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電光裝置及具備其的電子設備的制作方法

文檔序號:2729827閱讀:125來源:國知局
專利名稱:電光裝置及具備其的電子設備的制作方法
技術(shù)領域
本發(fā)明,涉及例如液晶裝置等的電光裝置,及具備有該電光裝置的、例如液晶投影機等的電子設備的技術(shù)領域。
背景技術(shù)
在為此種電光裝置之一例的液晶裝置中,例如,形成像素電極、像素開關用元件的元件基板,和形成對向電極的對向基板通過預定的間隙在密封區(qū)域中例如通過紫外線固化樹脂等的密封材料所貼合,在這些基板間封入液晶。在將液晶裝置,例如,用作液晶投影機中的光閥的情況下,由于若污物、灰塵等(以下,簡稱為“粉塵”。)附著于光閥的表面上,則在投影屏幕上還投影該粉塵的像,而有可能使圖像的質(zhì)量下降。因此,多在構(gòu)成液晶裝置的基板的外側(cè)表面設置防塵用基板(例如參照專利文獻1)。
并且,在對向基板,一般要設置對液晶裝置中的顯示區(qū)域的框緣(即,輪廓)進行限定的框緣遮光膜(或者又稱為“周邊隔斷膜”)。為了不妨礙用于使密封材料固化的來自對向基板的外側(cè)的紫外線照射,框緣遮光膜,大多不與密封區(qū)域重疊地,按設計裕量空出間隙所形成。因此,有可能光從設置于框緣遮光膜和密封區(qū)域之間的間隙泄漏,而使顯示質(zhì)量下降。于是在專利文獻1中,由本申請申請人公開了以下技術(shù)通過在防塵用基板設置遮光膜,而不妨礙用于使密封材料固化的紫外線照射地,提高顯示區(qū)域的框緣附近的遮光性。
專利文獻1特開平11-295683號公報但是,在對向基板上的框緣遮光膜和設置于防塵用基板的遮光膜偏移了的情況等時,存在通過設置于防塵用基板的遮光膜有可能不能充分地提高框緣附近的遮光性的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明,鑒于例如上述的問題點所作出,目的在于提供可以使顯示區(qū)域的框緣附近的遮光性提高的電光裝置,及具備其的電子設備。
本發(fā)明中的第1電光裝置為了解決上述問題,具備對電光物質(zhì)進行夾持的一對第1及第2基板;設置于前述第1基板上的像素區(qū)域的多個像素電極;設置于前述第2基板上,對前述像素區(qū)域的周圍進行限定的第1遮光膜;在沿形成有前述第1遮光膜的第1遮光區(qū)域的周圍的密封區(qū)域中,使前述第1及第2基板相互貼合的密封材料;設置于前述第2基板的不對向于前述電光物質(zhì)的一側(cè)的防塵用基板;在前述防塵用基板上包圍前述像素區(qū)域地設置的第2遮光膜;和在前述第1基板上與前述第1及第2遮光膜的各自至少部分重疊地設置的第3遮光膜。
在本發(fā)明中的第1電光裝置中,一對第1及第2基板,對例如液晶等的電光物質(zhì)進行夾持,在密封區(qū)域中通過由例如紫外線固化樹脂等構(gòu)成的密封材料相互貼合。在第1基板上例如矩陣狀地設置多個像素電極,在第2基板上對向于像素電極例如整面狀地設置對向電極。在電光裝置的工作時,基于例如圖像信號等,對像素電極及對向電極間的液晶等的電光物質(zhì)施加電壓,在排列有多個像素電極的像素區(qū)域或者像素陣列區(qū)域(或者,又稱為“圖像顯示區(qū)域”)中進行圖像顯示。電光裝置,相應于從例如光源進行入射的光而使顯示光透射或通過對其反射而能出射。電光裝置,例如,收置于設置有對應于作為顯示區(qū)域的像素區(qū)域的開口部的遮光性的殼體,作為投影型顯示裝置中的光閥所安裝。
在本發(fā)明中,通過設置于第2基板上的,由例如Cr(鉻)等構(gòu)成的第1遮光膜而限定像素區(qū)域的周圍(即,框緣或者輪廓)。若換而言之,則第1遮光膜,作為對作為顯示區(qū)域的像素區(qū)域的周圍進行限定的框緣遮光膜而起作用。第1遮光膜,在包圍像素區(qū)域的密封區(qū)域的內(nèi)側(cè)(即,像素區(qū)域所處的一側(cè)),形成得確保用于不妨礙相對于由例如紫外線固化樹脂構(gòu)成的密封材料的紫外線照射的設計裕量(即,不重疊于密封區(qū)域地,在其與密封區(qū)域之間保持預定的間隔),并以例如預定的寬度,對像素區(qū)域的周圍進行限定。
進而,在本發(fā)明中,由例如透明的玻璃基板等構(gòu)成的防塵用基板,設置于第2基板的不對向于電光物質(zhì)的一側(cè)的面(即,第2基板的外側(cè)表面)。因而,能夠防止在第2基板的外側(cè)表面上粉塵直接附著,而且即使在防塵用基板上附著了粉塵,也由于該防塵用基板具有預定的厚度,而能夠事前避免在圖像上投影粉塵的像的情況。還有,也可以將如此的防塵用基板設置于第1基板的不對向于電光物質(zhì)的一側(cè)。
在防塵用基板上,包圍像素區(qū)域地設置由例如Cr等構(gòu)成的第2遮光膜。更具體地,第2遮光膜,在防塵用基板上,形成為在通過第1遮光膜所限定的像素區(qū)域的周圍的外側(cè)(即,密封區(qū)域所處的一側(cè))確保設計裕量(即,不重疊于像素區(qū)域地,在其與像素區(qū)域之間保持預定的間隔)且具有與第1遮光膜重疊的部分,并包圍像素區(qū)域地,典型性地,從像素區(qū)域的周圍直到防塵用基板的邊緣為止。因而,能夠減少從例如光源所入射的光,從第1遮光膜和密封材料之間所出射。
可是,在假定防塵用基板上的第2遮光膜,形成于按用于具有與第1遮光膜重疊的部分的設計裕量以上地偏移了的位置的情況下,從例如光源所入射的光,有可能通過第1遮光膜和密封材料之間從電光裝置所出射。
但是在本發(fā)明中尤其是,在第1基板上,由例如Al(鋁)等構(gòu)成的第3遮光膜,在第1基板上平面看,設置為與第1及第2遮光膜的各自至少部分重疊。更具體地,第3遮光膜,在第1基板上,設置為在通過第1遮光膜所限定的像素區(qū)域的周圍的外側(cè)確保設計裕量且具有與第1遮光膜重疊的部分,并與第2遮光膜也部分重疊。典型地,在第1基板上平面看,至少部分設置于第1遮光膜和第2遮光膜相重疊的區(qū)域,或者,第1遮光膜和第2遮光膜的邊界或之間的區(qū)域。因而,防塵用基板上的第2遮光膜,即使是形成于按設計裕量以上地偏移了的位置的情況,通過設置于第1基板上的第3遮光膜,也能夠減少或者防止從例如光源所入射的光,通過第1遮光膜和密封材料之間從電光裝置所出射(即,發(fā)生光泄漏)。即,能夠提高電光裝置的像素區(qū)域的周邊的遮光性。
在本發(fā)明中的第1電光裝置的一個方式中,前述第3遮光膜,作為由遮光性導電膜構(gòu)成的至少一種布線所形成。
若依照于該方式,則第3遮光膜,由例如Al膜等的導電性遮光膜構(gòu)成,例如,作為用于供給圖像信號的圖像信號線、用于向形成于第1基板上的例如薄膜晶體管等的開關元件供給柵信號的柵線等的布線所形成。因而,第3遮光膜,能夠兼作形成于第1基板上的例如圖像信號線、柵線等的布線。從而,不必將第3遮光膜,與第1基板上的布線分別設置。由此,提高電光裝置的遮光性,并且裝置變得可以小型化。
在上述的第3遮光膜作為至少一種布線所形成的方式中,前述第3遮光膜,作為以預定的間隔所排列的多條第1布線,和與該多條第1布線通過層間絕緣膜而配置于不相同的層、分別具有沿前述多條第1布線且重疊于前述間隔地設置的第1部分的多條第2布線所形成。
在該情況下,在相鄰的第1布線之間,形成第2布線的第1部分。典型地,第2布線的第1部分,以比相鄰的第1布線間的間隔寬的布線寬度所形成,重疊于相鄰的第1布線的雙方地形成。若換而言之,則第2布線的第1部分,覆蓋相鄰的第1布線間的間隔地形成。因而,提高電光裝置的遮光性,并且裝置變得可以小型化。
在上述的第3遮光膜作為至少一種布線所形成的方式中,前述第3遮光膜,作為以2“μm”以下的間隔所排列的多條第3布線所形成。
在該情況下,分別具有例如10“μm”程度的布線寬度的多條第3布線以2“μm”以下的間隔所排列。因而,能夠保持多條第3布線間的絕緣(也就是使第3遮光膜作為多條布線而起作用),并通過使布線間隔變窄,提高裝置的遮光性。還有,在假定多條第3布線的間隔比2“μm”大的情況下,雖然作為多條第3布線(即,第3遮光膜)的遮光膜的性能有可能下降,但是若與沒有第3遮光膜的情況相比較,則能夠通過第3遮光膜而使遮光性能相應地提高。
在本發(fā)明中的第1電光裝置的其他的方式中,前述第3遮光膜,包括OD(Optical Density,光密度)值為2以上的導電膜。
若依照于該方式,則第3遮光膜,因為包括OD值為2以上(即,光透射率為0.01%以下)的例如鋁等的導電膜所形成,所以具有高遮光性能。因此,通過第3遮光膜,能夠可靠地減少或者防止來自第1遮光膜和密封材料之間的光泄漏。即,能夠可靠地提高電光裝置的像素區(qū)域的周邊的遮光性。
本發(fā)明中的第2電光裝置為了解決上述問題,在基板上,具備多個像素電極;布線于位于設置有該多個像素電極的像素區(qū)域的周邊的周邊區(qū)域,具有由第1遮光性導電膜構(gòu)成并以預定的間隔所排列的第1部分的多條第1布線;和分別具有由與前述多條第1布線通過層間絕緣膜配置于互不相同的層的第2遮光性導電膜構(gòu)成、并沿前述第1部分且重疊于前述間隔地設置的第2部分的多條第2布線。
若依照于本發(fā)明中的第2電光裝置,則在基板上設置多個像素電極,對向于像素電極配置形成有例如對向電極的對向基板。在電光裝置的工作時,與上述的本發(fā)明中的第1電光裝置大致同樣地,基于例如圖像信號等,向像素電極及對向電極間的液晶等的電光物質(zhì)施加電壓,在排列有像素電極的像素區(qū)域中進行圖像顯示。
在本發(fā)明中尤其是,具備分別具有第1部分的多條第1布線和分別具有第2部分的多條第2布線。第1及第2部分的各自,由通過層間絕緣膜而配置于互不相同的層的遮光性導電膜構(gòu)成。多個第1部分,以預定的間隔所排列;多個第2部分,分別沿第1部分且重疊于排列第1部分的間隔地所設置。即,典型地,第2部分,以比相鄰的第1部分間的間隔寬的布線寬度所形成,重疊于相鄰的第1部分的雙方地形成。若換而言之,則第2部分,覆蓋相鄰的第1部分間的間隔地所形成。因而,能夠減少或者防止從例如光源所入射的光,在為顯示區(qū)域的像素區(qū)域以外的區(qū)域中從電光裝置所出射(即,發(fā)生光泄漏)。若換而言之,則多條第1及第2布線(更正確地,是第1及第2部分),能夠作為對像素區(qū)域的周圍進行限定的框緣遮光膜(或者周邊隔斷膜)的一部分或全部而起作用。即,能夠提高電光裝置的像素區(qū)域的周邊的遮光性。進而,能夠避免可能發(fā)生于以下情況下的裂紋的發(fā)生,該情況為假定,將對像素區(qū)域的周圍進行限定的框緣遮光膜,形成為包圍像素區(qū)域的連續(xù)的單一膜。因而,能夠提高裝置的可靠性。
本發(fā)明的電子設備為了解決上述問題,具備上述的本發(fā)明中的第1或第2電光裝置。
若依照于本發(fā)明的電子設備,則因為具備上述的本發(fā)明中的第1或第2電光裝置,所以能夠?qū)崿F(xiàn)可以進行高質(zhì)量的圖像顯示的投影型顯示裝置,電視機,便攜電話機,電子筆記本,文字處理器,取景器型或監(jiān)視器直視型的磁帶錄像機,工作站,電視電話機,POS終端,觸摸面板等的各種電子設備。并且,作為本發(fā)明的電子設備,還可以實現(xiàn)例如電子紙等的電泳裝置,電子發(fā)射裝置(Field Emission Display及ConductionElectron-Emitter Display,場致發(fā)射顯示器及傳導電子發(fā)射顯示器),采用了這些電泳裝置、電子發(fā)射裝置的顯示裝置。
本發(fā)明的作用及其他的優(yōu)點可從接下來進行說明的用于進行實施的最佳的方式所明確。


圖1是表示第1實施方式中的液晶裝置的整體構(gòu)成的平面圖。
圖2是圖1的H-H’線剖面圖。
圖3是將安裝殼體與液晶裝置一起表示的分解立體圖。
圖4是表示第1實施方式中的液晶裝置的電構(gòu)成的電路圖。
圖5是放入安裝殼體的液晶裝置的對應于圖2的剖面圖。
圖6是將圖1的區(qū)域C1內(nèi)進行放大而示的放大平面圖。
圖7是圖6的A-A’線剖面圖。
圖8是變形例中的與圖6相同主旨的放大平面圖。
圖9是表示應用了電光裝置的電子設備的一例的投影機的構(gòu)成的平面圖。
符號說明6a...數(shù)據(jù)線,7...多路分配器(demultiplexer),9a...像素電極,10...元件基板,10a...圖像顯示區(qū)域,11a...掃描線,20...對向基板,21...對向電極,23...遮光膜,50...液晶層,52...密封材料,52a...密封區(qū)域,53...框緣遮光膜,53a...遮光區(qū)域,71...TFT,102...外部電路連接端子,102v...圖像信號端子,104...掃描線驅(qū)動電路,106...上下導通端子,107...上下導通件,300...圖像信號線,410、420...防塵用基板,425...框緣遮光膜,601...安裝殼體,610...框架,620...蓋構(gòu)件,710...遮光膜具體實施方式
在以下,關于本發(fā)明的實施方式參照圖而進行說明。在以下的實施方式中,以為本發(fā)明的電光裝置的一例的TFT有源矩陣驅(qū)動方式的液晶裝置為例。
第1實施方式關于第1實施方式中的液晶裝置,參照圖1到圖7而進行說明。
首先,關于本實施方式中的液晶裝置的整體構(gòu)成,參照圖1及圖3而進行說明。在此圖1,是表示本實施方式中的液晶裝置的整體構(gòu)成的平面圖;圖2,是圖1的H-H’線剖面圖;圖3,是將安裝殼體與液晶裝置一起表示的分解立體圖。
在圖1及圖2中,在本實施方式中的液晶裝置100中,對向配置著元件基板10和對向基板20。還有,元件基板10,為本發(fā)明中的“第1基板”的一例;而對向基板20,則為本發(fā)明中的“第2基板”的一例。在元件基板10和對向基板20之間封入液晶層50;元件基板10和對向基板20,通過設置于位于作為本發(fā)明中的“像素區(qū)域”的一例的圖像顯示區(qū)域10a的周圍的密封區(qū)域52a的密封材料52所互相粘接。密封材料52,由用于使兩基板貼合的紫外線固化樹脂構(gòu)成,在制造過程中涂敷于元件基板10上之后,通過紫外線照射使之固化。并且,在密封材料52中,散布著用于使元件基板10和對向基板20的間隔(基板間間隙)成為預定值的玻璃纖維或者玻璃珠粒等的間隙材料。
進而,在元件基板10及對向基板20的不對向于液晶層50的一側(cè),分別設置防塵用基板410及420。防塵用基板410及420,由透明的玻璃基板構(gòu)成,分別粘接于元件基板10及對向基板20。并且,雖然在圖1中將圖示進行省略,但是在防塵用基板420的對向于對向基板20的一側(cè)的面上,包圍圖像顯示區(qū)域10a地,設置作為本發(fā)明中的“第2遮光膜”的一例的框緣遮光膜425(參照圖2)。
在圖1中,并行于配置有密封材料52的密封區(qū)域52a的內(nèi)側(cè),對圖像顯示區(qū)域10a的框緣區(qū)域53a進行限定的遮光性的框緣遮光膜53,設置于對向基板20側(cè)。還有,框緣遮光膜53,為本發(fā)明中的“第1遮光膜”的一例;而框緣區(qū)域53a,則為本發(fā)明中的“第1遮光區(qū)域”的一例。周邊區(qū)域之中,在位于配置有密封材料52的密封區(qū)域52a的外側(cè)的區(qū)域,沿元件基板10的一邊而設置包括供給圖像信號的圖像信號端子的外部電路連接端子102。在比沿該一邊的密封區(qū)域52a靠內(nèi)側(cè),被框緣遮光膜53所覆蓋地設置多路分配器7。并且,掃描線驅(qū)動電路104,在沿相鄰于該一邊的2邊的密封區(qū)域52a的內(nèi)側(cè),設置為被框緣遮光膜53所覆蓋。并且,在元件基板10上,在對向于對向基板20的4個角部的區(qū)域,配置用于將兩基板間以上下導通件107進行連接的上下導通端子106。通過它們,能夠在元件基板10及對向基板20間取電導通。
在元件基板10上,形成用于將外部電路連接端子102,與多路分配器7、掃描線驅(qū)動電路104、上下導通端子106等進行電連接的引繞布線90。
在圖2中,在元件基板10上,形成制作有為驅(qū)動元件的像素開關用TFT及掃描線、數(shù)據(jù)線等的布線的疊層結(jié)構(gòu)。在圖像顯示區(qū)域10a,在像素開關用TFT、掃描線、數(shù)據(jù)線等的布線的上層矩陣狀地設置多個像素電極9a。在像素電極9a上,形成取向膜。另一方面,在對向基板20的與元件基板10的對向面上,形成遮光膜23。遮光膜23,由例如遮光性金屬膜等所形成,在對向基板20上的圖像顯示區(qū)域10a內(nèi),圖形化為例如格子狀等。即,遮光膜23,作為對用于圖像顯示區(qū)域10a中的顯示的光所出射的開口區(qū)域進行限定的黑矩陣而起作用。然后,在遮光膜23上,與多個像素電極9a相對向而整面狀地形成由ITO等的透明材料構(gòu)成的對向電極21。在對向電極21上形成取向膜。并且,液晶層50,由例如一種或混合了幾種向列型液晶的液晶構(gòu)成,在這一對取向膜間,取預定的取向狀態(tài)。
還有,雖然在此未進行圖示,但是在元件基板10上,形成后述的遮光膜710(參照圖5)。并且,在元件基板10上,除了多路分配器7、掃描線驅(qū)動電路104之外,還可以形成用于對制造過程中、出廠時的該液晶裝置的質(zhì)量、缺陷等進行檢查的檢查電路、檢查用圖形等。
在圖3中,如上述地所構(gòu)成的液晶裝置100,收置于安裝殼體601中,安裝于例如液晶投影機等的電子設備。對液晶裝置100的外部電路連接端子102,連接柔性印刷布線板(以下略稱為“FPC”)501。在FPC501上,形成后述的圖像信號供給電路。并且,在液晶裝置100的外表面,附設反射防止板等的光學構(gòu)件。只是,偏振板、相位差板等,雖然也可以附設于液晶裝置100的外表面,但是也可以配備于安裝有液晶裝置100的例如液晶投影機的光學系統(tǒng)。
如示于圖3中地,安裝殼體601,由收置液晶裝置100的框架610,和將框架610覆蓋的蓋構(gòu)件620構(gòu)成。蓋構(gòu)件620,通過將兩側(cè)緣的鉤狀構(gòu)件627掛卡于形成于框架610的側(cè)面的爪部617,而與框架610組合。
液晶裝置100,收置為對向基板20側(cè)面向框架610的朝向,以蓋構(gòu)件620覆蓋元件基板10側(cè)的外表面。即,當液晶裝置100收置于安裝殼體601安裝于例如液晶投影機而用作液晶光閥時,光從框架610的一側(cè)進行入射,并對液晶裝置100進行透射,從蓋構(gòu)件620的一側(cè)進行出射。液晶裝置100,在從其周緣部側(cè)通過框架610所包圍的狀態(tài)下,通過粘接劑粘接于該框架610而被固定,收置于該框架610內(nèi)。因而,液晶裝置100,通過框架610,成為從其周緣部側(cè)被包圍的狀態(tài)。還有,在如此地收置于安裝殼體601內(nèi)的狀態(tài)下,液晶裝置100中的位于圖像顯示區(qū)域10a的周邊的周邊區(qū)域,通過框架610所覆蓋。因此,框架610,具有防止該周邊區(qū)域中的光泄漏或者防止雜散光從周邊區(qū)域進入圖像顯示區(qū)域10a內(nèi)的遮光功能。
蓋構(gòu)件620,具備作為開口部設置有窗部625的框緣狀的主體;和鉤狀構(gòu)件627,其處于主體的兩側(cè)。窗部625,為了取出從液晶裝置100的圖像顯示區(qū)域10a(參照圖1)所出射的光,而與圖像顯示區(qū)域10a相對向地開口。
接下來,關于本實施方式中的液晶裝置的電構(gòu)成,參照圖4而進行說明。在此圖4,是表示本實施方式中的液晶裝置的電構(gòu)成的電路圖。
在圖4中,液晶裝置100,在元件基板10上,具備多路分配器7及掃描線驅(qū)動電路104。在元件基板10上的外部電路連接端子102之中的圖像信號端子102v連接作為外部電路的圖像信號供給電路400。
在元件基板10上的圖像顯示區(qū)域10a,延伸于行方向(即,X方向)地設置320行的掃描線11a;另外,延伸于列方向(即,Y方向)地,并且,與各掃描線11a相互保持電絕緣地,設置按每4條所分組化了的480(=120×4)列的數(shù)據(jù)線6a。還有,掃描線11a及數(shù)據(jù)線6a的條數(shù)并非分別限定于320條及480條。構(gòu)成1組的數(shù)據(jù)線條數(shù),雖然在本實施方式中為“4”,但是只要是“2”以上即可。
像素電極9a,對應于320條的掃描線11a和480條的數(shù)據(jù)線6a的交叉部,所分別排列。從而,在本實施方式中,像素電極9a,以縱向320行×橫向480列,以預定的像素間距排列為矩陣狀。還有,雖然在此未進行圖示,但是在各像素電極9a和數(shù)據(jù)線6a之間,形成相應于通過掃描線11a所分別供給的掃描信號而控制各自的導通狀態(tài)及非導通狀態(tài)的像素開關用TFT、用于長時間維持施加于像素電極9a的電壓的存儲電容的電容布線。
在此在本實施方式中,為了對構(gòu)成1組的4列的數(shù)據(jù)線6a進行區(qū)別,而有從左按順序分別稱為a、b、c、d系列的情形。詳細地,所謂a系列為第1、5、9、...、477列的數(shù)據(jù)線6a,所謂b系列為第2、6、10、...、478列的數(shù)據(jù)線6a,所謂c系列為第3、7、11、...、479列的數(shù)據(jù)線6a,所謂d系列則為第4、8、12、...、480列的數(shù)據(jù)線6a。
在圖4中,掃描線驅(qū)動電路104,對第1、2、3、...、320行的掃描線11a,供給掃描信號G1、G2、G3、...、G320。
圖像信號供給電路400,形成于FPC501上,通過圖像信號端子102v與元件基板10相連接。圖像信號供給電路400,對于對應于通過掃描線驅(qū)動電路104所選擇的掃描線11a和屬于各組的4列的數(shù)據(jù)線6a之中的、通過多路分配器7所選擇的數(shù)據(jù)線6a的像素電極9a,將相應于包括該像素電極9a的像素的灰度等級的電壓的圖像信號輸出。從圖像信號供給電路400供給圖像信號端子102v的圖像信號,通過圖像信號線300向多路分配器7供給。
還有,在本實施方式中,如上述地,數(shù)據(jù)線6a的列數(shù)為“480”,因為它們按每4列所分組化,所以圖像信號端子102v的個數(shù)為“120”。
多路分配器7,包括按每條數(shù)據(jù)線6a設置的多個TFT71所構(gòu)成。在此,TFT71為n溝道型,各漏連接于數(shù)據(jù)線6a的一端。對應于屬于同一組的數(shù)據(jù)線6a的4個TFT71的源,與從對應于該組的圖像信號線300所分支的源線92分別電連接,若換而言之,則與對應于該組的圖像信號線300共同連接。
即,第m(其中,m為1以上且120以下的整數(shù))組,因為由a系列的第(4m-3)列、b系列的第(4m-2)列、c系列的第(4m-1)列及d系列的第(4m)列的數(shù)據(jù)線6a所構(gòu)成,所以對應于這4列的數(shù)據(jù)線6a的TFT71的源被共同連接,被供給圖像信號VID(m)。在對應于第(4m-3)列的數(shù)據(jù)線6a的TFT71的柵,通過從控制信號線310所分支的柵線91而被供給控制信號Sel1;同樣地在對應于第(4m-2)列、第(4m-1)列及第(4m)列的數(shù)據(jù)線6a的TFT71的柵,通過從控制信號線310所分支的柵線91而供給控制信號Sel2、Sel3及Sel4。還有,控制信號Sel1、Sel2、Sel3及Sel4,從未進行圖示的作為外部電路的定時控制電路通過外部電路連接端子102所供給。
接下來,關于本實施方式中的液晶裝置的圖像顯示區(qū)域的周圍中的遮光相關的構(gòu)成,參照圖5到圖7而進行說明。在此圖5,為裝入安裝殼體的液晶裝置的對應于圖2的剖面圖。還有,在圖5中,以關于液晶裝置的圖像顯示區(qū)域的周圍的遮光的構(gòu)成要件為主而表示,關于其以外的構(gòu)成要件則適當進行省略。還有,在圖5中,為了使各層、各構(gòu)件在附圖上為可以辨別的程度的大小,而使比例尺按該各層、各構(gòu)件每個而異。
在圖5中,在對向基板20上的遮光區(qū)域53a,設置框緣遮光膜53(參照圖1)??蚓壵诠饽?3,對圖像顯示區(qū)域10a的周圍(即,框緣或者輪廓)進行限定。為此,比安裝殼體601、框緣遮光膜425及后述的遮光膜710都靠圖像顯示區(qū)域10a的中央為止地形成??蚓壵诠饽?3,在包圍圖像顯示區(qū)域10a的密封區(qū)域52a的內(nèi)側(cè)(即,圖像顯示區(qū)域10a所處的一側(cè)),確保用于不妨礙相對于由紫外線固化樹脂構(gòu)成的密封材料52的紫外線照射的設計裕量(即,不重疊于密封區(qū)域52a地,在其與密封區(qū)域52a之間保持預定的間隔80a),并對圖像顯示區(qū)域10a的周圍進行限定地形成。
在防塵用基板420上,包圍圖像顯示區(qū)域10a地設置框緣遮光膜425。更具體地,框緣遮光膜425,在防塵用基板420上,在通過框緣遮光膜53所限定的圖像顯示區(qū)域10a的周圍的外側(cè)(即,密封區(qū)域52a所處的一側(cè))確保設計裕量(即,不重疊于圖像顯示區(qū)域10a地,在其與圖像顯示區(qū)域10a之間保持預定的間隔82a)且具有與框緣遮光膜53a、間隔80a及密封區(qū)域52a重疊的部分,并包圍圖像顯示區(qū)域10a地形成。因而,能夠減少從例如對向基板20側(cè)的光源所入射的入射光,從框緣遮光膜53和密封材料52之間(即,框緣區(qū)域53a和密封區(qū)域52a之間的間隔80a)所出射。
可是,在假定防塵用基板420上的框緣遮光膜425,形成于按用于具有與框緣遮光膜53重疊的部分的設計裕量以上地偏移了的位置的(即,產(chǎn)生框緣區(qū)域53a和密封區(qū)域52a之間的間隔80a不被框緣遮光膜425所覆蓋的部分)情況下,從例如對向基板20側(cè)的光源所入射的入射光,有可能通過框緣區(qū)域53a和密封區(qū)域52a之間的間隔80a而從液晶裝置100所出射。
但是,在圖5中,在本實施方式中尤其是,在元件基板10上,由例如Al等構(gòu)成的遮光膜710,在元件基板10上平面看,與框緣遮光膜53及框緣遮光膜425的各自至少部分重疊地設置。更具體地,遮光膜710,在元件基板10上,在通過框緣遮光膜53所限定的圖像顯示區(qū)域10a的周圍的外側(cè)確保設計裕量(即,不重疊于圖像顯示區(qū)域10a地,在其與圖像顯示區(qū)域10a之間保持預定的間隔84a)且具有與框緣遮光膜53重疊的部分,并與框緣遮光膜425也部分重疊地設置。若換而言之,則在元件基板10上平面看,至少部分設置于框緣遮光膜53和密封區(qū)域52a之間的間隔80a。因而,即使是防塵用基板420上的框緣遮光膜425,形成于按設計裕量以上地偏移了的位置的情況,通過設置于元件基板10上的遮光膜710,也能夠減少或者理想地防止入射光,通過框緣遮光膜53和密封材料52之間而從液晶裝置100所出射(即,發(fā)生光泄漏)。即,能夠提高液晶裝置100的圖像顯示區(qū)域10a的周邊的遮光性。
在此,關于設置于元件基板10上的遮光膜710,參照圖6及圖7,更詳細地進行說明。在此圖6,是將圖1的區(qū)域C1內(nèi)進行放大而示的放大平面圖。圖7,為圖6的A-A’線剖面圖。還有,在圖6及圖7中,以關于液晶裝置的圖像顯示區(qū)域的周圍的遮光的構(gòu)成要件為主而表示,關于其以外的構(gòu)成要件則適當進行省略。還有,在圖7中,為了使各層、各構(gòu)件在附圖上為可以辨別的程度的大小,而使比例尺按該各層、各構(gòu)件每個而異。
在圖6及圖7中,在本實施方式中尤其是,遮光膜710,作為參照圖3而在上面敘述過的柵線91及源線92所形成。
柵線91,在基底絕緣膜12及層間絕緣膜41按順序疊層于元件基板10上的疊層結(jié)構(gòu)的上層,由作為遮光性導電膜的Al膜所形成。柵線91,從密封區(qū)域52a向框緣遮光區(qū)域53a(或者,從框緣遮光區(qū)域53a向密封區(qū)域52a)延伸地,即,在密封區(qū)域52a和框緣遮光區(qū)域53a間的間隔80a內(nèi)沿Y方向延伸地布線。
源線92,通過層間絕緣膜42而在比柵線91靠上層,由作為遮光性導電膜的Al膜所形成。源線92,與柵線91同樣地,在密封區(qū)域52a和框緣遮光區(qū)域53a間的間隔80a內(nèi)沿Y方向延伸地布線。
即,由通過層間絕緣膜42而配置于互不相同的層的為遮光性導電膜的Al膜構(gòu)成的柵線91及源線92,在密封區(qū)域52a和框緣遮光區(qū)域53a間的間隔80a,沿Y方向延伸地布線。若換而言之,則由遮光性導電膜構(gòu)成的柵線91及源線92,能夠作為對密封區(qū)域52a和框緣遮光區(qū)域53a間的間隔80a進行遮光的遮光膜710而起作用。從而,不必將遮光膜710,與TFT71的柵線及源線分別設置。從而,可以提高液晶裝置100的遮光性,且使裝置小型化。
進而,在圖6及圖7中,在本實施方式中尤其是,在相鄰的柵線91之間,形成源線92;而且,源線92,以比相鄰的柵線91間的間隔D1寬的布線寬度W1所形成,重疊于相鄰的柵線91的雙方地所形成。若換而言之,則源線92,覆蓋相鄰的柵線91間的間隔D1地所形成。因而,可以更加提高液晶裝置100的遮光性,且使裝置小型化。加之,能夠避免可能發(fā)生于將遮光膜710作為單一膜而形成了的情況下的裂紋的發(fā)生。因而,能夠提高裝置的可靠性。
再者,通過遮光膜710(若換而言之,則在區(qū)域C1內(nèi)為源線91及柵線92),能夠減少或者理想地防止入射光,如以圖7中的雙點劃線表示地,通過框緣遮光膜53所反射之后,進而通過框緣遮光膜425再反射,而從元件基板10側(cè)所出射。
另外,在本實施方式中尤其是,包括柵線91及源線92的遮光膜710,包括OD值為2以上(即,光透射率為0.01%以下)的Al膜所形成。因而,遮光膜710的遮光性得到提高。從而,通過遮光膜710,能夠可靠地減少或者理想地防止來自框緣遮光膜53和密封材料52之間(即,間隔80a)的光泄漏。即,能夠可靠地提高液晶裝置100的圖像顯示區(qū)域10a的周邊的遮光性。
接下來,關于本實施方式中的液晶裝置的變形例,參照圖8而進行說明。在此圖8,為與變形例中的圖6相同主旨的放大平面圖。
如示于圖8中地,還兼用作遮光膜710的柵線91及源線92,也可以分別具有約10“μm”的布線寬度W2,以約2“μm”的間隔D2所排列地構(gòu)成。在該情況下,通過部分設置于密封區(qū)域52a和框緣遮光區(qū)域53a間的柵線91及源線92,也能夠提高液晶裝置100的遮光性能。進而,通過將柵線91和源線92間隔D2更窄地形成為2“μm”以下,能夠更加提高遮光性。還有,在如此地構(gòu)成的情況下,柵線91及源線92,既可以由通過層間絕緣膜而配置于互不相同的層的遮光性導電膜形成,也可以由配置于同層的遮光性導電膜而形成。
還有,在假定柵線91和源線92的間隔比2“μm”大的情況下,雖然作為柵線91及源線92(即,遮光膜710)的遮光膜的性能有可能下降,但是若與沒有遮光膜710的情況相比較,則能夠通過作為遮光膜710的柵線91及源線92而使遮光性能相應地提高。
電子設備其次,關于將上述的液晶裝置用作光閥的投影機,參照圖9而進行說明。在此圖9,是表示投影機的構(gòu)成例的平面圖。
如示于圖9中地,在投影機1100內(nèi)部,設置由鹵素燈等的白色光源構(gòu)成的燈單元1102。從該燈單元1102所射出的投影光,通過配置于光導向元件1104內(nèi)的4片鏡體1106及2片分色鏡1108而分離為RGB的3原色,入射于對應于各原色的光閥1110R、1110B及1110G。
光閥1110R、1110B及1110G,作為上述的裝入安裝殼體的液晶裝置所構(gòu)成,以從圖像信號供給電路所供給的R、G、B的原色信號所分別驅(qū)動。然后,通過這些光閥所調(diào)制過的光,從3個方向入射于分色棱鏡1112。在該分色棱鏡1112中,R及B的光90度地進行彎曲,另一方面G的光則直線前進。從而,合成各色的圖像的結(jié)果,通過投影透鏡1114,在屏幕等上投影彩色圖像。
還有,在光閥1110R、1110B及1110G,通過分色鏡1108,因為對應于R、G、B的各原色的光進行入射,所以不必設置濾色器。
還有,在參照圖9而說明的電子設備之外,還可舉出便攜型的個人計算機,便攜電話機,液晶電視機,取景器型、監(jiān)視器直視型的磁帶錄像機,汽車導航裝置,尋呼機,電子筆記本,電子計算器,文字處理器,工作站,電視電話機,POS終端,具備有觸摸面板的裝置等。而且,不用說可以應用于這些各種電子設備中。
并且本發(fā)明,除了以上述的實施方式說明過的液晶裝置以外,還可以應用于在硅基板上形成元件的反射型液晶裝置(LCOS),等離子體顯示器(PDP),場致發(fā)射型顯示器(FED,SED),有機EL顯示器,數(shù)字微鏡器件(DMD),電泳裝置等中。
本發(fā)明,并不限于上述的實施方式,在不違反從技術(shù)方案的范圍及專利說明書整體所讀取的發(fā)明的主旨或者思想的范圍內(nèi)可以適當變更,伴隨其變更的電光裝置及具備該電光裝置的電子設備也包括于本發(fā)明的技術(shù)范圍中。
權(quán)利要求
1.一種電光裝置,其特征在于,具備一對第1及第2基板,其對電光物質(zhì)進行夾持;多個像素電極,其設置于前述第1基板上的像素區(qū)域;第1遮光膜,其設置于前述第2基板上,對前述像素區(qū)域的周圍進行限定;密封材料,其在沿形成有前述第1遮光膜的第1遮光區(qū)域的周圍的密封區(qū)域中,使前述第1及第2基板相互貼合;防塵用基板,其設置于前述第2基板的與前述電光物質(zhì)不對向的一側(cè);第2遮光膜,其在前述防塵用基板上包圍前述像素區(qū)域地設置;和第3遮光膜,其在前述第1基板上,與前述第1及第2遮光膜的各自至少部分重疊地設置。
2.按照權(quán)利要求1所述的電光裝置,其特征在于前述第3遮光膜,作為由遮光性導電膜構(gòu)成的至少一種布線而形成。
3.按照權(quán)利要求2所述的電光裝置,其特征在于前述第3遮光膜,作為以預定的間隔所排列的多條第1布線,和多條第2布線而形成,該多條第2布線,與該多條第1布線通過層間絕緣膜配置于不相同的層,并且分別具有沿前述多條第1布線且重疊于前述間隔地設置的第1部分。
4.按照權(quán)利要求2所述的電光裝置,其特征在于前述第3遮光膜,作為以2μm以下的間隔所排列的多條第3布線而形成。
5.按照權(quán)利要求1~4中的任何一項所述的電光裝置,其特征在于前述第3遮光膜,包括OD值為2以上的導電膜,其中,OD指OpticalDensity,即光密度。
6.一種電光裝置,其特征在于,在基板上,具備多個像素電極;多條第1布線,其布線于位于設置有該多個像素電極的像素區(qū)域的周邊的周邊區(qū)域,具有由第1遮光性導電膜構(gòu)成并以預定的間隔所排列的第1部分;和多條第2布線,其分別具有第2部分,該第2部分由與前述多條第1布線通過層間絕緣膜配置于互不相同的層的第2遮光性導電膜構(gòu)成,并沿前述第1部分且重疊于前述間隔地設置。
7.一種電子設備,其特征在于具備權(quán)利要求1~6中的任何一項所述的電光裝置。
全文摘要
本發(fā)明具備夾持液晶層(50)的元件基板(10)及對向基板(20)、設置于元件基板(10)的圖像顯示區(qū)域(10a)的像素電極(9a)、設置于對向基板(20)限定圖像顯示區(qū)域(10a)的周圍的框緣遮光膜(53)、在沿形成有框緣遮光膜(53)的遮光區(qū)域(53a)的周圍的密封區(qū)域(52a)使元件基板(10)及對向基板(20)貼合的密封材料(52)、設置于對向基板(20)的不對向于液晶層(50)側(cè)的防塵用基板(420)、在防塵用基板(420)上包圍圖像顯示區(qū)域(10a)地設置的框緣遮光膜(425)和在元件基板(10)上與框緣遮光膜(53)及框緣遮光膜(425)各自至少部分重疊地設置的遮光膜(710)。
文檔編號G03B21/00GK101086587SQ200710108570
公開日2007年12月12日 申請日期2007年6月6日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月6日
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