)。如本文所用，術語"薄膜"是指其厚度通常明顯小于寬度和長度(例如，比寬度和長度小至少10倍)的大體平面結構。光學薄膜的厚度通常為至少25微米。盡管其厚度可以高達(例如)3cm，但薄膜的厚度通常小于2ram，更通常小于800微米。優(yōu)選類型的光學薄膜包括微結構化的表面(例如在薄膜表面上具有多個棱柱)，使得該薄膜可用于通過反射和折射來改變光(例如，漫射光源的光)的方向。這種薄膜已知為增亮薄膜和光控制薄膜。典型的增亮薄膜包括這樣的微結構化表面，該表面具有由對稱的頂棱和凹槽構成的規(guī)則重復圖案。凹槽圖案的其它實例包括頂棱和凹槽不對稱、并且頂棱和凹槽的尺寸、取向或距離不一致的圖案。參見圖1，微結構化的光學薄膜30可包括基底層2和微結構化光學層4。作為選擇，微結構化光學薄膜可以是整體式的，其中底層和光學層由相同的材料構成。整體式的微結構化光學薄膜可以通過己知方法制備，例如通過將熔融熱塑性樹脂擠出而制成。光學層4包括由規(guī)則的直角棱柱(圖中標示為棱柱6、8、12和14)構成的線性排列。棱柱的高度通常在約1微米到約75微米的范圍內(nèi)。每個棱柱(例如棱柱6)都有第一棱面10和第二棱面11。棱柱6、8、12和14形成在基底2上，該基底具有第一表面18(其上形成有棱柱)和基本上平坦或呈平面的且與第一表面18相背的第二表面20。所謂直角棱柱是指頂角a—般為約90°的棱柱。然而，該角度可以在70°到120°的范圍內(nèi)，并且可以在80°到100°的范圍內(nèi)。此外，頂峰可以是尖的、圓的、平坦的或截平的。圓棱柱的頂角可以由(如平坦的)棱面相交所成的角度來近似表示。棱柱的面不必相同，并且棱柱也可以彼此相對傾斜。該排列中的棱柱的高度可以基本相同或可以不同。光學制品總厚度24與棱柱高度22之間的關系可以發(fā)生變化。然而，通常希望使用具有明確的棱面的相對較薄的光學層。棱柱高度22與總厚度24的典型比值通常在25/125和2/125之間。假設光學薄膜的功能是改變光線的方向，則表面結構可以有不同的節(jié)距、形成不同的交叉凹槽和/或具有不同的棱柱角度。例如，表面結構可具有偽隨機的棱柱起伏，例如美國專利No.6，322，236中所述的那樣。表面結構可以有三個以上的面，因此可以具有諸如棱錐形之類的其它形狀。此外，這些面可以是圓面和/或具有其它非三角的形狀。根據(jù)所述的面的形狀，表面結構可以是非棱柱狀的。許多聚合物材料可被用作基底材料和/或微結構化光學層。合適的材料具有足夠的光學透明性，并且結構足夠結實，以便被組裝或用于特定的光學產(chǎn)品中。優(yōu)選的是，選擇對溫度和老化具有足夠耐受性的基底材料，使得光學產(chǎn)品的性能不會隨著時間的推移而下降。基底材料和/或微結構化光學層的具體化學組成和厚度可以取決于將要構造的特定光學產(chǎn)品的要求。也就是說，在強度、透明度、耐溫性、表面能、對光學層的粘附性等要求之間進行平衡?；讓拥暮穸韧ǔ橹辽偌s0.025毫米(mm)，更通常為至少約0.125ram。此外，基底層一般具有不超過約lmm的厚度。可用的基底層和/或微結構化光學層材料包括玻璃和各種聚合物材料，這些聚合物材料包括乙酸丁酸纖維素、乙酸丙酸纖維素、三乙酸纖維素、聚醚砜、聚甲基丙烯酸甲酯、聚氨酯、聚酯、聚碳酸酯、聚氯乙烯、間規(guī)立構聚苯乙烯、聚萘二甲酸乙二醇酯、降冰片烯聚合物、基于萘二甲酸的共聚物或共混物?？扇芜x地是，所述基底材料可以含有這些材料的混合物或組合物。例如，基底可以是多層的，或者可以含有懸浮或分散在連續(xù)相中的分散相。示例性的基底層材料包括聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)和聚碳酸酯?？捎玫腜ET薄膜的實例包括照相級聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)禾口可從DuPontFilms公司(Wilmington,Delaware)以商品名"Melinex"商購獲得的PET。由這種基底層材料制成的薄膜通常具有因薄膜的制造工藝而產(chǎn)生的一定的雙折射性。雖然用這種基底層材料制備的微結構化光學薄膜也會具有這種雙折射性，但由于這種光學薄膜不會被用作帶光源顯示器(如液晶顯示器)中的偏振片，因此其通常不被定性為偏振薄膜。如本文所用，"基本上非偏振的光學薄膜"是指隨著偏振狀態(tài)的變化、其漫反射率的變化小于0.5的光學薄膜。此外，薄膜(例如，在制造過程中受到拉伸的薄膜)通常還具有這樣的特征其某一軸向(如加工方向)的折射率高于另一軸向(如橫維方向)的折射率。與此不同的是，"反射偏振光學薄膜"是指隨著偏振狀態(tài)的變化、其漫反射率的變化為至少0.05的光學薄膜。反射偏振光學薄膜通常在某一種偏振模式下的反射率明顯高于其在另一種偏振模式下的反射率。隨著偏振模式的變化，其漫反射率的變化通常為至少0.1，更通常為至少0.2。微結構化的反射偏振光學薄膜可以由具有光學活性、并且可以起到偏振材料作用的基底層材料制成。已知有多種基底層材料可以作為偏振材料使用。也可以通過引入無機材料(例如定向的云母晶片)或者通過分散在連續(xù)薄膜中的不連續(xù)相(例如分散在連續(xù)薄膜中的成滴狀的光調(diào)制液晶)來實現(xiàn)光偏振。作為一種選擇，可以由不同材料的超薄層制備薄膜。例如，可以通過使用諸如拉伸薄膜、施加電場或磁場以及涂敷技術等方法使所述薄膜中的偏振材料沿偏振方向定向。偏振薄膜的實例包括如美國專利No.5,825,543和5，783，120中所描述的那些。多層偏振薄膜由3M公司(St.Paul,MN)以商品名DBEF(反射式偏光增亮薄膜)銷售。這種多層偏振光學薄膜在增亮薄膜中的使用在美國專利No.5,828,488中有所描述，該專利文獻以引用的方式并入本文。美國專利No.5，882，774、5，965，247和6，025，897中描述了偏振薄膜的其它實例。如美國專利No.5，612，820和5,486,949中所述的其它偏振和非偏振薄膜也可以作為本發(fā)明的增亮薄膜的基底層。在一個實施例中，一個或多個涂層被設置在反射偏振光學薄膜(即透射一種偏振態(tài)的光，而反射另一偏振態(tài)的光的薄膜)的表面上。能實現(xiàn)所需功能的材料和構造的實例可見于(例如)多層反射偏振片、連續(xù)相/分散相反射偏振片、膽甾型反射偏振片(其可與四分之一波片組合在一起)和線柵偏振片。一般來講，多層反射偏振片和膽甾型反射偏振片是鏡面反射器，而連續(xù)相/分散相反射偏振片是漫反射器，但這些定性也不是絕對的(例如，參見美國專利No.5,867,316中所描述的漫射型多層反射偏振片)。此外，以上所列舉的示例性反射偏振元件并不是旨在窮舉可結合本發(fā)明使用的所有反射偏振元件。多層反射偏振片和連續(xù)相/分散相反射偏振片都依賴于至少兩種不同材料(優(yōu)選為聚合物)之間的折射率差值來選擇性地反射一個偏振方向上的光，并透射與之正交的偏振方向上的光。示例性的多層反射偏振片在(例如)PCT專利申請公開No.W095/17303、W095/17691、W095/17692、W095/17699和W096/19347中有所描述。一種可商購獲得的多層反射偏振片形式是由3M公司(St.Paul,麗)銷售的反射式偏光增亮薄膜(DBEF)?？山Y合本發(fā)明使用的漫反射偏振片包括在(例如)美國專利No.5，825，543中所述的連續(xù)相/分散相反射偏振片，以及在美國專利No.5，867，316中所述的漫反射型多層偏振片。可結合本發(fā)明使用的其它反射偏振元件在PCT專利申請公開WO96/31794中有所描述。膽甾型反射偏振片也可以結合本發(fā)明使用，并且這種偏振片在(例如)美國專利No.5，793，456中有所描述。一種膽甾型反射偏振片由Meixk公司以商品名TRANSMAX銷售。也可以使用線柵偏振片，并且這種偏振片在(例如)PCT專利申請公開WO94/11766中有所描述。結合本發(fā)明使用的反射偏振^:學薄膜可包括鏡面反射偏振片，這種偏振片使某一個偏振方向的光發(fā)生鏡面反射。作為另外一種選擇，反射偏振片也可以是漫反射偏振片，這種偏振片使某一個偏振方向的光發(fā)生漫反射。如美國專利申請2003/0217806中所述，多層光學薄膜至少部分地通過具有不同折射率的微層的排列來提供所期望的透射特性和/或反射特性。這些微層具有不同的折射率特征，以使得某些光在相鄰微層間的界面處被反射。微層的厚度足夠薄，使得多個界面處反射的光之間產(chǎn)生相長干涉或相消干涉，從而使膜體具有所期望的反射特性或透射特性。對于設計用來反射紫外、可見或近紅外波長處的光的光學薄膜來說，各微層一般具有小于約1微米的光學厚度(即物理厚度乘以折射率)。然而，其中也可以包括更厚的層，例如薄膜外表面的表層或設置在薄膜內(nèi)部、將多個微層組件隔開的保護性邊界層。多層光學膜體也可以包括一個或多個厚的粘合劑層，以便將疊層中的兩片或更多片的多層光學薄膜粘合。多層光學膜體的反射特性和透射特性是各個微層的折射率的函數(shù)。每個微層至少在薄膜的局部位置處可以通過面內(nèi)折射率nx、ny和與薄膜的厚度軸相關的折射率n.,加以表征。這些折射率各自表示被測材料對沿互相正交的x、y和z軸偏振的光線的折射率。在實施中，通過合理的材料選擇和加工條件來控制折射率。薄膜的制作方法是將通常有幾十或幾百層的交替層疊的兩種聚合物A和B共擠出，然后可任選地將該多層擠出物通過一個或多個倍增用模具，接著對擠出物迸行拉伸或者以其他方式對擠出物進行取向，以形成最終的膜。所得薄膜通常由幾十或幾百個單獨的微層組成，調(diào)整微層的厚度和折射率，從而在所期望的光譜區(qū)域(如可見光區(qū)或近紅外光區(qū))形成一個或多個反射帶。為了通過適當數(shù)量的層來獲得高的反射率，優(yōu)選的是，相鄰微層針對沿x軸偏振的光的折射率差值(Snx)為至少0.05。如果希望對兩種正交的偏振光表現(xiàn)出高的反射率，那么還優(yōu)選的是，相鄰微層針對沿y軸偏振的光的折射率差值(Sn》為至少0.05。除此之外，折射率差值可以小于0.05(優(yōu)選為約0)，以便形成這樣的多層疊堆，該疊堆反射某一種偏振態(tài)的垂直入射光，而透射與之正交的偏振態(tài)的垂直入射光。如果需要，還可以調(diào)整相鄰微層間針對沿z軸偏振的光的折射率差值(Snz)，以便針對傾斜入射光的p偏振分量得到期望的反射特性?？捎糜谥圃於鄬泳酆衔锕鈱W薄膜的示例材料可見于PCT專利申請公開WO99/36248(Neavin等人)中。符合需要的是，其中至少一種材料是應力光學系數(shù)具有較大絕對值的聚合物。換句話講，當對該聚合物進行拉伸時，其優(yōu)選產(chǎn)生較大的雙折射率(至少約0.05，更優(yōu)選為至少約0.1或甚至0.2)。根據(jù)該多層薄膜的應用，可以在該薄膜平面內(nèi)的兩個正交方向之間、或者在一個或多個面內(nèi)方向與垂直于薄膜平面的方向之間產(chǎn)生雙折射，或者為它們的組合方式。在各個未拉伸的聚合物層所具有的各向同性的折射率之間差異較大的特殊情況下，盡管往往仍希望其具有雙折射性，但可以放寬對至少一種聚合物具有較大雙折射率這一優(yōu)選條件的要求。當選擇聚合物用于反射鏡薄膜和偏振薄膜(這些膜采用雙軸工藝制成，該工藝在兩個正交的面內(nèi)方向上對膜進行拉伸)時，會出現(xiàn)這種特殊情況。此外，理想的聚合物應能夠在拉伸后保持雙折射性，從而將所期望的光學特性賦予薄膜成品。可以選擇第二聚合物用于多層薄膜的其它層，以使得薄膜成品中的第二聚合物在至少一個方向上的折射率會與第一聚合物在同一方向上的折射率明顯不同。為了方便起見，可以這樣制膜使用僅僅兩種不同的聚合物材料，并在擠出過程中將這兩種材料交替設置，以形成交替的層A、層B、層A、層B等。然而，交替設置僅僅兩種不同的聚合物材料并不是必須的。取而代之的是，多層光學薄膜的每一層均可以由不在該薄膜的其它層中使用的獨特材料或共混物而構成。優(yōu)選的是，被共擠出的聚合物具有相同或相似的熔融溫度。既提供合適的折射率差值又提供合適的層間附著力的示例性雙聚合物組合包括(1)對于采用主要為單軸拉伸的方法制造的多層偏振光學薄膜來說，包括PEN/coPEN、PET/coPET、PEN/sPS、PET/sPS、PEN/Eastar和PET/Eastar，其中，"PEN"指聚萘二甲酸乙二醇酯，"coPEN"指基于萘二甲酸的共聚物或共混物，"PET"指聚對苯二甲酸乙二醇酯，"coPET"指基于對苯二甲酸的共聚物或共混物，"sPS"指間規(guī)立構聚苯乙烯及其衍生物，Eastar是可從EastmanChemical公司商購獲得的聚酯或共聚酯(據(jù)信，其包含環(huán)己烷二甲醇單元和對苯二甲酸酯單元)；(2)對于通過控制雙軸拉伸法的工藝條件制成的多層偏振光學薄膜來說，包括PEN/coPEN、PEN/PET、PEN/PBT、PEN/PETG和PEN/PETcoPBT，其中，"PBT"指聚對苯二甲酸丁二醇酯，"PETG"指釆用第二種二元醇(通常為環(huán)己烷二甲醇)的PET共聚物，"PETcoPBT"指對苯二甲酸或其酯與乙二醇和1,4-丁二醇的混合物形成的共聚聚酯；(3)對于反射鏡膜(包括有色的反射鏡膜)來說，包括PEN/PMMA、coPEN/PMMA、PET/PMMA、PEN/EcdelTM、PET/Ecdel、PEN/sPS、PET/sPS、PEN/coPET、PEN/PETG和PEN/THV,其中，"P畫A"指聚甲基丙烯酸甲酯，Ecdel是可從EastmanChemical公司商購獲得的熱塑性聚酯或共聚酯(據(jù)信，其包含環(huán)己二羧酸酯單元、聚四亞甲基醚二醇單元和環(huán)己烷二甲醇單元)，THV是可從3M公司商購獲得的含氟聚合物。有關合適的多層光學薄膜及其相關構造的進一步的細節(jié)可見于美國專利No.5,882,774(Jonza等人)和PCT專利申請公開WO95/17303(0uderkirk等人)和W099/39224(0uderkirk等人)。多層聚合物光學薄膜和膜體可以包括為了滿足其光學、機械和/或化學特性而選擇的附加層和涂層。參見美國專利No.6,368,699(Gilbert等人)。聚合物薄膜和膜體也可以包括無機層，例如金屬或金屬氧化物涂層或?qū)印７瓷淦窆鈱W薄膜還可包括增益擴散片(gaindiffiiser)。一種類型的增益擴散片在提交于2006年6月30日的美國專利申請No.11/427948中有所描述，該專利文獻以引用的方式并入本文。在粘結劑中添加小珠(該粘結劑處于被反射偏振元件所偏振的光的光程中)可以產(chǎn)生一些有利的光學或機械特性。這些特性包括(例如)改善增益、增強對比度、減少或消除浸濕和牛頓環(huán)、漫射以及色彩掩蔽或平均化。優(yōu)選的是，小珠和粘結劑具有低的雙折射率，并且含珠層可以保持偏振。通常，含珠層中所包含的小珠為基本上透明并且優(yōu)選為透明的固體制品。這些小珠可以由本領域的普通技術人員所知道的任何合適的透明材料制成，所述材料例如為有機(例如聚合物)或無機材料。一些示例材料包括(但不限于)無機材料，如二氧化硅(如3M公司(St.Paul,MN)的Zeeospheres)、硅鋁酸鈉、氧化鋁、玻璃、滑石、氧化鋁和二氧化硅的合金；以及聚合物材料，如液晶聚合物(例如EastmanChemicalProducts公司(Kingsport，Tenn.)的液晶聚合物Vectram)、無定形聚苯乙烯、苯乙烯丙烯腈共聚物、交聯(lián)的聚苯乙烯顆粒或聚苯乙烯共聚物、聚二甲基硅氧垸、交聯(lián)的聚二甲基硅氧烷、聚甲基倍半硅氧烷和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)，優(yōu)選的是交聯(lián)P麗A或這些材料的任何合適的組合。其它合適的材料包括這樣的無機氧化物和聚合物，這些無機氧化物和聚合物基本上不能混溶，在含顆粒層的加工過程中不會引起各層材料的不良反應(降解)，在加工溫度下不會發(fā)生熱降解，并且基本上不會吸收所關注的波長或波長范圍內(nèi)的光。小珠的平均直徑一般在(例如)5到50pm的范圍內(nèi)。通常，顆粒的平均直徑在12到30pm的范圍內(nèi)，或者在一些實施例中在12到25jim的范圍內(nèi)。在至少一些情況下，優(yōu)先選用較小的小珠，因為這樣可以在每單位體積的涂層內(nèi)添加更多的小珠，并且往往會形成更粗糙或更均勻的粗糙表面或更多的光漫散中心。在一些實施例中，小珠粒度分布可以是+/-50%，而在其它實施例中可以是+/-40%。其它實施例可包括小于40%的小珠粒度分布，其包括單分散分布。雖然可以使用任何形狀的小珠，但在某些情況下一般優(yōu)選球形小珠，在使色彩掩蔽和增益達到最大程度時尤其是如此。對于表面漫射來說，球形顆粒與其它形狀的顆粒相比，每個球形顆粒所產(chǎn)生的表面起伏度較大，這是因為非球形顆粒往往沿薄膜平面定向，從而使得顆粒的最短主軸位于薄膜的厚度方向上。通常，含珠層的粘結劑也是基本上透明的，并且優(yōu)選是透明的。在大多數(shù)示例性的實施例中，粘結劑材料為聚合物。根據(jù)預期用途，粘結劑可以是離子輻射固化型(例如，UV固化型)的聚合物材料、熱塑性聚合物材料或粘合劑材料。一種示例性的UV固化型粘結劑可包括聚氨酯丙烯酸酯低聚物，例如可得自Cognis公司的Photomer6010。反射偏振光學薄膜(即不含抗反射或高折射率涂層的光學膜)通常具有至少1.65的單片相對增益。該單片相對增益通常小于1.80。在光學薄膜(如增亮膜)上附加抗反射薄膜可以改善增益。結合實例中所描述的增益測試方法，可以獲得至少0.01到0.02或更大的增益改善。耐久型抗反射膜包括相對較厚的高折射率層以及相對較薄的低折射率層。就本發(fā)明的目的而言，術語"低折射率"指將某種材料以層的形式施加到基底上時，該材料所形成的涂層的折射率低于約1.5，更優(yōu)選低于約1.45，并且最優(yōu)選低于約1.42。低折射率層的最低折射率通常為至少約1.35。就本發(fā)明的目的而言，術語"高折射率"指將某種材料以層的形式施加到基底上時，該材料所形成的涂層的折射率高于約1.5。高折射率層的最大折射率通常不大于約1.80。高折射率層和低折射率層之間的折射率差值通常為至少0.15，更通常為0.2或更大。高折射率層的厚度通常為至少0.5微米，優(yōu)選為至少1微米，更優(yōu)選為至少2微米，并且通常不大于10微米。低折射率層的光學厚度為約%波長或％波長的奇數(shù)倍。該厚度通常小于0.5微米，更通常小于約0.2微米，并且通常為約90nm到110nm。當將耐久型高折射率層和耐久型低折射率層結合使用時，可以在不存在附加硬涂層的情況下提供耐久性的(例如雙層)抗反射薄膜。低折射率層包含自由基聚合型材料的反應產(chǎn)物。在其中高折射率層包含分散在交聯(lián)的有機材料中的、經(jīng)表面改性的納米顆粒的優(yōu)選實施例中，該高折射率層也包含自由基聚合型材料的反應產(chǎn)物。本文針對(甲基)丙烯酸酯材料對自由基聚合型材料進行描述。然而，通過使用本領域已知的其它自由基聚合型基團也可以得到類似的結果。低折射率表面層包含可聚合的低折射率組合物的反應產(chǎn)物，所述組合物包含至少一種氟化自由基聚合型材料和經(jīng)表面改性的無機納米顆粒。優(yōu)選具有低折射率(例如，低于1.50)的經(jīng)表面改性的顆粒分散在本文所述的自由基聚合的氟化有機材料中。多種低折射率無機氧化物顆粒是已知的，所述無機氧化物如金屬氧化物、金屬氮化物和金屬鹵化物(例如金屬氟化物)。優(yōu)選的低折射率顆粒包括膠態(tài)二氧化硅、氟化鎂和氟化鋰。用于低折射率組合物中的二氧化硅可從NalcoChemical公司(Naperville，工L)以商品名"NalcoCollodialSilicas"(如產(chǎn)品1040、1042、1050、1060、2327和2329)商購獲得。合適的熱解法二氧化硅包括(例如)可從DeGussaAG公司(H雄u，Germany)以商品名"AerosilseriesOX-50"及產(chǎn)品編號-130、-150和-200商購獲得的產(chǎn)品。熱解法二氧化硅還可從Cabot公司(Tuscola，I)以商品名"CAB-0-SPERSE2095"、"CAB-0-SPERSEA105"和"CAB-0-SILM5"商購獲得。低折射率層的氟化組分產(chǎn)生低表面能。低折射率涂層組合物的表面能可以通過各種方法來表征，所述方法如接觸角和憎墨性。固化的低折射率層與水的靜態(tài)接觸角通常為至少80°。更優(yōu)選的是，該接觸角為至少90°，并且最優(yōu)選為至少100°。作為另外一種選擇或除此之外，其與十六垸的前進接觸角為至少50°，并且更優(yōu)選為至少60°。低表面能賦予低折射率層防垢去污的性能，并使外露的表面易于清潔。在一些實施例中，本文所述的抗反射薄膜具有耐久性。在一個方面，耐久型抗反射薄膜在與諸如鋼絲棉等磨料反復接觸時可以防止被擦壞。抗反射薄膜表面存在的明顯劃痕會增加其霧度。在一個實施例中，根據(jù)在實例中將進一步描述的鋼絲棉耐久性測試，在使用直徑為3.2cm的軸柄和400g重的砝碼的條件下用鋼絲棉擦掃5、10、15、20或25次之后，抗反射薄膜的霧度小于1.0%。防可見劃痕的表面層不一定保持較低的表面能。在優(yōu)選的實施例中，抗反射薄膜在與磨料(例如鋼絲棉)反復接觸后也保持低表面能。在優(yōu)選的實施例中，根據(jù)鋼絲棉耐久性測試，在使用直徑為3.2cm的軸柄和400g砝碼的條件下用鋼絲棉擦掃5、10、15、20或25次之后，抗反射薄膜與十六烷的前進接觸角優(yōu)選為至少45°、50°或60°。在使用直徑為3.2cm的軸柄和400g砝碼的條件下用鋼絲棉擦掃10、50、100、200或甚至300次之后，抗反射薄膜與水的靜態(tài)接觸角通常也為至少90°、95°或100°。在一些實施例中，耐久型抗反射薄膜包括本文所述的低折射率層以及由無機材料(如金屬或金屬氧化物)薄層(如單層)構成的高折射率層。這種高折射率涂層一般是用熱蒸發(fā)法、濺射法或其它真空沉積技術沉積而成的。具體金屬氧化物的實例包括(例如)鋁、硅、錫、鈦、鈮、鋅、鋯、鉭、釔、鈰、鎢、鉍、銦的氧化物，混合氧化物，以及它們的混合物。耐久型抗反射薄膜的高折射率層優(yōu)選包含分散在交聯(lián)的有機材料中的經(jīng)表面改性的納米顆粒(優(yōu)選具有至少1.60的高折射率的納米顆粒)。在高折射率層的有機材料中可以使用多種(例如非氟化)自由基聚合型的單體、低聚物、聚合物以及它們的混合物。優(yōu)選的是，高折射率層的有機材料只包含具有三個或更多個(甲基)丙烯酸酯基團的非氟化自由基聚合型材料，或同時包含非氟化的單官能和/或雙官能材料，如下文針對低折射率層所述的那些材料。多種合適的高折射率組合物為已知的，例如同時提交于2004年12月30日的待審査美國申請No.11/026573、11/026674和11/026702，以及PCT申請No.US2005/045764、No.US2005/046526和No.US2005/045876中所述的那些；這些專利文獻以引用的方式并入本文。雖然氟原子對于高折射率層而言并不是優(yōu)選，但是可以采用其它鹵素(如溴和碘)，例如溴化(甲基)丙烯酸酯。多種高折射率顆粒為已知的，這些顆粒包括(例如)單獨或組合存在的氧化鋯("Zr02")、二氧化鈦("Ti02")、氧化銻、氧化鋁和氧化18錫。高折射率層中使用的氧化鋯可從NalcoChemical公司以商品名"Nalco00SS008"獲得，或從BuhlerAGUzwil公司(Switzerland)以商品名"BuhlerzirconiaZ-WOsol"獲得。氧化鋯納米顆粒也可以按照(例如)提交于2004年12月30日的美國專利申請No.11/027426和美國專利No.6,376,590中所述方法進行制備。低折射率層和/或高折射率層中的(例如無機的)納米顆粒的濃度通常為至少5體積％，并且優(yōu)選為至少15體積％。無機顆粒的濃度通常不大于約50體積％，并且更優(yōu)選不大于40體積％。無機納米顆粒優(yōu)選經(jīng)過表面處理劑處理。對納米顆粒進行表面處理可以提供處于聚合性樹脂中的穩(wěn)定的分散體。優(yōu)選的是，通過表面處理來穩(wěn)定納米顆粒，使得這些顆粒良好地分散在可聚合的樹脂中，并且得到基本上均質(zhì)的組合物。另外，可以用表面處理劑對納米顆粒的至少一部分表面進行改性，使得穩(wěn)定的顆粒在固化期間可以與可聚合的樹脂共聚或反應。添加經(jīng)表面改性的無機顆粒有助于使顆粒和自由基聚合型有機組分發(fā)生共價鍵合，從而形成更堅韌、更均質(zhì)的聚合物/顆粒網(wǎng)絡。一般來講，表面處理劑具有第一端基，其將與顆粒表面連接(通過共價鍵、離子鍵或通過強物理吸附作用實現(xiàn))；和第二端基，其使顆粒與樹脂具有相容性，并且/或者在固化過程中與樹脂反應。表面處理劑的實例包括醇、胺、羧酸、磺酸、膦酸、硅烷和鈦酸酯。優(yōu)選的處理劑類型部分地由金屬氧化物表面的化學性質(zhì)確定。硅烷對于二氧化硅和其它含硅填料而言是優(yōu)選的。硅垸和羧酸對金屬氧化物(例如二氧化鋯)而言是優(yōu)選的?？梢栽陬w粒與單體混合之后立即進行表面改性或者在混合一段時間之后進行表面改性。就硅烷而言，優(yōu)選在顆粒或納米顆粒被摻入到樹脂中之前使硅垸與顆?；蚺c納米顆粒的表面發(fā)生反應。所需的表面改性劑的量取決于幾個因素，例如粒度、顆粒類型、改性劑的分子量及改性劑的類型。一般來說，優(yōu)選的是，使大體上單層的改性劑與顆粒表面連接。所需的連接方法或所需的反應條件也取決于所使用的表面改性劑。對于硅烷而言，優(yōu)選在酸性或堿性的條件下，進行大約1-24小時的高溫表面處理。表面處理劑(例如羧酸)可能不需要高溫或較長時間。適合用于組合物的表面處理劑的代表性實施例包括(例如)下列化合物如異辛基三甲氧基硅垸、N-(3-三乙氧基甲硅烷基丙基)氨基甲酸甲氧基乙氧基乙氧基乙酯、N-(3-三乙氧基甲硅烷基丙基)氨基甲酸甲氧基乙氧基乙氧基乙酯、3-(甲基丙烯酰氧基)丙基三甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-(甲基丙烯酰氧基)丙基三乙氧基硅烷、3-(甲基丙烯酰氧基)丙基甲基二甲氧基硅烷、3-(丙烯酰氧基丙基)甲基二甲氧基硅烷、3-(甲基丙烯酰氧基)丙基二甲基乙氧基硅烷、3-(甲基丙烯酰氧基)丙基二甲基乙氧基硅烷、乙烯基二甲基乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、正辛基三甲氧基硅垸、十二垸基三甲氧基硅垸、十八垸基三甲氧基硅烷、丙基三甲氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷、乙烯基甲基二乙酰氧基硅烷、乙烯基甲基二乙氧基硅垸、乙烯基三乙酰氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三異丙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅垸、乙烯基三苯氧基硅烷、乙烯基三叔丁氧基硅垸、乙烯基三異丁氧基硅烷、乙烯基三異丙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅垸、苯乙烯基乙基三甲氧基硅烷、巰丙基三甲氧基硅烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅垸、丙烯酸、甲基丙烯酸、油酸、硬脂酸、十二烷酸、2-[2-(2-甲氧基乙氧基)乙氧基]乙酸(MEEAA)、丙烯酸e-羧乙酯(BCEA)、2-(2-甲氧基乙氧基)乙酸、甲氧基苯基乙酸，以及它們的混合物。對膠態(tài)分散體中的顆粒進行表面改性的操作可以通過多種已知方式實現(xiàn)，所述方式如前文引用的美國專利申請No.11/027426(提交于2004年12月30日)以及美國專利No.6，376，590中所述的方式；這些專利文獻均以引用的方式并入本文。氧化鋯納米顆粒也可從Nalco公司和Buhler公司商購獲得?？梢允褂帽砻娓男詣┑慕M合，其中所述改性劑中的至少一種具有可與可固化樹脂共聚的官能團。表面改性劑的組合可以產(chǎn)生低粘度。例如，所述可聚合基團可以是烯鍵式不飽和官能團或者易于開環(huán)聚合的環(huán)狀官能團。烯鍵式不飽和聚合基團可以是(例如)丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯或者乙烯基基團。容易發(fā)生開環(huán)聚合的環(huán)狀官能團一般來說含有雜原子(例如氧、硫或氮)，并且優(yōu)選為含氧的三元環(huán)(例如環(huán)氧基)。表面改性劑的優(yōu)選組合包含至少一種第一表面改性劑，和不同于第一表面改性劑的第二表面改性劑，其中所述的第一表面改性劑具有可與可聚合樹脂的有機組分共聚的官能團。第二表面改性劑優(yōu)選為含聚氧化烯烴的改性劑，可任選的是，這種改性劑可與可聚合組合物的有機組分共聚。經(jīng)表面改性的膠態(tài)納米顆粒可以是基本上完全凝聚的。不含二氧化硅的完全凝聚的納米顆粒的結晶度(以分離的金屬氧化物顆粒的形式測定)通常大于55%，優(yōu)選大于60%，并且更優(yōu)選大于70%。例如，結晶度可達約86%或以上。結晶度可以采用X光衍射技術進行測定。凝聚的結晶(如氧化鋯)納米顆粒具有高折射率，而無定形的納米顆粒通常具有低折射率。無機顆粒優(yōu)選具有大體上單分散的粒度分布，或者具有通過兩種或更多種大體上單分散的分布相混合而得到的多峰分布。作為另外一種選擇，可以引入這樣的無機顆粒，該無機顆粒具有通過將顆粒研磨至期望的粒度范圍而得到的一定的粒度范圍。無機氧化物顆粒通常是非聚集的(基本上離散的)，因為聚集可以導致無機氧化物顆粒發(fā)生光學散射(霧化)或沉淀，或凝膠化。無機氧化物顆粒通常為膠體，其平均粒徑在5納米到100納米之間。高折射率無機顆粒的粒度優(yōu)選小于約50nm，以具有充分的透明性。利用透射電子顯微鏡算出給定直徑的無機氧化物顆粒的數(shù)量，可以測得無機氧化物顆粒的平均粒度。為了具有透明性，優(yōu)選采用單峰態(tài)顆粒分布。抗反射薄膜可具有光澤或啞光的表面。啞光抗反射薄膜與典型的光澤薄膜相比，通常具有較低的透射率和較高的霧度。例如，根據(jù)ASTMD1003測定，其霧度值通常為至少5%、6%、7%、8%、9%或10%。而根據(jù)ASTMD2457-03在60°的條件下測定，光澤表面的光澤度通常為至少130，啞光表面的光澤度小于120?？梢允贡砻娲植诨蚣y理化，以形成啞光表面。這可以通過本領域已知的多種方式實現(xiàn)，所述方式包括使用已經(jīng)通過噴丸處理或其它方式粗糙化的合適工具對低折射率表面進行壓印，以及通過將組合物在合適的粗糙母模上固化來實現(xiàn)，如美國專利No.5,175,030(Lu等人)和No.5，183，597(Lu)中所述的那樣。在另一個方面，通過將高折射率層和低折射率層(如表面層)置于啞光薄膜基底上，可制成啞光抗反射薄膜。示例性的啞光薄膜可從U.S.A.KimotoTech公司(Cedartown，GA)以商品名"N4D2A"商購獲得。啞光的低折射率涂層和高折射率涂層也可以通過向組合物中添加粒度合適的顆粒填料(如硅砂或玻璃珠)來制備。這種啞光顆粒通常遠遠大于經(jīng)表面改性的低折射率顆粒。例如，其平均粒度通常在約1到10微米之間。此類啞光顆粒的濃度可在至少2重量％到約10重量％或以上的范圍內(nèi)。當其濃度小于2重量％(例如，1.8重量％、1.6重量°/。、1.4重量％、1.2重量％、1.0重量％、0.8重量％、0.6重量％)時，該濃度通常不足以使光澤減少到期望的程度(這還會增加霧度)。然而，也可以在沒有這種啞光顆粒的情況下提供耐久型抗反射薄膜。低折射率可聚合組合物和有機高折射率可聚合組合物通常包含至少一種具有至少三個自由基聚合型基團的交聯(lián)劑。該組分經(jīng)常是非氟化的多(甲基)丙烯酸酯單體。引入這種材料有助于增大固化組合物的硬度。低折射率可聚合組合物和有機高折射率可聚合組合物通常包含至少5重量％、10重量％或15重量％的交聯(lián)劑。交聯(lián)劑在低折射率組合物中的濃度一般不大于約40重量％。對于采用高濃度無機顆粒的優(yōu)選實施例來說，交聯(lián)劑在高折射率組合物中的濃度一般不大于約25重量％。合適的單體包括(例如)三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(可從Sartomer公司(Exton，PA)以商品名"SR351"商購獲得)、乙氧基化三羥甲基丙垸三丙烯酸酯(可從Sartomer公司(Exton,PA)以商品名"SR454"商購獲得)、四丙烯酸季戊四醇酯、三丙烯酸季戊四醇酯(可從Sartomer公司以商品名"SR444"商購獲得)、五丙烯酸二季戊四醇酯(可從Sartomer公司以商品名"SR399"商購獲得)、乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯、乙氧基化季戊四醇三丙烯酸酯(可從Sartomer公司以商品名"SR494"商購獲得)、六丙烯酸二季戊四醇酯以及三(2-羥基乙基)異氰脲酸酯三丙烯酸酯(可從Sartomer公司以商品名"SR368"商購獲得)。在一些方面，可以使用包含乙內(nèi)酰脲部分的多(甲基)丙烯酸酯化合物，如美國專利No.4，262，072(Wendling等人)中所述的那些。低折射率和高折射率的可聚合涂層組合物還可包含至少一種雙官能的(甲基)丙烯酸酯單體。多種雙官能(甲基)丙烯酸酯單體為本領域已知的，其包括(例如)1,3-丁二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、二丙烯酸1,6-己二醇酯、1，6-己二醇丙烯酸酯甲基丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、烷氧基化脂肪族二丙烯酸酯、烷氧基化環(huán)己烷二甲醇二丙烯酸酯、烷氧基化己二醇二丙烯酸酯、垸氧基化新戊二醇二丙烯酸酯、己內(nèi)酯改性的新戊二醇羥三甲基乙酸酯二丙烯酸酯、己內(nèi)酯改性的新戊二醇羥三甲基乙酸酯二丙烯酸酯、環(huán)己烷二甲醇二丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、乙氧基化雙酚A二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯(Mn二200克/摩爾，400g/摩爾，600克/摩爾)、丙氧基化新戊二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、三環(huán)癸垸二甲醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯和三丙二醇二丙烯酸酯。低折射率層優(yōu)選地包含一種或多種氟含量為至少25重量％的自由基聚合型材料。高度氟化的單體、低聚物和聚合物的特征在于具有低折射率。多種氟含量為至少約25重量％的氟化多(甲基)丙烯酸酯和單(甲基)丙烯酸酯材料是已知的。在一些實施例中，低折射率可聚合組合物的氟含量為至少30重量％、至少35重量％、至少40重量％、至少45重量％或至少50重量％。通常，絕大部分高度氟化的材料是多官能自由基聚合型材料。然而，這類材料可以與氟化的單官能材料組合使用。多種氟化的單(甲基)丙烯酸酯和多(甲基)丙烯酸酯化合物可用于制備可聚合的低折射率涂層組合物。這類材料一般包含自由基聚合型部分以及(全)氟聚醚部分、(全)氟烷基部分和(全)氟亞垸基部分。這些類別的材料內(nèi)的每一種物質(zhì)都具有高的氟含量(例如至少25重量％)。各類材料內(nèi)氟含量少于25重量％的其它物質(zhì)可用作輔助組分。在一些實施例中，這種輔助性的氟化(甲基)丙烯酸酯單體可有助于增強反應混合物內(nèi)存在的低折射率材料或其它氟化材料的相容性。例如，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，全氟聚醚氨基甲酸酯化合物特別可用于增強高氟含量材料的相容性，如在提交于2005年3月23日的美國專利申請No.11/087413、提交于2006年3月22日的美國專利申請No.11/277162以及同時提交的案巻No.62060US002中所描述的那樣。這類全氟聚醚氨基甲酸酯化合物一般包含至少一個可聚合的(如末端)(甲基)丙烯酸酯部分和至少一個這樣的(可任選地重復)單元，該單元包含通過化合價為至少二的連接基團與氨基甲酸酯鍵或脲鍵結合的(全)氟聚醚基團。氨基甲酸酯鍵和脲鍵通常為-NHC(0)X-，其中X為0、S或NR，并且R為H或含1到4個碳的烷基。如前所述，全氟聚醚部分優(yōu)選為HFP0-部分。一種示例性的高氟含量的全氟聚醚氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯為HFP0-C(0)NHC2H40C(0)NHC2H40C(0)C(CH3)=CH2，其中HFP0為F(CF(CF3)CF20)aCF(CF3)-，"a"平均為2至U15。在優(yōu)選實施例中，低折射率可聚合組合物包含至少一種自由基聚合型含氟聚合物。這類含氟聚合物的一般性描述和制備方法可見于EncyclopediaChemicalTechnology,/^7t/oj"ocar^0/7j573stoyzers1，Kirk一0thmer(1993)，或者見于#oc/e_ra/^7〃oro;x^，e7\s,J.ScheirsEd，(1997)，JWileyScience,Ch鄰ters2,13，32(ISBN0-471-97055-7)。優(yōu)選的氟聚合物由被稱為四氟乙烯("TFE")、六氟丙烯("HFP")和偏二氟乙烯("VDF"、"VF2")的組分單體構成。這些組分的單體結構如下所示TFE:CF2=CF2(1)VDF:CH2=CF2(2)HFP:CF2=CF-CF:i(3)含氟聚合物優(yōu)選包含至少兩種上述的組分單體(HFP和VDF)，更優(yōu)選以各種摩爾量包含所有三種組分單體。在(l)、(2)或(3)中沒有說明但同樣有用的其它單體包括全氟乙烯基醚單體，其一般結構為CF產(chǎn)CF-0Rf，其中Rf可以是具有1-8個碳的支鏈或直鏈全氟烷基，并且其本身可包含其它雜原子，如氧原子。具體的實例有全氟甲基乙烯基醚、全氟丙基乙烯基醚和全氟(3-甲氧基-丙基)乙烯基醚。其它實例可見于轉(zhuǎn)讓給3M公司的W000/12574(Worm)，以及美國專利No.5，214,100(Carlson)。在下文中將由VDF-HFP和可任選的TFE構成的無定形共聚物稱為如ASTMD1418所命名的FKM,或FKM彈性體。FKM彈性體具有以下通式<CF2-CF2};~(CF2-CF~(CHrCF2:L3其中x、y禾Pz以摩爾百分比表示。在一些實施例中，x可以為零，只要y的摩爾百分比足夠高(通常大于約18摩爾％)，以至于其微結構為無定形形式即可。還存在著本發(fā)明可用的其中x大于零的其它含氟彈性體組合物。含氟聚合物包含自由基聚合型基團。這可以通過引入含鹵素的固化部位單體("CSM")和/或鹵化端基而實現(xiàn)，這些含鹵素的固化部位單體("CSM")和鹵化端基可以利用本領域已知的多項技術共聚到聚合物中。這些鹵素基團提供針對涂層混合物的其它組分的反應性，并有利于形成聚合物網(wǎng)絡?？捎玫暮u素單體為本領域所熟知，并且代表性實例可見于美國專利No.4,214,060(Apotheker等人)、歐洲專利No.EP398241(Moore)和歐洲專利No.EP407937B1(Vincenzo等人)中?？扇芜x的是，可以通過使用這樣一種鹵化鏈轉(zhuǎn)移劑而將鹵素固化部位引入到聚合物結構中，該鹵化鏈轉(zhuǎn)移劑會產(chǎn)生含有活性鹵素端基的含氟聚合物鏈端。這類鏈轉(zhuǎn)移劑("CTA")在文獻中為人所熟知，并且其典型實例為Br-CF2CF2-Br、CF2Br2、CF2I2和CH山。其它典型實例可見于美國專利No.4，000，356(Weisgerber)中。是通過固化部位單體、還是通過鏈轉(zhuǎn)移劑、還是通過這兩種方式將鹵素引入聚合物微結構中都不是特別重要，因為這兩種方式都會產(chǎn)生針對UV交聯(lián)和與網(wǎng)絡中的其它組分(如丙烯酸酯)的共反應而言更具活性的含氟聚合物。與下文討論的脫氟化氫法不同的是，使用固化部位單體形成共交聯(lián)網(wǎng)絡具有以下優(yōu)點所形成的聚合物層的透光性沒有受到損害，這是因為在這種情況下丙烯酸酯和含氟聚合物的反應不依賴于聚合物主鏈中為了反應而具有的不飽和度。因此，含溴的含氟彈性體(如可得自DyneonLLC公司(St.Paul,Minnesota)的DyneonE-15742、E-18905或E-18402)可以與FKM組合使用、或代替FKM作為含氟聚合物。在另一個實施例中，可以通過用任何可以使含氟聚合物具有足夠的碳-碳不飽和度的方法來脫氟化氫，以使含氟聚合物具有反應性，從而增大含25氟聚合物和碳氫化合物基底或?qū)又g的結合強度。脫氟化氫法是一種可以產(chǎn)生不飽和性的熟知的方法，并且該方法最常用于通過親核試劑(如聯(lián)苯酚和二胺)使含氟彈性體進行離子交聯(lián)。這種反應是含VDF的彈性體的特征。相關描述可見于文獻r/eC/e則's1tiy。,Z^/u。r。car6。/Mas1t。膨r,A.L.Zt^otAetz's尸rc^.尸o^wer5"cience(1989)，14，251。此外，單官能脂肪伯胺和單官能脂肪仲胺也可能實現(xiàn)這類反應，并會產(chǎn)生帶有側胺基的DHF-含氟聚合物。然而，這種DHF反應不可能在不含VDF單元的聚合物內(nèi)發(fā)生，因為這種聚合物在這類試劑的作用下沒有脫HF的能力?？梢圆捎猛ㄟ^引入固化部位單體而產(chǎn)生反應性的含氟聚合物和通過脫氟化氫法產(chǎn)生反應性的含氟聚合物的組合。本文所述的含有含氟聚合物的低折射率組合物優(yōu)選包含至少一種氨基有機硅垸酯偶聯(lián)劑或其縮合產(chǎn)物，如提交于2004年12月30日的美國專利申請No.11/026640中所述的那些，該專利文獻以引用的方式并入本文。優(yōu)選的氨基有機硅垸酯偶聯(lián)劑包括3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、(氨基乙基氨基甲基)苯乙基三甲氧基硅烷、(氨基乙基氨基甲基)苯乙基三乙氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氮基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅垸、4-氨基丁基三甲氧基硅垸、4-氨基丁基三乙氧基硅烷、3-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氨基丙基二甲基甲氧基硅烷、3-氨基丙基二甲基乙氧基硅垸、2,2-二甲氧基-1-氮雜-2-硅代環(huán)戊烷-卜乙胺、2，2-二乙氧基-1-氮雜-2-硅代環(huán)戊烷-1-乙胺、2，2-二乙氧基-1-氮雜-2-硅代環(huán)戊垸、2，2-二甲氧基-1-氮雜-2-硅代環(huán)戊烷、4-氨基苯基三甲氧基硅烷，以及3-苯基氨基丙基三甲氧基硅烷。在另一個實施例中，低折射率層包含下列物質(zhì)的反應產(chǎn)物A)含氟(甲基)丙烯酸酯聚合物中間體和B)至少一種氟化(甲基)丙烯酸酯單體(如同時提交的案巻No.61846US002中所述的那些，該專利文獻以引用的方式并入本文)。A)和B)的混合物優(yōu)選通過暴露于輻射(如紫外光)下進行固化。固化的低折射率聚合物組合物可包含A)和B)的共聚反應產(chǎn)物。據(jù)推測，固化的低折射率聚合物組合物還包含B)的聚合產(chǎn)物。含氟(甲基)丙烯酸酯聚合物中間體可以通過共價鍵與低折射率涂層組合物的其它組分相結合。此外，低折射率涂層的其它可任選組分(如非氟化交聯(lián)劑)可以使物理纏繞的含氟(甲基)丙烯酸酯聚合物中間體聚合，從而形成互穿網(wǎng)絡。含氟(甲基)丙烯酸酯聚合物中間體A)包含下列物質(zhì)的反應產(chǎn)物i)至少一種氟化的多(甲基)丙烯酸酯單體或低聚物，其氟含量為至少約25重量％;和ii)可任選的一種或多種氟化或非氟化的多(甲基)丙烯酸酯材料。該可任選的多(甲基)丙烯酸酯材料可以包含具有多(甲基)丙烯酸酯部分的單體、低聚物、聚合物、經(jīng)表面改性的無機納米顆粒，以及這些材料的各種組合。多(甲基)丙烯酸酯材料的總量通常為可聚合有機組合物固體(重量％)的至少25重量％。多(甲基)丙烯酸酯材料的總量可以為含納米顆粒的組合物的約30重量％到70重量％。低折射率組合物可包含各種單官能和/或多官能的HFPO-全氟聚醚化合物。引入至少約5重量％到約10重量％的單官能和/或多官能的HFPO-全氟聚醚化合物可以產(chǎn)生這樣的低表面能表面，該表面與水的初始靜態(tài)接觸角為至少110°。多種全氟聚醚單(甲基)丙烯酸酯化合物為已知的。一種示例性的此類低折射率材料為HFPO-C(0)NHCH2CH2OC(0)CH=CH2，經(jīng)計算其含有62.5重量％的氟。其它可以通過類似方式制備的低折射率全氟聚醚單(甲基)丙烯酸酯化合物為HFP0-C(0)NHCH2CH20CH2CH20CH2CH20C(0)CH=CH2，經(jīng)計算其含有59.1重量％的氟；HFPO-C(0)NH(CH2)60C(0)CH=CH2，經(jīng)計算其含有60.2重量％的氟；以及HFP0C(0)NHCH2CH2OCH2CH2OCH2CH2OCH2CH2OC(0)CH=CH2，經(jīng)計算其含有57.3重量％的氟。這類化合物在提交于2006年3月22日的美國專利申請No.11/277，162中有所描述(參見制備部分31a-31d)。示例性的低折射率全氟聚醚多(甲基)丙烯酸酯單體為HFPO-C(0)N(H)CH2CH(0C(O)CH=CH2)CH2OC(O)CH=CH2，經(jīng)計算其含有53.4%的氟。該單體可以按照美國專利申請公開No.2005/0249940-Al中所述的方法(參見FC-4)進行制備。其它低折射率全氟聚醚多(甲基)丙烯酸酯化合物包括H2C=CHC(0)OCH2CH2N(H)(0)C-HFP0-C(0)N(H)CH2CH20C(0)CH二C^(其含58.1%的氟)和(H2OCHC(0)0CH2)2CH3CH2CN(H)(0)C-HFPOC(0)N(H)CCH2CH:i(CH20C(0)CH=CH2)2(其含50.1%的氟)。這些化合物可以按照提交于2005年3月23日的美國專利申請No.11/087413和提交于2006年3月22日的待審美國專利申請No.11/277162中的所述方法(參見制備過程No.28和No.30)進行制備。通常使用至少一種自由基引發(fā)劑來制備可聚合的低折射率和高折射率涂層組合物。可用的自由基熱引發(fā)劑包括(例如)偶氮化合物、過氧化物、過硫酸鹽和氧化還原引發(fā)劑，以及它們的組合?？捎玫淖杂苫庖l(fā)劑包括(例如)已知可用于使丙烯酸酯聚合物進行UV固化的那些自由基光引發(fā)劑。此外，可以在最終組合物中添加其它添加劑。這些添加劑包括(但不限于)樹脂性流動助劑、光穩(wěn)定劑、高沸點溶劑、以及本領域的技術人員熟知的其它相容劑。通過將自由基聚合型材料以約1%到10%的固體濃度溶于相容的有機溶劑中，可形成可聚合組合物?？梢允褂脝我灰环N有機溶劑或多種溶劑的共混物。根據(jù)所使用的自由基聚合型材料的不同，合適的溶劑包括醇，如異丙醇(IPA)或乙醇；酮，如甲乙酮(MEK)、甲基異丁基酮(MIBK)、二異丁基酮(DIBK)、環(huán)己酮或丙酮；芳烴，如甲苯；異佛爾酮；丁內(nèi)酯；N-甲基吡咯烷酮；四氫呋喃；酯，如乳酸酯、醋酸酯(包括丙二醇單甲醚醋酸酯(如可從3M公司以商品名"3MScotchcalThinnerCGS10"("CGS10")商購獲得)、醋酸2-丁氧基乙酯(如可從3M公司以商品名"3MScotchcalThinnerCGS50"("CGS50")商購獲得)、二乙二醇乙醚醋酸酯(DE醋酸酯)、乙二醇丁醚醋酸酯(EB醋酸酯)、二丙二醇單甲醚醋酸酯(DPMA))、異烷基酯(如醋酸異己酯、醋酸異庚酯、醋酸異辛酯、醋酸異壬酯、醋酸異癸酯、醋酸十二垸酯、醋酸異十三烷酯或其它異烷基酯)；以及上述物質(zhì)的組合等。盡管可以使用多種氟化溶劑，但在一個方面，所制備的相容性低折射率涂層組合物不含氟化溶劑。相容的涂層組合物為透明的，而非模糊的。相容的涂層基本上沒有可見的缺陷。當使用不相容涂層時可以觀察到的可見缺陷包括(但不限于)霧霾、麻點、魚眼、斑點、團塊或顯著的波紋，或光學和涂層領域的普通技術人員已知的其它視覺指示物。形成光學顯示器上的抗反射涂層、或形成用于光學顯示器的抗反射薄膜的方法可包括提供透光性基底層，如反射偏振薄膜；在基底層上設置高折射率材料；并且提供本文所述的與高折射率層連接的低折射率層?？赏ㄟ^以下方法設置低折射率層將一層所述低折射率材料涂敷到所述高折射率材料層(如固化層)上，然后用紫外輻射充分照射以進行交聯(lián)。作為另外一種選擇，可以將低折射率涂層涂敷到隔離襯片上，使之至少部分固化，然后進行轉(zhuǎn)移涂布。此外，可以將抗反射材料直接涂敷到基底上，或者將其涂敷到轉(zhuǎn)印型抗反射薄膜的隔離層上，然后通過熱轉(zhuǎn)移或光輻射將其從隔離層轉(zhuǎn)移到基底上。可以通過常規(guī)的薄膜涂敷技術將該低折射率組合物和高折射率組合物以單一一層或多層的形式涂敷到高折射率層上，或直接涂敷到基底(如顯示器表面或薄膜)上。作為另外一種選擇，可以將低折射率涂層涂敷到隔離襯片或基底上，使之至少部分固化，然后采用熱轉(zhuǎn)移或光輻射技術進行轉(zhuǎn)移涂布。盡管基底通常可以方便地為成巻的連續(xù)料片的形式，但是涂層可以涂敷到單獨的薄片上。有利的是，通過在單一一層高折射率層上設置單一一層低折射率層可以同時獲得低反射率和良好的耐久性?？墒褂枚喾N技術對薄膜進行涂敷，所述技術包括浸涂法、正向輥涂法及逆向輥涂法、繞線棒涂布法和模具涂布法。模涂機包括刮刀涂布機、狹縫涂布機、滑動式涂布機、液壓軸承涂布機、滑動幕式涂布機、降模幕式涂布機以及擠出涂布機等。多種模涂機在以下文獻中有所描述，所述文獻例如為EdwardCohen禾口EdgarGutoff所著的"UemCoatj';^朋c/"2TJ'/^rec/wc^ogy"，VCHPublishers,NY1992，ISBN3-527-28246-7，以及Gutoff禾QCohen所著的"6baz^/^朋c/"rja'/^"e/"e"s:7]rowWes/oo。'《6ioeratj.恥尸roWe;z7S1"，WileyInterscience，NYISBN0-471-59810-0。將低折射率及高折射率涂層組合物放入烘箱干燥，以除去溶劑，然后(例如)通過采用H燈或其它燈在所需波長下進行紫外照射(優(yōu)選在氧氣濃度低于50卯m的惰性氣氛中進行)使之固化。這種反應機制使自由基聚合型材料發(fā)生交聯(lián)。盡管已通過優(yōu)選實施例對本發(fā)明進行了描述，但應當理解，本發(fā)明不僅限于這些實施例，因為本領域內(nèi)的技術人員還可對其進行各種修改，尤其是按照上述教導內(nèi)容進行修改。測試方法鋼絲棉耐久性測試在涂敷方向的橫維方向上，用能夠來回擺動附著在觸頭上的鋼絲棉片的機械裝置橫跨薄膜表面測試固化薄膜的耐磨性。觸頭以210mm/秒(3.5次擦掃/秒)的速率在擦掃寬度為60mm的范圍內(nèi)來回擺動，其中"擦掃"一次是指單程60mm。觸頭具有直徑為3.2cm的平坦的圓柱形基座結構。觸頭被設計為與砝碼附連，以增大由鋼絲棉在垂直于薄膜表面的方向上所施加的力。恥OOO鋼絲棉片是可得自HutProducts公司(Fulton,MO)的"MagicSand-SandingSheets"。#0000鋼絲棉片具有與粒度為600-1200的砂紙相當?shù)囊?guī)定粒度。從砂光片上沖切下3.2cm的鋼絲棉盤，并用3MBrandScotchPermanentAdhesiveTransferTape將之茅占合妾廿3.22cm的觸頭基座上。在使用400g砝碼的條件下針對每個實例測試一個樣品，測試過程中采用的擦掃次數(shù)如記錄所示。然后目視檢查樣品的劃痕。同時還要評價憎墨性和接觸角。增益測試方法用可得自PhotoResearch公司(Chatsworth，CA)的裝有MS-75透鏡的SpectraScanPR-650分光色度計測定薄膜的光學性能。將薄膜置于漫透射的中空光箱的頂部。光箱的漫透射和漫反射可以描繪為朗伯模式。光箱是六面的中空立方體，尺寸為大約12.5cmX12.5cmX11.5cm(長X寬X高)，其由厚度為約6mm的PTFE漫射板制成。選擇該光箱的一面作為樣品表面。中空光箱的樣品表面處的漫反射率測定值為約0.83(例如在400-700nm波長范圍內(nèi)平均為約83%，采用下述方法測量)。在增益測試過程中，該光箱通過位于光箱底部的約1cm的圓孔從內(nèi)部照明(該光箱的底部與樣品表面相對，光線從內(nèi)部照向樣品表面)。用穩(wěn)定的寬帶白熾光源提供這種照明，其中該光源連接有用于傳導光線的光纖束(帶有直徑約lcm的光纖束延長線的FostecDCR-II，可得自Schott-FostecLLC公司(MarlboroughMA和Auburn,NY))。在樣品箱和照相機之間放置標準的線性吸收偏振片(如MellesGriot03FPG007)。將照相機聚焦在離相機鏡頭距離約34cm的光箱樣品表面上，并且將吸收偏振片置于距離照相機鏡頭約2.5cm處。在放置有偏振片而沒有樣品薄膜的情況下，測得被照明的光箱的亮度〉150cd/m2。在樣品薄膜平行于光箱樣品表面放置(樣品薄膜通常與光箱接觸)時，用PR-650測量垂直入射到光箱的樣品表面平面上的樣品亮度。通過將樣品亮度與以相同方式測得的單獨光箱的亮度相比較來計算相對增益。整個測定過程都在暗室內(nèi)進行，以消除雜散光源。在對含有反射偏振片的薄膜組件進行相對增益測試時，將反射偏振片的透光軸與測試系統(tǒng)的吸收偏振片的透光軸對準。所報告的棱柱薄膜的相對增益值一般在以下條件下獲得離吸收偏振片最近的薄膜的棱柱凹槽相對于吸收偏振片的透光軸垂直排列。用直徑為15.25cm(6英寸)的涂有Spectralon的積分球、穩(wěn)定的寬帶鹵素光源和為光源供電的電源，測量光箱的漫反射率，積分球、光源和電源均由Labsphere公司(Sutton，NH)提供。積分球有三個開口，一個開口為進光口(直徑為2.5cm)，一個是沿第二軸呈90度的檢測器口(直徑為2.5cm)，第三個開口是沿第三軸(即與前兩個軸都垂直的軸)呈90度的樣品口(直徑為5cm)。PR-650分光色度計(同上)聚焦在離其約38cm的檢測器口上。積分球的反射效率采用由Labsphere公司提供的校準用反射率標準片(SRT-99-050)進行計算，該標準片具有約99%的漫反射率。該標準片由Labsphere公司進行校準，并且可查閱NIST標準(SRS-99-020-REFL-51)。積分球的反射效率計算如下球體亮度比二1/(1-R球體xR標準片乂在這種情況下，球體亮度比是用參考樣品遮住樣品口之后在檢測器口處測得的亮度除以沒有遮住樣品口時在檢測器口處測得的亮度所得的比值。當該亮度比和校準用標準片的反射效率(R輔片)已知時，即可求得積31分球的反射效率R糾。然后再將該值用于類似的公式中，以測量樣品(在這種情況中為PTFE光箱)的反射效率球體亮度比二1/(1-R球體xR樣品)這時，所測得的球體亮度比為樣品位于樣品口時的檢測器亮度除以沒有樣品時測得的亮度所得到的比值。由于從以上實驗已得知R，因此可計算R服。按4nm的波長間距計算這些反射率，并且記錄這些反射率在400-700nm波長范圍內(nèi)的平均值。透射率測試用BYK-Gardner霧度計(BYK-GardnerUSA公司，Columbia,Maryland)收集透射率測定值。將偏振薄膜裝在玻璃上，使偏振片直接接觸霧度計的光源，并使反射偏振薄膜的透光軸與測試系統(tǒng)偏振片的透光軸對準。然后將測得的數(shù)據(jù)除以偏振片本身的透射率值，以確定透過經(jīng)涂敷的光學薄膜樣品的偏振光的量。實例中采用的成分除非另外說明，否則實例中所使用的"HFPO-"是指甲酯F(CF(CF3)CF20)XF(CF3)C(0)0CH3的端基F(CF(CF3)CF20)aCF(CF3)-，其中a平均為約6.22，平均分子量為l，211g/raol。該物質(zhì)按照美國專利No.3,250,808(Moore等人)所公開的方法進行制備(該專利所公開的內(nèi)容以引用的方式并入本文)，并用分餾法進行純化。HFPO-C(0)N(H)CH2CH2CH2N(H)CH3按照美國專利申請公開No.2005/0250921A1中的FC1/AM1的制備過程進行制備。高氟含量的多官能自由基聚合型材料1.HFPO-TMPTA是指HFPO-C(0)N(H)CH2CH2CH2N(H)CH3(FC1/AM1)和三羥甲基丙垸三丙烯酸酯(TMPTA)的Michael型加合物。該加合物按照美國專利申請公開No.2005/0250921A1的實例1中所述的方法進行制備，即，其是FC1/AM1與AC-1(TMPTA)的摩爾比或FCl/AMl/AC-1摩爾比為約1:1的加合產(chǎn)物。該加合物的氟含量為52.02重量％，并且標稱Mn為1563克/摩爾。2.C6DIACRY是2,2,3,3，4，4，5，5-八氟-1，6-己二醇二丙烯酸酯(通常稱為8F-HDDA)的商品名，其分子量為370.2克/摩爾，并且至少含40重量％的氟，得自ExfluorResearch公司(RoundRock,Texas)。3.CN4000得自Sartomer公司(Exton,PA)。4.Br-FKM(E18402)是四氟乙烯(TFE)、偏二氟乙烯(VDF)和六氟丙烯(HFP)、以及含鹵素的固化部位單體(氟含量為70重量％)的自由基聚合型無定形三元共聚物，可得自DyneonLLC公司(Oakdale，MN)。A1106是3-氨基丙基三甲氧基硅烷的商品名，其由OsiSpecialties公司(GESilicones)(Paris,France)制造。BYK-411是一種改性脲的溶液的商品名，其可得自BYKChemie公司(Wesel，Germany)。Darocur4265是一種UV光引發(fā)劑(由50%的2-羥基-2-甲基-l-苯基-1-丙酮和50%的2，4，6-三甲基苯甲?；?二苯基-氧化膦構成的混合物)的商品名，其得自CibaSpecialtyProducts公司(Tarrytown，NewYork)。Darocur1173是2-羥基-2-甲基-卜苯基-1-丙酮的商品名(其是一種UV光引發(fā)劑)，可得自CibaSpecialtyProducts公司(Tarrytown，NewYork)。EsacureONE是雙官能a-羥基酮光引發(fā)劑的商品名，其得自LambertiSpa公司(Gallarate，Italy)。Irgacure184是1-羥基-環(huán)己基苯基甲酮光引發(fā)劑的商品名，可得自CIBASpecialtyChemicals公司(Tarrytown，NewYork)。HMDS是六甲基二硅氮垸的商品名，其可得自Aldrich公司。KB-l是2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮(benzyldimethylketal)UV光引發(fā)劑的商品名，其可得自Sartomer公司(Exton，Pennsylvania),可直接使用。MBX-20是由甲基丙烯酸甲酯和乙二醇二甲基丙烯酸酯的共聚物制成的小珠的商品名，其可得自SekisuiChemical公司(Osaka,Japan)。Nalco2327是20納米的二氧化硅納米顆粒的水分散體(水中固體含量為41°/。，并且用氨穩(wěn)定)的商品名，并且可得自NalcoChem.公司(N即erville，Illinois)。Prostab5198是4-羥基-2，2,6,6-四甲基-1-哌啶氮氧自由基(通常稱為4-羥基-TEMPO)的商品名，可得自CIBASpecialtyChemicals公司(Tarrytown，NewYork)。PerenolF-45是丙烯酸酯共聚物流平劑的商品名，其可得自Cognis公司(Dusseldorf,Germany)。Photomer6010是脂肪族聚氨酯丙烯酸酯低聚物的商品名，其可得自Cognis公司(Dusseldorf，Germany)。3-甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅垸可得自AlfaAesar公司(WardHill，MA)(貨物tt30505)，并且可直接使用。SR295是四丙烯酸季戊四醇酯的商品名，其可得自Sartomer公司(Exton，Pennsylvania)。SR351是三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)的商品名，可得自Sartomer公司(Exton，Pennsylvania)。SR399是五丙烯酸二季戊四醇酯(分子量為525克/摩爾)的商品名，它是得自Sartomer公司(Exton，Pennsylvania)的非氟化的多官能(甲基)丙烯酸酯單體。SR444C是季戊四醇三丙烯酸酯(PET3A)的商品名，它是得自Sartomer公司(Exton,Pennsylvania)的非氟化的多官能(甲基)丙烯酸酯單體。SR494是乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯和乙氧基化季戊四醇三丙烯酸酉旨的商品名，其可得自Sartomer公司(Exton，Pennsylvania)。Vazo52是2，2'_偶氮二(2，4-二甲基戊腈)的商品名，它是得自DuPont公司(Wilmington,Delaware)的自由基熱引發(fā)劑。Zr02溶膠(在水中，固體含量為40.8%)是根據(jù)提交于2005年3月14日的美國專利申請No.11/079832中所述的方法制備的，所述專利申請要求了提交于2005年3月11日的美國專利申請No.11/078468的優(yōu)先權。按照美國專利申請No.11/079832和11/078468中所述的光子相關光譜法(PCS)、X光衍射法和熱重分析法對所得的Zr02溶膠進行評價。實例中使用的Zr02溶膠具有下列范圍內(nèi)的特性<table>tableseeoriginaldocumentpage35</column></row><table>經(jīng)表面改性的氧化鋯納米顆粒配制物1在10加侖的反應器內(nèi)加入20.4磅lOmn氧化鋯納米顆粒的水分散體(水中的固體含量為40.8%)。在攪拌下向反應器內(nèi)添加12.9磅附加的水和33.3磅1-甲氧基-2-丙醇。在攪拌下向反應器內(nèi)緩慢加入2.5磅3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷。在攪拌下向反應器內(nèi)加入0.021磅5%的Prostab5198水溶液。將混合物在80°C下攪拌18小時。在真空狀態(tài)(24-40托)下將反應混合物加熱，并且蒸餾出1-甲氧基-2-丙醇/水共沸物，以基本上移除所有的水，同時再緩慢地添加70.5磅1-甲氧基-2-丙醇。向反應混合物內(nèi)添加0.4磅30%的氫氧化鉸，然后通過蒸餾出1-甲氧基-2-丙醇而將反應物濃縮至固體含量為59.2%。表面改性反應會產(chǎn)生在1-甲氧基-2-丙醇中的、含59.2%(按重量計)經(jīng)表面改性的氧化鋯(Zr02-SM)的混合物。用0.5微米過濾器將最終混合物進行過濾。經(jīng)表面改性的氧化鋯納米顆粒配制物2將Zr02溶膠(207.4g)裝入透析袋，并在3500g去離子水中透析6小時(所用Sigma診斷管的MWC0>1200)。將溶膠分離(固體含量為34.03%)，并用于硅烷處理。將透析后的Zr02溶膠(80g，固體含量為34.03%，Zr02含量為30.8%)裝入16盎司的廣口瓶中。在攪拌下加入80g水。在攪拌下將甲氧基丙醇(160g)和甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷(8.59g)加入500ml的燒杯中。然后在攪拌下將所得的甲氧基丙醇混合物加入Zr02溶膠中。將廣口瓶密封，并加熱到90°C，保持3小時15分鐘。加熱后，通過旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)將混合物蒸發(fā)至170g，并且得到白色漿液。將去離子水(258g)和濃縮的NH3(5.7g，29重量％)加入1升的燒杯中。在輕微攪拌下向所得物中加入上述濃縮的溶膠。通過真空過濾將固體物分離得到濕濾餅。將濕固體(82g)分散到甲氧基丙醇(200g)中。然后通過旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)將所得混合物濃縮(97g)。加入甲氧基丙醇(204g)，并通過旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)將所得混合物濃縮(85.5g)。加入甲氧基丙醇(205g)，并通過旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)將所得混合物濃縮。將最終產(chǎn)物(91.46g)分離成固體含量為27.4%。用1pm的過濾器將所得混合物過濾。用于低折射率配制物1的經(jīng)表面改性的二氧化硅納米顆粒將305克Nalco2327加入1升的反應燒瓶中。在攪拌下將486克1-甲氧基-2-丙醇加入反應器中。在攪拌下將19.38克3-甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷緩緩加入反應器中。在攪拌下將0.15克5%的Prostab5198水溶液加入反應器中。將所得混合物在90°C下攪拌18小時。將反應混合物在真空狀態(tài)下加熱，并且蒸餾出1-甲氧基-2-丙醇/水共沸物(如果有任何必要的話，再加入1-甲氧基-2-丙醇)，以便基本上除去所有的水。表面改性反應會產(chǎn)生在1-甲氧基-2-丙醇中的、含40%(按重量計)經(jīng)表面改性的二氧化硅(Silica20)的混合物。用于低折射率配制物2的經(jīng)表面改性的二氧化硅納米顆粒將15g2327(用銨穩(wěn)定的20nm膠態(tài)二氧化硅溶膠，其固體含量為41%，并且得自Nalco公司(Naperville，111.)放入200ml的玻璃廣口瓶中。在獨立的燒瓶內(nèi)制備10g的1-甲氧基-2-丙醇(Aldrich)溶液，其中含0.47g甲基丙烯酸3-(三甲氧基甲硅烷基)丙酯(Gelest公司，Tullytown，PA)。在攪拌二氧化硅溶膠的條件下將所得的甲基丙烯酸3-(三甲氧基甲硅烷基)丙酯溶液加入玻璃廣口瓶中。然后用額外的5ml溶劑清洗燒瓶，并加入攪拌條件下的溶液中。完全加入后，蓋上廣口瓶，并放于90°C的烘箱中約20小時。然后通過在室溫下將溶膠曝露在柔和的氣流中進行干燥。收集所得的白色粉末狀固體，并分散到50ml四氫呋喃(THF)溶劑中。將2.05gHMDS(過量)緩慢加入THF二氧化硅溶膠中，然后蓋上廣口瓶，并置于超聲波浴槽中約10小時。隨后用旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器除去有機溶劑，并將殘留的白色固體在IO(TC下加熱過夜，以進一步進行反應并除去揮發(fā)性物質(zhì)。含氟丙烯酸酯聚合物中間體1按照下列方法制備超支化共聚物。將17.01克C6DIACRY、8.51克CN4000、2.84克SR399、1.70克HFPO-TMPTA、241.02克乙酸乙酯、25.52克甲乙酮和預先溶解在甲乙酮中的3.40克Vazo52添加到反應容器中。優(yōu)選的是，首先將HFPO-TMPTA添加到CN4000中，然后再加入剩余試劑。在氮氣環(huán)境下將反應容器中的內(nèi)容物進行脫氣，然后在8(TC的密封瓶內(nèi)加熱約1到1.5小時。應特別小心，以避免分子量過大和反應內(nèi)容物發(fā)生凝膠化。對反應混合物內(nèi)的反應物的濃度、反應溫度和反應時間均加以選擇，以保證達到上述效果，當使用不同的反應物時，需要調(diào)整上述一個或多個參數(shù)。按照前述測試方法，用凝膠相色譜法/尺寸排阻色譜法分析所得到的含氟丙烯酸酯聚合物中間體溶液。圖4示出了所得到的色譜圖。氟化丙烯酸酯單體按下列方法制備含有氟化丙烯酸酯單體的單體混合物溶液。將39.79克C6DIACRY、13.14克CN4000、22.52克SR399、足以產(chǎn)生45.05克固體的經(jīng)表面改性的二氧化硅分散體(該二氧化硅分散體在除去共沸物后通常含有35-55%的固體)以及4.50克Darocur1173(光引發(fā)劑)分別單獨地溶解于甲乙酮中，以形成10重量％的溶液或分散體。然后，將前三種溶液按照所指定的順序混合在一起，使得單體在添加到二氧化硅納米顆粒中之前已充分混合，最后再添加Darocur1173。低折射率配制物1將1250克氟化丙烯酸酯單體組合物置于容器中，并且小心地加入300克固體濃度為10%的含氟丙烯酸酯聚合物中間體組合物，并且在添加過程中要充分攪拌，以避免二氧化硅聚集。在制備該低折射率配制物后一周內(nèi)將其進行涂布。低折射率配制物2<table>tableseeoriginaldocumentpage38</column></row><table>低折射率配制物3<table>tableseeoriginaldocumentpage38</column></row><table>高折射率配制物1通過稱量下列物質(zhì)并置于廣口瓶中來制備高折射率涂層溶液6.94gSR494(乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯)、5.60g在IPA中的10%的Darocur1173溶液和23.86gIPA。將樣品進行振搖，直到固體全部溶解為止。然后，向同一廣口瓶內(nèi)加入33.60g含有61%(Zr02-SM)和39%2-甲氧基-1-丙醇的經(jīng)表面改性的氧化鋯配制物1。對溶液進行攪拌，直到均勻為止。所得的溶液含有40%的在IPA和2-甲氧基-1-丙醇中的固體。高折射率配制物2通過將下列份數(shù)的固體溶于乙酸乙酯中來制備高折射率涂層溶液。對溶液進行攪拌，直到均勻為止。<table>tableseeoriginaldocumentpage39</column></row><table>高折射率配制物3通過稱量下列物質(zhì)并置于廣口瓶中來制備高折射率涂層溶液2.98gSR494(乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯)、0.24gDarocur1173和U.79gIPA。將樣品進行振搖，直到固體全部溶解為止。然后，將含有58.6%(Zr02-SM)和41.4%2-甲氧基-1-丙醇的15.0g經(jīng)表面改性的氧化鋯配制物1加入同一個廣口瓶中。將溶液攪拌至均勻為止。位于多層反射偏振薄膜上的高折射率涂層或抗反射涂層將反射偏振基底(除了厚度為94微米以外，其與從3M公司以商品名"VikuitiDBEFE"商購獲得的產(chǎn)品相同)切割成7英寸x10英寸的大小，并除去一片原始蒙片(印有3M徽標)，以露出用于涂敷的表面。將DBEF薄膜的兩端粘貼到玻璃板上，并用壓縮空氣吹掃，以除去樣品的碎屑。將繞線棒涂敷器(BYK-Gardner:AR4112)置于薄膜上。將少量(約lmL)高折射率涂層溶液經(jīng)針筒式過濾器(PALL:0.45yraGHPPN4560T)注射到DBEF薄膜表面上的繞線棒正前方的位置處。用繞線棒涂敷器立即將溶液沿薄膜長度方向均勻涂布。當大部分溶劑都蒸發(fā)后，從玻璃板上取下被涂敷的薄膜，并貼到鋁盤內(nèi)。將樣品保存在帶護罩的鋁盤內(nèi)，直到涂布完所有其它溶液為止。將樣品放入烘箱，在IO(TC下干燥2分鐘。在氮氣環(huán)境下用紫外燈(FusionUVSystems公司MC6RQN)以30英尺/分鐘(fpm)的速度使烘干的涂層發(fā)生聚合反應，聚合條件是使用H燈(FusionUV:525632H)照射樣品一次。涂層樣品所接收的UV輸出功率的測量結果(EIT公司UVPowerPuck,S/N2001)如下:<table>tableseeoriginaldocumentpage39</column></row><table>按照上述的相同方式制備另外的樣品，不同的是在DBEF薄膜的反面(背面)也涂敷厚度相同的同種高折射率組合物(即，去掉第二片原始蒙片后進行涂敷)。這會得到兩面都涂有高折射率層的陽EF薄膜。高折射率硬涂層的平均厚度為4微米。經(jīng)估算得到的估計折射率(估計RI)為1.62。該估計值是基于由各組分的體積百分比和折射率所計算出的折射率而得出的。用來計算固化薄膜折射率的公式如下涂層RI=2:[RIx體積分數(shù)]根據(jù)各組分的體積百分比和折射率所算出的折射率為1.62。對于采用抗反射涂層的實例來說，首先應按照上述方式涂敷并固化高折射率涂層。然后，用MEK將所指定的低折射率涂層(即1或2)稀釋至固體含量為3.5%,以將其用于涂敷。將涂有高折射率涂層的DBEF的兩端粘貼到玻璃板上，并用壓縮空氣噴掃，以除去樣品的碎屑。將繞線棒涂敷器(BYK-Gardner:AR4104)置于薄膜上。將少量(約0.5mL)低折射率涂層溶液吸移至HIHC表面上的繞線棒正前方的位置處。用繞線棒涂敷器立即將溶液沿薄膜長度方向均勻涂布。當溶劑蒸發(fā)后，從玻璃板上取下涂層，并貼到鋁盤內(nèi)。將涂層保存在帶護罩的鋁盤內(nèi)，直到涂布完所有其它溶液為止。將涂層放入烘箱，在IO(TC下干燥1分鐘。在氮氣環(huán)境下用紫外燈(FusionUVSystems公司MC6RQN)以30英尺/分鐘的速度使烘干的涂層發(fā)生聚合反應，聚合條件是使用H燈(FusionUV:525632H)照射樣品兩次(UV輸出功率數(shù)據(jù)如上所提供)。低折射率層的平均厚度為95微米。按照上述相同方式，使用兩側均有高折射率層的DBEF樣品制備雙面AR樣品。按照上述的相同方式在該雙面DBEF樣品上涂敷低折射率配制物1。這會產(chǎn)生在兩側都涂有抗反射薄膜的DBEF薄膜，所述的抗反射薄膜具有高折射率層和與該高折射率層相連的低折射率層。位于具有含珠層的多層反射偏振薄膜(增益擴散片DBEF)上的抗反射涂層提供已除去原始蒙片層的反射偏振基底(除了厚度為94微米之外，其與可從3M公司以商品名"VikuitiDBEFE"商購獲得的產(chǎn)品相同)。<table>tableseeoriginaldocumentpage41</column></row><table>使用狹縫型模具注射泵將上述含珠層混合物涂布到基底上。涂層寬度為4英寸，并且以15fpm的速度推進基底料片。通過控制由注射泵排出的材料的量(以流速表示)來控制涂層的重量。通過直接測量來確定涂層的重量。將具有含珠層的樣品的重量與同樣尺寸的同一批基底的重量進行比較。涂層的重量為19.lg/m2。將含有小珠的DBEF薄膜的兩端粘貼到玻璃板上，并使含小珠的一面朝向玻璃板，同時用壓縮空氣吹掃，以除去樣品的碎屑。將繞線棒涂敷器(BYK-Gardner:AR4112)置于薄膜上。將少量(約lmL)高折射率涂層溶液經(jīng)針筒式過濾器(PALL:0.45nmGHPPN4560T)注射到DBEF薄膜表面上的繞線棒正前方的位置處。用繞線棒涂敷器立即將溶液沿薄膜長度方向均勻涂布。當大部分溶劑都蒸發(fā)后，從玻璃板上取下被涂敷的薄膜，并貼到鋁盤內(nèi)。將樣品保存在帶護罩的鋁盤內(nèi)，直到涂布完所有其它溶液為止。將樣品放入烘箱，在IO(TC下干燥2分鐘。在氮氣環(huán)境下用紫外燈(FusionUVSystems公司.'MC6RQN)以30英尺/分鐘(fpm)的速度使烘干的涂層發(fā)生聚合反應，聚合條件是使用H燈(FusionUV:525632H)照射樣品一次。涂層樣品所接收的UV輸出功率的測量結果(EIT公司UVPowerPuck,S/N2001)如下<table>tableseeoriginaldocumentpage42</column></row><table>高折射率硬涂層的平均厚度為4微米。經(jīng)估算得到的估計折射率(估計RI)為1.62。用MEK將低折射率涂層配制物3稀釋至固體含量為5.0%，以將其用于涂敷。將涂有高折射率層的DBEF的兩端粘貼到玻璃板上，并使高折射率表面外露，同時用壓縮空氣吹掃，以除掉樣品的碎屑。將繞線棒涂敷器(BYK-Gardner:AR4104)置于薄膜上。將少量(約0.5mL)低折射率涂層溶液吸移至HIHC表面的繞線棒正前方的位置處。用繞線棒涂敷器立即將溶液沿薄膜長度方向均勻涂布。當溶劑蒸發(fā)后，從玻璃板上取下涂層，并貼到鋁盤內(nèi)。將涂層保存在帶護罩的鋁盤內(nèi)，直到涂布完所有其它溶液為止。將涂層放入烘箱內(nèi)，在IO(TC下干燥1分鐘。在氮氣環(huán)境下用紫外燈(FusionUVSystems公司MC6RQN)以30英尺/分鐘的速度使烘干的涂層發(fā)生聚合反應，聚合條件是使用H燈(FusionUV:525632H)照射樣品兩次(UV輸出功率的數(shù)據(jù)如上所提供)。低折射率層的平均厚度為95微米。對每個AR涂層進行增益測試和使用400g砝碼的鋼絲棉耐久性測試，并且測試結果如下。<table>tableseeoriginaldocumentpage42</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage43</column></row><table>預計厚度為132微米的"VikuitiDBEFE"會產(chǎn)生基本相同的結果。當將AR涂層1、2或3設置在增亮薄膜上后，預計其會產(chǎn)生基本相同的耐久性測試結果。對涂有含低折射率配制物1的抗反射薄膜的反射偏振薄膜進行透射率測試。結果顯示透射率有所增加，并且該結果如下所示說明<table>tableseeoriginaldocumentpage43</column></row><table>權利要求1.一種光學薄膜，其包括反射偏振光學薄膜，該反射偏振光學薄膜包括抗反射薄膜，所述抗反射薄膜包括連接到所述反射偏振光學薄膜上的高折射率層和連接到所述高折射率層上的低折射率表面層，其中所述反射偏振薄膜的增益增加值為至少0.01。2.根據(jù)權利要求1所述的光學薄膜，其中根據(jù)在使用400g砝碼的條件下的鋼絲棉耐久性測試，所述低折射率表面層在經(jīng)過10次刮擦后所顯示的劃痕少于10道。3.根據(jù)權利要求1所述的光學薄膜，其中所述低折射率表面層包含可聚合組合物的反應產(chǎn)物，所述可聚合組合物包含.-至少一種氟化自由基聚合型材料，以及經(jīng)表面改性的無機納米顆粒。4.根據(jù)權利要求3所述的光學薄膜，其中所述氟化自由基聚合型材料的氟含量為至少25重量％。5.根據(jù)權利要求4所述的光學薄膜，其中所述氟化自由基聚合型材料是多官能的。6.根據(jù)權利要求5所述的光學薄膜，其中所述氟化自由基聚合型材料包含自由基聚合型含氟聚合物。7.根據(jù)權利要求3所述的光學薄膜，其中所述低折射率層包含至少一種非氟化的交聯(lián)劑，所述非氟化的交聯(lián)劑帶有至少三個自由基聚合8、根據(jù)權利要求3所述的光學薄膜，其中所述低折射率表面層包含下列物質(zhì)的反應產(chǎn)物A)自由基聚合型氟化聚合物中間體，其包含下列物質(zhì)的反應產(chǎn)物i)至少一種氟含量為至少25重量％的多官能自由基聚合型材料，以及ii)可任選的至少一種氟含量在0到低于25重量％之間的多官能自由基聚合型材料，其中，所述多官能材料的總量至少約為所述可聚合有機組合物的固體重量百分含量的25重量％;以及B)至少一種氟化自由基聚合型材料。9.根據(jù)權利要求1所述的光學薄膜，其中所述高折射率層的厚度為至少2微米。10.根據(jù)權利要求3所述的光學薄膜，其中所述低折射率表面層包含可聚合組合物的反應產(chǎn)物，所述可聚合組合物包含至少一種自由基聚合型含氟聚合物，至少一種氨基有機硅烷酯偶聯(lián)劑或其縮合產(chǎn)物，以及至少一種帶有至少三個自由基聚合型基團的非氟化交聯(lián)劑。11.根據(jù)權利要求1所述的光學薄膜，其中所述高折射率層包含分散在交聯(lián)的有機基質(zhì)中的經(jīng)表面改性的無機顆粒，所述經(jīng)表面改性的無機顆粒的折射率為至少1.60。12.根據(jù)權利要求1所述的光學薄膜，其中所述反射偏振光學薄膜為多層薄膜。13.根據(jù)權利要求1所述的光學薄膜，其中所述反射偏振光學薄膜包括兩個主表面，并且所述抗反射薄膜被設置在一個主表面上。14.根據(jù)權利要求1所述的光學薄膜，其中所述反射偏振光學薄膜包括兩個主表面，并且所述抗反射薄膜被設置在這兩個主表面上。15.根據(jù)權利要求14所述的光學薄膜，其中所述增益增加值為至少0.02。16.根據(jù)權利要求1所述的光學薄膜，其還包括鄰近所述反射偏振光學薄膜的微結構化光學薄膜。17.根據(jù)權利要求16所述的光學薄膜，其中所述微結構化的光學薄膜包括由線性棱柱組成的重復圖案。18.根據(jù)權利要求16所述的光學薄膜，其中所述棱柱被設置在基底上。19.根據(jù)權利要求18所述的光學薄膜，其中所述基底還包括抗反射薄膜層，該抗反射薄膜層位于所述基底的與所述棱柱相對的表面上。20.根據(jù)權利要求1所述的光學薄膜，其中所述抗反射薄膜是多層抗反射薄膜，所述多層抗反射薄膜包括由高折射率層和低折射率層構成的兩個或更多個交替的層。21.—種光學薄膜，其包括-增亮光學薄膜，該增亮光學膜具有基底，所述基底在其表面上具有由線性棱柱組成的重復圖案，并且所述基底的與上述表面相對的表面具有抗反射薄膜表面層，根據(jù)在使用400g砝碼的條件下的鋼絲棉耐久性測試，該抗反射薄膜表面層在經(jīng)過10次刮擦后所顯示的劃痕少于10道。22.—種光學薄膜，其包括-反射偏振光學薄膜，所述反射偏振光學薄膜具有連接到所述反射偏振光學薄膜上的高折射率硬涂層，其中根據(jù)在使用400g砝碼的條件下的鋼絲棉耐久性測試，所述高折射率表面層在經(jīng)過10次刮擦后所顯示的劃痕少于10道。23.根據(jù)權利要求22所述的光學薄膜，其中所述高折射率層包含分散在交聯(lián)的有機基質(zhì)內(nèi)的經(jīng)表面改性的無機顆粒，所述經(jīng)表面改性的無機顆粒的折射率為至少1.60。24.根據(jù)權利要求22所述的光學薄膜，其中所述的經(jīng)表面改性的無機顆粒包含5體積％到約40體積％的氧化鋯。25.根據(jù)權利要求22所述的光學薄膜，其中所述高折射率硬涂層是由可聚合組合物的反應產(chǎn)物形成的，所述可聚合組合物包含帶有至少三個(甲基)丙烯酸酯基團的非氟化交聯(lián)劑。26.根據(jù)權利要求22所述的光學薄膜，其中所述反射偏振光學薄膜是多層薄膜。27.根據(jù)權利要求22所述的光學薄膜，其中所述反射偏振光學薄膜包括兩個主表面，并且所述高折射率硬涂層被設置在所述反射偏振光學薄膜的這兩個主表面上。28.根據(jù)權利要求22所述的光學薄膜，其還包括鄰近所述反射偏振光學薄膜的微結構化光學薄膜。29.根據(jù)權利要求28所述的光學薄膜，其中所述微結構化光學薄膜包括由線性棱柱組成的重復圖案。30.根據(jù)權利要求28所述的光學薄膜，其中所述棱柱被設置在基底上。31.根據(jù)權利要求30所述的光學薄膜，其中所述基底還具有高折射率硬涂層，該高折射率硬涂層位于所述基底的與所述棱柱相對的表面上。32.根據(jù)權利要求22-31所述的光學薄膜，其中所述反射偏振光學薄膜和具有所述高折射率硬涂層的所述反射偏振薄膜提供基本上相同的增益。33.根據(jù)權利要求1或21所述的光學薄膜，其中所述抗反射薄膜使透射率增加。34.根據(jù)權利要求1或21所述的光學薄膜，其中所述高折射率層和所述低折射率表面層包含輻射固化的有機材料，該有機材料含有經(jīng)表面改性的無機納米顆粒。35.—種光學薄膜，其包括反射偏振光學薄膜，所述反射偏振光學薄膜包括兩個主表面，其中在所述第一主表面上設置抗反射薄膜，并且在所述第二主表面上設置增益擴散片。36.根據(jù)權利要求35所述的光學薄膜，其中所述反射偏振光學膜的增益增加值為至少0.01。37.根據(jù)權利要求35所述的光學薄膜，其中所述增益擴散片包含位于粘結劑基質(zhì)內(nèi)的小珠。38.—種光學薄膜，其包括反射偏振光學薄膜，所述反射偏振光學薄膜包括兩個主表面，其中在所述第一主表面上設置高折射率硬涂層，并且在所述第二主表面上設置增益擴散片。39.根據(jù)權利要求38所述的光學薄膜，其中根據(jù)在使用400g砝碼的條件下的鋼絲棉耐久性測試，所述高折射率層在經(jīng)過10次刮擦后所顯示的劃痕少于10道。全文摘要本發(fā)明提供包括高折射率涂層和/或抗反射涂層的反射偏振薄膜和增亮薄膜。文檔編號G02B5/26GK101361011SQ200680049874公開日2009年2月4日申請日期2006年11月3日優(yōu)先權日2005年11月5日發(fā)明者克里斯托弗·B·小沃克,劉蘭虹,布蘭特·U·科爾布,戴維·B·奧爾森,托馬斯·P·克倫,理查德·J·波科爾尼,羅格·A·馬德,馬克·B·奧尼爾,馬克·D·拉德克利夫申請人:3M創(chuàng)新有限公司