專利名稱：用于檢查交替相移掩模的方法和系統(tǒng)的制作方法
用于檢查交替相移掩模的方法和系統(tǒng)技術領域本公開通常涉及掩模檢查，更具體而言，涉及使用偏倚的(biased) 檢查數(shù)據(jù)檢查交替相移掩模。
背景技術：
現(xiàn)在，目前水平的半導體制造利用193nm波長光學光刻系統(tǒng)結合相移 掩模例如交替相移掩模以產(chǎn)生電路圖形。交替相移掩模制造者面對的問題 是在制造掩模之后用于在掩模中發(fā)現(xiàn)缺陷的當前可用的掩模檢查工具利用 不與193nm波長的光學光刻系統(tǒng)匹配的非光化波長的光。當用于曝光交替 相移掩模的光的波長與用于檢查掩模的光的波長之間存在失配時，管芯到 數(shù)據(jù)庫(die-to-database)的檢查方法在檢查交替相移掩模時將產(chǎn)生大量 的假缺陷探測。因為歸因于在電路制造期間用于啄光掩模的光的波長和在 掩模制造期間用于檢查掩模的光的波長的變化，觀察的用于掩模的未被蝕 刻的區(qū)域(0度區(qū)域)和蝕刻的區(qū)域(180度相移)的圖像將不同于設計數(shù) 據(jù)的儲存的圖像的尺寸，所以將從交替相移掩,取的圖像與用于制造該 掩模的設計數(shù)據(jù)的圖像相比較的管芯到數(shù)據(jù)庫的檢查方法將產(chǎn)生大量的假 缺陷探測。由于這樣高比率的假缺陷探測，對于石英缺陷(蝕刻的區(qū)域) 掩模制造者典型地必須降低交替相移掩模的檢查的靈敏度，這些失配問題不單獨局限于在193nm波長光學光刻系統(tǒng)上瀑光掩模 時的情形，而且是在電路制造工藝中用于曝光交替相移掩模的光的波長不 同于在交替相移掩模的制造工藝期間用于檢查交替相移掩模的波長的任何 情形中所固有的.避免該失配問題的一個方法是使用管芯到管芯(die-to-die)的檢查方 法，該方法比較具有相同的圖形的掩模上的兩個相同的圖像并且識別兩者 之間的任何差異。在該方法中，因為管芯到管芯的檢查僅僅U于在掩模 制造期間用于檢查掩模的光的波長，所以在電路制造期間用于曝光掩模的 光的波長與在掩模險查期間使用的光的波長的差異不是問題。遺憾的是， 因為許多當今的交替相移掩模設計過大而不具有相同掩模的設計的拷貝， 所以管芯到管芯的檢查方法是不實際的。發(fā)明內(nèi)容因此，需要一種可以提供用于使用與在掩模制造期間用于檢查掩模的 光的波長不同的光的波長曝光的交替相移掩模的管芯到數(shù)據(jù)庫的檢查方法 的方法。在一個實施例中，存在一種用于檢查交替相移掩模的系統(tǒng)。在所述實 施例中，所述系統(tǒng)包括光學掃描器，配置其以掃描所述交替相移掩模并產(chǎn) 生光學圖像數(shù)據(jù)。配置數(shù)據(jù)庫以存儲偏倚以補償使用所述光學掃描器的所 述交替相移掩模的光學掃描響應的檢查數(shù)據(jù)，配置圖像處理器以確定在所 述交替相移掩模中是否存在缺陷。所述圖像處理器通過比較產(chǎn)生的光學圖 像數(shù)據(jù)與偏倚的檢查數(shù)據(jù)確定缺陷的存在。超過用戶選擇的閾值的所述產(chǎn) 生的光學圖像數(shù)據(jù)與所述偏倚的檢查數(shù)據(jù)之間的變化表示所述交替相移掩 才莫中的缺陷。在另一實施例中，存在一種用于檢查交替相移掩模的方法。在所述實 施例中，使用光學掃描器掃描所述交替相移掩模.所述方法還包括從所述 交替相移掩模的所述掃描產(chǎn)生光學圖像數(shù)據(jù)。所述方法還包括取回偏倚以 補償使用所述光學掃描器的所述交替相移掩模的光學掃描響應的檢查數(shù) 椐。所述方法還包括根據(jù)產(chǎn)生的光學圖像和偏倚的檢查數(shù)據(jù)確定在所述交 替相移掩模中是否存在缺陷.在第三實施例中，存在一種存儲用于使光學檢查系統(tǒng)能夠確定交替相 移掩模中的缺陷的計算機指令的計算機可讀的存儲介質。在所述實施例中， 所述計算機指令包括獲得從光學掃描器產(chǎn)生的所述交替相移掩模的光學圖
像數(shù)據(jù)。所述計算機指令還包括取回偏倚以補償使用所述光學掃描器的所 述交替相移掩模的光學掃描響應的檢查數(shù)據(jù)。所述計算機指令還包括根據(jù) 產(chǎn)生的光學圖像數(shù)據(jù)和偏倚的檢查數(shù)據(jù)確定在所述交替相移掩模中是否存 在缺陷。在又一實施例中，存在一種用于配置用于在4吏交替相移掩才莫的檢查能 夠運作的計算機系統(tǒng)中使用的檢查工具的方法。在所述實施例中，計算機 基礎結構被提供并且是可操作的以獲得從光學掃描器產(chǎn)生的所述交替相移掩模的光學圖像數(shù)據(jù)；取回偏倚以補償使用所述光學掃描器的所述交替相 移掩模的光學掃描響應的檢查數(shù)據(jù)；以及根據(jù)產(chǎn)生的光學圖像數(shù)據(jù)和偏倚 的檢查數(shù)據(jù)確定在所述交替相移掩模中是否存在缺陷。因此，本公開提供一種用于配置用于使用計算機系統(tǒng)中的檢查工具檢 查交替相移掩模的應用的方法、系統(tǒng)以及程序產(chǎn)品。


圖l示出了用于檢查交替相移掩模的掩模檢查系統(tǒng)的筒化的示意圖； 圖2示出了描述了圖l中描述的系統(tǒng)所使用的偏倚的檢查數(shù)據(jù)的產(chǎn)生 的流考呈圖；圖3a-3b示出了在測試掩模中使用以產(chǎn)生在圖2中所描述的偏倚的檢查數(shù)據(jù)的交替相移掩模的實例；圖4示出了描述使用設計數(shù)據(jù)制造交替相移掩模和使用偏倚的檢查數(shù) 據(jù)檢查掩模的缺陷的方法的通用的圖；以及圖5示出了描述了使用圖l中描述的系統(tǒng)的交替相移掩模的檢查方法 的流程圖。
具體實施方式
圖1示出了用于檢查交替相移掩模的掩模檢查系統(tǒng)100的簡化的示意 圖。除了常規(guī)交替相移掩模之外，掩模檢查系統(tǒng)100的下列說明還適合于 使用其它類型的掩模例如二元和衰減相移掩模。該掩模檢查系統(tǒng)100可以
進行幾種用于探測缺陷的檢查操作例如透射光檢查、反射光檢查和同時反射和透射檢查。在透射檢查中，光入射在襯底上并且檢查系統(tǒng)100探測透 射通過掩模的光的量。在反射光檢查中，檢查系統(tǒng)100測量從被測試的襯底的表面反射的光。同時反射和透射檢查同時地進行反射光檢查和透射光 檢查。重新參考圖1，掩模檢查系統(tǒng)100包括用于承載將要經(jīng)受檢查的襯底 (即，交替相移掩模)104的臺102。臺102是在電子子系統(tǒng)106的控制下 的精確的設備驅動器，其能夠相對于光學子系統(tǒng)108的光軸在單平面內(nèi)以 蛇形的(serpentine)方式移動被測試的掩模104，以便可以檢查掩模表面 的所有或任何的選擇的部分。光學子系統(tǒng)108基本上是包括光源110和第 一組相關的光學組件(optics) 112的激光掃描器設備，其中該第一組相關 的光學組件112在電子子系統(tǒng)106控制下將一束相干光偏轉小的角度。在 經(jīng)過光學子系統(tǒng)108之后，束掃描沿這樣的方向，其被定向為平《亍于從在 4^才莫104處所見的Y軸。當掃描該光束時，承載被測試的掩模104的臺102 沿X軸的方向前后移動，同時在每一個往復移動的末端處沿Y方向增加， 以便光束沿蛇形的路徑跨過多個識別的掩模子區(qū)域掃描。這樣，通過激光 束以一系列的鄰接的列條(swath )掃描掩模104的整個表面區(qū)域。在透明 或部分透明的掩^=莫的情況下，當束經(jīng)過第二組相關的光學組件116時，透 射探測器114將探測圖像。在反射或部分反射的掩模的情況下，反射光探 測器118將探測通過第一組相關的光學組件112的從^^模反射的光。如圖1中所示，電子子系統(tǒng)106包括從透射探測器114和反射光探測 器118接收光學圖像數(shù)據(jù)的圖像處理器120。圖像處理器120使用管芯到 數(shù)據(jù)庫的檢查方法以確定在交替相移掩模中存在的缺陷。具體而言，圖像 處理器120取回儲存在數(shù)據(jù)庫適配器124中的偏倚的檢查數(shù)據(jù)122并且將 從透射探測器114和反射光探測器118中產(chǎn)生的觀察的光學圖像數(shù)據(jù)與偏 倚的檢查數(shù)據(jù)相對比。如果存在超過用戶選擇的閾值的觀察的光學圖像數(shù) 據(jù)與偏倚檢查數(shù)據(jù)122之間的變化，那么圖像處理器120確定缺陷是存在 的。偏倚的檢查數(shù)據(jù)122是已被偏倚以補償使用光學掃描器的交替相移掩 模的光學掃描響應的數(shù)據(jù)。如上所述，由使用操作在不同于用于曝光交替 相移掩模的光的波長的光的波長處的掩模檢查系統(tǒng)而產(chǎn)生的失配導致非常 高數(shù)量的假缺陷探測。使用偏倚以補償使用掃描器的掩模的光學掃描響應 與用于曝光掩模的系統(tǒng)之間的變化的檢查數(shù)據(jù)，當將觀察的光學圖〗象數(shù)據(jù) 與偏倚的檢查數(shù)據(jù)比較時，將不存在光學圖像的尺寸的如此多的變化。結 果，可以以較高的靈敏度運行檢查系統(tǒng)100。下面是關于如何產(chǎn)生用于光 學子系統(tǒng)108的偏倚的檢查數(shù)據(jù)122的更為詳細的討論。圖像處理器120可以采用完全硬件實施例、完全軟件實施例或包含硬 件和軟件單元的實施例的形式。在優(yōu)選實施例中，以包括但不局限于固件、 駐留軟件、微代碼等等的軟件的形式實現(xiàn)通過圖像處理器120執(zhí)行的處理 功能。而且，通過圖像處理器120執(zhí)行的處理功能可以采取從計算機可用或 計算機可讀的存儲介質可存取的計算機程序產(chǎn)品的形式，其中該計算機可 用或計算機可讀的存儲介質提供用于任何計算機或指令執(zhí)行系統(tǒng)使用或者 與任何計算機或指令執(zhí)行系統(tǒng)有關的程序代碼。為了該說明的目的，計算 機可用或計算機可讀的存儲介質可以是可以包含、存儲、通信、傳播或傳 送用于指令執(zhí)行系統(tǒng)、設備或裝置使用或者與指令執(zhí)行系統(tǒng)、裝置或設備 有關的程序的任何裝置。存儲介質可以是可以包含、存儲、通信、傳播或傳送用于指令執(zhí)行系 統(tǒng)、設備或裝置使用或者與指令執(zhí)行系統(tǒng)、裝置或設備有關的包含用于執(zhí) 行圖像處理功能的指令的程序的任何裝置。計算機可讀的存儲介質可以是 電子的、磁的、光學的、電磁的、紅外的或半導體的系統(tǒng)(或裝置或設備) 或者傳播存儲介質。計算機可讀的存儲介質的實例包括半導體或固態(tài)存儲 器、磁帶、可移動的計算機磁盤、隨機存取存儲器(RAM)、只讀存儲器 (ROM)、硬磁盤和光盤。光盤的現(xiàn)有實例包括壓縮盤一只讀存儲器 (CD-ROM)、壓縮盤一讀寫(CD-R/M)和數(shù)字視盤(DVD)。電子子系統(tǒng)106除了執(zhí)行用于檢查交替相移掩模的缺陷的圖像處理操
作之外還執(zhí)行額外的功能。例如，電子子系統(tǒng)106翻譯和執(zhí)行通過作為檢 查系統(tǒng)100的主控制器的控制計算機126發(fā)布的命令。這些命令的非詳盡 的列舉可以包括功能例如數(shù)字化來自探測器114和118的輸入、補償用于 入射光強度的變化的這些讀出、在檢查期間監(jiān)^L臺102的軌跡和為用于移 動臺102的馬達提供驅動。
在一個實施中，數(shù)據(jù)庫適配器124包括配置以存儲用于在管芯到數(shù)據(jù) 庫的檢查方法中使用的偏倚的檢查數(shù)據(jù)122的數(shù)據(jù)庫。除了存儲偏倚的檢 查數(shù)據(jù)122之外，數(shù)據(jù)庫適配器124還可以存儲其它的交替相移掩才莫信息 例如與掩模有關的參考或設計數(shù)據(jù)和圖形以及特征數(shù)據(jù)。另外，數(shù)據(jù)庫適 配器124可以存儲在掩模中所探測的任何缺陷的位置。在本領域中的普通技術人員將認識到除了以上列出的實例外還存在數(shù)據(jù)庫適配器124可以存 儲的各種其它數(shù)據(jù)。
除了作為檢查系統(tǒng)100的主控制器外，控制計算機126還作為系統(tǒng)的 操作者控制臺。因此，在一個實施例中，控制計算機126可以發(fā)布命令以 控制檢查系統(tǒng)100的操作和監(jiān)視光學子系統(tǒng)108和電子子系統(tǒng)106的狀態(tài)。 雖然在圖1中沒有示出，但是控制計算機126可以包括輸入設備例如接收 操作者輸入的鍵盤、存儲信息的數(shù)據(jù)庫以及監(jiān)視由檢查系統(tǒng)的操作產(chǎn)生的 結果例如在交替相移掩模中記錄的缺陷和子系統(tǒng)的狀態(tài)。在一個實施中， 雖然控制計算機126是可以采取工作站的形式的通用計算機，但是也可以 使用其它類型的計算機。
圖2示出了描述了圖1中描述的系統(tǒng)所使用的偏倚的檢查數(shù)據(jù)的產(chǎn)生 的流程圖200。偏倚的檢查數(shù)據(jù)的產(chǎn)生開始于在202處產(chǎn)生交替相移掩模 的測試掩模。測試掩模將在其上具有許多重復的圖形。在一個實施例中， 存在包括線條和間隔的 一組圖形和具有線條和間隔的原樣的圖形但卻是交 替設計的另一組。因為蝕刻了交替相移測試掩模的鉻特征，而沒有蝕刻石 英特征，所以第一組線條的圖形稱為0。圖像數(shù)據(jù)。因為沒有蝕刻交替相移 測試掩模的鉻特征，而是蝕刻了交替間隔的石英特征，所以第二組線條的 圖形稱為180°圖<象數(shù)據(jù)。
偏倚的檢查數(shù)據(jù)的產(chǎn)生在204處繼續(xù)，其中將用于執(zhí)行缺陷探測的檢查系統(tǒng)在其操作波長的光處照射測試掩模。在一個實施例中，檢查系統(tǒng)將操作在非光化波長的光處。在206處，檢查系統(tǒng)將產(chǎn)生非相移的圖4象數(shù)據(jù)(即O"圖像數(shù)據(jù))和相移的圖像數(shù)據(jù)(即180°圖像數(shù)據(jù))。接下來，在208處檢驗非相移的圖像數(shù)據(jù)和相移的圖像數(shù)據(jù)的光學響應。非相移的圖像數(shù)據(jù)的光學響應用于數(shù)據(jù)庫適配器的校準，而使用相移的圖像數(shù)據(jù)的光學響應以確定用于檢查的偏倚。具體而言，檢驗相移的圖像數(shù)據(jù)中的線條的寬度以確定存儲在數(shù)據(jù)庫適配器108中的用于制造測試掩模的設計數(shù)據(jù)的光學圖像數(shù)據(jù)的線條的寬度之間存在多大的差異。如果觀察的光學圖像 數(shù)據(jù)和參考設計數(shù)據(jù)的線條的寬度之間存在光學響應中的差異，那么在210處測量差異的量值。在確定光學響應中的差異的量值之后，其在212處被使用以產(chǎn)生偏倚 的檢查數(shù)據(jù)。具體而言，將差異反饋到用于制造交替相移掩模和存儲在數(shù) 據(jù)庫適配器中的設計數(shù)據(jù)中。然后根據(jù)偏倚調(diào)整設計數(shù)據(jù)，以便從檢查系 統(tǒng)獲得的數(shù)據(jù)的圖像尺寸將匹配用于曝光交替相移掩模的光學光刻系統(tǒng)的 光學響應。通過使用公知的將輸入數(shù)據(jù)從設計者的格式轉換成掩才莫制造者 可以使用以印刷和檢查掩模的格式的斷裂(fracturing)方法實現(xiàn)調(diào)整。然 后在214處將偏倚的設計數(shù)據(jù)存儲在數(shù)據(jù)庫適配器中作為供在管芯到數(shù)據(jù) 庫的檢查方法中使用的偏倚的檢查數(shù)據(jù)。圖3a-3b示出了在測試掩模中使用以產(chǎn)生在圖2中所描述的偏倚的檢 查數(shù)據(jù)的交替相移掩模的實例。具體而言，圖3a示出了具有0°圖像數(shù)據(jù) 和180°圖像數(shù)據(jù)的兩組圖形的測試掩模。在圖3a中，因為沒有蝕刻掩模 的石英特征，所以圖形P1表示0。圖像數(shù)據(jù)，而因為蝕刻了掩模的石英特 征部分，所以圖形P2表示180。圖像數(shù)據(jù)。通過參考元素；t標示了圖形P2 的石英特征部位被蝕刻的區(qū)域。圖3b示出了在使用光學光刻系統(tǒng)曝光掩 模之后和在使用檢查系統(tǒng)檢查之后的測試掩模的圖形P2的光學圖4象數(shù)據(jù)。 如在圖3b中所示，在電路制造期間和在掩模檢查期間曝光掩模之后得到 的光學圖像數(shù)據(jù)的7T特征的寬度的尺寸存在差異。具體而言，在檢查期間
得到的光學圖像數(shù)據(jù)的；r特征的寬度基本上小于在掩模曝光期間得到的光 學圖像數(shù)據(jù)的7T特征的寬度。如上所述，寬度的尺寸的差異是用于曝光掩 模的光的波長與用于檢查掩才莫的光的波長相比具有失配的結果。在該公開 中，Pl與P2之間的測量的差異是^L^饋并用于調(diào)整設計數(shù)據(jù)中的7T圖像 的尺寸的值，由此產(chǎn)生偏倚的檢查數(shù)據(jù)。偏倚設計數(shù)據(jù)以補償光的操作波 長的該失配，將去除圖像尺寸差異并且使管芯到數(shù)據(jù)庫的檢查方法能夠更 精確地探測缺陷。圖4示出了描述使用設計數(shù)據(jù)曝光交替相移掩模和使用偏倚的檢查數(shù) 據(jù)(源自將偏倚施加到設計數(shù)據(jù))檢查所制造的掩模的缺陷的方法400的 通用的圖。在圖4中，掩模寫入器(writer)在404處使用掩模制造者想 要制造的實際設計的設計數(shù)據(jù)402印刷掩模。根據(jù)設計數(shù)據(jù)印刷的交替相 移掩模，其隨后在406處經(jīng)受附加的掩模處理操作例如顯影、蝕刻和清洗。 然后在408處使用偏倚的檢查數(shù)據(jù)410檢查制造的交替相移掩模。圖4的 方法不同于常規(guī)的檢查方法，因為該公開的檢查系統(tǒng)使用與設計數(shù)據(jù)相對 的偏倚的檢查數(shù)據(jù)檢查掩模。更具體而言，常M^查方法使用設計數(shù)據(jù)印 刷掩模然后又在管芯到數(shù)據(jù)庫的方法中使用設計數(shù)據(jù)檢查掩模。結果，當 用于印刷和用于檢查的光的操作波長存在失配時，這種檢查方法將具有高 比例的假缺陷檢查。本公開的檢查方法仍使用設計數(shù)據(jù)用于制造但是通過 利用用于缺陷檢查的偏倚的檢查數(shù)據(jù)克服了失配問題。只要交替相移掩模曝光方法和光學檢查系統(tǒng)保持固定，那么就可以在 隨后顯影的交替相移掩模的檢查中使用在圖2中產(chǎn)生的偏倚。這允許掩模 制造者具有無縫的制造流程。如果掩模啄光方法改變或使用了不同的檢查 工具，那么將必須產(chǎn)生新的偏倚的檢查數(shù)據(jù)并且根據(jù)該偏倚的數(shù)據(jù)檢查掩 模的缺陷。圖5示出了描述了使用圖1中描述的系統(tǒng)的交替相移掩模的檢查方法 500的流程圖。檢查方法開始于在502處使用圖1中所描述的檢查系統(tǒng)掃 描交替相移掩模。在504處檢查系統(tǒng)產(chǎn)生掩模圖形的光學圖像。然后在506 處，檢查系統(tǒng)取回存儲在數(shù)據(jù)庫適配器中的偏倚的檢查數(shù)據(jù)。然后在508
處，光學檢查系統(tǒng)比較觀察的圖像數(shù)據(jù)與偏倚的檢查數(shù)據(jù)之間的光學響應。在510處基于該比較，檢查系統(tǒng)確定是否存在缺陷。具體而言，如果存在 超過用戶選擇的閾值的觀察的光學圖像數(shù)據(jù)與偏倚的檢查數(shù)據(jù)之間的變 化，那么檢查系統(tǒng)確定缺陷是存在的。上述圖2、 4和5示出了與產(chǎn)生偏倚的檢查數(shù)據(jù)、曝光交替相移掩模和 檢查掩模的缺陷有關的處理步驟。在這點上，在流程圖中的每一個方塊代 表與執(zhí)行這些功能有關的處理步驟。還應該注意到在一些可選的實施例中， 在方塊中注釋的步驟可以不按照在附圖中所注釋的順序出現(xiàn)，或者例如事 實上可以基本上同時地或以相反的順序被執(zhí)行，這取決于所涉及的步驟。塊。顯而易見本公開已提供了 一種用于使用偏倚的檢查數(shù)據(jù)檢查交替相移 掩模的方法。偏倚的檢查數(shù)據(jù)的使用降低了作為使用操作在不同于用于檢 查掩才莫的光的波長的光的波長處的光學光刻系統(tǒng)而產(chǎn)生的失配的結果而出 現(xiàn)的假或多余的缺陷的量。結果，對于石英缺陷的探測，用于檢查交替相 移掩模的檢查系統(tǒng)可以幾乎滿靈敏度運行。雖然結合其優(yōu)選的實施例具體 地示出和描述了4^>開，應該理解本領域的普通^L術人員可以在不背離本 ^^開的范圍的情況下進行有效的變化和修改。在另一實施例中，本公開提供了一種基于認購、廣告和/或費用來執(zhí)行 本發(fā)明的處理步驟的商業(yè)方法。即，服務提供者可以提供利于交替相移掩 模的檢查的檢查工具。在該情況下，服務提供者可以為一個或多個用戶產(chǎn) 生、配置、維護、支持等等啟動本發(fā)明的處理步驟的計算機基礎結構。作 為回報，服務提供者可以基于認購和/或費用協(xié)議從用戶收取付款和/或服 務提供者可以從向一個或多個第三方銷售廣告內(nèi)容收取付款。在又一實施例中，本公開提供了 一種用于使用在計算機系統(tǒng)內(nèi)的檢查 工具檢查交替相移掩模的方法。在該情況下，可以提供框架(framework) 和可以獲得用于執(zhí)行^&開的處理步驟的一個或多個系統(tǒng)并將其配置到框 架。就該程度而言，系統(tǒng)的配置可以包括(l)在計算裝置例如計算才幾系統(tǒng)
上安裝來自計算機可讀的存儲介質的程序代碼；(2)將一個或多個計算設 備加到框架；以及(3)合并和/或修改一個或多個現(xiàn)有系統(tǒng)的框架以使框 架執(zhí)行本發(fā)明的處理步驟中的一個或多個。
權利要求
1.一種用于檢查交替相移掩模的系統(tǒng)，包括光學掃描器，配置其以掃描所述交替相移掩模和產(chǎn)生光學圖像數(shù)據(jù)；數(shù)據(jù)庫，配置其以存儲偏倚以補償使用所述光學掃描器的所述交替相移掩模的光學掃描響應的檢查數(shù)據(jù)；以及圖像處理器，配置其以確定在所述交替相移掩模中是否存在缺陷，其中所述圖像處理器通過比較產(chǎn)生的光學圖像數(shù)據(jù)與偏倚的檢查數(shù)據(jù)確定缺陷的存在，其中超過用戶選擇的閾值的所述產(chǎn)生的光學圖像數(shù)據(jù)與所述偏倚的檢查數(shù)據(jù)之間的變化表示所述交替相移掩模中的缺陷。
2. 根據(jù)權利要求l的系統(tǒng)，其中所述偏倚的檢查數(shù)據(jù)基于源自在測試 交替相移掩模的掃描期間從所述光學掃描器獲得的光學成像數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)。
3. 根據(jù)權利要求2的系統(tǒng)，其中所述偏倚的檢查數(shù)據(jù)基于通過所迷光 學掃描器觀察的相移的光學成像數(shù)據(jù)與從設計數(shù)據(jù)產(chǎn)生的參考光學圖像數(shù) 據(jù)的光學掃描響應中的差異。
4. 根據(jù)權利要求l的系統(tǒng)，其中所述光學掃描器利用與在制造期間用 于啄光所述交替相移掩模的光的波長失配的光的波長。
5. 根據(jù)權利要求4的系統(tǒng)，其中所述光學掃描器利用非光化波長的光。
6. 根據(jù)權利要求l的系統(tǒng)，其中所述圖像處理器利用管芯到數(shù)據(jù)庫的 檢查方法。
7. 根據(jù)權利要求l的系統(tǒng)，還包括用于控制所述圖像處理器的操作的 控制器。
8. —種用于檢查交替相移掩模的方法，包括以下步驟 使用光學掃描器掃描所述交替相移掩模； 從所述交替相移掩模的所述掃描產(chǎn)生光學圖像數(shù)據(jù)； 取回偏倚以補償使用所述光學掃描器的所述交替相移掩模的光學掃描響應的檢查數(shù)據(jù)；以及根據(jù)產(chǎn)生的光學圖像數(shù)據(jù)和偏倚的檢查數(shù)據(jù)確定在所述交替相移掩模中是否存在缺陷。
9. 根據(jù)權利要求8的方法，其中缺陷的所述存在的所述確定包括比較 所述產(chǎn)生的光學圖像數(shù)據(jù)與所述偏倚的檢查數(shù)據(jù)，其中超過用戶選擇的閾 值的所述產(chǎn)生的光學圖像數(shù)據(jù)與所述偏倚的檢查數(shù)據(jù)之間的變化表示所述 交替相移掩模中的缺陷。
10. 根據(jù)權利要求8的方法，其中所述偏倚的檢查數(shù)據(jù)基于源自在測 試交替相移掩模的掃描期間從所述光學掃描器獲得的相移的光學成像數(shù)據(jù) 的數(shù)據(jù)。
11. 根據(jù)權利要求10的方法，其中所述偏倚的檢查數(shù)據(jù)基于通過所述 光學掃描器觀察的所述相移的光學成像數(shù)據(jù)與從設計數(shù)據(jù)產(chǎn)生的參考光學 圖像數(shù)據(jù)的光學掃描響應中的差異。
12. 根據(jù)權利要求8的方法，其中所述掃描利用與在制造期間用于曝 光所述交替相移掩模的光的波長失配的光的波長。
13. 根據(jù)權利要求12的方法，其中所述掃描利用非光化波長的光。
14. 根據(jù)權利要求8的方法，其中所述確定包括利用管芯到數(shù)據(jù)的庫 檢查方法。
全文摘要
一種檢查系統(tǒng)使用偏倚以補償失配的檢查數(shù)據(jù)，所述失配發(fā)生作為使用操作在不同于檢查系統(tǒng)用以檢查所述掩模的缺陷的光的波長的光的波長處的光學光刻系統(tǒng)印刷交替相移掩模的結果。
文檔編號G03F1/00GK101162363SQ20071014918
公開日2008年4月16日 申請日期2007年9月5日 優(yōu)先權日2006年10月13日
發(fā)明者C·K·馬格, K·D·巴杰爾, M·S·希布斯 申請人:國際商業(yè)機器公司