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可撓式光電薄膜及其制造方法

文檔序號:2729354閱讀:236來源:國知局
專利名稱:可撓式光電薄膜及其制造方法
技術領域
本發(fā)明涉及一種電子元件及其制造方法,且特別涉及一種可撓式光電薄膜及其制造方法。

背景技術
目前有數(shù)種方法宣稱以卷軸式工藝來制造可撓式顯示器。在現(xiàn)今所發(fā)展用以制造可撓式顯示器的技術中,業(yè)界多使用高分子分散液晶顯示器(polymer dispersed liquid crystal display,PDLC)工藝、高分子穩(wěn)定液晶顯示器(polymer stabilized liquid crystal display,PSLC)工藝、微膠囊(microcapsule)方法以及微杯(microcup)方法。
就PDLC工藝與PSLC工藝而言,由于不容易控制高分子相與液晶相的分布,所以以PDLC與PSLC制造的顯示器具有例如低對比與高驅動電壓的缺點。
就微膠囊方法而言,由于不易產(chǎn)生均勻的球形囊膜,因此以微囊方法制造的顯示器的驅動電壓相對較高。此外,以微膠囊方式制造彩色顯示器也具有其困難度。
就微杯方式而言,當以微杯方式制造顯示器時,有一介電層位于每一微胞的底部,因此會產(chǎn)生額外的電位降且顯示器的驅動電壓也相對較高。
再者,無論PDLC工藝、PSLC工藝、微膠囊方法與微杯方法都不具有配向的能力,因此只可應用少數(shù)種液晶。另外,無論PDLC工藝、PSLC工藝、微膠囊方法與微杯方法都不能以導電電極與光電介質產(chǎn)生直接接觸。因此,以上述方法形成的顯示器都是電壓驅動元件。


發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的就是在提供一種可撓式光電薄膜的制造方法,所制造的光電薄膜的光電胞具有均勻的尺寸。
本發(fā)明的再一目的是提供一種可撓式光電薄膜的制造方法,其可直接改善表面配向性。
本發(fā)明提出一種可撓式光電薄膜的形成方法,此方法包括提供第一基板,其中該第一基板上有第一導電層。之后,在第一導電層上形成第一定位結構,其中該第一定位結構包括多個第一目標區(qū)與位于該第一目標區(qū)周圍的多個第一周邊區(qū),該第一目標區(qū)的表面張力與該第一周邊區(qū)的表面張力不同。接著,進行光電介質放置工藝以在每一該第一位置上形成電光介質液滴。接著,進行固化工藝以分別形成膜壁覆蓋每一該第一電光介質液滴。最后,壓合該第一基板與已形成有第二導電層的第二基板。
依照本發(fā)明的實施例所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中,該第二基板的該第二導電層上還包括第二定位結構,該第二定位結構包括多個第二目標區(qū)與位于該第二目標區(qū)周圍的多個第二周邊區(qū),且該第二基板以該第二目標區(qū)對準該第一膜壁的方式與該第一基板相壓合。
依照本發(fā)明實施例所述,上述形成該第一定位結構的方法包括在該導電層上形成第一材料層,其中第一材料層分別配置于該第一目標區(qū)上,該第一圖案化材料層之間的多個第一間隙裸露出該周邊區(qū)的該第一導電層。
依照本發(fā)明的實施例所述的可撓式光電薄膜的形成方法,上述形成該第一定位結構的方法包括在第一導電層上的第一目標區(qū)與第一周邊區(qū)形成第一材料層。之后,在第一周邊區(qū)的第一材料層上形成第一間隔圖案層,裸露出第一目標區(qū)中的第一材料層,第一間隔圖案層的表面張力與第一材料層的表面張力不同。
依照本發(fā)明的實施例所述的可撓式光電薄膜的形成方法,上述形成該第一定位結構的方法包括在第一導電層上的第一周邊區(qū)中直接形成第一間隔圖案層,裸露出該第一目標區(qū)的該第一導電層。
依照本發(fā)明的實施例所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中形成該第一定位結構的方法包括在該一導電層上的第一周邊區(qū)中分別形成壁式圖案層,且裸露出該第一目標區(qū)中的第一導電層。之后,在該壁式圖案層以及該第一導電層上形成第一材料層。
依照本發(fā)明的實施例所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中該第一光電介質放置工藝包括噴墨印刷。
依照本發(fā)明的實施例所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中該第二基板的第二導電層上還包括第二定位結構,此第二定位結構包括多個第二目標區(qū)與位于第二目標區(qū)周圍的多個第二周邊區(qū),且每一該第二目標區(qū)上包括第二光電介質液滴。在此情況下,在該第一基板與該第二基板壓合步驟中,該第一基板上方的該第一光電介質液滴分別與該第二基板上方的該第二光電介質液滴相溶合。另一方面,該第一基板上方的該第一光電介質液滴分別與該第二基板上方的該第二光電介質液滴相以該膜壁相互隔離。在第一光電介質液滴與第二光電介質液滴以膜壁相互隔離的情況下,該第一光電介質液滴的材質與該第二光電介質液滴的材質不同,或是該第一光電介質液滴的顏色與該第二光電介質液滴的顏色不同。
依照本發(fā)明的實施例所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中上述該第一光電介質液滴與上述該第二光電介質液滴的材料分別選自液晶、電潤濕流體、電泳介質、電致變色流體、膽甾型液晶與主客型液晶所組成的群組。
依照本發(fā)明的實施例所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中每一該第一定位結構的第一目標區(qū)域具有表面配向性。
依照本發(fā)明的實施例所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中每一該第二定位結構的第二目標區(qū)域具有表面配向性。
依照本發(fā)明的實施例所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中至少該第一電光介質液滴其中之一的材質或顏色與其他該第一電光介質液滴的材質或顏色不同。
依照本發(fā)明實施例所述,上述第二基板上方還包括光電介質層。在進行壓合該第一基板與該第二基板之后,該第一光電介質液滴通過該第一膜壁與該光電介質層接觸。
依照本發(fā)明的實施例所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中該光電介質液滴與該光電介質層的材料分別選自液晶、電潤濕流體、電泳介質、電致變色流體、膽甾型液晶與主客型液晶所組成的群組中 依照本發(fā)明的實施例所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中該光電介質層的材質與該第一光電介質液滴的材質不同。
依照本發(fā)明的實施例所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中該光電介質層的顏色與該第一光電介質液滴的顏色不同。
依照本發(fā)明的實施例所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中形成該定位結構的方法包括在第一基板上方形成第一目標區(qū)與該周邊區(qū),使該第一目標區(qū)與該周邊區(qū)的表面張力不同。
依照本發(fā)明的實施例所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中在該第二基板與該光電介質層之間還包括材料層,且該材料層具有表面配向性,使目標區(qū)與周邊區(qū)具有不同表面張力。
本發(fā)明另提供一種可撓式光電薄膜,包括第一基板、第一定位結構、多個第一光電介質液滴與第二基板。其中第一基板上有第一導電層,而第一定位結構位于第一導電層上,且第一定位結構包括多個第一目標區(qū)與位于該第一目標區(qū)周圍的多個第一周邊區(qū)。第一光電介質液滴分別位第一目標區(qū)上上,且第一光電介質液滴的上表面分別具有第一膜壁。第二基板位于第一基板上方。
依照本發(fā)明實施例所述,上述可撓式光電薄膜還包括光電介質層,其位于第一基板與第二基板之間,且其與第一光電介質液滴之間以第一膜壁彼此隔離。
依照本發(fā)明實施例所述,上述可撓式光電薄膜還包括多個第二光電介質液滴,分別位于第二目標區(qū)上,其中每第二光電介質液滴被第二膜壁所包覆,且每第一光電介質液滴與每第二光電介質液滴彼此以第一膜壁與第二膜壁相互隔離。
在本發(fā)明中,由于定位結構具有兩種不同的表面特性,因此可以很容易將光電介質液滴放置于定位結構的每一目標區(qū)上。也就是利用光電介質、定位結構、導電層、間隔圖案層之間表面張力的差異,或是壁式圖案層的存在,使得光電介質可以準確聚集于定位結構的每一目標區(qū)上。此外,定位結構的材質可具有配向性,因此在具有配向性的定位結構與液晶液滴直接接觸時,可使液晶液滴配向。因此可降低形成可撓式光電薄膜的制造成本。另外,通過膜壁可以隔絕多層光電介質,因此可以定制所需的顯像顏色以及提高顯像亮度。此外,由于光電介質是直接與導電電極接觸,因此不僅可使用電壓驅動光電介質,亦可以使用電流驅動光電介質。
為讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂,下文特舉實施例,并配合附圖,作詳細說明如下。



圖1A至1G繪示為根據(jù)本發(fā)明一個實施例的一種可撓式光電薄膜的制造方法的剖面簡圖。
圖2A至2B繪示根據(jù)本發(fā)明另一實施例的一種定位結構上有光電介質液滴的制造方法的剖面簡圖。
圖2C繪示根據(jù)圖2A中的實施例的一種第二基板上具有定位結構的制造方法的剖面簡圖。
圖3A至3B繪示根據(jù)本發(fā)明又一實施例的一種定位結構上具有光電介質液滴的制造方法的剖面簡圖。
圖3A’繪示根據(jù)本發(fā)明又一實施例的一種定位結構的剖面簡圖。
圖4A繪示根據(jù)本發(fā)明一個實施例的可撓式光電薄膜的剖面簡圖。
圖4B繪示根據(jù)本發(fā)明另一實施例的可撓式光電薄膜的剖面簡圖。
圖5繪示根據(jù)本發(fā)明一個實施例的具有雙層光電介質結構的可撓式光電薄膜的剖面簡圖。
圖6A繪示根據(jù)本發(fā)明又一實施例的具有雙層光電介質結構的可撓式光電薄膜的剖面簡圖。
圖6B繪示根據(jù)本發(fā)明再一實施例的具有雙層光電介質結構的可撓式光電薄膜的剖面簡圖。
附圖標記說明 100、200、300、400、500、600、700、800、900基板 102、202、302、402、502、602、702、802、902導電層 104、204、304、404、504、604、704、804、904定位結構 104a、204a、306a、604a、704a材料層 104b、204b、804b間隙 106、310、510、606、706、806、906光電介質液滴 108反應溶液 110、512、608、708、808、908膜壁 150、250、350、450、550、650、750、850、1050、1150目標區(qū) 152、252、352、452、552、652、752、852、1052、1152周邊區(qū) 206高分子層 306、406、508、508a材料層 308、408間隔圖案層 506壁式圖案層
具體實施例方式 圖1A至1G繪示為根據(jù)本發(fā)明一個實施例的一種可撓式光電薄膜的制造方法的剖面簡圖。如圖1A所示,首先提供基板100。之后,在基板100上形成導電層102。此導電層102例如是全面導電層或是圖案化的導電層。此基板100例如是可撓式或可彎曲或是堅硬的基板。基板100的材質包括塑膠、金屬、玻璃以及其他合成材質。導電層102的材質包括透明導電材質,例如是銦錫氧化物(indium tin oxide,ITO)、銻錫氧化物或是其他合成材質。此外,導電層102的材質還可以是金屬材質,例如鋁、銅、銀、鉬、鉻等。另外,導電層102的材質也可以是導電高分子或是導電合成材料例如導電墨水(conductive ink)。
之后,在導電層102上形成多個定位結構104。定位結構104包括多個預定形成光電介質液滴的目標區(qū)150以及多個位于目標區(qū)周圍的周邊區(qū)152。目標區(qū)150的表面張力與周邊區(qū)152者不同,且其形狀與大小可根據(jù)實際需要而改變。在此實施例中,定位結構104例如是由材料層104a與材料層104a的間隙104b所構成。材料層104a是形成在目標區(qū)150中。材料層104a之間的多個間隙104b,裸露出導電層102,其與周邊區(qū)152相對應。此材料層104a的材質與導電層102的上表面的表面張力不同。而形成定位結構104于導電層102上的方法包括印刷工藝、涂布工藝、轉印工藝或是光刻工藝。
請參照圖1B,進行光電介質放置工藝,以分別在定位結構104的目標區(qū)150上形成光電介質液滴106。此光電介質放置工藝例如是噴墨印刷或其他適用的方法。而光電介質液滴106的材質例如是液晶、電潤濕流體(electrowetting fluid)、電泳介質(electrophoretic media)、電致變色流體(electrochromic fluid)或其他適用的光電介質。此外,光電介質液滴106可以是分別呈現(xiàn)不同顏色,例如反射不同波長的膽甾型液晶(Cholesteric LiquidCrystal)或是添加不同染料的主客型液晶(Guest-Host Crystal)或是不同顏色的電泳介質。另外,光電介質液滴106還例如是包含有特定種類的單體或是寡聚合物(oligomer)。再者,光電介質液滴106例如是配置在特殊設計位置上,以同時具有穿透性與反射的特性,可作為半穿透半反射顯示器(transflectivedisplay)的應用。
如上所述,材料層104a的材質與導電層102的上表面的表面特性不同,光電介質液滴容易聚集在每一定位結構104的目標區(qū)150上。換句話說,在光電介質液滴聚集的定位結構104的目標區(qū)150表面的表面張力與未形成光電介質液滴的周邊區(qū)152的表面的表面張力不同。注意,定位結構104的表面張力小于光電介質液滴106的表面張力。值得注意的是,在實際應用上,當所選用的光電介質液滴106是屬于需要配向材質輔助配向時,材料層104a的材質除了與導電層102表面特性不同之外,還必須同時具有表面配向的特性。因此,當定位結構104還需具有表面配向特性時,在上述形成而定位結構204時,還包括進行配向工藝,包括絨毛布刷工藝(rubbing alignmentprocess)、離子束配向(ion beam alignment process)、光配向工藝(photoalignment process)或其他適用的方法或工藝,以使定位結構104的表面達到配向效果。
請參照圖1C,以反應溶液108與基板100及光電介質液滴106接觸。在基板100上方形成反應溶液108的方法例如是涂布工藝、浸沾工藝或其他適用于將反應溶液108與光電介質液滴106直接接觸的方法。此反應溶液108包括特定種類的單體或寡聚合物,其可與光電介質液滴106內(nèi)的單體或是寡聚合物形成界面聚合作用。
之后,進行固化工藝以形成分別覆蓋光電介質液滴106的膜壁110。其中,膜壁110的厚度端視實際需要而定。而界面聚合作用例如是由熱、光或是其他適用的方法誘發(fā)。
請參照圖1D,在形成膜壁110之后,以抽取、吸收、倒出或真空吸取方式將反應溶液108移除。移除反應溶液108之后,在定位結構104上可以得到包覆光電介質液滴106的薄膜。
請參照圖1E,提供基板200,其上有導電層202與定位結構204。導電層202例如是全面導電層或是圖案化的導電層。此基板200例如是可撓式或可彎曲或是堅硬的基板。另外,基板200的材質包括塑膠、金屬、玻璃以及其他合成材質。導電層202的材質包括透明導電材質,例如是銦錫氧化物、銻錫氧化物或是其他合成材質。此外,導電層202的材質例如是金屬材質,包括鋁、銅、銀、鉬、鉻等。另外,導電層202的材質也可包含導電高分子或是導電合成材料例如導電墨水。
定位結構204可包括多個目標區(qū)250與周邊區(qū)252,其中,目標區(qū)250的表面張力與周邊區(qū)152者不同,且其形狀與大小可根據(jù)實際需要而改變。。與定位結構104相似,在此實施例中,定位結構204例如是由材料層204a與材料層204a的間隙204b所構成。材料層204a是形成在目標區(qū)250中。材料層204a之間的多個間隙204b,裸露出導電層202,其與周邊區(qū)252相對應。此材料層204a的材質與導電層202的上表面的表面特性不同。而形成材料層204a的方法包括印刷工藝、涂布工藝、轉印工藝或是光刻工藝。同樣的,在實際應用上,根據(jù)所使用的光電介質的配向特性,材料層204a材質可以是具有表面配向特性。另一方面,定位結構204的目標區(qū)250如是具有比光電介質液滴106的表面張力還小的表面張力。而具有表面配向性的定位結構204的形成方法與具有表面配向性的定位結構104的形成方法相同,因此不在此作贅述。
請參照圖1F,在基板200上方形成高分子層206。此高分子層206可依實際需要具有不同的粘度。將基板100與基板200壓合,其中光電介質液滴106通過膜壁110分別與目標區(qū)250接觸。另外,基板100經(jīng)由高分子層206與基板200貼附。此外,在壓合工藝過程中,為了在基板100與基板200之間得到均勻的間隔寬,可以應用間隙壁(spacer)置于基板100與基板200之間。
另一方面,請參照圖1G,壓合后通過加熱、照光或其他方法改變光電介質液滴106或是定位結構204表面特性,使得光電介質液滴106可以與定位結構204與定位結構104或是導電層102和導電層202分別直接接觸。
在基板100與基板200壓合形成光電薄膜之后,將整個薄膜進行紫外線照光或是熱工藝或是其他適用的方法或工藝以固化高分子,以保護光電介質液滴106。
又,在上述的實施例中,定位結構是以定位結構104表示,而形成于基板200上方的定位結構204則與形成于基板100上的定位結構104相似。然而,本發(fā)明的上下兩基板上的定位結構并不受限于上述實施例中所述。
圖2A至圖2B繪示根據(jù)本發(fā)明另一實施例的一種定位結構上有光電介質液滴的制造方法的剖面簡圖。圖2C繪示根據(jù)圖2A中的實施例的一種第二基板上有定位結構的制造方法的剖面簡圖。
請參照圖2A,在第一基板300上形成導電層302。導電層302例如是具有全面導電層或是圖案化的導電層。第一基板300例如是可撓式或可彎曲或是堅硬的基板。另外,基板300的材質包括塑膠、金屬、玻璃以及其他合成材質。導電層302的材質包括透明導電材質,例如是銦錫氧化物、銻錫氧化物或是其他合成材質。此外,導電層302的材質還可以是金屬材質,例如鋁、銅、銀、鉬、鉻等。又,導電層302的材質也可以是導電高分子或是導電合成材料例如導電墨水。
在第一基板300上方形成定位結構304。定位結構304包括多個預定形成光電介質液滴的目標區(qū)350以及多個位于目標區(qū)350周圍的周邊區(qū)352。目標區(qū)350的表面張力與周邊區(qū)352者不同,且其形狀與大小可根據(jù)實際需要而改變。在此實施例中,定位結構304例如是由材料層306與間隔圖案層308所構成。材料層306是形成在目標區(qū)350與周邊區(qū)352中的材料層306上。間隔圖案層308是形成在周邊區(qū)152的材料層306上。材料層306的表面張力與間隔圖案層308的表面張力不同。定位結構304的形成方法包括在第一基板300上方全面性形成材料層306,之后在周邊區(qū)352的材料層306上形成間隔圖案層308。在實際應用上,當后續(xù)形成于定位結構304的光電介質液滴需要具有配向性的材料層時,材料層306也可選用同時具有配向性的材料。當而材料層306為具有配向性的材料時,形成材料層306的方法還包括進行配向工藝,例如是絨毛布刷工藝、離子束配向工藝、光配向工藝或其他適用的方法或工藝以使材料層的表面具有配向性。另一種定位結構304是由間隔圖案層308所構成。間隔圖案層308是形成在周邊區(qū)352,間隔圖案層308之間的區(qū)域為目標區(qū)350,裸露出導電層302。形成此定位結構304的方法是不先形成材料層306,而是在第一基板300的周邊區(qū)352直接形成間隔圖案層308,其中,間隔圖案層308的形狀與大小可根據(jù)實際需要而改變。形成間隔圖案層308的方法例如是印刷工藝、涂布工藝、轉印工藝、光刻工藝或是其他適用方法或工藝。間隔圖案層308的高度范圍為0.01~100μm。
請參照圖2B,在目標區(qū)350的材料層306上分別形成光電介質液滴310。而形成光電介質液滴310的方法包括噴墨印刷或其他適用的方法。光電介質液滴310的材質與前述的實施例中的光電介質液滴的材質相同,因此不在此作贅述。由于間隔圖案層308的表面張力與材料層306的表面張力不同,因此光電介質液滴容易聚集于目標區(qū)350的材料層306上。間隔圖案層308的材質例如是具有表面張力小于光電介質液滴310的表面張力的材質。另外,在光電介質液滴表面形成包覆光電介質液滴的膜壁經(jīng)由界面聚合作用形成的程序如前述的實施例,因此不在此作贅述。
請參照圖2C,提供用于與圖2B的第一基板300壓合的第二基板400,其中第二基板400上有導電層402。定位結構404可包括多個目標區(qū)450與周邊區(qū)452,其中,目標區(qū)450的表面張力與周邊區(qū)452者不同。此實施例中,定位結構404的形成方法是在目標區(qū)450與周邊區(qū)452的導電層402上形成材料層406,接著,在周邊區(qū)452的材料層406上形成間隔圖案層408。導電層402、材料層406與間隔圖案層408的材料分別與上述的導電層302、材料層306與間隔圖案層308的材料相同,因此不再此作贅述。在此實施例中,具有定位結構與光電介質液滴的第一基板可以與具有導電層的第二基板直接壓合。
在此實施例中,利用定位結構的目標區(qū)與周邊區(qū)的表面張力的不同,光電介質液滴可以準確的分別在定位結構的目標區(qū)上形成。因此可以很容易的分別對準兩基板上的目標區(qū)。另外,由于材料層可具有表面配向特性,且直接與光電介質液滴接觸,因此可以對液晶類的光電介質配向。
圖3A至圖3B繪示根據(jù)本發(fā)明又一實施例的一種定位結構上有光電介質液滴的制造方法的剖面簡圖。請參照圖3A,提供第一基板500,其中第一基板500上有導電層502。在導電層502上形成定位結構504。定位結構504包括多個預定形成光電介質液滴的目標區(qū)550以及多個位于目標區(qū)550周圍的周邊區(qū)552。目標區(qū)550的表面張力與周邊區(qū)552者不同,且其形狀與大小可根據(jù)實際需要而改變。在此實施例中,定位結構504例如是由材料層508與壁式圖案層506所構成。壁式圖案層506是形成在周邊區(qū)152的導電層502上。材料層508是形成在目標區(qū)550的導電層502上。材料層508的表面張力與壁式圖案層506的表面張力不同。形成此定位置結構504的方法包括在周邊區(qū)552的導電層502上形成壁式圖案層506,且在目標區(qū)550的分導電層502上形成材料層508。材料層508可以是配向材料。另一方面,在一個實施例中,如圖3A’所示,材料層508a可以不僅覆蓋的目標區(qū)550的導電層502,亦可以同時覆蓋周邊區(qū)552的壁式圖案層506。也就是材料層508a覆蓋整個第一基板500。
導電層502例如是具有全面導電層或是圖案化的導電層。導電層502的材質包括透明導電材質,例如是銦錫氧化物、銻錫氧化物或是其他合成材質。此外,導電層502的材質還可以是含金屬材質,例如鋁、銅、銀、鉬、鉻等。又,導電層502的材質也可以是導電高分子或是導電合成材料例如導電墨水。
形成壁式圖案層506的方法包括印刷工藝、模壓工藝、涂布工藝、轉印工藝、光刻工藝或其他適用的工藝或方法。而材料層508若為配向材料,則形成材料層508的方法還包括進行配向工藝,例如是絨毛布刷工藝、離子束配向工藝、光配向工藝或其他適用的方法或工藝以使材料層具有配向性。
請參照圖3B,在位置506a上分別形成光電介質液滴510。值得注意的是,光電介質液滴510是壁式圖案層506所包圍。形成光電介質液滴510的方法包括噴墨印刷或其他適用的方法。而光電介質液滴510的材質例如是液晶、電潤濕流體、電泳介質、電致變色流體或其他適用光電介質材質。另外,光電介質液滴510的材質是與上述實施例中的光電介質液滴的材質相同,因此不在此作贅述。又,在光電介質液滴聚集的每一目標區(qū)550的表面的表面張力與未形成光電介質液滴的周邊區(qū)552的表面的表面張力不同。亦即,所裸露的材料層508的表面張力與壁式圖案層506的表面張力不同,因此光電介質液滴容易聚集于目標區(qū)550的材料層508上。光電介質液滴表面的膜壁512經(jīng)由界面聚合作用形成的程序如前述的實施例,因此不在此作贅述。
此外,請參照圖3B,光電介質液滴510是分別位于壁式圖案層506之間的目標區(qū)550中。位于目標區(qū)550中的光電介質液滴510可以是顏色或是介質材質彼此相互不同的光電介質液滴。由于光電介質液滴510的材質已于之前的實施例中詳述,因此不在此作注贅述。
在前述實施例中,具有定位結構與光電介質液滴的第一基板與僅具有定位結構圖案的第二基板壓合或是直接與具有導電層的第二基板壓合。然而,本發(fā)明并不限于上述實施例中所描述的結構。
請參照圖4A與圖4B,其中第一基板600與第二基板700上皆形成有定位結構604/704,定位結構604/704分別包括目標區(qū)650/750與周邊區(qū)652/752,且目標區(qū)650/750中均形成光電介質液滴606/706。將基板600與基板700分別涂上高分子再壓合。膜壁608與708相接觸的處的部分破裂,且光電介質液滴606與706則相互融合。
上述實施例中,利用定位結構的目標區(qū)與周邊區(qū)的表面張力的不同,亦即,在光電介質液滴聚集的每一目標區(qū)的表面張力與未形成光電介質液滴的周邊區(qū)的表面張力不同,因此光電介質液滴容易聚集在特定位置上。也就是,光電介質液滴可以準確的分別在定位結構的各個目標區(qū)上形成。因此可以很容易的分別對準兩基板上的目標區(qū)。電光介質可以是用電壓驅動電式,或是以采用電流驅動式的亦可。此外,膜壁阻隔不同光電介質,所以彼此獨立的光電介質可以是不同材料或是分別呈現(xiàn)不同顏色。另外,由于基板上的定位結構的目標區(qū)的表面可具有配向性,且直接與光電介質液滴接觸,因此可以對液晶類的光電介質配向,而且整個工藝適用于低成本、高產(chǎn)率的成卷式(Roll-to-roll)連續(xù)工藝。
上述實施例中,兩基板之間僅具有層光電介質結構,然而本發(fā)明并不受限于上述的單層光電介質結構。
在實際應用上,本發(fā)明亦可以在兩基板之間形成雙層光電介質結構。圖5繪示根據(jù)本發(fā)明一個實施例的具有雙層光電介質結構的可撓式光電薄膜的剖面簡圖。請參照圖5,如同之前實施例所述,提供第一基板800,此第一基板800上形成有導電層802以及位于導電層802上的定位結構804。定位結構804例如是由材料層804a與材料層804a的間隙804b所構成。材料層804a是形成在目標區(qū)850中。材料層804a之間的多個間隙204b,裸露出導電層802,其與周邊區(qū)852相對應。如同之前實施例所述,在定位結構804的每一目標區(qū)850上形成光電介質液滴806。之后另提供第二基板900,此基板900上方直接涂布光電介質層906。之后,將第一基板800與第二基板900壓合。其中,依據(jù)實際應用的要求,可在第二基板900與光電介質層906之間,形成具有配向性的材料層904,以使第二基板900上的光電介質層906配向。此外,在第二基板900與材料層904之間還包括一導電層902。值得注意的是,通過包覆光電介質液滴806的膜壁808,使光電介質液滴806與光電介質層906相互隔離。因此光電介質液滴806與光電介質層906可以是不同的光電介質材料或是分別呈現(xiàn)不同顏色的光電介質。舉例而言,光電介質液滴806與光電介質層906可以是反射不同波長的膽甾型液晶或是添加不同染料的主客型液晶或是電泳介質,并且依實際需求,而可設計使雙層光電介質呈現(xiàn)所需色彩,亦或是一層為左旋一層為右旋的膽甾型液晶達到增亮效果。其中光電介質液滴806與光電介質層906的材質與如前述實施例中的光電介質液滴的材質相同,因此不再作贅述。本實施例是以圖1D中所述的基板100的結構作為第一基板800為例,然而,在實際應用上,第一基板可沿用前述實施例中所舉的第一基板300的結構(如圖2B)以及第一基板500的結構(如圖3B),而達成圖5的雙層光電介質結構的可撓式光電薄膜的結構。
圖6A與圖6B分別繪示根據(jù)本發(fā)明另一實施例的具有雙層光電介質結構的可撓式光電薄膜的剖面簡圖。請參照圖6A與6B,第一基板1000與第二基板1100上皆形成有定位結構1004/1104,定位結構1004/1104分別包括目標區(qū)1050/1150與周邊區(qū)1052/1052,且目標區(qū)1050/1150中均形成光電介質液滴1006/1106。將基板1000與基板1100分別涂上高分子再壓合。其中,位于第一基板1000上的光電介質液滴1006與位于第二基板1100上的光電介質液滴1106是分別形成在定位結構1004/1104的目標區(qū)1050/1150的材料層1004a/1104a上,且分別被膜壁1008與1108所包覆,且光電介質液滴1006與1106相互隔離。因此,如之前實施例中所述,光電介質液滴1006與1106可以是不同的光電介質材料或是分別呈現(xiàn)不同顏色的光電介質。并且通過形成不同光電介質材料或是分別呈現(xiàn)不同顏色光的光電介質的光電介質液滴1006與1106,可以依實際需求客制化所需色彩,并達到增亮的效果。,其中,光電介質液滴及定位結構的材質與前述的實施例中相同,且形成光電介質液滴及定位結構的方法亦與前述的實施例相同,因此不在此作贅述。
前述實施例中(圖4A-4B、5、6A-6B),定位結構是以圖1A-1G的實施例中所述的定位結構為例,然而本發(fā)明并不受限于此定位結構。也就是,前述的具有雙層光電介質結構的可撓式光電薄膜的定位結構亦可應用圖2A-2C或是圖3A-3B的實施例中所述的定位結構。另外,就圖4A、4B、6A與6B,中所繪示的顯示器而言,其中位于兩基板上的光電介質液滴可以是彼此相對應對準(如圖4A與6A)或,也可以是上下兩光電介質液滴彼此錯開排列。
此外上述的多層光電介質結構中,由于在基板上形成具有表面配向性的材料層,且此材料層直接與光電介質液滴接觸,因此可以對液晶類的光電介質配向。再者,利用膜壁阻隔不同光電介質,所以各自獨立的光電介質可以是不同材料或是分別呈現(xiàn)不同顏色。例如各層光電介質液滴是具有不同反射波長的膽甾型液晶或是其中添加不同染料的主客型液晶或是電泳介質。依據(jù)實際需求而設計各層光電介質液滴,以使具有多層光電介質結構的顯示器呈現(xiàn)所需色彩,亦或是使多層光電介質結構的顯示器中,一層為左旋一層為右旋的膽甾型液晶,使的達到增亮效果。此外,光電介質可以是用電壓驅動電式,或是采用電流驅動式。
雖然本發(fā)明已以實施例披露如上,然其并非用以限定本發(fā)明,本領域技術人員在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi),當可作些許的更動與潤飾,因此本發(fā)明的保護范圍當視后附的權利要求所界定的為準。
權利要求
1.一種可撓式光電薄膜的形成方法,其包括
在第一基板上形成第一導電層;
在該第一導電層上形成第一定位結構,該第一定位結構包括多個第一目標區(qū)與位于該第一目標區(qū)周圍的多個第一周邊區(qū),且該第一目標區(qū)的表面張力與該第一周邊區(qū)的表面張力不同;
進行光電介質放置工藝以在每一該第一目標區(qū)上形成第一光電介質液滴;
進行固化工藝以分別形成第一膜壁覆蓋每一該第一光電介質液滴;
提供第二基板,該第二基板上已形成第二導電層;以及
壓合該第一基板與該第二基板。
2.如權利要求1所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中該第二基板的該第二導電層上還包括第二定位結構,該第二定位結構包括多個第二目標區(qū)與位于該第二目標區(qū)周圍的多個第二周邊區(qū),且該第二基板以該第二目標區(qū)對準該第一膜壁的形式與該第一基板相壓合。
3.如權利要求1所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中形成該第一定位結構的方法包括
在該第一導電層上形成第一材料層,該第一材料層分別配置于該第一目標區(qū)中,該第一材料層之間的多個第一間隙裸露出該周邊區(qū)的該第一導電層。
4.如權利要求3所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中該第二基板的該第二導電層上還包括第二定位結構,該第二定位結構包括多個第二目標區(qū)與位于該第二目標區(qū)周圍的多個第二周邊區(qū),形成該第二定位結構的方法包括
在該第二導電層上形成多個第二圖案化材料層,各該第二圖案化材料層分別配置于該第二目標區(qū)上,該第二圖案化材料層之間的多個第二間隙裸露出該周邊區(qū)的該第二導電層。
5.如權利要求1所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中形成該第一定位結構的方法包括
在該第一導電層上的該第一目標區(qū)與該周邊區(qū)形成第一材料層;以及
在該第一材料層上的該第一周邊區(qū)中分別形成第一間隔圖案層,裸露出該第一目標區(qū)中的該第一材料層,且該第一間隔圖案層的表面張力與該第一材料層的表面張力不同。
6.如權利要求5所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中該第二基板的該第二導電層上還包括第二定位結構,該第二定位結構包括多個第二目標區(qū)與位于該第二目標區(qū)周圍的多個第二周邊區(qū),形成該第二定位結構的方法包括
在該第二導電層上的該第二目標區(qū)與該第一周邊區(qū)形成第二材料層;以及在該第二材料層上的該第二周邊區(qū)分別形成第二間隔圖案層,且該第二間隔圖案層的表面張力與該第二材料層的表面張力不同。
7.如權利要求1所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中形成該第一定位結構的方法包括
在該第一導電層上的各該第一周邊區(qū)中形成第一間隔圖案層,裸露出該第一目標區(qū)的該第一導電層。
8.如權利要求1所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中形成該第一定位結構的方法包括
在該第一導電層上的該第一周邊區(qū)中分別形成壁式圖案層,裸露出該第一目標區(qū)中的該第一導電層;以及
在該壁式圖案層以及該第一導電層上形成第一材料層。
9.如權利要求1所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中該第一光電介質放置工藝包括噴墨印刷。
10.如權利要求1所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中該第二基板的該第二導電層上還包括第二定位結構,該第二定位結構包括多個第二目標區(qū)與位于該第二目標區(qū)周圍的多個第二周邊區(qū),且每一該第二目標區(qū)上包括第二光電介質液滴。
11.如權利要求10所述的可撓式光電薄膜的形成方法,在該第一基板與該第二基板壓合步驟中,該第一基板上方的該第一光電介質液滴分別與該第二基板上方的該第二光電介質液滴相溶合。
12.如權利要求10所述的可撓式光電薄膜的形成方法,在該第一基板與該第二基板壓合步驟中,該第一基板上方的該第一光電介質液滴分別與該第二基板上方的該第二光電介質液滴相以該膜壁相互隔離。
13.如權利要求12所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中該第一光電介質液滴的材質與該第二光電介質液滴的材質不同。
14.如權利要求12所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中該第一光電介質液滴的顏色與該第二光電介質液滴的顏色不同。
15.如權利要求1或10所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中該第一光電介質液滴與該第二光電介質液滴的材料分別選自由液晶、電潤濕流體、電泳介質、電致變色流體、膽甾型液晶與主客型液晶所組成的群組。
16.如權利要求1所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中每一該第一定位結構的該第一目標區(qū)域具有表面配向性。
17.如權利要求2所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中每一該第二定位結構的該第二目標區(qū)域具有表面配向性。
18.如權利要求1所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中至少該第一光電介質液滴其中之一的材質或顏色與其他該第一光電介質液滴的材質或顏色不同。
19.如權利要求1所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中所提供的該第二基板上還包括第二光電介質層位于該第二導電層上,且在進行壓合該第一基板與第二基板之后,該第一光電介質液滴通過該第一膜壁與該光電介質層接觸。
20.如權利要求19所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中該第二光電介質液滴與該光電介質層的材料分別選自由液晶、電潤濕流體、電泳介質、電致變色流體、膽甾型液晶與主客型液晶所組成的群組。
21.如權利要求19所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中該光電介質層的材質與該第一光電介質液滴的材質不同。
22.如權利要求19所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中該光電介質層的顏色與該第一光電介質液滴的顏色不同。
23.如權利要求19所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中形成該第一定位結構的方法包括
在該第一基板上方形成多個第一材料層,各該第一材料層分別配置于該第一目標區(qū)上,該第一材料層之間的多個間隙裸露出該第一周邊區(qū)的該第一導電層。
24.如權利要求23所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中該第一材料層具有表面配向性。
25.如權利要求19所述的可撓式光電薄膜的形成方法,還包括在該第二基板與該光電介質層之間形成材料層。
26.如權利要求25所述的可撓式光電薄膜的形成方法,其中該材料層具有表面配向性。
27.一種可撓式光電薄膜,包括
第一基板,其中該第一基板上有第一導電層;
第一定位結構位在該第一導電層上,該第一定位結構包括多個第一目標區(qū)與位于該第一目標區(qū)周圍的多個第一周邊區(qū);
多個第一光電介質液滴分別位于該第一目標區(qū)上,該第一光電介質液滴的上表面分別被第一膜壁包覆;以及
第二基板位于該第一基板上方。
28.如權利要求27所述的可撓式光電薄膜,其中該第一定位結構包括多個第一材料層配置于該第一目標區(qū)的該第一導電層上,該第一材料層之間的多個間隙裸露出該周邊區(qū)的該第一導電層。
29.如權利要求28所述的可撓式光電薄膜,其中該第一材料層的材質包括配向材料,或表面張力與該第一導電層的表面張力不同的材料。
30.如權利要求27所述的可撓式光電薄膜,其中該第一定位結構包括
第一材料層位于該第一目標區(qū)與該第一周邊區(qū)中的該第一導電層上;以及
第一間隔圖案層位于該第一周邊區(qū)內(nèi)的該第一材料層上,并裸露出該第一目標區(qū)中的該第一材料層,且該第一間隔圖案層的表面張力與該第一材料層的表面張力不同。
31.如權利要求30所述的可撓式光電薄膜,其中該間隔圖案層的高度范圍為0.01~100μm。
32.如權利要求27所述的可撓式光電薄膜,其中該第一定位結構包括
第一間隔圖案層位于該第一周邊區(qū)內(nèi)上,并裸露出該第一目標區(qū)中的導電層,且該第一間隔圖案層的表面張力與該第一導電層的表面張力不同。
33.如權利要求32所述的可撓式光電薄膜,其中該間隔圖案層的高度范圍為0.01~100μm。
34.如權利要求27所述的可撓式光電薄膜,其中該第一定位結構包括
壁式結構,位于該第一導電層上的該第一周邊區(qū)內(nèi);以及
第一材料層,位于該第一導電層與該壁式圖案層上。
35.如權利要求27所述的可撓式光電薄膜,其中該第一光電介質液滴的材質彼此不同。
36.如權利要求27所述的可撓式光電薄膜,其中該第一光電介質液滴的顏色彼此不同。
37.如權利要求27所述的可撓式光電薄膜,其中該第一光電介質液滴的材質選自由液晶、電潤濕流體、電泳介質、電致變色流體所組成的群組。
38.如權利要求27所述的可撓式光電薄膜,其中該第一膜壁不低于該壁式結構的上表面。
39.如權利要求27所述的可撓式光電薄膜,其中該第二基板還包括
第二導電層,位于該第二基板上;以及
第二定位結構,位于該第二導電層與該第一光電介質液滴的該第一膜壁之間,其包括多個第二目標區(qū)與位于該第二目標區(qū)周圍的多個第二周邊區(qū),該第二目標區(qū)與些第一目標區(qū)相對應,該第二周邊區(qū)與該第一周邊區(qū)相對應。
40.如權利要求39所述的可撓式光電薄膜,其中該第二定位結構的每一該第二目標區(qū)具有表面配向性。
41.如權利要求27所述的可撓式光電薄膜,包括
光電介質層位于該第一基板與該第二基板之間,該光電介質層與該第一光電介質液滴之間以該第一膜壁彼此隔離。
42.如權利要求41所述的可撓式光電薄膜,其中該光電介質層的材質與該第一光電介質液滴的材質不同。
43.如權利要求41所述的可撓式光電薄膜,其中該光電介質層的顏色與該光電介質液滴的顏色不同。
44.如權利要求41所述的可撓式光電薄膜,其中該第一定位結構包括
多個第一材料層,分別配置于該第一基板的該第一目標區(qū)上,該第一材料層之間的多個間隙裸露出該周邊區(qū)的該第一導電層。
45.如權利要求44所述的可撓式光電薄膜,其中該第一材料層的材質為配向材料,或表面張力與該第一導電層的表面張力不同的材料。
46.如權利要求41所述的可撓式光電薄膜,其中該光電介質層與該第二基板之間還包括第二材料層。
47.如權利要求46所述的可撓式光電薄膜,其中該第二材料層的材質包括配向材料。
48.如權利要求39所述的可撓式光電薄膜,包括
多個第二光電介質液滴分別位于該第二目標區(qū)上,其中每一該第二光電介質液滴被第二膜壁所包覆,且每一該第一光電介質液滴與每一該第二光電介質液滴彼此以該第一膜壁與該第二膜壁相互隔離。
49.如權利要求48所述的可撓式光電薄膜,其中該第二光電介質液滴的材質與該第一光電介質液滴的材質不同。
50.如權利要求48所述的可撓式光電薄膜,其中該第二光電介質液滴的顏色與該第一光電介質液滴的顏色不同。
51.如權利要求48所述的可撓式光電薄膜,其中該第一定位結構包括
多個第一材料層,分別配置于該第一基板的該第一目標區(qū)上,該第一材料層之間的多個間隙裸露出該第一周邊區(qū)的該第一導電層。
52.如權利要求51所述的可撓式光電薄膜,其中該第一材料層的材質包括配向材料,或表面張力與該第一導電層的表面張力不同的材料。
53.如權利要求48所述的可撓式光電薄膜,其中每一該第二光電介質液滴與該第二基板之間還包括第二材料層。
54.如權利要求53所述的可撓式光電薄膜,其中該第二材料層的材質包括配向材料,或表面張力與該第二導電層的表面張力不同的材料。
55.如權利要求48所述的可撓式光電薄膜,其中該第一光電介質液滴與該第二光電介質液滴分別相對應對準排列。
56.如權利要求48所述的可撓式光電薄膜,其中該第一光電介質液滴與該第二光電介質液滴分別錯開排列。
全文摘要
一種可撓式光電薄膜的形成方法,此方法包括提供第一基板,其中該第一基板上具有導電層。之后,在該導電層上形成第一定位結構,其中該第一定位結構包括多個第一目標區(qū)與位于該第一目標區(qū)周圍的多個第一周邊區(qū),該第一目標區(qū)的表面張力與該第一周邊區(qū)的表面張力不同。接著,進行光電介質放置工藝以在每一該第一目標區(qū)上形成電光介質液滴。接著,進行固化工藝以分別形成膜壁覆蓋每一該第一電光介質液滴。最后,壓合該第一基板與第二基板。
文檔編號G02F1/15GK101109851SQ20071010084
公開日2008年1月23日 申請日期2007年4月20日 優(yōu)先權日2006年7月20日
發(fā)明者侯維新, 丁兆民, 王興龍, 廖奇璋, 林雁容 申請人:財團法人工業(yè)技術研究院
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