專(zhuān)利名稱(chēng)：顯示裝置及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本公開(kāi)涉及顯示裝置及制造該顯示裝置的方法。
背景技術(shù)：
液晶顯示器(LCD)設(shè)備利用具有電介質(zhì)各向異性的液晶材料的光學(xué)和電學(xué)特性來(lái)顯示圖像。LCD設(shè)備包括介于濾色器基板和薄膜晶體管(TFT)陣列基板之間的液晶材料。公共電極形成在濾色器基板的整個(gè)表面上以提供公共電壓。像素電極形成在TFT陣列基板上以接收數(shù)據(jù)信號(hào)。多個(gè)用以控制TFT的柵極線和用以向TFT提供數(shù)據(jù)信號(hào)的數(shù)據(jù)線形成在TFT陣列基板上。
TFT陣列基板可包括用以修復(fù)開(kāi)線(open-line)缺陷的修復(fù)線。當(dāng)在檢查過(guò)程中發(fā)現(xiàn)數(shù)據(jù)線開(kāi)線缺陷，則采用例如激光焊接方式修復(fù)該開(kāi)線缺陷，所以數(shù)據(jù)線和修復(fù)線電連接。
然而，修復(fù)成功率可能依賴(lài)于用在數(shù)據(jù)線和修復(fù)線中的金屬而改變。修復(fù)數(shù)據(jù)線以后，數(shù)據(jù)線修復(fù)部分處電流的增加導(dǎo)致隨著時(shí)間推移的發(fā)展的開(kāi)線缺陷。

發(fā)明內(nèi)容
在本發(fā)明的一個(gè)示范性實(shí)施例中，顯示裝置包括信號(hào)線，形成在基板上；修復(fù)線，形成在基板上，與信號(hào)線交叉并絕緣；第一冗余傳導(dǎo)圖案，形成在信號(hào)線與修復(fù)線交叉的基板的第一區(qū)域，其中第一冗余傳導(dǎo)圖案與信號(hào)線和修復(fù)線絕緣。
第一冗余傳導(dǎo)圖案可以是電浮置(electrically-floating)傳導(dǎo)圖案。當(dāng)信號(hào)線被修復(fù)時(shí)，信號(hào)線和修復(fù)線可以在第一區(qū)域電連接到第一冗余傳導(dǎo)圖案。
在本發(fā)明的一個(gè)示范性實(shí)施例中，制造顯示裝置的方法包括在基板上形成信號(hào)線；在基板上形成修復(fù)線，該修復(fù)線與信號(hào)線交叉并與信號(hào)線絕緣；以及形成第一冗余傳導(dǎo)圖案，該第一冗余傳導(dǎo)圖案在信號(hào)線和修復(fù)線交叉的基板第一區(qū)域上與信號(hào)線和修復(fù)線絕緣。


當(dāng)參考附圖對(duì)示范性實(shí)施例加以描述時(shí)，對(duì)所屬領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)本發(fā)明將變得更加顯而易見(jiàn)，圖1是示出根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示范性實(shí)施例的顯示裝置的平面圖；圖2是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示范性實(shí)施例的修復(fù)部分的平面圖；圖3A和圖3B是沿圖2中線III-III’的截面圖；圖3C是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示范性實(shí)施例的修復(fù)后的圖2的截面圖；圖4是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示范性實(shí)施例的修復(fù)部分的平面圖；圖5是沿圖4中線V-V’的截面圖；圖6是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示范性實(shí)施例的修復(fù)部分的平面圖；圖7是沿圖6中線VII-VII’的截面圖；圖8是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示范性實(shí)施例的修復(fù)部分的平面圖；圖9是沿圖8中線IX-IX’的截面圖；圖10是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示范性實(shí)施例的修復(fù)部分的平面圖；圖11是沿圖10中線XI-XI’的截面圖；圖12A和圖12B是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示范性實(shí)施例的修復(fù)部分的平面圖；圖13是沿圖12中線XIII-XIII’的截面圖；圖14A和圖14B是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示范性實(shí)施例的修復(fù)部分的平面圖；圖15是沿圖14中線XV-XV’的截面圖；圖16是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示范性實(shí)施例的修復(fù)部分的平面圖。
具體實(shí)施例方式
應(yīng)當(dāng)理解，當(dāng)提及一元件或?qū)印霸?.....上”、“連接到”或“耦合到”另一元件或?qū)?，它可以是直接在之上、連接或耦合到其它元件或?qū)樱蛘叽嬖谥虚g元件或?qū)?。在整個(gè)附圖描述中，相同的附圖標(biāo)記代表相同或類(lèi)似的元件。
以下將參考附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的示范性實(shí)施例。
圖1是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示范性實(shí)施例的顯示裝置的平面圖。
參見(jiàn)圖1，圖像顯示部分(10)包括多個(gè)相互交叉的柵極線12和數(shù)據(jù)線14，以及形成在該多個(gè)柵極線12和多個(gè)數(shù)據(jù)線14交叉處的像素，像素由薄膜晶體管(TFT)獨(dú)立驅(qū)動(dòng)。像素由像素電極電壓和公共電極電壓之間的電壓差來(lái)進(jìn)行電充電。顯示裝置通過(guò)向像素電極和公共電極施加電壓以在液晶層中產(chǎn)生電場(chǎng)從而顯示圖像，其中該電場(chǎng)排列該液晶層的液晶分子以控制入射光的偏振。顯示裝置通過(guò)調(diào)整像素電極和公共電極之間的電壓來(lái)實(shí)現(xiàn)灰度等級(jí)。
相互交叉的多個(gè)柵極線12和多個(gè)數(shù)據(jù)線14通過(guò)絕緣層而相互絕緣。為了修復(fù)數(shù)據(jù)線14中的開(kāi)線缺陷，多個(gè)修復(fù)線16形成環(huán)形結(jié)構(gòu)的配置并且通過(guò)第一絕緣層與多個(gè)數(shù)據(jù)線14相交叉。例如，多個(gè)修復(fù)線16和多個(gè)柵極線12通過(guò)第一傳導(dǎo)層形成。多個(gè)數(shù)據(jù)線14通過(guò)使用第二傳導(dǎo)層形成并且通過(guò)第一絕緣層而與第一傳導(dǎo)層絕緣。
當(dāng)在檢查過(guò)程中發(fā)現(xiàn)數(shù)據(jù)線14開(kāi)線缺陷時(shí)，則向數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間的交叉部分照射激光，所以數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16被焊接。修復(fù)線16通過(guò)激光而在數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間交叉部分的上部和下部被焊接。因而，數(shù)據(jù)線開(kāi)線缺陷下方的數(shù)據(jù)線14從穿過(guò)修復(fù)線16的數(shù)據(jù)驅(qū)動(dòng)電路部分接收數(shù)據(jù)信號(hào)。
根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示范性實(shí)施例的顯示裝置包括冗余傳導(dǎo)圖案和增加的激光焊接點(diǎn)中的至少一個(gè)，并且可以增加激光焊接的成功率、以及可以抑制開(kāi)線缺陷的發(fā)展。以下，根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的位于數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間的交叉部分將參考圖2-圖16得以描述。
圖2是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示范性實(shí)施例的修復(fù)部分的平面圖，圖3A和圖3B是沿圖2中線III-III’的截面圖。圖3C是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示范性實(shí)施例的被修復(fù)后的圖2的截面圖。參見(jiàn)圖2到圖3B，數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16交叉并且通過(guò)第一絕緣層32而相互絕緣。冗余傳導(dǎo)圖案20形成在數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間的交叉部分，并且通過(guò)第二絕緣層34而與數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16絕緣。
在圖像顯示部分10中的柵極線12被圖案化并且通過(guò)采用第一傳導(dǎo)金屬層形成的同時(shí)，修復(fù)線16形成。例如，修復(fù)線16具有重疊在數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間交叉部分上的窄寬度部分，以減少由數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間重疊導(dǎo)致的寄生電容。柵極金屬層可以是鉬、鋁、鉻或其合金，并且形成為一層或超過(guò)兩層。例如，柵極金屬層可以是鋁和鉬雙層。作為第一絕緣層的柵極絕緣層32形成在具有修復(fù)線16的絕緣基板(30)上。柵極絕緣層32可以是例如氧化硅(Si0x)和氮化硅(SiNx)的無(wú)機(jī)材料。
數(shù)據(jù)線14通過(guò)圖案化源/漏金屬層、第二傳導(dǎo)層而形成在柵極絕緣層32上。數(shù)據(jù)線14與修復(fù)線16交叉并與修復(fù)線16絕緣。源/漏金屬層可以包括鉬、鋁、鉻及其合金，并可以形成為一層或更多層。例如，源/漏金屬層可以形成為鉬/鋁/鉬三層。另外，半導(dǎo)體圖案24可以在形成數(shù)據(jù)線14之前就形成在修復(fù)線16和數(shù)據(jù)線14之間的交叉部分上，以通過(guò)增加數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間的距離來(lái)減少寄生電容。如圖3B所示，半導(dǎo)體圖案24可以省略。
當(dāng)圖像顯示部分10中薄膜晶體管的溝道被圖案化時(shí)，半導(dǎo)體圖案24可以通過(guò)圖案化非晶硅而形成。作為第二絕緣層的保護(hù)層34可以形成在其上形成有數(shù)據(jù)線14的柵極絕緣層32上。保護(hù)層34可以包含例如氧化硅(SiOx)和氮化硅(SiNx)的無(wú)機(jī)絕緣材料，或者可以采用有機(jī)絕緣材料。冗余傳導(dǎo)圖案20形成在數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間交叉部分處的保護(hù)層34上。例如，當(dāng)圖像顯示部分10中的像素電極形成時(shí)，作為第三傳導(dǎo)層的冗余傳導(dǎo)圖案20可以通過(guò)圖案化透明傳導(dǎo)層而形成，其中冗余傳導(dǎo)圖案20覆蓋數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間的交叉部分。透明傳導(dǎo)層可以包含ITO(氧化銦錫)、TO(氧化錫)、IZO(氧化銦鋅)和/或ITZO。在圖像顯示部分10中具有反射電極的透反模式(trans-reflective mode)情況下，冗余傳導(dǎo)圖案20可以在反射電極形成時(shí)通過(guò)圖案化反射金屬層而形成。例如，冗余傳導(dǎo)圖案20可以形成為雙層，例如透明傳導(dǎo)層/反射金屬層。為了減少寄生電容，冗余傳導(dǎo)圖案20可以是電浮置傳導(dǎo)圖案。
當(dāng)數(shù)據(jù)線14被修復(fù)時(shí)，冗余傳導(dǎo)圖案20與修復(fù)線16和數(shù)據(jù)線14一起熔化并且冗余傳導(dǎo)圖案20電連接到數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16。如圖3C所示，冗余傳導(dǎo)圖案20可以在焊接點(diǎn)22處加強(qiáng)數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間的電接觸。參考圖3B和圖3C，數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16例如通過(guò)激光26焊接而通過(guò)冗余傳導(dǎo)圖案10電連接成為雙電接觸。
在本發(fā)明的一個(gè)示范性實(shí)施例中，通過(guò)包括冗余傳導(dǎo)圖案20，修復(fù)數(shù)據(jù)線14中開(kāi)線缺陷的成功率可以增加并且開(kāi)線缺陷的發(fā)展可以得到抑制。
圖4是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示范性實(shí)施例的修復(fù)部分的平面圖，而圖5是沿圖4中線V-V’的截面圖。
參考圖4和圖5，冗余傳導(dǎo)圖案40與數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間的交叉部分分離。冗余傳導(dǎo)圖案40的第一部分在與數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間交叉部分不同的部分處與數(shù)據(jù)線14重疊，并且冗余傳導(dǎo)圖案40的第二部分在與數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間交叉部分不同的部分處與修復(fù)線16重疊。冗余傳導(dǎo)圖案40通過(guò)保護(hù)層34與數(shù)據(jù)線14重疊，并且通過(guò)保護(hù)層34和柵極絕緣層32與修復(fù)線16重疊。冗余傳導(dǎo)圖案40通過(guò)使用透明傳導(dǎo)層和反射金屬層中的至少一個(gè)而形成在保護(hù)層32上，以形成電浮置傳導(dǎo)圖案，并且由冗余傳導(dǎo)圖案導(dǎo)致的寄生電容的增加可以得到抑制。
當(dāng)數(shù)據(jù)線14被修復(fù)時(shí)，數(shù)據(jù)線14在數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間的交叉部分處采用例如激光焊接方式經(jīng)由焊接點(diǎn)22電連接到修復(fù)線16。數(shù)據(jù)線14可以經(jīng)由冗余傳導(dǎo)圖案40，并經(jīng)由數(shù)據(jù)線14和冗余傳導(dǎo)圖案40之間重疊部分處的焊接點(diǎn)42以及修復(fù)線16和冗余傳導(dǎo)圖案40之間重疊部分處的焊接點(diǎn)44，而電連接到修復(fù)線。在本發(fā)明的一個(gè)示范性實(shí)施例中，數(shù)據(jù)線14在多個(gè)焊接點(diǎn)22、42、44處經(jīng)由冗余傳導(dǎo)圖案40而電連接到修復(fù)線16，并且修復(fù)數(shù)據(jù)線14的成功率得到增加。從數(shù)據(jù)線14提供到修復(fù)線16的電流可以被分布到多個(gè)焊接點(diǎn)22、42、44，從而每個(gè)焊接點(diǎn)處的電流量可以得到減少并且開(kāi)線缺陷的發(fā)展得到抑制。
圖6是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示范性實(shí)施例的修復(fù)部分的平面圖，圖7是沿圖6中線VII-VII’的截面圖。
參考圖6和圖7，第一冗余傳導(dǎo)圖案20重疊在數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間的交叉部分。第二冗余傳導(dǎo)圖案40的一部分與數(shù)據(jù)線14在與數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間交叉部分不同的部分處重疊，并且第二冗余傳導(dǎo)圖案40的另一部分與修復(fù)線16在與數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間交叉部分不同的部分處重疊。第一和第二冗余傳導(dǎo)圖案20、40采用透明傳導(dǎo)層和/或反射金屬層而形成在保護(hù)層34上，并且可以電浮置，從而由第一和第二冗余傳導(dǎo)圖案20、40導(dǎo)致的寄生電容的增加可以得到抑制。第一冗余傳導(dǎo)圖案20通過(guò)保護(hù)層34與數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間的交叉部分重疊。第二冗余傳導(dǎo)圖案40的一部分在與數(shù)據(jù)線和修復(fù)線交叉部分不同的部分處通過(guò)保護(hù)層34與數(shù)據(jù)線14重疊，并且第二冗余傳導(dǎo)圖案40的另一部分在與數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間交叉部分不同的部分處通過(guò)保護(hù)層34和柵極絕緣層32與修復(fù)線16重疊。
當(dāng)數(shù)據(jù)線14被修復(fù)時(shí)，數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16在數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間的交叉部分處采用例如激光焊接方式經(jīng)由焊接點(diǎn)22電連接到第一冗余傳導(dǎo)圖案20。數(shù)據(jù)線14可以通過(guò)第二冗余傳導(dǎo)圖案40，經(jīng)由數(shù)據(jù)線14和第二冗余傳導(dǎo)圖案40之間重疊部分處的焊接點(diǎn)42以及修復(fù)線16和第二冗余傳導(dǎo)圖案40之間重疊部分處的焊接點(diǎn)44，而電連接到修復(fù)線。在本發(fā)明的一個(gè)示范性實(shí)施例中，數(shù)據(jù)線14經(jīng)由多個(gè)焊接點(diǎn)22、42、44處的第一和第二冗余傳導(dǎo)圖案20、40而電連接到修復(fù)線16，并且修復(fù)數(shù)據(jù)線14的成功率得到增加。從數(shù)據(jù)線14提供到修復(fù)線16的電流被分布到多個(gè)焊接點(diǎn)22、42、44，從而每個(gè)焊接點(diǎn)處的電流量得到減少并且開(kāi)線缺陷的發(fā)展可以得到抑制。
圖8是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示范性實(shí)施例的修復(fù)部分的平面圖，圖9是沿圖8中線IX-IX’的截面圖。圖10是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示范性實(shí)施例的修復(fù)部分的平面圖，圖11是圖10中沿線XI-XI’的截面圖。
根據(jù)圖8到圖11，冗余傳導(dǎo)圖案40的一部分在與數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間交叉部分不同的部分處與數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之一絕緣并重疊，并且冗余傳導(dǎo)圖案的另一部分電連接到數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之一。如圖8和圖9所示，冗余傳導(dǎo)圖案40的一部分通過(guò)保護(hù)層34和柵極絕緣層32與修復(fù)線16重疊，冗余傳導(dǎo)圖案40的另一部分通過(guò)穿過(guò)保護(hù)層34的接觸孔46電連接到數(shù)據(jù)線14。如圖10和圖11所示，冗余傳導(dǎo)圖案40的一部分通過(guò)保護(hù)層34與數(shù)據(jù)線14重疊，冗余傳導(dǎo)圖案40的另一部分經(jīng)由穿過(guò)保護(hù)層34和柵極絕緣層32的接觸孔48電連接到修復(fù)線16。冗余傳導(dǎo)圖案40的一部分可以電浮置，從而由冗余傳導(dǎo)圖案40導(dǎo)致的寄生電容不會(huì)增加。冗余傳導(dǎo)圖案40可以采用透明傳導(dǎo)層和/或反射金屬層而形成在保護(hù)層34上。
當(dāng)數(shù)據(jù)線14被修復(fù)時(shí)，數(shù)據(jù)線14在數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16的交叉部分處經(jīng)由焊接點(diǎn)22電連接到修復(fù)線16。數(shù)據(jù)線14可以經(jīng)由冗余傳導(dǎo)圖案40，經(jīng)由位于數(shù)據(jù)線14之間重疊部分處的焊接點(diǎn)42而電連接到修復(fù)線16，如圖10和圖11所示，數(shù)據(jù)線14可以經(jīng)由冗余傳導(dǎo)圖案40和位于修復(fù)線16和冗余傳導(dǎo)圖案40之間的重疊部分處的焊接點(diǎn)44而電連接到修復(fù)線16，如圖8和圖9所示。如圖6和圖7所示，冗余傳導(dǎo)圖案20可以形成在數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間的交叉部分處。在本申請(qǐng)的一個(gè)示范性實(shí)施例中，數(shù)據(jù)線14經(jīng)由位于多個(gè)焊接點(diǎn)22、42、44處的冗余傳導(dǎo)圖案40和接觸孔46、48而電連接到修復(fù)線16，并且修復(fù)數(shù)據(jù)線14的成功率可以得到增加。從數(shù)據(jù)線14提供到修復(fù)線16的電流分布到多個(gè)焊接點(diǎn)22、42或22、44，從而每個(gè)焊接點(diǎn)的電流量得到減少并且開(kāi)線缺陷的發(fā)展得到抑制。激光焊接的數(shù)量可以通過(guò)采用接觸孔46、48而得到減少。
圖12A和圖12B是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示范性實(shí)施例的修復(fù)部分的平面圖。圖13是沿圖12中線XIII-XIII’的截面圖。
參考圖12和圖13，冗余傳導(dǎo)圖案50與數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間的交叉部分重疊，并且沿著數(shù)據(jù)線14和沿著修復(fù)線16延伸，且冗余傳導(dǎo)圖案50與數(shù)據(jù)線14或修復(fù)線16在與數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間交叉部分不同的部分處重疊。換句話說(shuō)，冗余傳導(dǎo)圖案50通過(guò)保護(hù)層34與數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間的交叉部分重疊，并且冗余傳導(dǎo)圖案50的一部分延伸并通過(guò)保護(hù)層34與數(shù)據(jù)線14重疊，且冗余傳導(dǎo)圖案50的另一部分延伸并通過(guò)保護(hù)層34和柵極絕緣層32與修復(fù)線16重疊。
冗余傳導(dǎo)圖案50可以具有正方形，如圖12A所示，或者可以具有“L”形，如圖12B所示。如圖12A所示冗余傳導(dǎo)圖案50的結(jié)構(gòu)可以與圖6和圖7所示第一和第二冗余傳導(dǎo)圖案20、40的結(jié)合結(jié)構(gòu)相同。冗余傳導(dǎo)圖案50可以采用透明傳導(dǎo)層和/或反射金屬層而形成在保護(hù)層上。冗余傳導(dǎo)圖案50可以電浮置，并且由冗余傳導(dǎo)圖案50導(dǎo)致的寄生電容的增加可以得到抑制。
當(dāng)數(shù)據(jù)線14被修復(fù)時(shí)，數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16在數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16之間交叉部分處通過(guò)例如激光26焊接方式經(jīng)由焊接點(diǎn)22而電連接到冗余傳導(dǎo)圖案50。另外，數(shù)據(jù)線14可以在數(shù)據(jù)線14和冗余傳導(dǎo)圖案50之間重疊部分處通過(guò)例如激光26焊接方式經(jīng)由焊接點(diǎn)42而電連接到冗余傳導(dǎo)圖案50。另外，修復(fù)線16可以在修復(fù)線16和冗余傳導(dǎo)圖案50之間重疊部分處通過(guò)例如激光26焊接方式經(jīng)由焊接點(diǎn)44而電連接到冗余傳導(dǎo)圖案50。
在本發(fā)明的一個(gè)示范性實(shí)施例中，數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線16通過(guò)冗余傳導(dǎo)圖案50以及多個(gè)焊接點(diǎn)22、42、44而相互電連接，從而修復(fù)數(shù)據(jù)線14的成功率可以增加，且由于電流分布使得每個(gè)焊接點(diǎn)22、42、44的電流量可以減少，且每個(gè)焊接點(diǎn)22、42、44處開(kāi)線缺陷的發(fā)展可以得到抑制。
圖14A和圖14B是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示范性實(shí)施例的修復(fù)部分的平面圖。圖15是沿圖14中線XV-XV’的截面圖。
除了第二冗余傳導(dǎo)圖案52在第一冗余傳導(dǎo)圖案50和修復(fù)線16之間形成，如圖14和圖15所示數(shù)據(jù)線14的修復(fù)部分與如圖12和圖13所示數(shù)據(jù)線14的修復(fù)部分類(lèi)似。第二冗余傳導(dǎo)圖案52形成在柵極絕緣層32上，并具有用在數(shù)據(jù)線14中的第二傳導(dǎo)層，換句話說(shuō)，就是源/漏金屬層。第二冗余傳導(dǎo)圖案52通過(guò)第一冗余傳導(dǎo)圖案50用例如激光26焊接方式經(jīng)由焊接點(diǎn)44而電連接到修復(fù)線16，并且焊接點(diǎn)44處的冗余傳導(dǎo)圖案50和修復(fù)線16之間的連接可以得到加強(qiáng)。第二冗余傳導(dǎo)圖案52可以提供在圖4到圖9所示數(shù)據(jù)線14的修復(fù)部分中。
圖16是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示范性實(shí)施例的修復(fù)部分的平面圖。
參考圖16，數(shù)據(jù)線14和數(shù)據(jù)線56之間交叉部分的面積增加以包括多個(gè)焊接點(diǎn)22。例如，交叉部分的面積可以通過(guò)增加交叉部分處修復(fù)線56的寬度而增加。例如，修復(fù)線56的寬度可以在交叉部分處增加以能夠包括至少4個(gè)焊接點(diǎn)22。交叉部分的面積可以通過(guò)增加整個(gè)修復(fù)線56的寬度而增加。
當(dāng)數(shù)據(jù)線14被修復(fù)時(shí)，數(shù)據(jù)線14經(jīng)由例如6個(gè)焊接點(diǎn)的多個(gè)焊接點(diǎn)22電連接到修復(fù)線56，并且修復(fù)數(shù)據(jù)線14的成功率可以得到增加，且每個(gè)焊接點(diǎn)22處的電流量得到減少，且每個(gè)焊接點(diǎn)22處開(kāi)線缺陷的發(fā)展可以得到抑制。在本發(fā)明的一個(gè)示范性實(shí)施例中，數(shù)據(jù)線14的寬度增加以擴(kuò)大數(shù)據(jù)線14和修復(fù)線56之間的交叉部分，使得交叉部分包括至少4個(gè)焊接點(diǎn)22。應(yīng)當(dāng)理解，圖2-圖15所示修復(fù)部分的修改可以應(yīng)用到圖16所示修復(fù)部分中。
如圖2到圖16所示修復(fù)數(shù)據(jù)線的上述結(jié)構(gòu)和方法可以應(yīng)用于修復(fù)柵極線或存儲(chǔ)線。
盡管本發(fā)明的示范性實(shí)施例已經(jīng)參考用作示例目的的附圖作了詳細(xì)描述，應(yīng)當(dāng)理解，發(fā)明方法和設(shè)備不應(yīng)被理解為對(duì)其的限制。在不背離本發(fā)明范圍內(nèi)可以對(duì)前述示范性實(shí)施例作出各種修改，這對(duì)所屬領(lǐng)域技術(shù)人員是顯而易見(jiàn)的，而本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求書(shū)限定，權(quán)利要求書(shū)的等同物也包括在內(nèi)。
本申請(qǐng)要求于2006年3月8日提交的申請(qǐng)?zhí)枮?006-0021688的韓國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)，其全部?jī)?nèi)容在此被結(jié)合用作參考。
權(quán)利要求
1.一種顯示裝置，包括信號(hào)線，形成在基板上；修復(fù)線，形成在所述基板上，且與所述信號(hào)線交叉并絕緣；以及第一冗余傳導(dǎo)圖案，形成在所述信號(hào)線與修復(fù)線交叉的基板的第一區(qū)域上，其中，所述第一冗余傳導(dǎo)圖案與所述信號(hào)線和修復(fù)線絕緣。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的顯示裝置，其中，所述第一冗余傳導(dǎo)圖案為電浮置傳導(dǎo)圖案。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的顯示裝置，其中，當(dāng)所述信號(hào)線被修復(fù)時(shí)，所述信號(hào)線和修復(fù)線在所述第一區(qū)域電連接到所述第一冗余傳導(dǎo)圖案。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的顯示裝置，還包括第二冗余傳導(dǎo)圖案，所述第二冗余傳導(dǎo)圖案包括在與第一區(qū)域不同的基板的第二區(qū)域上與信號(hào)線重疊的第一部分，其中所述第一部分與信號(hào)線絕緣，以及在與第一區(qū)域不同的基板的第三區(qū)域上與修復(fù)線重疊的第二部分，其中所述第二部分與修復(fù)線絕緣。
5.根據(jù)權(quán)利要求4的顯示裝置，其中，所述第二冗余傳導(dǎo)圖案為與第一冗余傳導(dǎo)圖案分離的圖案或與第一冗余傳導(dǎo)圖案結(jié)合的圖案之一。
6.根據(jù)權(quán)利要求4的顯示裝置，其中，當(dāng)所述信號(hào)線被修復(fù)時(shí)，所述信號(hào)線和修復(fù)線在第一區(qū)域電連接到第一冗余傳導(dǎo)圖案，其中所述信號(hào)線在第二區(qū)域電連接到第二冗余傳導(dǎo)圖案，并且其中所述修復(fù)線在第三區(qū)域電連接到第二冗余傳導(dǎo)圖案。
7.根據(jù)權(quán)利要求4的顯示裝置，其中，所述信號(hào)線通過(guò)接觸孔電連接到第二冗余傳導(dǎo)圖案。
8.根據(jù)權(quán)利要求7的顯示裝置，其中，當(dāng)所述信號(hào)線被修復(fù)時(shí)，所述信號(hào)線和修復(fù)線在第一區(qū)域電連接到第一冗余傳導(dǎo)圖案，并且所述信號(hào)線在第二區(qū)域電連接到第二冗余傳導(dǎo)圖案。
9.根據(jù)權(quán)利要求4的顯示裝置，其中，所述修復(fù)線通過(guò)接觸孔電連接到所述第二冗余傳導(dǎo)圖案。
10.根據(jù)權(quán)利要求9的顯示裝置，其中，當(dāng)所述信號(hào)線被修復(fù)時(shí)，所述信號(hào)線和修復(fù)線在第一區(qū)域電連接到第一冗余傳導(dǎo)圖案，并且所述修復(fù)線在第三區(qū)域電連接到第二冗余傳導(dǎo)圖案。
11.根據(jù)權(quán)利要求5的顯示裝置，還包括至少兩個(gè)形成在所述修復(fù)線和第二冗余傳導(dǎo)圖案之間交叉部分處的絕緣層；以及形成在所述絕緣層之間并與所述第二冗余傳導(dǎo)圖案重疊的第三冗余傳導(dǎo)圖案。
12.根據(jù)權(quán)利要求1的顯示裝置，其中，所述第一冗余傳導(dǎo)圖案從所述第一區(qū)域沿信號(hào)線延伸，且所述第一冗余傳導(dǎo)圖案與信號(hào)線重疊并絕緣，并且其中所述第一冗余傳導(dǎo)圖案從第一區(qū)域沿修復(fù)線延伸，且所述第一冗余傳導(dǎo)圖案與修復(fù)線重疊并絕緣。
13.根據(jù)權(quán)利要求1的顯示裝置，其中，所述信號(hào)線是柵極線、數(shù)據(jù)線或存儲(chǔ)線至少之一。
14.根據(jù)權(quán)利要求13的顯示裝置，還包括形成在所述第一區(qū)域的半導(dǎo)體圖案。
15.根據(jù)權(quán)利要求5的顯示裝置，其中，所述信號(hào)線和修復(fù)線包括包含鉬的金屬層，并且其中所述第一和第二冗余傳導(dǎo)圖案通過(guò)圖案化至少透明傳導(dǎo)層或金屬層之一而形成。
16.根據(jù)權(quán)利要求15的顯示裝置，其中，所述信號(hào)線和修復(fù)線包括包含鉬和鋁的金屬層，并且其中所述第一和第二冗余傳導(dǎo)圖案通過(guò)圖案化至少透明傳導(dǎo)層或金屬層之一而形成。
17.一種制造顯示裝置的方法，包括在基板上形成信號(hào)線；在基板上形成與所述信號(hào)線交叉并與所述信號(hào)線絕緣的修復(fù)線；以及在所述信號(hào)線和修復(fù)線交叉的所述基板的第一區(qū)域上形成與信號(hào)線和修復(fù)線絕緣的第一冗余傳導(dǎo)圖案。
18.根據(jù)權(quán)利要求17的方法，其中，所述第一冗余傳導(dǎo)圖案為浮置的。
19.根據(jù)權(quán)利要求17的方法，還包括修復(fù)所述信號(hào)線，從而所述信號(hào)線和修復(fù)線在第一區(qū)域電連接到第一冗余傳導(dǎo)圖案。
20.根據(jù)權(quán)利要求17的方法，還包括形成第二冗余傳導(dǎo)圖案，該第二冗余傳導(dǎo)圖案包括在與信號(hào)線和修復(fù)線之間交叉部分不同的部分處與信號(hào)線重疊并與信號(hào)線絕緣的一部分，以及在與信號(hào)線和修復(fù)線之間交叉部分不同的部分處與修復(fù)線重疊并與修復(fù)線絕緣的另一部分。
21.根據(jù)權(quán)利要求20的方法，其中，所述第二冗余傳導(dǎo)圖案形成為與第一冗余傳導(dǎo)圖案分離的圖案或與第一冗余傳導(dǎo)圖案結(jié)合的圖案之一。
22.根據(jù)權(quán)利要求20的方法，還包括修復(fù)所述信號(hào)線，從而所述信號(hào)線和修復(fù)線電連接到第一冗余傳導(dǎo)圖案，并且所述信號(hào)線在信號(hào)線和第二冗余傳導(dǎo)圖案之間的重疊部分處電連接到第二冗余傳導(dǎo)圖案，并且所述修復(fù)線在修復(fù)線和第二冗余傳導(dǎo)圖案之間的重疊部分處電連接到第二冗余傳導(dǎo)圖案。
23.根據(jù)權(quán)利要求20的方法，還包括形成至少一個(gè)電連接信號(hào)線到第二冗余傳導(dǎo)圖案的接觸孔。
24.根據(jù)權(quán)利要求20的方法，還包括形成至少一個(gè)電連接信號(hào)線或修復(fù)線到第二冗余傳導(dǎo)圖案的接觸孔。
25.根據(jù)權(quán)利要求20的方法，還包括在所述修復(fù)線和第二冗余傳導(dǎo)圖案之間重疊部分處形成至少兩個(gè)絕緣層；在所述絕緣層之間形成第三冗余傳導(dǎo)圖案，且該第三冗余傳導(dǎo)圖案與第二冗余傳導(dǎo)圖案重疊。
26.根據(jù)權(quán)利要求17的方法，其中，所述第一冗余傳導(dǎo)圖案從所述第一區(qū)域沿所述信號(hào)線延伸，并且所述第一冗余傳導(dǎo)圖案與所述信號(hào)線重疊并絕緣，并且其中所述第一冗余傳導(dǎo)圖案從所述第一區(qū)域沿修復(fù)線延伸，并且所述第一冗余傳導(dǎo)圖案與修復(fù)線重疊并絕緣。
27.根據(jù)權(quán)利要求17的方法，還包括形成與所述第一區(qū)域重疊的半導(dǎo)體圖案。
28.根據(jù)權(quán)利要求21的方法，其中，所述修復(fù)線包括包含鋁/鉬的雙金屬層，其中所述信號(hào)線包括包含鉬/鋁/鉬的三金屬層，并且其中所述第一和第二冗余傳導(dǎo)圖案通過(guò)圖案化透明傳導(dǎo)層或金屬層至少之一形成。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種顯示裝置及其制造方法，該顯示裝置包括形成在基板上的信號(hào)線，形成在基板上的與信號(hào)線交叉并絕緣的修復(fù)線，以及形成在信號(hào)線和修復(fù)線交叉的基板第一區(qū)域上的第一冗余傳導(dǎo)圖案，其中第一冗余傳導(dǎo)圖案與信號(hào)線和修復(fù)線絕緣。
文檔編號(hào)G02F1/136GK101055352SQ20071010167
公開(kāi)日2007年10月17日 申請(qǐng)日期2007年3月8日 優(yōu)先權(quán)日2006年3月8日
發(fā)明者孫東一, 白范基 申請(qǐng)人:三星電子株式會(huì)社