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制作具有光散射效果的彩色濾光層的方法

文檔序號(hào):2727141閱讀:183來源:國知局
專利名稱:制作具有光散射效果的彩色濾光層的方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明關(guān)于一種制作彩色濾光層的方法,尤指-一種制作具有粗糙 表面以提供光散射效果的彩色濾光層的方法。
背景技術(shù)
液晶顯示面板已被廣泛地運(yùn)用在許多電子裝置的顯示器上,例如手提式計(jì)算機(jī)、PDA、手機(jī)與平面電視等。而液晶顯示面板可簡單區(qū) 分為兩類, 一種是穿透式,另一種是反射式。前者利用背光源作為光 源,后者利用環(huán)境光作為光源。但對于穿透式液晶顯示器來說,因?yàn)?其背光源需要電力供應(yīng),所以要降低其電力消耗量并不容易,但對于 反射式液晶顯示器來說,在光亮的環(huán)境下反而有利于節(jié)省能源,但不 幸的是在沒有光線時(shí)它是無法顯示的。為了克服上述兩種液晶顯示器的缺點(diǎn),已經(jīng)研發(fā)出一種半穿透式 液晶顯示器,該半穿透式液晶顯示器在穿透模式或在反射模式都可以 顯示出畫面。在光亮的環(huán)境下,關(guān)掉背光源,則半穿透式液晶顯示器 的電力消耗量會(huì)比穿透式液晶顯示器低。相反地,在沒有光線的環(huán)境 下,打開背光源,半穿透式液晶顯示器的畫面質(zhì)量會(huì)比反射式液晶顯 示器好。請參考圖1,圖1為公知半穿透式液晶顯示面板的剖面圖。如圖 1所示,公知半穿透式液晶顯示面板10包含下部基板20(也可稱為陣 列基板)、上部基板30(也可稱為彩色濾光片基板)與設(shè)置在下部基版 20與上部基板30之間的液晶分子層40。而半穿透式液晶顯示面板 10另包含多個(gè)像素區(qū)22,并且各像素區(qū)22可區(qū)分為反射區(qū)221與穿 透區(qū)222。上部基板30包含多個(gè)彩色濾光片32,對應(yīng)于像素區(qū)22 設(shè)置;以及黑色矩陣34,設(shè)置在彩色濾光片32之間。下部基板20另包含多個(gè)反射電極24,設(shè)置在反射區(qū)221內(nèi);以及多個(gè)穿透電極28,設(shè)置在穿透區(qū)222內(nèi)。其中在反射區(qū)221內(nèi) 的各反射電極24設(shè)置在具有粗糙表面的凸塊結(jié)構(gòu)(bump stmcture)26 上,并且因凸塊結(jié)構(gòu)26而具有粗糙表面,并且粗糙表面可使入射的 環(huán)境光具有光散射效果。然而,公知半穿透式液晶顯示面板IO仍具有一些缺點(diǎn)。首先, 彩色濾光片32設(shè)置在上部基板30之上,因此無法精確地對應(yīng)排列至 下部基板20的像素區(qū)22內(nèi),造成公知半穿透式液晶顯示面板10的 開口率下降。其次,凸塊結(jié)構(gòu)26的功能之一是使反射電極24具有粗 糙表面,然而,要產(chǎn)生具有粗糙表面的凸塊結(jié)構(gòu)26至少需要兩個(gè)形 成步驟,其中一個(gè)步驟是在各反射區(qū)221內(nèi)產(chǎn)生凸塊結(jié)構(gòu)26,另一 步驟是形成粗糙表面,因此制造成本相對提高。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的之一在于提供一種利用單一工藝以制作具有粗糙 表面的彩色濾光層的方法。為達(dá)上述目的,本發(fā)明的實(shí)施例提供一種制作彩色濾光層的方 法。首先,提供基板,并且在該基板上涂布彩色濾光層。然后,圖案 化該彩色濾光層。接著,進(jìn)行后烘烤工藝,使得該彩色濾光層形成粗 糙表面,其中該彩色濾光層具有的表面粗糙度指數(shù)介于0.5到2.0微 米之間。為達(dá)上述目的,本發(fā)明的另一實(shí)施例提供一種制作彩色濾光層的 方法。首先,提供基板,并且在該基板上涂布彩色濾光層。然后,圖 案化該彩色濾光層,且該彩色濾光層的表面附近具有較低的交鏈密 度。接著,進(jìn)行后烘烤工藝,使得該彩色濾光層形成粗糙表面。為達(dá)上述目的,本發(fā)明的另一實(shí)施例提供-一種制作彩色濾光層的 方法。首先,提供基板,并且在該基板上涂布彩色濾光層,且該彩色 濾光層包含表面感光起始劑,且該表面感光起始劑具有低感光度。然 后,圖案化該彩色濾光層,且該彩色濾光層在其表面附近具有較低的 交鏈密度。接著,進(jìn)行后烘烤工藝,將該彩色濾光層烘烤后使得該彩色濾光層形成粗糙表面。為達(dá)上述目的,本發(fā)明的另一實(shí)施例提供一種制作彩色濾光層的 方法。首先,提供基板,并且在該基板上涂布彩色濾光層。然后,在 該彩色濾光層上形成粗糙表面。


圖1是公知半穿透式液晶顯示面板的剖面圖;圖2到圖4是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的一種制作具有光散射效果的 彩色濾光層的方法示意圖;圖5是半穿透式液晶顯示面板結(jié)合圖4所示的彩色濾光層的示意圖。
具體實(shí)施方式
請參考圖2到圖4。圖2到圖4是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的一種制 作具有光散射效果的彩色濾光層的方法示意圖。請注意本實(shí)施例的彩 色濾光層是并入半穿透式液晶顯示面板的陣列基板上的彩色濾光層, 但本發(fā)明的方法并未局限于此。而上述彩色濾光層可以應(yīng)用在任何種 類的顯示面板,如圖2所示,提供半穿透式液晶顯示面板的陣列基板 50,陣列基板50包含多個(gè)像素區(qū)52,并且各像素區(qū)52可區(qū)分為反 射區(qū)521與穿透區(qū)522。 一般來說,液晶分子層(圖2未示出)在反射 區(qū)521的厚度較穿透區(qū)522的厚度薄。各像素區(qū)52另包含薄膜晶體 管(圖未示出);反射電極54,設(shè)置在反射區(qū)521內(nèi);以及穿透電極 56,設(shè)置在穿透區(qū)522內(nèi)。然后,在陣列基板50上涂布彩色濾光層 58,例如旋轉(zhuǎn)涂布法(spin coating),并且進(jìn)行預(yù)烤工藝(pre-bake process)以烘烤彩色濾光層58。預(yù)烤工藝的目的是將彩色濾光層58 的多余溶劑與水分預(yù)先排除以增加彩色濾光層58與陣列基板50間的 黏著力。如圖3所示,本實(shí)施例利用掩模板進(jìn)行曝光與顯影工藝 (exposure-and-development process)以圖案化彩色濾光層58。彩色濾光 層58包含顏料(pigments),用來過濾其它顏色的入射光,例如假如要形成紅色彩色濾光層,則可以加入紅色顏料,而針對其它顏色濾光 層(如綠色或藍(lán)色彩色濾光片),可以加入綠色顏料或藍(lán)色顏料。彩色濾光層58另包含樹脂(resin)、分散劑(dispersants)、單體(monomers)、 起始劑(initiators)、溶劑以及其它添加物。起始劑的功能是在曝露于 特定波長的光線(例如紫外光)下用于起始單體的聚合作用。因此, 己曝光的單體將在彼此間形成交鏈,并且轉(zhuǎn)變?yōu)閳?jiān)硬,而未曝光的彩 色濾光層58則將在顯影時(shí)被溶解并移除。 一般來說,起始劑可分為 縱向感光起始劑(through cure initiators,例如MMMP)與表面感光起 始劑(surface cure initiators,例如HCPK)。當(dāng)表面感光起始劑在彩色 濾光層58的表面附近開始起始聚合作用時(shí),縱向感光起始劑為負(fù)責(zé) 縱軸(垂直)方向的起始聚合作用。在本實(shí)施例中,表面感光起始劑具 有低感光度會(huì)使得彩色濾光層58表面附近的交鏈不足,可通過像選 擇低感光度表面起始劑的方式或使用較一般劑量少的微量表面感光 起始劑的方式來降低表面感光起始劑的感光度。表面感光起始劑的低 感光度會(huì)造成彩色濾光層58的上層部分在顯影時(shí)具有低交鏈密度, 并且使得彩色濾光層58在曝光與顯影工藝之后上層部分較其它部分 潮濕與寬松。如圖4所示,進(jìn)行后烘烤工藝以排除彩色濾光層58的多余溶劑 與水分。請注意彩色濾光層58會(huì)因交鏈不足而在加熱時(shí)收縮,以致 于彩色濾光層58的表面將在后烘烤工藝后變?yōu)榇植?。在?yōu)選實(shí)施例 中,表面感光起始劑與縱向感光起始劑在進(jìn)行曝光與顯影工藝之前在 彩色濾光層58中的重量比值約略介于0.2到0.6之間,而在彩色濾光層的后烘烤工藝之后,表面感光起始劑與縱向感光起始劑的重量比值 約略介于0.22到0.58的范圍內(nèi)。請參考圖5。圖5是半穿透式液晶顯示面板結(jié)合圖4所示的彩色 濾光層的示意圖。如圖5所示,連結(jié)陣列基板50與透明基板70,并 且在其中設(shè)置液晶分子層80。在反射區(qū)521中的環(huán)境光是通過反射 電極54反射與彩色濾光層58的粗糙表面散射,而背光源則是經(jīng)過穿 透區(qū)56、彩色濾光層58、液晶分子層80以及透明基板70,其中當(dāng) 背光源的光線經(jīng)過彩色濾光層58的粗糙表面時(shí)也會(huì)散射。在本實(shí)施例中,彩色濾光層58具有表面粗糙指數(shù)(surface roughness index Rz, 十點(diǎn)平均粗糙度),其介于0.5至U2.0微米Otm)之間。光學(xué)散射特性在 表面粗糙指數(shù)處于該范圍內(nèi)的情況會(huì)是最優(yōu)的。因此,彩色濾光層 58的粗糙表面在反射區(qū)521與穿透區(qū)522內(nèi)都可具有光散射效果。可見本發(fā)明的方法只需單一曝光與顯影工藝在對應(yīng)的陣列基板 的像素區(qū)內(nèi)形成特定顏色的彩色濾光片,并且也在同一曝光與顯影工 藝內(nèi)形成可散射光線的粗糙表面。然而本發(fā)明的方法并未局限于利用 曝光與顯影工藝形成半穿透式液晶顯示面板的彩色濾光層,而任何可 形成彩色濾光層的方法也可并且任何顯示面板的任何需要光散射功 能的彩色濾光層結(jié)構(gòu)也可應(yīng)用。綜上所述,利用本發(fā)明的方法所形成的彩色濾光層可提供彩色濾 光與光散射的效果,并且可由單一工藝形成彩色濾光層,所以制造成 本可因此而降低。以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例,凡依本發(fā)明權(quán)利要求所做的 均等變化與改進(jìn),都應(yīng)屬本發(fā)明的涵蓋范圍。
權(quán)利要求
1. 一種制作彩色濾光層的方法,其包含提供基板;在該基板上涂布彩色濾光層;圖案化該彩色濾光層;以及進(jìn)行后烘烤工藝,使得該彩色濾光層形成粗糙表面,其中該彩色濾光層具有的表面粗糙度指數(shù)介于0.5到2.0微米之間。
2、 如權(quán)利要求1所述的方法,其中該彩色濾光層包含縱向感光 起始劑與表面感光起始劑。
3、 如權(quán)利要求2所述的方法,其中該表面感光起始劑包含低感 光度的表面感光起始劑。
4、 如權(quán)利要求2所述的方法,其中在圖案化該彩色濾光層之前, 該表面感光起始劑與該縱向感光起始劑的重量比值約略介于0.2到 0.6之間。
5、 如權(quán)利要求2所述的方法,其中在該后烘烤工藝之后,該表 面感光起始劑與該縱向感光起始劑的重量比值約略介于0.22到0.58 的范圍內(nèi)。
6、 如權(quán)利要求1所述的方法,還包含預(yù)烘烤工藝,以烘烤該彩 色濾光層。
7、 一種制作彩色濾光層的方法,其包含 提供基板;在該基板上涂布彩色濾光層;圖案化該彩色濾光層,且該彩色濾光層的表面附近具有較低的交鏈密度;以及進(jìn)行后烘烤工藝,使得該彩色濾光層形成粗糙表面。
8、 如權(quán)利要求7所述的方法,其中該彩色濾光層包含縱向感光 起始劑與表面感光起始劑。
9、 如權(quán)利要求8所述的方法,其中在該粗糙表面附近,具有微 量的該表面感光起始劑。
10、 如權(quán)利要求8所述的方法,其中在圖案化該彩色濾光層之前, 該表面感光起始劑與該縱向感光起始劑的重量比值約略介于0.2到 0.6之間。
11、如權(quán)利要求8所述的方法,其中該表面感光起始劑包含低感 光度的表面感光起始劑。
12、 如權(quán)利要求11所述的方法,其中該低感光度的表面感光起 始劑位于該粗糙表面附近。
13、 如權(quán)利要求7所述的方法,還包含預(yù)烘烤工藝,以烘烤該彩 色濾光層。
14、 一種制作彩色濾光層的方法,其包含 提供基板;在該基板上涂布彩色濾光層,且該彩色濾光層包含表面感光起始 劑,該表面感光起始劑具有低感光度;圖案化該彩色濾光層,且該彩色濾光層在其表面附近具有較低的 交鏈密度;以及進(jìn)行后烘烤工藝,將該彩色濾光層烘烤后使得該彩色濾光層形成 粗糙表面。
15、 如權(quán)利要求14所述的方法,其中該低感光度的表面感光起 始劑為微量的表面感光起始劑。
16、 如權(quán)利要求14所述的方法,其中該彩色濾光層還包含縱向感光起始劑。
17、 如權(quán)利要求16所述的方法,其中在圖案化該彩色濾光層之 前,該表面感光起始劑與該縱向感光起始劑的重量比值約略介于0.2 到0.6之間。
18、 如權(quán)利要求16所述的方法,其中在該后烘烤工藝后,該表 面感光起始劑與該縱向感光起始劑的重量比值約略介于0.22到0.58 的范圍內(nèi)。
19、 如權(quán)利要求14所述的方法,還包含預(yù)烘烤工藝,以烘烤該 彩色濾光層。
20、 一種制作彩色濾光層的方法,其包含 提供基板;在該基板上涂布彩色濾光層;以及 在該彩色濾光層上形成粗糙表面。
21、 如權(quán)利要求20所述的方法,其中該粗糙表面的表面粗糙度 指數(shù)介于0.5到2.0微米之間。
22、 如權(quán)利要求20所述的方法,其中該彩色濾光層的表面附近, 具有較低的交鏈密度。
23、 如權(quán)利要求20所述的方法,其中該彩色濾光層包含表面感光起始劑。
24、如權(quán)利要求23所述的方法,其中該表面感光起始劑具有低感光度。
全文摘要
一種彩色濾光層的方法。首先,提供基板,并且在基板上涂布彩色濾光層。然后,圖案化彩色濾光層。接著,進(jìn)行后烘烤工藝,使得彩色濾光層形成粗糙表面,其中彩色濾光層具有的表面粗糙度指數(shù)(Rz)介于0.5到2.0微米(μm)之間。
文檔編號(hào)G02F1/1335GK101226299SQ20071000208
公開日2008年7月23日 申請日期2007年1月18日 優(yōu)先權(quán)日2007年1月18日
發(fā)明者方斯郁, 游家華, 簡廷憲 申請人:瀚宇彩晶股份有限公司
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