專(zhuān)利名稱(chēng)：光掩模的缺陷檢查方法以及光掩模的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于適用于例如制造液晶顯示裝置(Liquid CrystalDisplay下面稱(chēng)為L(zhǎng)CD)的薄膜晶體管(Thin Film Transistor下面稱(chēng)為T(mén)FT)等的生產(chǎn)的光掩模、以及檢查該光掩模中的圖案的缺陷的光掩模的缺陷檢查方法。
背景技術(shù)：
LCD與CRT(陰極射線管)相比，具有容易制作得較薄、耗電量低的優(yōu)點(diǎn)，所以現(xiàn)在正在急速地商品化。如圖6所示的光掩模100用于制造所述LCD。該光掩模100具有具備重復(fù)了相同的像素圖案的重復(fù)圖案的像素圖案區(qū)域109，和設(shè)置在該像素圖案區(qū)域109的周邊、沒(méi)有重復(fù)圖案的周邊圖案區(qū)域110A、110B、110C、110D。該周邊圖案區(qū)域110A、110B、110C、110D是布線圖案區(qū)域和測(cè)試圖案區(qū)域等。
所述圖案區(qū)域109、110A～110D中，在構(gòu)成圖案的遮光部103、透光部104等中會(huì)產(chǎn)生氣孔等脫落缺陷(白缺陷)、和點(diǎn)等多余缺陷(黑缺陷)，需要對(duì)該圖案缺陷進(jìn)行檢查。在像素圖案區(qū)域109，由于重復(fù)著相同圖案，所以如特開(kāi)2002-174602號(hào)公報(bào)所述，利用比較來(lái)自實(shí)際的圖案的透過(guò)量信號(hào)的模對(duì)模(Die to Die)的檢查方式(DD檢查方式)，檢查圖案的缺陷。與此相對(duì)，在具有由遮光部103和透光部104構(gòu)成的圖案、且其為非重復(fù)圖案的周邊圖案區(qū)域110D中，不能實(shí)施所述DD檢查方式，所以采用比較來(lái)自周邊圖案區(qū)域110D的透過(guò)量信號(hào)和該周邊圖案區(qū)域110D的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的模對(duì)數(shù)據(jù)庫(kù)(Dieto Data base)的檢查方式(DDB檢查方式)。
另外，關(guān)于周邊圖案區(qū)域110A、110B、110C，其具有遮光部103和透光部104、以及降低曝光光的透過(guò)量的由半透光膜構(gòu)成的灰色調(diào)部105構(gòu)成圖案，所以把該灰色調(diào)部105視為遮光部(黑)或者透光部(白)，實(shí)施根據(jù)所述DDB檢查方式的檢查。即，當(dāng)灰色調(diào)部105的光透過(guò)率較高時(shí)，如圖7(A)所示，把灰色調(diào)部105看作透光部104，利用DDB檢查方式檢查圖案的缺陷。另外，當(dāng)灰色調(diào)部105的光透過(guò)率較低時(shí)，如圖7(B)所示，把灰色調(diào)部105看作遮光部103，利用DDB檢查方式檢查圖案的缺陷。
但是，DDB檢查方式與DD檢查方式相比，檢查精度較低，檢查需要較長(zhǎng)的時(shí)間。
另外，在檢查具備灰色調(diào)部105的周邊圖案區(qū)域110A、110B、110C的圖案缺陷的情況下，把灰色調(diào)部105看作透光部104時(shí)(圖7(A))，不能檢查灰色調(diào)部105中的白缺陷、和在遮光部103上附著了形成灰色調(diào)部105用的半透光膜的缺陷等。另外，把灰色調(diào)部105看作遮光部103時(shí)(圖7(B))，不能檢查灰色調(diào)部105中的黑缺陷，進(jìn)而，在半透光膜上層疊遮光膜、形成有遮光部103的情況下，所述遮光膜上即便產(chǎn)生白缺陷也不能檢查該白缺陷。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是考慮了上述情況而進(jìn)行的，其目的在于提供可以以高精度且在短時(shí)間內(nèi)檢查光掩模中的圖案的缺陷的光掩模的缺陷檢查方法以及光掩模。
關(guān)于本發(fā)明第1方面的光掩模的缺陷檢查方法，是檢查具有具備重復(fù)了相同圖案的重復(fù)圖案的像素圖案區(qū)域、和設(shè)在該像素圖案區(qū)域的周邊、沒(méi)有重復(fù)圖案的周邊圖案區(qū)域的光掩模中所述圖案的缺陷的光掩模的缺陷檢查方法，其特征在于，在所述光掩模中，在不存在所述像素圖案區(qū)域以及所述周邊圖案區(qū)域的空白空間上，設(shè)置排列有與所述周邊圖案區(qū)域的圖案相同的圖案的檢查用圖案區(qū)域，通過(guò)比較這些周邊圖案區(qū)域和檢查用圖案區(qū)域，檢查該周邊圖案區(qū)域中圖案的缺陷。
關(guān)于本發(fā)明第2方面的光掩模的缺陷檢查方法，其特征在于，在本發(fā)明第1方面所述的方法中，通過(guò)將所述檢查用圖案區(qū)域與所述周邊圖案區(qū)域的間隔設(shè)定為規(guī)定的距離以上，使由檢查裝置的光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行的比較檢查成為可能。
關(guān)于本發(fā)明第3方面的光掩模的缺陷檢查方法，其特征在于，在本發(fā)明第1方面所述的方法中，所述檢查用圖案區(qū)域，設(shè)置在夾持所述像素圖案區(qū)域、與所述周邊圖案區(qū)域相反位置上。
關(guān)于本發(fā)明第4方面的光掩模的缺陷檢查方法，其特征在于，在在本發(fā)明第1方面所述的方法中，所述光掩模中，僅對(duì)于多個(gè)設(shè)置在所述像素圖案區(qū)域的周邊的周邊圖案區(qū)域中、規(guī)定的被選定的周邊圖案區(qū)域設(shè)置對(duì)應(yīng)的檢查用圖案區(qū)域，比較所述規(guī)定的被選定的周邊圖案區(qū)域和所述檢查用圖案區(qū)域，檢查該周邊圖案區(qū)域中圖案的缺陷。
關(guān)于本發(fā)明第5方面的光掩模的缺陷檢查方法，其特征在于，在本發(fā)明第1至第4方面中的任一項(xiàng)所述的方法中，所述周邊圖案區(qū)域具有由遮光部、透光部、和使用光掩模時(shí)用的降低曝光光的透過(guò)量的用半透光膜構(gòu)成的灰色調(diào)部構(gòu)成的圖案。
關(guān)于本發(fā)明第6方面的光掩模，具有具備重復(fù)了相同圖案的重復(fù)圖案的像素圖案區(qū)域、和設(shè)在該像素圖案區(qū)域的周邊、沒(méi)有重復(fù)圖案的周邊圖案區(qū)域，其特征在于，在不存在所述像素圖案區(qū)域以及所述周邊圖案區(qū)域的空白空間上，設(shè)置了排列有與所述周邊圖案區(qū)域的圖案相同的圖案的檢查用圖案區(qū)域。
關(guān)于本發(fā)明第7方面的光掩模，其特征在于，在本發(fā)明第6方面所述的掩模中，通過(guò)將所述檢查用圖案區(qū)域與所述周邊圖案區(qū)域的間隔設(shè)定為規(guī)定的距離以上，而使利用檢查裝置的光學(xué)系統(tǒng)的比較檢查成為可能。
關(guān)于本發(fā)明第8方面的光掩模，其特征在于，所述檢查用圖案區(qū)域，設(shè)置在夾持所述像素圖案區(qū)域、與所述周邊圖案區(qū)域相反的位置上。
關(guān)于本發(fā)明第9方面的光掩模，其特征在于，在本發(fā)明第6方面所述的掩模中，僅對(duì)于多個(gè)設(shè)置在所述像素圖案區(qū)域的周邊的周邊圖案區(qū)域中、規(guī)定的被選定的周邊圖案區(qū)域，設(shè)置所述檢查用圖案區(qū)域。
關(guān)于本發(fā)明第10方面的光掩模，其特征在于，在本發(fā)明第6至第9方面的任一項(xiàng)所述的掩模中，所述周邊圖案區(qū)域具有由遮光部、透光部、和使用光掩模時(shí)用的降低曝光光的透過(guò)量的用半透光膜構(gòu)成的灰色調(diào)部構(gòu)成的圖案。
根據(jù)本發(fā)明第1或第6方面，在光掩模的空白空間上，設(shè)置排列有與周邊圖案區(qū)域的圖案相同的圖案的檢查用圖案區(qū)域，比較這些周邊圖案區(qū)域和檢查用圖案區(qū)域，可以檢查該周邊圖案區(qū)域中圖案的缺陷。即，在沒(méi)有重復(fù)圖案的周邊圖案區(qū)域，也能夠?qū)嵤┍容^實(shí)際的各圖案的模對(duì)模檢查方式(DD檢查方式)的檢查。結(jié)果，本發(fā)明與實(shí)施比較實(shí)際的圖案和該圖案的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的模對(duì)數(shù)據(jù)庫(kù)的檢查方式(DDB檢查方式)的情況相比，即便在沒(méi)有重復(fù)圖案的周邊圖案區(qū)域，也可以高精度且在短時(shí)間內(nèi)檢查圖案的缺陷。
根據(jù)本發(fā)明第2或第7方面，由于檢查用圖案區(qū)域設(shè)在周邊圖案區(qū)域的附近，所以可以容易地比較這兩個(gè)圖案區(qū)域的圖案，檢查圖案缺陷。
根據(jù)權(quán)利要求3或8所述的發(fā)明，由于檢查用圖案區(qū)域設(shè)在夾持像素圖案區(qū)域的、與周邊圖案區(qū)域相反的位置上，所以可以使得周邊圖案區(qū)域和檢查用圖案區(qū)域之間的距離切實(shí)為基于比較檢查裝置的透鏡間隔的最小檢查間隔以上。即，本發(fā)明可以在切實(shí)滿(mǎn)足了由比較檢查裝置的光學(xué)系統(tǒng)產(chǎn)生的制約條件的狀態(tài)下，比較這些周邊圖案區(qū)域和檢查用圖案區(qū)域的圖案，檢查該周邊圖案區(qū)域中的圖案的缺陷。
根據(jù)本發(fā)明第4或第9方面，由于僅對(duì)規(guī)定的(例如對(duì)于掩模廠商重要的特定的)被選擇的周邊圖案區(qū)域，與檢查用圖案區(qū)域進(jìn)行比較，檢查該周邊圖案區(qū)域的圖案的缺陷，所以可以對(duì)于該規(guī)定的被選擇的周邊圖案區(qū)域，通過(guò)DD檢查方式，高精度且在短時(shí)間內(nèi)實(shí)施圖案的缺陷檢查。在此，所謂規(guī)定的被選擇的周邊圖案區(qū)域，是雖然是周邊圖案、但也與主要圖案(像素圖案)同樣程度地需要缺陷檢查精度的圖案。
根據(jù)本發(fā)明第5或第10方面，由于對(duì)于具有由遮光部、透光部和灰色調(diào)部構(gòu)成的圖案的周邊圖案區(qū)域，也可以利用具有與該周邊圖案區(qū)域的圖案相同的圖案的檢查用圖案區(qū)域，實(shí)施DD檢查方式的圖案缺陷檢查，所以可以高精度且在短時(shí)間內(nèi)對(duì)該周邊圖案區(qū)域的圖案的缺陷進(jìn)行檢查。


圖1是表示關(guān)于本發(fā)明的光掩模的第1實(shí)施方式的平面圖。
圖2是用于說(shuō)明圖1的光掩模中具備中間色調(diào)部的周邊圖案區(qū)域的概略圖，(A)為平面圖，(B)為側(cè)剖面圖。
圖3是表示關(guān)于本發(fā)明的光掩模的第2實(shí)施方式的平面圖。
圖4是表示關(guān)于本發(fā)明的光掩模的第3實(shí)施方式的平面圖。
圖5是表示具備中間色調(diào)部的周邊圖案區(qū)域的其他形態(tài)的平面圖。
圖6是表示過(guò)去的光掩模的平面圖。
圖7是表示在圖6的光掩模中、檢查具備中間色調(diào)部的周邊圖案區(qū)域的圖案的缺陷之際的情況的平面圖。
具體實(shí)施例方式
下面，參照附圖，說(shuō)明用于實(shí)施本發(fā)明的最佳方式。
第1實(shí)施方式(圖1、圖2)圖1是表示關(guān)于本發(fā)明的光掩模的第1實(shí)施方式的平面圖。圖2是用于說(shuō)明在圖1的光掩模中具備中間色調(diào)部的周邊圖案區(qū)域的概略圖，(A)為平面圖，(B)為側(cè)剖面圖。
圖1所示的光掩模10，用于制造例如液晶顯示裝置(LCD)的薄膜晶體管(TFT)或?yàn)V色器、或者等離子顯示面板(PDP)等。該光掩模10，具有具備重復(fù)了相同的像素圖案的重復(fù)圖案的像素圖案區(qū)域9，多個(gè)設(shè)置在該像素圖案區(qū)域9的周邊、沒(méi)有重復(fù)了相同圖案的重復(fù)圖案的周邊圖案區(qū)域10A、10B、10C、10D，和用于檢查該周邊圖案區(qū)域10A～10D的檢查用圖案區(qū)域20A、20B、20C和20D。
所述周邊圖案區(qū)域10A、10B、10C、10D，具體地為布線圖案區(qū)域、測(cè)試圖案區(qū)域或者對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖案區(qū)域等。布線圖案區(qū)域是用于形成連接到像素圖案區(qū)域9中各像素圖案上的布線的圖案。測(cè)試圖案區(qū)域是使用光掩模10時(shí)例如用于轉(zhuǎn)印測(cè)試的圖案。另外，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖案區(qū)域是使用光掩模10時(shí)用于與被轉(zhuǎn)印基板對(duì)齊位置的圖案等。
所述周邊圖案區(qū)域10D，具有由使用光掩模10時(shí)使曝光光被遮光(光透過(guò)率大約0％)的遮光部13、和使曝光光大約100％透過(guò)的透光部14構(gòu)成的圖案。遮光部13是在透光性基板的表面上設(shè)置遮光性的遮光膜(未圖示)而構(gòu)成的。
與此相對(duì)，周邊圖案區(qū)域10A、10B以及10C也如圖2所示，具有由使用光掩模10時(shí)使曝光光被遮光(透過(guò)率大約0％)的遮光部13、使曝光光大約100％透過(guò)的透光部14、和使曝光光的透過(guò)率降低成10～60％左右的灰色調(diào)部15而構(gòu)成?；疑{(diào)部15是在玻璃基板等的透光性基板16的表面上設(shè)置光半透過(guò)性的半透光膜17而構(gòu)成的。另外，遮光部13是在透光性基板16的表面上設(shè)置遮光性的遮光膜18以及所述半透光膜17而構(gòu)成的。
作為所述半透光膜17，可以列舉鉻化合物、MoSi、MoSiON、MoSiCON、Si、W、Al。其中，鉻化合物有氧化鉻(CrOx)、氮化鉻(CrNx)、氮氧化鉻(CrOxN)、氟化鉻(CrFx)或在這些化合物中含有碳或氫的。另外，作為遮光膜18，在周邊圖案區(qū)域10D的情況下也相同，可以列舉Cr、Si、W、Al等。所述遮光部13和灰色調(diào)部15的透過(guò)率，通過(guò)選擇半透光膜17、遮光膜18的膜材質(zhì)和膜厚來(lái)設(shè)定。
使用光掩模10時(shí)，在周邊圖案區(qū)域10A、10B、10C中，在遮光部13處曝光光不透過(guò)，在灰色調(diào)部15處曝光光被減少。因此，附著在被轉(zhuǎn)印體11上的抗蝕劑膜(正型光致抗蝕劑膜)，在曝光以及顯影之后，形成在與遮光部13對(duì)應(yīng)的部分膜厚變厚、在與灰色調(diào)部15對(duì)應(yīng)的部分膜厚變薄、與透光部14對(duì)應(yīng)的部分沒(méi)有膜的抗蝕劑圖案12。由此，就可以在抗蝕劑圖案12的沒(méi)有膜的部分，對(duì)被轉(zhuǎn)印體11中例如膜19A以及膜19B實(shí)施第1蝕刻，通過(guò)灰化等除去抗蝕劑圖案12的膜較薄的部分，在此部分，對(duì)被轉(zhuǎn)印體11中例如膜19B實(shí)施第2蝕刻。
圖1所示的所述檢查用圖案區(qū)域20A、20B、20C、20D，在光掩模10中，設(shè)置在不存在像素圖案區(qū)域9以及周邊圖案區(qū)域10A～10D的空白空間21上。檢查用圖案區(qū)域20A排列有與周邊圖案區(qū)域10A的圖案相同的圖案，設(shè)置在該周邊圖案區(qū)域10A的附近。另外，檢查用圖案區(qū)域20B排列有與周邊圖案區(qū)域10B的圖案相同的圖案，設(shè)置在該周邊圖案區(qū)域10B的附近。另外，檢查用圖案區(qū)域20C排列有與周邊圖案區(qū)域10C的圖案相同的圖案，設(shè)置在該周邊圖案區(qū)域10C的附近。另外，檢查用圖案區(qū)域20D排列有與周邊圖案區(qū)域10D的圖案相同的圖案，設(shè)置在該周邊圖案區(qū)域10D的附近。
檢查用圖案區(qū)域20A與對(duì)應(yīng)的周邊圖案區(qū)域10A的距離La(間距)，考慮基于檢查周邊圖案區(qū)域10A～10D中圖案的缺陷的比較檢查裝置的透鏡(上透鏡、下透鏡都未圖示)間隔的最小檢查間隔(例如4cm)等、使用的光學(xué)系統(tǒng)的制約，設(shè)定為可以進(jìn)行比較檢查的間隔以上。同樣地，檢查用圖案區(qū)域20B與對(duì)應(yīng)的周邊圖案區(qū)域10B的距離Lb，檢查用圖案區(qū)域20C與對(duì)應(yīng)的周邊圖案區(qū)域10C的距離Lc，檢查用圖案區(qū)域20D與對(duì)應(yīng)的周邊圖案區(qū)域10D的距離Ld，也都設(shè)定為所述間隔以上。
在此，所述的上透鏡和下透鏡，如后所述，在所述比較檢查中，一個(gè)掃描周邊圖案區(qū)域10A、10B、10C、10D的圖案，另一個(gè)掃描檢查用圖案區(qū)域20A、20B、20C、20D的圖案。
接著，對(duì)檢查在所述光掩模10的像素圖案區(qū)域9和周邊圖案區(qū)域10A、10B、10C、10D的每個(gè)圖案中產(chǎn)生的缺陷的缺陷檢查方法進(jìn)行說(shuō)明。
把光掩模10設(shè)定為例如縱置，令位于比較檢查裝置的上側(cè)的上透鏡單元的上透鏡(未圖示)，在像素圖案區(qū)域9、周邊圖案區(qū)域10A、10B、10C、10D上進(jìn)行掃描。另外，令位于比較檢查裝置的下透鏡單元的下透鏡(未圖示)，在像素圖案區(qū)域9、檢查用圖案區(qū)域20A、20B、20C、20D上進(jìn)行掃描。然后，通過(guò)比較從這些實(shí)際的圖案得到的透過(guò)量信號(hào)的模對(duì)模檢查方式(DD檢查方式)，檢查圖案的缺陷。
在檢查像素圖案區(qū)域9的圖案缺陷之際，由于該像素圖案區(qū)域9是重復(fù)了相同的像素圖案的重復(fù)像素圖案區(qū)域，所以把該像素圖案區(qū)域9劃分為上下2個(gè)區(qū)，在各個(gè)區(qū)上分別配置上透鏡單元的上透鏡、下透鏡單元的下透鏡并進(jìn)行掃描。由此，各透鏡單元內(nèi)的CCD線傳感器檢測(cè)透過(guò)量信號(hào)。由于像素圖案區(qū)域9是相同的圖案，所以這些透過(guò)量信號(hào)理應(yīng)成為相同波形，但如果一個(gè)圖案中存在缺陷(例如氣孔等白缺陷、點(diǎn)等黑缺陷)，則成為反映該缺陷的波形。因此，對(duì)兩個(gè)透過(guò)量信號(hào)進(jìn)行差分(減法運(yùn)算)求出差分信號(hào)，則在該差分信號(hào)中可提取反映所述缺陷的缺陷信號(hào)。然后，通過(guò)該缺陷信號(hào)的電平是否為規(guī)定閾值以上，檢查缺陷的有無(wú)。
另外，在檢查周邊圖案區(qū)域10A～10D的圖案缺陷之際，通過(guò)分別比較這些周邊圖案區(qū)域10A～10D和對(duì)應(yīng)的檢查用圖案區(qū)域20A～20D，實(shí)施通過(guò)DD檢查方式的圖案缺陷檢查。
即，在周邊圖案區(qū)域10A和檢查用圖案區(qū)域20A的一方和另一方上分別配置上透鏡和下透鏡，并使各透鏡掃描。由此，各透鏡單元內(nèi)的CCD線傳感器檢測(cè)出透過(guò)量信號(hào)。由于周邊圖案區(qū)域10A和檢查用圖案區(qū)域20A是相同的圖案，所以這些透過(guò)量信號(hào)理應(yīng)成為相同波形，但如果周邊圖案區(qū)域10A的圖案中存在缺陷(例如氣孔等脫落缺陷(白缺陷)、點(diǎn)等多余缺陷(黑缺陷))，則成為反映該缺陷的波形。因此，對(duì)兩個(gè)透過(guò)量信號(hào)進(jìn)行差分(減法運(yùn)算)求出差分信號(hào)，則可在該差分信號(hào)中提取反映所述缺陷的缺陷信號(hào)。然后，根據(jù)該缺陷信號(hào)的電平是否為規(guī)定閾值以上，檢查周邊圖案區(qū)域10A的圖案中缺陷的有無(wú)。
在周邊圖案區(qū)域10B中，也在該周邊圖案區(qū)域10B和檢查用圖案區(qū)域20B的一方上配置上透鏡，在另一方上配置下透鏡。另外，在周邊圖案區(qū)域10C中，也在該周邊圖案區(qū)域10C和檢查用圖案區(qū)域20C的一方上配置上透鏡，在另一方上配置下透鏡。進(jìn)一步，在周邊圖案區(qū)域10D中，也在該周邊圖案區(qū)域10D和檢查用圖案區(qū)域20D的一方上配置上透鏡，在另一方上配置下透鏡。如此，與周邊圖案區(qū)域10A的情況同樣地，檢查周邊圖案區(qū)域10B、10C、10D中的圖案缺陷。無(wú)論是具有灰色調(diào)部15的周邊圖案區(qū)域10A、10B、10C，還是沒(méi)有灰色調(diào)部15的周邊圖案區(qū)域10D，都同樣地利用DD檢查方式檢查圖案的缺陷。
因?yàn)槿缟鲜瞿菢觼?lái)構(gòu)成，所以根據(jù)所述實(shí)施方式可以得到以下的效果(1)～(3)。
(1)在光掩模10的空白空間21中，設(shè)置排列有分別與周邊圖案區(qū)域10A、10B、10C、10D的圖案相同的圖案的檢查用圖案區(qū)域20A、20B、20C、20D，分別比較這些周邊圖案區(qū)域10A～10D、和檢查用圖案區(qū)域20A～20D，檢查該周邊圖案區(qū)域10A～10D中的圖案缺陷。因此，在沒(méi)有重復(fù)圖案的周邊圖案區(qū)域10A～10D中，也能夠?qū)嵤?duì)實(shí)際的圖案之間進(jìn)行比較的模對(duì)模檢查方式(DD檢查方式)。結(jié)果，與比較實(shí)際的圖案和該圖案的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的模對(duì)數(shù)據(jù)庫(kù)的檢查方式(DDB檢查方式)的情況相比較，在沒(méi)有重復(fù)圖案的周邊圖案區(qū)域10A～10D中，也能夠高精度且在短時(shí)間內(nèi)檢查圖案的缺陷。
(2)關(guān)于具有由遮光部13、透光部14和灰色調(diào)部15構(gòu)成的圖案的周邊圖案區(qū)域10A、10B、10C，也可以利用分別具有與該周邊圖案區(qū)域10A、10B、10C的圖案相同的圖案的檢查用圖案區(qū)域20A、20B、20C，實(shí)施DD檢查方式的圖案缺陷檢查，所以能夠高精度且在短時(shí)間內(nèi)檢查該周邊圖案區(qū)域10A、10B、10C圖案的缺陷。即，根據(jù)本實(shí)施方式的發(fā)明，成為檢查對(duì)象的周邊圖案，即便是在遮光部、透光部之外還具有灰色調(diào)部的情況下，也可以通過(guò)比較各個(gè)區(qū)域中的透過(guò)量信號(hào)和對(duì)應(yīng)的檢查用圖案區(qū)域的透過(guò)量信號(hào)，僅根據(jù)其差分是否在允許范圍內(nèi)，來(lái)簡(jiǎn)便地判斷缺陷的有無(wú)。假設(shè)對(duì)于相同的圖案進(jìn)行DDB檢查，則為了回避所述段0009所述的問(wèn)題，需要雙重檢查，即把灰色調(diào)部看作遮光部進(jìn)行的檢查、和把灰色調(diào)部看作透光部進(jìn)行的檢查。這不僅需要雙重檢查，而且由于檢查裝置處理的數(shù)據(jù)量變得龐大，不可避免地招致處理時(shí)間的大幅度增加。因此，本發(fā)明，在由遮光部和透光部構(gòu)成的所謂二元掩模之外、還具有半透光部的灰色調(diào)掩模中，可以帶來(lái)特別顯著的效果。
(3)各檢查用圖案區(qū)域20A、20B、20C、20D設(shè)在各周邊圖案區(qū)域10A、10B、10C、10D的附近，所以可以容易地比較兩圖案區(qū)域的圖案、檢查圖案缺陷。
第2實(shí)施方式(圖3)圖3是表示關(guān)于本發(fā)明的光掩模的第2實(shí)施方式的平面圖。在該第2實(shí)施方式中，對(duì)于與所述第1實(shí)施方式相同的部分附加相同符號(hào)，并省略其說(shuō)明。
在該第2實(shí)施方式的光掩模30中，具有與周邊圖案區(qū)域10A、10B、10C、10D的各自的圖案相同的圖案的檢查用圖案區(qū)域20A、20B、20C、20D，在光掩模30的空白空間21中，設(shè)置在夾持像素圖案區(qū)域9的相反側(cè)。即，檢查用圖案區(qū)域20A設(shè)在夾持像素圖案區(qū)域9、與周邊圖案區(qū)域10A相反的位置上，檢查用圖案區(qū)域20B設(shè)在夾持像素圖案區(qū)域9、與周邊圖案區(qū)域10B相反的位置上，檢查用圖案區(qū)域20C設(shè)在夾持像素圖案區(qū)域9、與周邊圖案區(qū)域10C相反的位置上，檢查用圖案區(qū)域20D設(shè)在夾持像素圖案區(qū)域9、與周邊圖案區(qū)域10D相反的位置上。然后，與所述第1實(shí)施方式相同地，利用檢查用圖案區(qū)域20A～20D，通過(guò)DD檢查方式檢查周邊圖案區(qū)域10A～10D的圖案的缺陷。
因此，根據(jù)該第2實(shí)施方式的光掩模30，在所述實(shí)施方式的效果(1)以及(2)之外，還得到下面效果(4)。
(4)檢查用圖案區(qū)域20A、20B、20C、20D的每一個(gè)，設(shè)置在夾持像素圖案區(qū)域9、周邊圖案區(qū)域10A、10B、10C、10D的每一個(gè)相反的位置上。因此，周邊圖案區(qū)域10A～10D和對(duì)應(yīng)的檢查用圖案區(qū)域20A～20D的距離分別比像素圖案區(qū)域9的寬度大。這就意味著，周邊圖案區(qū)域10A～10D和對(duì)應(yīng)的檢查用圖案區(qū)域20A～20D的距離，必然滿(mǎn)足由基于用于像素圖案區(qū)域9的缺陷檢查的比較檢查裝置的透鏡間隔的最小檢查間隔等的、光學(xué)系統(tǒng)產(chǎn)生的制約條件。因此，在本實(shí)施方式中，可在周邊圖案區(qū)域10A～10D和對(duì)應(yīng)的檢查用圖案區(qū)域20A～20D的距離切實(shí)滿(mǎn)足由基于比較檢查裝置的透鏡間隔的最小檢查間隔等的、光學(xué)系統(tǒng)產(chǎn)生的制約條件的狀態(tài)下，比較這些周邊圖案區(qū)域10A～10D和檢查用圖案區(qū)域20A～20D的圖案，檢查該周邊圖案區(qū)域10A～10D中的圖案的缺陷。
第3實(shí)施方式(圖4)圖4是表示關(guān)于本發(fā)明的光掩模的第3實(shí)施方式的平面圖。在該第3實(shí)施方式中，對(duì)于與所述第1實(shí)施方式相同的部分附加相同符號(hào)，并省略其說(shuō)明。
在該第3實(shí)施方式的光掩模40中，特別是空白空間21狹窄的情況下，在空白空間21上設(shè)置具有與多個(gè)周邊圖案區(qū)域、即周邊圖案區(qū)域10A、10B、10C、10D中、特定的(例如對(duì)于掩模廠商重要的)被選定的周邊圖案區(qū)域(例如周邊圖案區(qū)域10B)的圖案相同的圖案的檢查用圖案區(qū)域(例如檢查用圖案區(qū)域20B)。該檢查用圖案區(qū)域20B設(shè)置在夾持像素圖案區(qū)域9、與周邊圖案區(qū)域10B相反位置上，或者設(shè)在周邊圖案區(qū)域10B的附近。然后，與所述第1實(shí)施方式相同地，利用檢查用圖案區(qū)域20B，通過(guò)DD檢查方式檢查特定的被選定的周邊圖案區(qū)域10B的圖案缺陷。
關(guān)于其他的周邊圖案區(qū)域10A、10C、10D，實(shí)施比較來(lái)自這些周邊圖案區(qū)域的透過(guò)量信號(hào)和周邊圖案區(qū)域10A、10C、10D的各自的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的模對(duì)數(shù)據(jù)庫(kù)的檢查方式(DDB檢查方式)，檢查周邊圖案區(qū)域10A、10C、10D的圖案的缺陷。
因此，根據(jù)該第3實(shí)施方式，對(duì)于重要的周邊圖案區(qū)域(例如周邊圖案區(qū)域10B)，除了獲得所述第1實(shí)施方式的效果(1)以及(2)之外，還得到下面效果(5)。
(5)僅對(duì)于重要的例如周邊圖案區(qū)域10B，與檢查用圖案區(qū)域20B進(jìn)行比較，檢查該周邊圖案區(qū)域10B的圖案的缺陷，所以對(duì)于該重要的周邊圖案區(qū)域10B，可以利用DD檢查方式、高精度且在短時(shí)間內(nèi)實(shí)施圖案的缺陷檢查。
上面，根據(jù)所述實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了說(shuō)明，但本發(fā)明并不限于此。例如，對(duì)于沒(méi)有灰色調(diào)部15的周邊圖案區(qū)域10D，在光掩模10、30的空白空間21上，不設(shè)置排列有與該周邊圖案區(qū)域10D的圖案相同的圖案的檢查用圖案區(qū)域20D也可以。在此情況下，對(duì)于該周邊圖案區(qū)域10D，通過(guò)DDB檢查方式檢查圖案的缺陷。
另外，在所述實(shí)施方式中，闡述了對(duì)于存在具有灰色調(diào)部15、且沒(méi)有重復(fù)圖案部的周邊圖案區(qū)域10A、10B、10C的光掩模10、30、40，適用本發(fā)明的情況，但對(duì)于在像素圖案區(qū)域9的周邊上設(shè)有沒(méi)有灰色調(diào)部15的周邊圖案區(qū)域的光掩模，也可以適用本發(fā)明。
進(jìn)一步，闡述了所述周邊圖案區(qū)域10A、10B、10C的灰色調(diào)部15由具備光半透過(guò)性的半透光膜17構(gòu)成，但也可以是由遮光圖案構(gòu)成的灰色調(diào)部。即，如圖5所示，該灰色調(diào)部50是形成了由使用光掩膜的大型LCD用曝光機(jī)的析像界限以下的微細(xì)圖案構(gòu)成的遮光圖案51的區(qū)域。例如，該遮光圖案51的線寬和該線的間隔為所述曝光機(jī)的析像界限以下、例如不足3μm。另外，該遮光圖案51，與遮光部13相同，由鉻或者鉻化物構(gòu)成，以相同的膜厚來(lái)形成。
權(quán)利要求
1.一種光掩模的缺陷檢查方法，是檢查具有具備重復(fù)了相同圖案的重復(fù)圖案的像素圖案區(qū)域、和設(shè)在該像素圖案區(qū)域的周邊、沒(méi)有重復(fù)圖案的周邊圖案區(qū)域的光掩模中的所述圖案的缺陷的方法，其特征在于，在所述光掩模中，在不存在所述像素圖案區(qū)域以及所述周邊圖案區(qū)域的空白空間上，設(shè)置排列有與所述周邊圖案區(qū)域的圖案相同的圖案的檢查用圖案區(qū)域，通過(guò)比較這些周邊圖案區(qū)域和檢查用圖案區(qū)域，檢查該周邊圖案區(qū)域中的圖案的缺陷。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光掩模的缺陷檢查方法，其特征在于，通過(guò)將所述檢查用圖案區(qū)域與所述周邊圖案區(qū)域的間隔設(shè)定為規(guī)定的距離以上，而使利用檢查裝置的光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行的比較檢查成為可能。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光掩模的缺陷檢查方法，其特征在于，所述檢查用圖案區(qū)域，設(shè)置在夾持所述像素圖案區(qū)域、與所述周邊圖案區(qū)域相反的位置上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光掩模的缺陷檢查方法，其特征在于，所述光掩模中，僅對(duì)于多個(gè)設(shè)置在所述像素圖案區(qū)域的周邊的周邊圖案區(qū)域中的規(guī)定的被選定的周邊圖案區(qū)域設(shè)置有對(duì)應(yīng)的檢查用圖案區(qū)域，通過(guò)比較所述規(guī)定的被選定的周邊圖案區(qū)域和所述檢查用圖案區(qū)域，檢查該周邊圖案區(qū)域中的圖案的缺陷。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4的任一項(xiàng)所述的光掩模的缺陷檢查方法，其特征在于，所述周邊圖案區(qū)域具有由遮光部、透光部、和使用光掩模時(shí)用的降低曝光光的透過(guò)量的用半透光膜構(gòu)成的灰色調(diào)部構(gòu)成的圖案。
6.一種光掩模，其具有具備重復(fù)了相同圖案的重復(fù)圖案的像素圖案區(qū)域、和設(shè)在該像素圖案區(qū)域的周邊、沒(méi)有重復(fù)圖案的周邊圖案區(qū)域，其特征在于，在不存在所述像素圖案區(qū)域以及所述周邊圖案區(qū)域的空白空間上，設(shè)置了排列有與所述周邊圖案區(qū)域的圖案相同的圖案的檢查用圖案區(qū)域。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光掩模，其特征在于，通過(guò)將所述檢查用圖案區(qū)域與所述周邊圖案區(qū)域的間隔設(shè)定為規(guī)定的距離以上，而使利用檢查裝置的光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行的比較檢查成為可能。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光掩模，其特征在于，所述檢查用圖案區(qū)域，設(shè)置在夾持所述像素圖案區(qū)域、與所述周邊圖案區(qū)域相反的位置上。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光掩模，其特征在于，僅對(duì)于多個(gè)設(shè)置在所述像素圖案區(qū)域的周邊的周邊圖案區(qū)域中的規(guī)定的被選定的周邊圖案區(qū)域，設(shè)置所述檢查用圖案區(qū)域。
10.根據(jù)權(quán)利要求6至9的任一項(xiàng)所述的光掩模，其特征在于，所述周邊圖案區(qū)域具有由遮光部、透光部、和使用光掩模時(shí)用的降低曝光光的透過(guò)量的用半透光膜構(gòu)成的灰色調(diào)部構(gòu)成的圖案。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光掩模的缺陷的檢查方法，所述光掩模具有具備重復(fù)了相同圖案的重復(fù)圖案的像素圖案區(qū)域(9)、和設(shè)在該像素圖案區(qū)域的周邊、沒(méi)有重復(fù)圖案的周邊圖案區(qū)域(10A、10B、10C、10D)，在所述光掩模中，在不存在像素圖案區(qū)域或者周邊圖案區(qū)域的空白空間(21)上，設(shè)置排列有分別與周邊圖案區(qū)域(10A、10B、10C、10D)的圖案相同的圖案的檢查用圖案區(qū)域(20A、20B、20C、20D)，通過(guò)比較這些周邊圖案區(qū)域和檢查用圖案區(qū)域，檢查該周邊圖案區(qū)域中的圖案的缺陷。
文檔編號(hào)G03F1/00GK101025563SQ20071000586
公開(kāi)日2007年8月29日 申請(qǐng)日期2007年2月25日 優(yōu)先權(quán)日2006年2月20日
發(fā)明者佐野道明 申請(qǐng)人:Hoya株式會(huì)社