專(zhuān)利名稱(chēng)：基板的處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一邊將基板在以規(guī)定的角度傾斜立起的狀態(tài)下輸送 一邊由處理液等流體處理的基板處理裝置。
背景技術(shù)：
在液晶顯示裝置中使用的玻璃制的基板上形成有電路圖案。為了 在基板上形成電路圖案而采用光刻工藝。光刻工藝如周知那樣在上述 基板上涂布抗蝕劑，經(jīng)由形成有電路圖案的掩模對(duì)該抗蝕劑照射光。
去，將基板的除去了抗蝕劑的部分蝕刻。然后，通過(guò)多次反復(fù)進(jìn)行在 蝕刻后將抗蝕劑除去的一系列的工序，在上述基板上形成電路圖案。 在這樣的光刻工藝中，需要對(duì)上述基板通過(guò)顯影液、蝕刻液或者 在蝕刻后將抗蝕劑除去的剝離液處理基板的工序、還有通過(guò)漂洗液進(jìn) 行清洗的工序、和在清洗后將附著殘留在基板上的漂洗液除去的千燥 工序。
以往，在對(duì)基板進(jìn)行上述的一系列的處理的情況下，上述基板通 過(guò)使軸線為水平而配置的輸送輥，以大致水平的狀態(tài)依次輸送到進(jìn)行 各個(gè)處理的處理腔室中，在各處理腔室中通過(guò)處理液處理基板、或者 在處理后噴射壓縮氣體來(lái)進(jìn)行干燥處理。
最近，在液晶顯示裝置中使用的玻璃制的基板有大型化及薄型化 的趨勢(shì)。因此，如果水平輸送基板，則輸送輥間的基板的翹曲變大， 所以產(chǎn)生了各處理腔室中的處理不能遍及基板的板面整體而均勻地 進(jìn)行的情況。
進(jìn)而，如果基板大型化，則使設(shè)有輸送該基板的輸送輥的輸送軸 長(zhǎng)尺寸化。并且，通過(guò)基板大型化，被供給到基板上的處理液增大， 根據(jù)基板上的處理液的量而施加在上述輸送軸上的負(fù)荷變大，所以由 此輸送軸的翹曲增大。因此，有時(shí)基板會(huì)因輸送軸翹曲而發(fā)生翹曲， 不能進(jìn)行均勻的處理。
所以，在通過(guò)處理液處理基板時(shí)，為了防止上述基板因處理液的 重量而翹曲，通過(guò)將基板以規(guī)定的傾斜角度、例如從垂直狀態(tài)傾斜
15度、以75度的角度輸送、對(duì)位于傾斜方向的上側(cè)的前表面噴射處 理液，來(lái)處理該基板的前表面。
如果將基板傾斜輸送、對(duì)該基板的前表面噴射供給處理液，則處 理液不會(huì)殘留在基板的板面上，而在板面上從上方朝向下方平滑地流 動(dòng)，所以能夠防止因處理液的重量而引起基板翹曲的情況發(fā)生。
但是，在一邊將基板以規(guī)定的角度傾斜而輸送一邊進(jìn)行處理的處 理裝置的情況下，如專(zhuān)利文獻(xiàn)1所示，基板的作為傾斜方向下側(cè)的背 面受支撐輥支撐，下端受驅(qū)動(dòng)輥的外周面支撐。驅(qū)動(dòng)輥安裝在驅(qū)動(dòng)軸 上，通過(guò)驅(qū)動(dòng)源旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)該驅(qū)動(dòng)軸。
在上述處理裝置中，相對(duì)于上述基板的輸送方向以規(guī)定間隔配置 有多個(gè)上述支撐輥和上述驅(qū)動(dòng)輥。由此，上述基板在背面受上述支撐 輥支撐的同時(shí)，受上述驅(qū)動(dòng)輥驅(qū)動(dòng)。
專(zhuān)利文獻(xiàn)1日本特開(kāi)2004—210511號(hào)公報(bào)
可是，為了根據(jù)處理液的種類(lèi)而提高其處理效果，而從噴射嘴以 例如0.7MPa左右的較高的壓力對(duì)輸送的基板的前表面噴射上述處理 液。如果以高壓對(duì)基板的前面噴射處理液，則基板在該處理液的壓力 的作用下向背面?zhèn)葟澢?br> 如果只是基板在處理液的壓力的作用下彎曲，則該彎曲被支撐基 板的背面的支撐輥限制。但是，如果基板的輸送方向后方的下端部在 處理液的壓力下向背面?zhèn)葟澢?、在彎曲的狀態(tài)下接觸到驅(qū)動(dòng)輥的外周
面，則該驅(qū)動(dòng)輥的驅(qū)動(dòng)力會(huì)經(jīng)由其外周面?zhèn)鬟f到基板的下端。
如果驅(qū)動(dòng)輥的驅(qū)動(dòng)力傳遞到彎曲的基板的輸送方向的下端部，則 通過(guò)該驅(qū)動(dòng)力、基板的輸送方向后方的下端部受到進(jìn)一步彎曲的方向 的力，所以有時(shí)基板的輸送方向后方的下端部會(huì)過(guò)量彎曲而損傷。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種基板的處理裝置，該基板的處理裝置在從驅(qū)動(dòng)輥 受到的驅(qū)動(dòng)力的作用下限制基板的輸送方向后方的下端部向背面?zhèn)?彎曲。
本發(fā)明提供一種基板的處理裝置， 一邊使基板以規(guī)定的角度傾斜 而進(jìn)行輸送， 一邊通過(guò)流體進(jìn)行處理，其特征在于，具備-
腔室；
支撐輥，設(shè)在該腔室內(nèi)，并支撐上述基板的傾斜方向下側(cè)的背面； 驅(qū)動(dòng)輥，通過(guò)外周面支撐背面受上述支撐輥支撐的上述基板的下
端，被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)而將上述基板向規(guī)定方向輸送；
流體供給機(jī)構(gòu)，對(duì)上述基板的傾斜方向上側(cè)的前表面噴射上述流
體；以及
防彎曲輥，配置在上述驅(qū)動(dòng)輥的附近，并在上述基板的輸送方向 后方的下端部承受從上述流體供給機(jī)構(gòu)噴射的流體的壓力而使上述 基板的下端部向背面?zhèn)葟澢鷷r(shí)，矯正該彎曲。
發(fā)明效果
根據(jù)本發(fā)明，由于在驅(qū)動(dòng)輥的附近設(shè)有阻止基板的輸送方向后方 的下端部發(fā)生彎曲的防彎曲輥，所以能夠防止基板的輸送方向后方的 下端部在彎曲的狀態(tài)下從驅(qū)動(dòng)輥受到驅(qū)動(dòng)力、彎曲增大而損傷的情 況。


圖1是表示本發(fā)明的第1實(shí)施方式的處理裝置的概略結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖2是上述處理裝置的腔室的剖視圖。
圖3是表示支撐輥與驅(qū)動(dòng)輥的配置關(guān)系的主視圖。
圖4是表示支撐輥與驅(qū)動(dòng)輥的配置關(guān)系的俯視圖。
圖5A是表示本發(fā)明的第2實(shí)施方式的表示支撐輥與驅(qū)動(dòng)輥的配
置關(guān)系的主視圖。
圖5B是同樣表示支撐輥與驅(qū)動(dòng)輥的配置關(guān)系的俯視圖。
圖6A是表示本發(fā)明的第3實(shí)施方式的表示支撐輥與驅(qū)動(dòng)輥的配
置關(guān)系的主視圖。
圖6B是同樣表示支撐輥與驅(qū)動(dòng)輥的配置關(guān)系的俯視圖。
具體實(shí)施例方式
以下，參照

本發(fā)明的實(shí)施方式。
圖1至圖4表示本發(fā)明的第1實(shí)施方式。圖1是表示本發(fā)明的處 理裝置的概略結(jié)構(gòu)的立體圖，該處理裝置具有裝置主體l。該裝置主 體1是將被分割的多個(gè)處理單元、在本實(shí)施方式中是將第1至第5處 理單元1A 1E可分解地連結(jié)為一列而成的。
各處理單元1A 1E具有架臺(tái)2。在該架臺(tái)2的前表面上以規(guī)定 的角度傾斜地保持有箱形狀的腔室3。在上述架臺(tái)2與腔室3的上表 面上設(shè)有上部輸送部4。在上述架臺(tái)2的下端的寬度方向兩端上可分 解地設(shè)有板狀的一對(duì)腳體5 (僅圖示1個(gè))。通過(guò)該腳體5在上述架 臺(tái)2的下面?zhèn)刃纬煽臻g部6。
在上述空間部6中，收納有設(shè)備部9，該設(shè)備部9在框架8上載 置有控制裝置等的設(shè)備7，該控制裝置對(duì)在上述腔室3中如后述那樣 進(jìn)行的用來(lái)處理基板W的藥液或漂洗液等的處理液的箱或泵、或者 處理液供給進(jìn)行控制。即，各處理單元1A 1E通過(guò)用腳體5支撐架
臺(tái)2而在腔室3的下方形成空間部6，被分割成位于上下方向的腔室 3、上部輸送部4以及設(shè)備部9的3個(gè)部分。
上述腔室3以規(guī)定的角度、即例如相對(duì)于垂直線以15度的角度 傾斜的75度的角度傾斜而保持在上述架臺(tái)2上，在寬度方向的兩側(cè) 面上形成有被以75度的角度傾斜輸送的基板W通過(guò)的縫隙13 (在 圖1中僅圖示了一處)。
在上述腔室3的內(nèi)部中，如圖2和圖3所示，在腔室3的寬度方 向上以規(guī)定間隔設(shè)有構(gòu)成傾斜輸送機(jī)構(gòu)的多個(gè)輸送軸15。在該輸送 軸15上，沿軸向以規(guī)定間隔可旋轉(zhuǎn)地設(shè)有多個(gè)支撐輥14。上述輸送 軸15的上端及下端分別受托架15a支撐，以使軸線以與上述縫隙13 相同的角度傾斜。
在上述腔室3內(nèi)，基板W被圖1中用點(diǎn)劃線表示的第1姿勢(shì)變 換部16從水平狀態(tài)變換為75度的角度而從上述縫隙13送入。艮P， 未處理的基板W被上述上部輸送部4從第5處理單元1E側(cè)向第1 處理單元1A側(cè)輸送，被上述第1姿勢(shì)變換部16從水平狀態(tài)傾斜75 度的角度，被送入到上述第1處理單元1A中。
被送入到第1處理單元1A的腔室3內(nèi)的基板W受設(shè)在上述輸送 軸15上的支撐輥14支撐作為非設(shè)備面的背面。該基板W的下端受 驅(qū)動(dòng)輥17 (圖2所示)的外周面支撐。
上述驅(qū)動(dòng)輥17設(shè)在驅(qū)動(dòng)單元18的旋轉(zhuǎn)軸19上。并且，通過(guò)旋 轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)該旋轉(zhuǎn)軸19，下端受驅(qū)動(dòng)輥17支撐而背面受上述支撐輥14 支撐的上述基板W被向上述驅(qū)動(dòng)輥17的旋轉(zhuǎn)方向輸送。
基板W在由輸送方向上游側(cè)的第1至第3處理單元1A 1C用 作為處理液的剝離液進(jìn)行了抗蝕劑的除去后，由第4處理單元1D用 作為處理液的清洗液進(jìn)行清洗處理。接著，由第5處理單元1E進(jìn)行 通過(guò)熱風(fēng)的干燥處理。
依次通過(guò)各處理單元1A 1E而被處理后的基板W在以75度的
角度傾斜的狀態(tài)下被從上述第5處理單元IE送出。被從第5處理單 元1E送出的基板W被圖1中點(diǎn)劃線所示的第2姿勢(shì)變換部23將姿
勢(shì)從傾斜狀態(tài)變換為水平狀態(tài)，而交給下個(gè)工序。
如圖2所示，上述驅(qū)動(dòng)單元18沿著腔室3的寬度方向(基板W 的輸送方向)具有長(zhǎng)板狀的下部基座部件24。在該下部基座部件24 的上表面上，固接設(shè)置有與下部基座部件24相同長(zhǎng)度的槽狀的上部 基座部件25。
在上述上部基座部件25上，相對(duì)于上部基座部件25可進(jìn)行傾斜 調(diào)節(jié)地連結(jié)設(shè)置有與上述下部基座部件24大致相同大小的平板狀的 安裝部件26的寬度方向的一端部與另一端部。即，上述安裝部件26 在腔室3的前后方向上能夠進(jìn)行傾斜角度的調(diào)節(jié)。
在上述安裝部件26的寬度方向的一端和另一端上，相對(duì)于上述 安裝部件26的長(zhǎng)度方向以規(guī)定間隔、并且在對(duì)應(yīng)于寬度方向的位置 上分別設(shè)有多個(gè)托架31。在寬度方向上對(duì)應(yīng)的一對(duì)托架上，經(jīng)由未 圖示的軸承可旋轉(zhuǎn)地支撐上述旋轉(zhuǎn)軸19的軸方向的中途部。在該旋 轉(zhuǎn)軸19的前端上安裝有上述驅(qū)動(dòng)輥17，在后端上嵌裝著第1齒輪33。
并且，在將腔室3設(shè)置在上述架臺(tái)2上后，將桿狀的4條基準(zhǔn)部 件35的下端面通過(guò)螺釘42安裝固定在設(shè)于該架臺(tái)2上的支撐部41 的上表面上。上述驅(qū)動(dòng)單元18的下部基座部件24的四角部下表面通 過(guò)螺釘42安裝固定在上述基準(zhǔn)部件35的上端面上。4條基準(zhǔn)部件35 的上端面位于相同的平面上。因此，驅(qū)動(dòng)單元在其下部基座部件24 的寬度方向及長(zhǎng)度方向上不發(fā)生變形地被安裝固定。
在將上述驅(qū)動(dòng)單元18以基準(zhǔn)部件35的上端面為基準(zhǔn)組裝到腔室 3內(nèi)時(shí)，支撐在驅(qū)動(dòng)單元18上的多個(gè)旋轉(zhuǎn)軸19的后端部從開(kāi)口于腔 室3的前面板12b上的導(dǎo)出孔44突出到驅(qū)動(dòng)室45中。接著，在將驅(qū) 動(dòng)單元18組裝到腔室3內(nèi)之后，將上述第1齒輪33嵌裝在上述旋轉(zhuǎn) 軸19的后端上。
在上述驅(qū)動(dòng)室45中設(shè)有驅(qū)動(dòng)源51。在該驅(qū)動(dòng)源51的輸出軸上嵌 裝有驅(qū)動(dòng)滑輪53。在該驅(qū)動(dòng)滑輪53與從動(dòng)滑輪54上張?jiān)O(shè)有帶55。 上述從動(dòng)滑輪54與未圖示的第2齒輪同軸地設(shè)置。該第2齒輪與上 述第1齒輪33嚙合。由此，如果驅(qū)動(dòng)源51動(dòng)作，則上述旋轉(zhuǎn)軸19 被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，所以設(shè)在該旋轉(zhuǎn)軸19的前端上的上述驅(qū)動(dòng)輥17也被旋 轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。
如果驅(qū)動(dòng)輥17被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，則由這些驅(qū)動(dòng)輥17支撐下端的基板 W被向上述驅(qū)動(dòng)輥17的旋轉(zhuǎn)方向輸送。
如圖2和圖4所示，在對(duì)基板W的前表面噴射剝離液而進(jìn)行抗 蝕劑的除去的第1至第3處理單元1A 1C中，沿著基板W的輸送方向以規(guī)定間隔、與傾斜輸送的基板W的傾斜方向的上側(cè)的面、即 形成有電路圖案的前表面平行地離開(kāi)并相對(duì)地配設(shè)有多個(gè)給液管61 。
在各給液管61上，相對(duì)與基板W的輸送方向交叉的軸線方向以規(guī)定間隔設(shè)有多個(gè)噴嘴體62。上述給液管61與噴嘴體62形成本發(fā)明的處理液供給機(jī)構(gòu)。
對(duì)上述給液管61以0.7MPa左右的較高的壓力供給剝離液。由此，從設(shè)在給液管61上的噴嘴體62向上述基板W的前表面以高壓噴射上述處理液。
在支撐基板W的下端的驅(qū)動(dòng)輥17的附近，配置有防彎曲輥64， 該防彎曲輥64用來(lái)阻止下端受驅(qū)動(dòng)輥17的外周面支撐的基板W的 下端部在從噴嘴體62噴射的處理液的壓力下向背面?zhèn)葟澢?。該防?曲輥64可旋轉(zhuǎn)地支撐在支軸66上，該支軸66被設(shè)于從上述腔室3 的內(nèi)底面立設(shè)的托架65上。
即，上述防彎曲輥64設(shè)在驅(qū)動(dòng)輥17的附近，在該實(shí)施方式中， 如圖3和圖4所示，使旋轉(zhuǎn)軸線02與上述驅(qū)動(dòng)輥17的旋轉(zhuǎn)軸線Ol 和上述基板W的輸送方向X正交而配設(shè)，以使其徑向的一部分位于 比驅(qū)動(dòng)輥17的旋轉(zhuǎn)軸線01靠基板W的輸送方向(箭頭X所示)的
上游側(cè)、并且位于沿著基板W的輸送方向X的驅(qū)動(dòng)輥17的直徑(圖 3所示)的范圍內(nèi)的上方，并且外周面成為與背面受上述支撐輥14 支撐的基板W的下端部的背面接觸的位置。
根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，在基板W的下端受驅(qū)動(dòng)輥17的外周面支撐、 背面受支撐輥14支撐的狀態(tài)下旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)上述驅(qū)動(dòng)輥17。由此，基板 W在其下端與驅(qū)動(dòng)輥17的外周面的接觸阻力的作用下沿著上述驅(qū)動(dòng) 輥17的旋轉(zhuǎn)方向被輸送。并且，從設(shè)在給液管61上的噴嘴體62對(duì) 被輸送的基板W的前表面噴射高壓的處理液，處理其前表面。
如果基板W受到從噴嘴體62噴射的處理液的壓力，則沒(méi)有受基 板W的支撐輥14支撐的部分向背面?zhèn)葟澢?，特別是基板W的包括 輸送方向后方的下端部E (圖3和圖4所示)的周邊部與其他部分相 比容易向背面?zhèn)葟澢?br> 并且，如果基板W的周邊部中的輸送方向后方的下端部E、在 如圖4中點(diǎn)劃線所示那樣彎曲的狀態(tài)下、被輸送到與驅(qū)動(dòng)輥17的外 周面接觸的位置，則從驅(qū)動(dòng)輥17的外周面受到的驅(qū)動(dòng)力向使彎曲的 基板W的輸送方向后方的下端部E如圖4中箭頭B所示那樣向進(jìn)一 步彎曲的方向作用。因此，基板W的輸送方向后方的下端部E的彎 曲變大，有可能在其下端部E上發(fā)生斷裂等的損傷。
但是，在驅(qū)動(dòng)輥17的附近配設(shè)有防彎曲輥64。因此，基板W通 過(guò)如圖4中實(shí)線所示那樣與驅(qū)動(dòng)輥17的外周面的接觸、來(lái)阻止上述 下端部E向箭頭B所示的背面?zhèn)鹊姆较驈澢?br> 艮P，如果基板W受到處理液的壓力、在輸送方向后方的下端部E 彎曲的狀態(tài)下被輸送到與驅(qū)動(dòng)輥17的外周面接觸的位置的附近，則 其下端部E被防彎曲輥64矯正了彎曲狀態(tài)，而與驅(qū)動(dòng)輥17的外周面 接觸。
因此，基板W的輸送方向后方的下端部E即使在從處理液受到 的壓力的作用下向背面?zhèn)葟澢?，也能夠可靠地防止該下端部E在驅(qū)動(dòng)
輥17的作用下被更大地彎曲而損傷。
上述防彎曲輥64設(shè)在與設(shè)有上述支撐輥14的輸送軸15不同的 支軸66上。因此，上述防彎曲輥64在驅(qū)動(dòng)輥17的附近能夠不受支 撐輥14的設(shè)置狀態(tài)限制而自由地設(shè)定設(shè)置位置。
圖5A、圖5B表示本發(fā)明的第2實(shí)施方式。該實(shí)施方式在作為設(shè) 置防彎曲輥64的位置的驅(qū)動(dòng)輥17的附近、在沿著基板W的輸送方 向的驅(qū)動(dòng)輥17的直徑D的范圍內(nèi)的上游側(cè)和下游側(cè)的兩處設(shè)有一對(duì) 防彎曲輥64，以使其徑向的一部分位于上述直徑D的范圍內(nèi)。
圖6A、圖6B表示本發(fā)明的第3實(shí)施方式。在該實(shí)施方式中，上 述防彎曲輥64設(shè)置在驅(qū)動(dòng)輥17的附近、使防彎曲輥64的旋轉(zhuǎn)軸線 02在基板W的輸送方向上與上述驅(qū)動(dòng)輥17的旋轉(zhuǎn)軸線01正交的 位置上。即，上述防彎曲輥64使旋轉(zhuǎn)軸線02與沿著基板W的輸送 方向的驅(qū)動(dòng)輥17的直徑D的中心、即驅(qū)動(dòng)輥17的旋轉(zhuǎn)軸線Ol —致 而設(shè)置。
在上述第2、第3實(shí)施方式中，即使基板W的輸送方向后方的下 端部E受到處理液的壓力而彎曲，如果被輸送到與驅(qū)動(dòng)輥17的外周 面接觸的位置，也會(huì)被上述防彎曲輥64矯正彎曲狀態(tài)。
因此，與上述第l實(shí)施方式同樣，能夠可靠地防止基板W的輸 送方向后方的下端部E在從驅(qū)動(dòng)輥17受到的驅(qū)動(dòng)力的作用下過(guò)量彎 曲而發(fā)生損傷。
本發(fā)明的防彎曲輥不僅在通過(guò)剝離液處理基板的情況、在噴射純 水等的其他處理液或氣體而處理的情況下也能夠使用，只要是以高壓 對(duì)基板噴射處理液或氣體等的流體的情況就是有效的。
權(quán)利要求
1、一種基板的處理裝置，一邊使基板以規(guī)定的角度傾斜而進(jìn)行輸送，一邊通過(guò)流體進(jìn)行處理，其特征在于，具備腔室；支撐輥，設(shè)在該腔室內(nèi)，并支撐上述基板的傾斜方向下側(cè)的背面；驅(qū)動(dòng)輥，通過(guò)外周面支撐背面受上述支撐輥支撐的上述基板的下端，被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)而將上述基板向規(guī)定方向輸送；流體供給機(jī)構(gòu)，對(duì)上述基板的傾斜方向上側(cè)的前表面噴射上述流體；以及防彎曲輥，配置在上述驅(qū)動(dòng)輥的附近，在上述基板的輸送方向后方的下端部承受從上述流體供給機(jī)構(gòu)噴射的流體的壓力而使上述基板的下端部向背面?zhèn)葟澢鷷r(shí)，矯正該彎曲。
2、 如權(quán)利要求1所述的基板的處理裝置，其特征在于，上述防 彎曲輥設(shè)在上述驅(qū)動(dòng)輥的沿著上述基板的輸送方向的直徑范圍內(nèi)。
3、 如權(quán)利要求1或2所述的基板的處理裝置，其特征在于，上述防彎曲輥設(shè)在上述基板的輸送方向上游側(cè)。
4、 如權(quán)利要求1或2所述的基板的處理裝置，其特征在于，上 述防彎曲輥設(shè)在上述基板的輸送方向上游側(cè)和下游側(cè)。
5、 如權(quán)利要求1或2所述的基板的處理裝置，其特征在于，上 述防彎曲輥使旋轉(zhuǎn)軸線與上述基板的輸送方向和上述驅(qū)動(dòng)輥的旋轉(zhuǎn) 軸線正交而被設(shè)置。
全文摘要
本發(fā)明提供一種防止以規(guī)定的角度被傾斜輸送的基板的輸送方向后方的下端部過(guò)量彎曲而損傷的基板處理裝置。該基板處理裝置一邊使基板以規(guī)定的角度傾斜而進(jìn)行輸送，一邊通過(guò)流體進(jìn)行處理的基板的處理裝置，具備腔室(3)；支撐輥(14)，設(shè)在腔室內(nèi)，并支撐基板的傾斜方向下側(cè)的背面；驅(qū)動(dòng)輥(17)，通過(guò)外周面支撐背面受支撐輥支撐的基板的下端，被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)而將基板向規(guī)定方向輸送；噴嘴體(62)，對(duì)基板的傾斜方向上側(cè)的前表面噴射處理液；以及防彎曲輥(64)，配置在驅(qū)動(dòng)輥的附近，并在基板的輸送方向后方的下端部承受從流體供給機(jī)構(gòu)噴射的流體的壓力而使上述基板的下端部向背面?zhèn)葟澢鷷r(shí)，矯正該彎曲。
文檔編號(hào)G02F1/13GK101114581SQ20071013863
公開(kāi)日2008年1月30日 申請(qǐng)日期2007年7月24日 優(yōu)先權(quán)日2006年7月24日
發(fā)明者廣瀨治道 申請(qǐng)人:芝浦機(jī)械電子株式會(huì)社