專利名稱：電子部件的安裝狀態(tài)檢查方法、電子部件的安裝狀態(tài)檢查裝置以及電子設(shè)備的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及電子部件的安裝狀態(tài)檢查方法，電子部件的安裝狀態(tài) 檢查裝置以及電子設(shè)備的制造方法，特別涉及在設(shè)置有電極的透明襯 底上、隔著各向異性導(dǎo)電膜、通過(guò)熱壓接安裝電子部件時(shí)的電子部件 的安裝狀態(tài)檢查方法，電子部件的安裝狀態(tài)檢查裝置以及電子設(shè)備的 制造方法。
背景技術(shù)：
作為檢查安裝在設(shè)置有電極的襯底上的電子部件的安裝狀態(tài)的 方法，已知有利用在安裝狀態(tài)不良時(shí)電阻值變高的現(xiàn)象的方法。在這 種檢查方法中，有測(cè)量安裝部分的電阻值的方法，和確認(rèn)在安裝狀態(tài) 良好時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)的功能的方法。作為后者的例子，如果是在液晶顯示 器的玻璃襯底上安裝液晶顯示器的顯示控制用電子部件的情況，則驅(qū) 動(dòng)所安裝的顯示控制用電子部件進(jìn)行液晶顯示器的畫面顯示，根據(jù)所 顯示的畫面的狀態(tài)判定安裝狀態(tài)的好壞。近年，在設(shè)置有電極的透明襯底上，隔著包含導(dǎo)電性粒子的各向 異性導(dǎo)電膜安裝電子部件的情況變多。作為判定這種情況下的電子部 件的安裝狀態(tài)好壞的方法，已知使用微分干涉顯微鏡的方法。具體地 說(shuō)，用微分干涉顯微鏡從電子部件的安裝方向的背面 一側(cè)觀察安裝有 電子部件的透明襯底，數(shù)由于被導(dǎo)電性粒子按壓而形成在電極上的壓 痕數(shù)。當(dāng)壓痕數(shù)多的情況下，判定為安裝狀態(tài)良好。用微分干涉顯微 鏡的觀察由判定安裝狀態(tài)好壞的檢驗(yàn)員進(jìn)行。進(jìn)而，作為自動(dòng)通過(guò)觀察形成在電極上的壓痕來(lái)判定安裝狀態(tài)好壞的發(fā)明，已知有以下的專利文獻(xiàn)l、 2所述的發(fā)明。
專利文獻(xiàn)1所述的發(fā)明中，拍攝利用微分干涉顯微鏡映出的電極 的圖像，以在拍攝到的圖像中存在的隆起部的形狀為依據(jù)判定該隆起 部是否為壓痕。但是，沒(méi)有說(shuō)明判定是否為壓痕的具體判定方法。專利文獻(xiàn)2所述的發(fā)明中，拍攝利用微分干涉顯微鏡映出的電極 的圖像，對(duì)所拍攝的圖像的濃淡值進(jìn)行黑白二值化，根據(jù)經(jīng)過(guò)二值化 的白或者黑的面積和形狀判定是否為壓痕?；蛘?，根據(jù)所拍攝的圖像 的濃淡值的標(biāo)準(zhǔn)偏差判定是否為壓痕。[專利文獻(xiàn)1特開2003-269934號(hào)公報(bào)[專利文獻(xiàn)2特開2005-227217號(hào)乂>凈艮但是，在上述公報(bào)所記栽的發(fā)明中，沒(méi)有考慮以下方面。如專利文獻(xiàn)2所述，當(dāng)根據(jù)經(jīng)過(guò)二值化時(shí)的白或者黑的面積以及 形狀判定為是壓痕的情況下，有將在安裝時(shí)夾在電子部件的凸塊和電定為壓痕的情:。 、'，、、 '-此外，根據(jù)圖像的濃淡值的標(biāo)準(zhǔn)偏差判定壓痕的情況也一樣，在安裝時(shí)夾在電子部件的凸塊和電極之間的異物或凸塊自身的變形對(duì) 濃淡值的標(biāo)準(zhǔn)偏差有影響，有將不是壓痕的部分判定為壓痕的情況。即，即使是檢驗(yàn)人員觀察形成在電極上的凸?fàn)畈繒r(shí)能夠根據(jù)形狀 或濃淡判定為不是壓痕的情況，由于自動(dòng)化的原因也會(huì)出現(xiàn)誤判定為 是壓痕的情況。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明就是為了解決這種課題而提出的，其目的在于提供一種電 子部件的安裝狀態(tài)檢測(cè)方法、電子部件的安裝狀態(tài)檢查裝置以及電子 設(shè)備的制造方法，其中，當(dāng)自動(dòng)檢查使用各向異性導(dǎo)電膜在透明村底 上安裝的電子部件的安裝狀態(tài)的情況下，能夠可靠地判定因被各向異 性導(dǎo)電膜中的導(dǎo)電性粒子按壓而形成在電極上的壓痕。本發(fā)明的實(shí)施方式的第l特征在于，在電子部件的安裝狀態(tài)檢查 方法中具備從安裝有上述電子部件的面的背面一側(cè)將隔著各向異性導(dǎo)電膜安裝有電子部件的透明襯底用微分干涉顯微鏡映出并拍攝的步驟；從所拍攝的圖像中，使用預(yù)先登錄的上述電極的形狀檢測(cè)設(shè)置 在上述透明襯底上的電極的位置的步驟；實(shí)施對(duì)形成在上述電極上的 凸?fàn)畈窟M(jìn)行強(qiáng)調(diào)的微分濾波處理的步驟；對(duì)通過(guò)上述微分濾波處理來(lái) 強(qiáng)調(diào)的上述凸?fàn)畈亢皖A(yù)先準(zhǔn)備的壓痕模型進(jìn)行圖案匹配，將匹配率大于等于設(shè)定值的上述凸?fàn)畈孔鳛閴汉酆蜓a(bǔ)抽取的步驟；當(dāng)作為壓痕候 補(bǔ)抽取的上述凸?fàn)畈康臐獾抵畲笥诘扔谠O(shè)定值的情況下將上述 凸?fàn)畈颗卸閴汉鄣牟襟E；對(duì)判定為壓痕的個(gè)數(shù)進(jìn)行計(jì)數(shù)的步驟；以對(duì)上述透明襯底的安裝狀態(tài)是否良好的步驟。 ' -本發(fā)明的實(shí)施方式的第2個(gè)特征在于，在電子部件的安裝狀態(tài)檢 查方法中具備從安裝有上述電子部件的面的背面一側(cè)將隔著各向異 性導(dǎo)電膜安裝有電子部件的透明村底用微分干涉顯微鏡映出并拍攝 的步驟；從所拍攝的圖像中，使用預(yù)先登錄的上述電極的形狀檢測(cè)設(shè) 置在上述透明襯底上的電極的位置的步驟；當(dāng)對(duì)形成在檢測(cè)出的上迷 電極上的凸?fàn)畈康膱D像的濃淡值進(jìn)行了二值化的情況下，當(dāng)閾值以上 的部分的面積大于等于設(shè)定值的情況下判定為有異物的步驟；當(dāng)對(duì)形 成在檢測(cè)出的上述電極上的凸?fàn)畈康膱D像的濃淡值進(jìn)行了二值化的 情況下，當(dāng)閾值以下的部分的面積大于等于設(shè)定值的情況下判定為有 異物的步驟；在對(duì)形成在上述電極上的上述凸?fàn)畈繉?shí)施了強(qiáng)調(diào)邊緣的 拉普拉斯算子濾波處理后，當(dāng)對(duì)除去了因被上述各向異性導(dǎo)電膜中的 導(dǎo)電性粒子按壓而形成的上述凸?fàn)畈亢蟮膱D像的濃淡值進(jìn)行了二值 化時(shí)，當(dāng)閾值以下的部分的面積大于等于設(shè)定值的情況下判定為有異 物的步驟；以及在上述微分干涉顯微鏡的濃淡變化出現(xiàn)的方向上，對(duì) 實(shí)施了與異物尺寸一致的微分濾波處理后的圖像的濃淡值進(jìn)行了 二 值化的情況下，當(dāng)閾值以上的部分的面積大于等于設(shè)定值的情況下判 定為異物的步驟。本發(fā)明的實(shí)施方式的第3個(gè)特征在于，在電子部件的安裝狀態(tài)檢 查裝置中具備從安裝有上述電子部件的面的背面一側(cè)映出隔著各向
異性導(dǎo)電膜安裝有電子部件的透明襯底的微分干涉顯微鏡；拍攝用上 述微分干涉顯微鏡映出的圖像的攝像部；從所拍攝的圖像中使用預(yù)先 登錄的上述電極的形狀來(lái)檢測(cè)設(shè)置在上述透明襯底上的電極的位置 的電極位置檢測(cè)單元；實(shí)施對(duì)形成在上述電極上的凸?fàn)畈窟M(jìn)行強(qiáng)調(diào)的 微分濾波處理的微分濾波處理單元；對(duì)用上述微分濾波處理所強(qiáng)調(diào)的 上述凸?fàn)畈亢皖A(yù)先準(zhǔn)備的壓痕模型進(jìn)行圖案匹配，將匹配率大于等于 設(shè)定值的上述凸?fàn)畈孔鳛閴汉酆蜓a(bǔ)抽取的壓痕候補(bǔ)抽取單元；當(dāng)作為 壓痕候補(bǔ)抽取的上述凸?fàn)畈康臐獾档牟畲笥诘扔谠O(shè)定值的情況下， 將上述凸?fàn)畈颗卸閴汉鄣膲汉叟卸▎卧粚?duì)判定為壓痕的個(gè)數(shù)進(jìn)行 計(jì)數(shù)的計(jì)數(shù)單元；以及根據(jù)作為壓痕計(jì)數(shù)的數(shù)是否大于等于設(shè)定值來(lái)單元。本發(fā)明的實(shí)施方式的第4個(gè)特征在于，在電子部件的安裝狀態(tài)檢 查裝置中具備從安裝有上述電子部件的面的背面一側(cè)映出隔著各向 異性導(dǎo)電膜安裝有電子部件的透明襯底的微分干涉顯微鏡；拍攝用上 述微分干涉顯微鏡映出的圖像的攝像部；從所拍攝的圖像中，使用預(yù) 先登錄的上述電極的形狀來(lái)檢測(cè)設(shè)置在上述透明電極上的電極的位 置的電極位置檢測(cè)單元；當(dāng)對(duì)形成在檢測(cè)出的上述電極上的凸?fàn)畈康?圖像的濃淡值進(jìn)行了 二值化的情況下，當(dāng)閾值以上的部分的面積大于 等于設(shè)定值的情況下判定為有異物的第l異物判定單元；當(dāng)對(duì)形成在 檢測(cè)出的上述電極上的凸?fàn)畈康膱D像的濃淡值進(jìn)行了 二值化的情況 下，當(dāng)閾值以下的部分的面積大于等于設(shè)定值的情況下判定為有異物 的第2異物判定單元；在對(duì)形成在上述電極上的上述凸?fàn)畈繉?shí)施了強(qiáng) 調(diào)邊緣的拉普拉斯算子濾波處理后，當(dāng)對(duì)除去了因被上述各向異性導(dǎo) 電膜中的導(dǎo)電性粒子按壓而形成的上述凸?fàn)畈亢蟮膱D像的濃淡值進(jìn) 行了二值化的情況下，當(dāng)閾值以下的部分的面積大于等于設(shè)定值的情 況下，判定為有異物的第3異物判定單元；在上述微分干涉顯微鏡的 濃淡變化出現(xiàn)的方向上，當(dāng)對(duì)實(shí)施了與異物尺寸一致的微分濾波處理 后的圖像的濃淡值進(jìn)行了二值化的情況下，當(dāng)閾值以上的部分的面積 大于等于設(shè)定值的情況下判定為有異物的第4異物判定單元。本發(fā)明的實(shí)施方式的第5特征在于，在電子設(shè)備的制造方法中包 含使用在設(shè)置有電極的透明村底上隔著各向異性導(dǎo)電膜安裝有電子 部件的部件的電子設(shè)備的制造步驟中，包含利用本發(fā)明的方案l至6 中任一項(xiàng)所述的電子部件的安裝狀態(tài)檢查方法進(jìn)行檢查的步驟。如果采用本發(fā)明，則能夠高精度地進(jìn)行使用各向異性導(dǎo)電膜進(jìn)行 的電子部件對(duì)透明襯底的安裝狀態(tài)好壞的判定。


圖l是表示本發(fā)明的第l種實(shí)施方式的電子部件的安裝狀態(tài)檢查 裝置的正面圖。圖2是表示隔著各向異性導(dǎo)電膜在透明襯底上安裝了電子部件 的檢查對(duì)象物的縱剖正面圖。圖3是表示微分干涉顯微鏡的構(gòu)造的示意圖。圖4是說(shuō)明對(duì)檢查對(duì)象物進(jìn)行的在安裝狀態(tài)檢查裝置中的安裝 狀態(tài)的檢查步驟的流程圖。圖5是說(shuō)明對(duì)檢查對(duì)象物進(jìn)行的在安裝狀態(tài)檢查裝置中的安裝 狀態(tài)的檢查步驟的工序圖。圖6是在圖案匹配中使用的壓痕模型的制造的說(shuō)明圖。圖7是在本發(fā)明的第2種實(shí)施方式的電子部件的安裝狀態(tài)檢查裝 置中，說(shuō)明檢查時(shí)的電極位置修正的工序圖。圖8是說(shuō)明由電極位置修正手段進(jìn)行的電極位置修正的曲線圖。圖9是在本發(fā)明的第3種實(shí)施方式的電子部件的安裝狀態(tài)檢查裝 置中，說(shuō)明在檢查時(shí)的電極內(nèi)的亮度變化的影響的減輕的工序圖。圖10是表示第4種實(shí)施方式的電子部件的安裝狀態(tài)檢查裝置的 正面圖。圖ll是表示第5種實(shí)施方式的電子部件的安裝狀態(tài)檢查裝置的 正面圖。圖12是表示第6種實(shí)施方式的電子部件的安裝狀態(tài)檢查裝置的
正面圖。圖13是說(shuō)明由第7種實(shí)施方式的電子部件的安裝狀態(tài)檢查裝置 進(jìn)行的異物檢測(cè)的步驟的流程圖。圖14是說(shuō)明異物檢測(cè)步驟的工序圖。 (符號(hào)說(shuō)明) 1:透明襯底 2:各向異性導(dǎo)電膜 3:電子部件 6:微分干涉顯微鏡 7: CCD照相機(jī) 9:清洗裝置 11:電極 lla:壓痕 13:凸?fàn)畈?14:壓痕模型 21:顯示部 22:微分千涉顯微鏡 23:傳送機(jī)構(gòu) 24:記錄部具體實(shí)施方式
(第l種實(shí)施方式)參照?qǐng)D1至圖6說(shuō)明本發(fā)明的第l種實(shí)施方式。 在本發(fā)明第1種實(shí)施方式的電子部件的安裝狀態(tài)檢查裝置X中， 如圖1所示，設(shè)置放置在透明襯底1上隔著各向異性導(dǎo)電膜2安裝 電子部件3的檢查對(duì)象物4的XY載物臺(tái)5;微分干涉顯微鏡6;作 為攝像部的CCD照相機(jī)7;顯示檢查內(nèi)容或檢查結(jié)果的顯示部8;清 洗裝置9;控制部10。檢查對(duì)象物4如圖2所示，在透明襯底1的一面上設(shè)置電極ll， 在設(shè)置有該電極11的一側(cè)上隔著各向異性導(dǎo)電膜2安裝電子部件3。 電子部件3的安裝通過(guò)熱壓接進(jìn)行。各向異性導(dǎo)電膜2在具有絕緣性 的粘接性樹脂2a中分散導(dǎo)電性粒子2b。當(dāng)安裝有電子部件3的情況 下，由于導(dǎo)電性粒子2b被電子部件3的凸塊3a和電極11之間夾著 而被壓塌，因而凸塊3a和電極11變成可以通電的狀態(tài)。此外，通過(guò) 按壓夾在凸塊3a和電極11之間的導(dǎo)電性粒子2b，在電極11上形成 作為用導(dǎo)電性粒子2b按壓的痕跡的壓痕lla。微分干涉顯微鏡6如圖3所示，在通常的光學(xué)顯微鏡中組裝作為 干涉裝置的l組楔形的棱鏡12a、 12b，是可以將樣本的折射率或厚度 的變化變換為濃淡差觀察的以往公知的顯微鏡。因而，通過(guò)使用微分 干涉顯微鏡6，能夠觀察在通常的光學(xué)顯微鏡中不能觀察的電極ll的 微小的凸?fàn)畈?，例如能夠?qū)汉踠la作為濃淡差觀察。將微分干涉顯 微鏡6配置為從安裝有電子部件3的透明襯底1中的安裝了電子部件 3的一側(cè)的背面一側(cè)映出透明襯底1的朝向。在微分干涉顯微鏡6中，設(shè)置有相對(duì)于一方的固定側(cè)的棱鏡12a 調(diào)節(jié)可移動(dòng)側(cè)的棱鏡12b的位置的調(diào)整機(jī)構(gòu)(未圖示)。通過(guò)用該調(diào) 節(jié)機(jī)構(gòu)使棱鏡12b移動(dòng)，能夠調(diào)整能夠觀察的濃淡差。因而，在微分 干涉顯微鏡6的制造時(shí)，通過(guò)調(diào)節(jié)棱鏡12b的位置，當(dāng)各微分干涉顯 微鏡6映出同 一檢查對(duì)象物4的情況下，能夠得到相同的濃淡差。此外，對(duì)于微分干涉顯微鏡6的照明的亮度，可以利用所拍攝的 圖像的濃淡值的平均、照度計(jì)調(diào)節(jié)為一定。通過(guò)進(jìn)行該照度調(diào)節(jié)，當(dāng) 各微分干涉顯微鏡6映出同一檢查對(duì)象物4的情況下，能夠得到相同 濃淡差。作為攝像部的CCD照相機(jī)7和微分干涉顯微鏡6設(shè)置成一體， 拍攝利用微分干涉顯微鏡6映出的圖像。清洗裝置9對(duì)用微分干涉顯微鏡6映出的 一側(cè)的透明襯底1的面 進(jìn)行清洗。如果在透明襯底1的用微分干涉顯微鏡6映出的一側(cè)的面 上附著灰塵，則因其影響而妨礙拍攝電極11的圖像，有不能檢測(cè)壓 痕lla，或判定為異物夾在電極ll和凸塊3a之間的情況。為了防止
這種不良情況，考慮事先清洗透明襯底1。此外，當(dāng)灰塵附著的發(fā)生頻度低的情況下，也有只在不能檢測(cè)壓痕lla，或認(rèn)為在電極ll和凸 塊3a之間夾著異物而判定為不良的情況下進(jìn)行該部分的清洗的方法。 作為清洗方法，考慮吹氣排除灰塵的方法、相反的吸引的方法、用刷 子拂去的方法等。特別是在采用刷子進(jìn)行清洗的情況下，組合刷子的 旋轉(zhuǎn)和平行移動(dòng)進(jìn)行清洗非常有效。因?yàn)槿绻恍D(zhuǎn)，則旋轉(zhuǎn)中心的速度是零，所以不能除去在這部分上的異物。此外，如果只平行移動(dòng)， 則有可能使灰塵移動(dòng)到相鄰的檢查范圍中?？刂撇?0具備存儲(chǔ)各種程序或各種固定數(shù)據(jù)的ROM;暫時(shí) 存儲(chǔ)從微分干涉顯微鏡6或CCD照相機(jī)7輸入的數(shù)據(jù)的RAM;使用 存儲(chǔ)在ROM中的程序或固定數(shù)據(jù)及存儲(chǔ)在RAM中的數(shù)據(jù)進(jìn)行各種 運(yùn)算處理的CPU;將輸入的數(shù)據(jù)的一部分或在CPU中的運(yùn)算結(jié)果與 檢查對(duì)象物4相關(guān)聯(lián)起來(lái)記錄的記錄部。將圖1所示的電子部件3的安裝狀態(tài)檢查裝置X配置在電子設(shè) 備的生產(chǎn)線的一部分上。在電子設(shè)備的生產(chǎn)線上，在將電子部件3隔 著各向異性導(dǎo)電膜2安裝在透明村底1上的安裝裝置的下游一側(cè)上， 配置電子部件的安裝狀態(tài)檢查裝置X。關(guān)于對(duì)將電子部件3隔著各向異性導(dǎo)電膜2安裝在透明襯底1 上的檢查對(duì)象物4進(jìn)行的在安裝狀態(tài)檢查裝置X中的安裝狀態(tài)的檢 查，參照?qǐng)D4所示的流程圖以及圖5所示的工序圖進(jìn)行說(shuō)明。而且， 安裝狀態(tài)的檢查以控制部10的控制為基礎(chǔ)進(jìn)行。在控制部10中，對(duì)檢查對(duì)象物4是否被傳送到用微分干涉顯微 鏡6映出的檢查位置進(jìn)行判定(SI)。當(dāng)檢查對(duì)象物4傳送到檢查位 置的情況下(Sl的"是，，)，用CCD照相機(jī)7拍攝用微分干涉顯微鏡 6映出的圖像(S2)。在圖5 (a)中表示用CCD照相機(jī)7所拍攝的 拍攝圖像。在拍攝圖像中的電極11上顯現(xiàn)多個(gè)凸?fàn)畈?3。在這些凸 狀部13上包含通過(guò)在安裝電子部件3時(shí)被導(dǎo)電性粒子2b按壓而產(chǎn)生 的壓痕lla。如果CCD照相機(jī)7的拍攝結(jié)束，則從所拍攝的圖像中，使用預(yù)
先登錄的電極11的形狀，通過(guò)圖案匹配檢測(cè)設(shè)置在透明襯底1上的電極11的位置(S3 )。在此，執(zhí)行電極位置檢測(cè)手段。在圖5(b) 中，表示用虛線所示的標(biāo)記包圍電極位置的狀態(tài)。如果檢測(cè)出電極位置，則進(jìn)行用于強(qiáng)調(diào)形成在電極11上的凸?fàn)?部13的凸?fàn)顟B(tài)的微分濾波處理(S4)。在此，執(zhí)行微分濾波處理手 段。在圖5 (c)中表示，通過(guò)進(jìn)行微分濾波處理，強(qiáng)調(diào)凸?fàn)畈?3的 凸?fàn)顟B(tài)，鮮明地顯示凸?fàn)畈?3的狀態(tài)。在進(jìn)行了微分濾波處理后，對(duì)強(qiáng)調(diào)了凸?fàn)顟B(tài)的凸?fàn)畈?3和預(yù)先 準(zhǔn)備的壓痕模型14進(jìn)行圖案匹配，將匹配率大于等于設(shè)定值的凸?fàn)?部13作為壓痕候補(bǔ)抽取(S5)。在此，執(zhí)行壓痕候補(bǔ)抽取手段。在 該壓痕候補(bǔ)的抽取中，根據(jù)形狀抽取能夠成為壓痕lla的凸?fàn)畈?3。 在圖5(d)中，表示用四角標(biāo)記包圍作為壓痕候補(bǔ)抽取的凸?fàn)畈?3 的狀態(tài)。在圖案匹配中使用的壓痕模型14如圖6所示，通過(guò)使拍攝了實(shí) 際的壓痕的多個(gè)圖像(壓痕圖像)15重疊，求出平均值來(lái)制作。壓痕 11a的形狀因?yàn)楦鶕?jù)導(dǎo)電性粒子2b的形狀、材質(zhì)、大小或安裝時(shí)的加 壓條件而不同，所以在用理論方法制作壓痕模型的方法中，得到代表 實(shí)際的壓痕形狀的模型是困難的。進(jìn)而，在使用實(shí)際的壓痕圖像15 時(shí)，通過(guò)重疊多個(gè)壓痕圖像15而使用，能夠減輕由各個(gè)壓痕形狀的 變化產(chǎn)生的影響。重疊的意思是指取各壓痕圖像15的同一坐標(biāo)的濃 淡值的和，并除以壓痕圖像15的張數(shù)。在壓痕候補(bǔ)的抽取結(jié)束后，判定作為壓痕候補(bǔ)抽取的凸?fàn)畈?3 的濃淡值的差是否大于等于設(shè)定值(S6)。當(dāng)凸?fàn)畈?3的濃淡值的 差大于等于設(shè)定值的情況下(S6的"是")，判定為該凸?fàn)畈?3是壓 痕lla (S7)。在此，執(zhí)行壓痕判定手段。另一方面，當(dāng)凸?fàn)畈?3 的濃淡值的差小于等于設(shè)定值的情況下(S6的"否")，判定為該凸?fàn)?部13不是壓痕lla (S8)。在圖5 (e)中表示，判定為壓痕lla的 凸?fàn)畈?3留下四角標(biāo)記，從判定為不是壓痕lla的凸?fàn)畈?3中消除 四角標(biāo)記的狀態(tài)。 在進(jìn)行了抽取的凸?fàn)畈?3是壓痕的判定(S7)，和抽取的凸?fàn)?部13不是壓痕的判定(S8)后，對(duì)判定為壓痕的凸?fàn)畈?3的個(gè)數(shù)進(jìn) 行計(jì)數(shù)(S9)。在此，執(zhí)行對(duì)壓痕lla的個(gè)數(shù)進(jìn)行計(jì)數(shù)的計(jì)數(shù)手段。在計(jì)數(shù)了壓痕lla的個(gè)數(shù)后，判定經(jīng)過(guò)計(jì)數(shù)的壓痕lla的個(gè)數(shù)是 否大于等于設(shè)定值(S10)。當(dāng)經(jīng)過(guò)計(jì)數(shù)的壓痕lla的個(gè)數(shù)大于等于 設(shè)定值的情況下(S10的"是")，判定為安裝狀態(tài)良好(S11)，當(dāng)經(jīng) 過(guò)計(jì)數(shù)的壓痕lla的個(gè)數(shù)小于等于設(shè)定值的情況下(S10的"否")， 判定為安裝狀態(tài)不良(S12)。在此，執(zhí)行根據(jù)所計(jì)數(shù)的壓痕lla的 個(gè)數(shù)是否大于等于設(shè)定值來(lái)判定電路部件3對(duì)透明襯底1的安裝狀態(tài) 好壞的良否判定手段。在這樣的構(gòu)成中，在該電子部件的安裝狀態(tài)檢查裝置X中，對(duì) 于隔著各向異性導(dǎo)電膜2將電子部件3安裝在透明襯底1上時(shí)在電極 11上產(chǎn)生的凸?fàn)畈?3,自動(dòng)判定該凸?fàn)畈?3是否為壓痕lla。在該 自動(dòng)判定中，首先，進(jìn)行凸?fàn)畈?3和壓痕模型14的圖案匹配，將外 形與壓痕lla相似的凸?fàn)畈?3作為壓痕候補(bǔ)抽取(圖4的流程圖中 的S5)，接著，從抽取的壓痕候補(bǔ)中將濃淡差大于等于設(shè)定值的壓痕 判定為是壓痕lla (圖4的流程圖中的S6 S8)。通過(guò)進(jìn)行這樣的2 階段的判定，和檢驗(yàn)員通過(guò)目測(cè)判定的情況一樣，能夠判定是否為壓 痕lla。而后，當(dāng)對(duì)判定為壓痕lla的個(gè)數(shù)進(jìn)行計(jì)數(shù)(圖4的流程圖中的 S9),計(jì)數(shù)數(shù)大于等于設(shè)定值的情況下，判定為安裝狀態(tài)良好(圖4 的流程圖中的S10-S11)。因而，能夠高精度地進(jìn)行電子部件3對(duì)透明襯底1的安裝狀態(tài)是 良好還是不良的自動(dòng)判定。(第2種實(shí)施方式)參照?qǐng)D7以及圖8說(shuō)明本發(fā)明的第2種實(shí)施方式。而且，在第2 種實(shí)施方式以及以后的實(shí)施方式中，在和第l種實(shí)施方式中說(shuō)明的構(gòu) 成要素相同的構(gòu)成要素上標(biāo)注相同的符號(hào)，并省略重復(fù)的說(shuō)明。第2種實(shí)施方式的安裝狀態(tài)檢查裝置X的基本構(gòu)造和第1種實(shí) 施方式一樣，在第2種實(shí)施方式中追加了電極位置修正手段。電極位 置修正手段是用控制部10執(zhí)行的處理，是在檢測(cè)位于相同拍攝圖像 內(nèi)的多個(gè)電極ll的位置的情況下，對(duì)于與其他的電極ll相比檢測(cè)結(jié) 果相差設(shè)定值以上的電極11，以其他的電極11的檢測(cè)結(jié)果為基礎(chǔ)修 正檢測(cè)位置的處理。在圖7 (a)中表示，用CCD照相機(jī)7拍攝，存在多個(gè)電極11 的拍攝圖像。在圖7(b)中表示，使用預(yù)先登錄的電極ll的形狀進(jìn) 行圖案匹配，檢測(cè)出電極11的位置的狀態(tài)。用虛線包圍的范圍是作 為電極11所處位置而檢測(cè)出的范圍。在圖7(a)的拍攝圖像中，拍攝了在各向異性導(dǎo)電膜2的粘貼 時(shí)發(fā)生的泡16靠近D的電極11存在的情況。因此，在檢測(cè)到電極 ll的位置時(shí)，如圖7(b)所示那樣，因泡16的影響錯(cuò)誤地檢測(cè)D的 電極11的位置。因而，根據(jù)其他的電極11的檢測(cè)結(jié)果，用電極位置修正手段來(lái) 修正該D的電極ll的檢測(cè)位置。在圖7 (c)中，用虛線表示對(duì)D的 電極ll的檢測(cè)位置進(jìn)行了修正后的各電極ll的電極位置。參照?qǐng)D8說(shuō)明利用電極位置修正手段的電極位置修正的具體順序。圖8是表示全部的電極11的檢測(cè)位置、經(jīng)過(guò)修正的電極11的位 置的曲線圖。首先，對(duì)于全部的電極11求出檢測(cè)位置的平均值，畫 出用虛線表示的平均值線。畫出平均值線后，查找離開該平均值線大于等于預(yù)先設(shè)定的設(shè)定 值的電極ll。在此，假設(shè)D的電極ll離開平均值線大于等于設(shè)定值。當(dāng)存在從平均值線離開的距離大于等于設(shè)定值的電極11的情況 下，對(duì)于省略了該電極ll的其他的電極ll求出檢測(cè)位置的平均值， 畫出用實(shí)線表示的修正平均值線。在畫出了修正平均值線后，將D的電極ll的位置修正成位于修 正平均值線上。因而，即使在泡16等的異物的原因而錯(cuò)誤地檢測(cè)電極11的位置 的情況下，也能夠修正電極11的檢測(cè)位置。因此，能夠防止因錯(cuò)誤檢測(cè)了電極ll的位置的原因，電極ll內(nèi)的壓痕lla的數(shù)變少，判定 為安裝狀態(tài)不良的現(xiàn)象。 (第3種實(shí)施方式)參照?qǐng)D9說(shuō)明本發(fā)明的第3種實(shí)施方式。第3種實(shí)施方式的安裝狀態(tài)檢查裝置X的基本構(gòu)造和第1種實(shí) 施方式相同，在第3種實(shí)施方式中，追加了求出1個(gè)電極11內(nèi)的亮 度變化的平均傾向的手段；從電極11內(nèi)的亮度中減去所求出的亮度 變化的平均傾向的手段。這些手段是用控制部IO執(zhí)行的處理。由于微分干涉顯微鏡6的特性，存在透明襯底l整體上傾斜、同 一電極11內(nèi)的亮度變化的情況。而且，由于同一電極ll內(nèi)的亮度變 化，因而電極11內(nèi)的壓痕lla的濃淡值變化，有壓痕lla^L判定為 異物的情況。作為該現(xiàn)象的對(duì)策，求出同一電極11的亮度變化的平 均傾向，從電極ll的原始的亮度中減去，由此減輕電極ll內(nèi)的亮度 變化的影響。圖9(a)表示同一電極11內(nèi)的亮度變化的拍攝圖像。在圖9(b) 中表示，消除包含形成在電極ll上的壓痕lla的凸?fàn)畈?3并進(jìn)行平 滑化，只抽取壓痕lla的亮度變化的傾向的圖像。在圖9(c)中表示， 通過(guò)從圖9(a)所示的拍攝圖像中減去圖9(b)所示的電極ll內(nèi)的 亮度變化，減輕電極ll內(nèi)的亮度變化的影響的圖像。在這種構(gòu)成中，即使因微分干涉顯微鏡6的特性，同一電極ll 內(nèi)的亮度變化的情況下，也能夠減輕同一電極11內(nèi)的亮度變化的影 響而進(jìn)行精度高的壓痕lla的判定，能夠提高電子部件3的安裝狀態(tài) 的好壞的判定的精度。(第4種實(shí)施方式)參照?qǐng)DIO說(shuō)明本發(fā)明的第4種實(shí)施方式。第4種實(shí)施方式的基本構(gòu)造和第l種實(shí)施方式相同，在第4種實(shí) 施方式的安裝狀態(tài)檢查裝置X中追加了 NG標(biāo)簽打印機(jī)17、記錄部 18、再檢查裝置19。 NG標(biāo)簽打印機(jī)17當(dāng)判定為某一檢查對(duì)象物4的電子部件3的 安裝狀態(tài)不良的情況下，打印粘貼在該檢測(cè)對(duì)象物4上的帶條形碼的 NG標(biāo)簽。在記錄部18中當(dāng)判定為某一檢查對(duì)象物4的電子部件3的安裝 狀態(tài)不良的情況下，將粘貼在該檢測(cè)對(duì)象物4上的條形碼的信息，和 作為不良的判定結(jié)果，具體地說(shuō)，不良判定位置、不良判定內(nèi)容、不 良判定圖像等的信息相關(guān)聯(lián)起來(lái)記錄。在再檢查裝置19中設(shè)置有條形碼閱讀器20;顯示部21;微分干 涉顯微鏡22。條形碼閱讀器20可以讀取NG標(biāo)簽的條形碼。如果用 條形碼閱讀器20讀取粘貼在檢查對(duì)象物4上的NG標(biāo)簽的條形碼， 則將與條形碼相關(guān)聯(lián)起來(lái)記錄在記錄部18中的不良判定結(jié)果顯示在 顯示部21上，在此，執(zhí)行顯示手段。在這種構(gòu)成中，進(jìn)行再檢查的檢驗(yàn)員用條形碼閱讀器20讀取粘 貼在檢查對(duì)象物4上的NG標(biāo)簽的條形碼，能夠?qū)⒆鳛椴涣嫉呐卸ńY(jié) 果顯示在顯示部21上。進(jìn)而，在需要時(shí)，根據(jù)所顯示的判定結(jié)果， 能夠使用微分干涉顯微鏡22對(duì)判定為不良的位置進(jìn)行再檢查，能夠 高效率地進(jìn)行再檢查。而且，當(dāng)在透明襯底1上附加了稱為芯片ID的序列號(hào)的情況下， 能夠設(shè)置成專用的閱讀器讀取芯片ID的構(gòu)造，不需要打印NG標(biāo)簽 的NG標(biāo)簽打印機(jī)。(第5種實(shí)施方式)參照?qǐng)Dll說(shuō)明本發(fā)明的第5種實(shí)施方式。第5種實(shí)施方式的基本構(gòu)造和第l種實(shí)施方式相同，在第5種實(shí) 施方式的安裝狀態(tài)檢查裝置X中追加了再檢查用的微分干涉顯微鏡 22;從微分干涉顯微鏡6的觀察位置向微分干涉顯微鏡22的觀察位 置傳送放置檢查對(duì)象物4的XY載物臺(tái)5的傳送機(jī)構(gòu)23。用微分干涉顯微鏡6觀察放置在XY栽物臺(tái)5上的檢查對(duì)象物4， 當(dāng)判定為安裝狀態(tài)不良的情況下，用傳送機(jī)構(gòu)23將XY栽物臺(tái)5和 檢查對(duì)象物4 一同傳送到微分干涉顯微鏡22的觀察位置，由檢驗(yàn)員
進(jìn)行安裝狀態(tài)的再檢查。在這種構(gòu)成中，在自動(dòng)判定安裝狀態(tài)的好壞的步驟中，因?yàn)閷⑴卸榘惭b狀態(tài)不良的檢查對(duì)象物4自動(dòng)地傳送到由檢驗(yàn)員進(jìn)行再檢查 的位置，所以能夠容易進(jìn)行再檢查。 (第6種實(shí)施方式)參照?qǐng)D12說(shuō)明本發(fā)明的第6種實(shí)施方式。第6種實(shí)施方式的基本構(gòu)造和第5種實(shí)施方式相同，在第6種實(shí) 施方式中，設(shè)置了將與成為再檢查對(duì)象的檢查對(duì)象物4有關(guān)的安裝狀 態(tài)的檢查結(jié)果和與再檢查有關(guān)的信息相關(guān)聯(lián)起來(lái)進(jìn)行記錄的記錄部 24。所謂與成為再檢查對(duì)象的檢查對(duì)象物4有關(guān)的安裝狀態(tài)的檢查 結(jié)果是不良判定位置、不良判定內(nèi)容、不良判定圖像等。作為與再檢 查有關(guān)的信息，可以列舉再檢查的結(jié)果、再檢查的檢驗(yàn)員的姓名等。在這種構(gòu)成中，通過(guò)將與成為再檢查對(duì)象的檢查對(duì)象物4有關(guān)的 安裝狀態(tài)的檢查結(jié)果、與再檢查有關(guān)的信息相關(guān)聯(lián)起來(lái)記錄，當(dāng)再檢 查中判定為安裝狀態(tài)良好的檢查對(duì)象物4在以后變成不良的情況下， 根據(jù)記錄在記錄部24中的各種信息中可以有助于探究變成不良的原 因。(第7種實(shí)施方式)參照?qǐng)D13以及圖14說(shuō)明本發(fā)明的第7種實(shí)施方式。第7種實(shí)施方式的基本構(gòu)造和第l種實(shí)施方式一樣，在第7種實(shí)施方式中，追加了判定在檢查對(duì)象物4的安裝位置上是否包含異物的異物判定手段。當(dāng)使用各向異性導(dǎo)電膜2向透明襯底1安裝了電子部件3的情況 下，在實(shí)際的生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)對(duì)在安裝部分中混入了異物的產(chǎn)品進(jìn)行收集及 分類，能夠分類成(1)異物部分的亮度高的產(chǎn)品；(2)異物部分 的亮度低的產(chǎn)品；(3)清晰的凸形狀的產(chǎn)品；(4)平緩的凸形狀的 產(chǎn)品。因此，用異物判定手段對(duì)分成這4種的異物的有無(wú)進(jìn)行判定。參照?qǐng)D13所示的流程圖以及圖14所示的工序圖說(shuō)明由異物判定
手段進(jìn)行的異物的有無(wú)的判定。而且，該異物判定以安裝狀態(tài)檢查裝置X的控制部10的控制為基礎(chǔ)進(jìn)行。在控制部10中，判斷是否將檢查對(duì)象物4傳送到用微分干涉顯 微鏡6映出的檢查位置(Sl)。當(dāng)將檢查對(duì)象物4傳送到檢查位置的 情況下(Sl的"是，，)，用CCD照相機(jī)7拍攝由微分干涉顯微鏡6映 出的圖像(S2)。在圖14 (l-a)中表示包含亮度高的異物30的拍攝 圖像，在(2-a)中表示包含亮度低的異物31的拍攝圖像，在(3-a) 中表示包含清晰的凸形狀的異物32的拍攝圖像，在(4-a)中表示包 含平緩的凸形狀的異物33的拍攝圖像。如果釆用CCD照相機(jī)7的拍攝結(jié)束，則從所拍攝的圖像中，使 用預(yù)先登錄的電極11的形狀，通過(guò)圖案匹配檢測(cè)設(shè)置在透明襯底1 上的電極ll的位置(S3)。在此，執(zhí)行電極位置檢查手段。在圖13 (l-b) 、 (2-b) 、 (3-b) 、 (4-b)中，表示用虛線表示的標(biāo)記包 圍電極位置的狀態(tài)。在檢測(cè)到電極位置后，執(zhí)行第1異物判定手段(S21)、第2異 物判定手段(S22 )、第3異物判定手段(S23 )、第4異物判定手段 (S24)。在第l異物判定手段中，進(jìn)行所拍攝的電極ll的圖像的濃淡值 的二值化(圖14 (l-c)),當(dāng)大于等于閾值的部分34的面積大于等 于設(shè)定值的情況下判定為有異物。在第2異物判定手段中，進(jìn)行所拍攝的電極ll的圖像的濃淡值 的二值化(圖14 (2-c)),當(dāng)小于等于閾值的部分35的面積大于等 于設(shè)定值的情況下判定為有異物。在第3異物判定手段中，實(shí)施對(duì)形成在電極ll上的凸?fàn)畈繌?qiáng)調(diào) 邊緣的拉普拉斯算子濾波處理(圖14 (3-c))，進(jìn)行消除被各向異 性導(dǎo)電膜2中的導(dǎo)電性粒子2b按壓形成的凸?fàn)畈?壓痕)的處理(圖 14(3-d)),對(duì)消除了壓痕的圖像的濃淡值進(jìn)行二值化(圖14(3-e))， 當(dāng)小于等于閾值的部分36的面積大于等于設(shè)定值的情況下判定為有 異物。
在第4異物判定手段中，對(duì)微分干涉顯微鏡6的濃淡變化出現(xiàn)的 方向，實(shí)施與異物大小一致的微分濾波處理(圖14 (4-c)),對(duì)實(shí) 施了微分濾波處理后的圖像的濃淡值進(jìn)行二值化(圖14 (4-d))， 當(dāng)大于等于閾值的部分37的面積大于等于設(shè)定值的情況下判定為有 異物。在進(jìn)行了步驟S21 S24的異物判定后，當(dāng)在任一個(gè)步驟中判定 為有異物的情況下判定為安裝狀態(tài)不良，當(dāng)在全部的步驟中判定為沒(méi) 有異物的情況下判定為安裝狀態(tài)良好(S25)。在這種構(gòu)成中，通過(guò)判定在使用了各向異性導(dǎo)電膜2的安裝部中 是否存在異物，能夠良好地進(jìn)行安裝狀態(tài)是良好還是不良的自動(dòng)判 定。在該第7中實(shí)施方式中，可以追加在第3種實(shí)施方式(參照?qǐng)D9) 中說(shuō)明的，求出一個(gè)電極11內(nèi)的亮度變化的平均傾向的手段；從電 極11內(nèi)的亮度中減去所求得的亮度變化的平均傾向的手段。由此， 能夠減輕同一電極11內(nèi)的亮度變化的影響而進(jìn)行精度高的異物的有 無(wú)判定，能夠提高電子部件3的安裝狀態(tài)的好壞的判定的精度。而且，可以將在上述的各實(shí)施方式中說(shuō)明的安裝狀態(tài)檢查裝置X 組裝到電子設(shè)備的生產(chǎn)線的中途。由此，使用在設(shè)置有電極11的透 明襯底1上隔著各向異性導(dǎo)電膜2安裝有電子部件3的部件的電子設(shè) 備的制造步驟中，能夠?qū)崿F(xiàn)包含用方案1 6的任意一項(xiàng)所述的電子部 件的安裝狀態(tài)檢查方法來(lái)檢查安裝狀態(tài)的步驟的電子設(shè)備的制造方 法。
權(quán)利要求
1.一種電子部件的安裝狀態(tài)檢查方法，其特征在于，具備從安裝有上述電子部件的面的背面一側(cè)將隔著各向異性導(dǎo)電膜安裝有電子部件的透明襯底用微分干涉顯微鏡映出并拍攝的步驟；從所拍攝的圖像中，使用預(yù)先登錄的上述電極的形狀檢測(cè)設(shè)置在上述透明襯底上的電極的位置的步驟；實(shí)施對(duì)形成在上述電極上的凸?fàn)畈窟M(jìn)行強(qiáng)調(diào)的微分濾波處理的步驟；對(duì)通過(guò)上述微分濾波處理來(lái)強(qiáng)調(diào)的上述凸?fàn)畈亢皖A(yù)先準(zhǔn)備的壓痕模型進(jìn)行圖案匹配，將匹配率大于等于設(shè)定值的上述凸?fàn)畈孔鳛閴汉酆蜓a(bǔ)抽取的步驟；當(dāng)作為壓痕候補(bǔ)抽取的上述凸?fàn)畈康臐獾抵畲笥诘扔谠O(shè)定值的情況下將上述凸?fàn)畈颗卸閴汉鄣牟襟E；對(duì)判定為壓痕的個(gè)數(shù)進(jìn)行計(jì)數(shù)的步驟；以及通過(guò)作為壓痕計(jì)數(shù)的數(shù)是否大于等于設(shè)定值來(lái)判定上述電子部件對(duì)上述透明襯底的安裝狀態(tài)是否良好的步驟。
2. —種電子部件的安裝狀態(tài)檢查方法，其特征在于，具備 從安裝有上述電子部件的面的背面一側(cè)將隔著各向異性導(dǎo)電膜安裝有電子部件的透明襯底用微分干涉顯微鏡映出并拍攝的步驟； 從所拍攝的圖像中，使用預(yù)先登錄的上述電極的形狀檢測(cè)設(shè)置在上述透明襯底上的電極的位置的步驟；當(dāng)對(duì)形成在檢測(cè)出的上述電極上的凸?fàn)畈康膱D像的濃淡值進(jìn)行了二值化的情況下，當(dāng)閾值以上的部分的面積大于等于設(shè)定值的情況下判定為有異物的步驟；當(dāng)對(duì)形成在檢測(cè)出的上述電極上的凸?fàn)畈康膱D像的濃淡值進(jìn)行了二值化的情況下，當(dāng)閾值以下的部分的面積大于等于設(shè)定值的情況下判定為有異物的步驟；在對(duì)形成在上述電極上的上述凸?fàn)畈繉?shí)施了強(qiáng)調(diào)邊緣的拉普拉斯算子濾波處理后，當(dāng)對(duì)除去了因被上述各向異性導(dǎo)電膜中的導(dǎo)電性 粒子按壓而形成的上述凸?fàn)畈亢蟮膱D像的濃淡值進(jìn)行了二值化時(shí)，當(dāng)閾值以下的部分的面積大于等于設(shè)定值的情況下判定為有異物的步驟；以及在上述微分干涉顯微鏡的濃淡變化出現(xiàn)的方向上，對(duì)實(shí)施了與異 物尺寸一致的微分濾波處理后的圖像的濃淡值進(jìn)行了二值化的情況 下，當(dāng)閾值以上的部分的面積大于等于設(shè)定值的情況下判定為異物的 步驟。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子部件的安裝狀態(tài)檢查方法，其特 征在于上述壓痕模型是通過(guò)將拍攝了壓痕的多個(gè)圖像重疊而求出平均 值來(lái)制作的。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子部件的安裝狀態(tài)檢查方法，其特 征在于具備當(dāng)檢測(cè)所拍攝的圖像內(nèi)的多個(gè)上述電極的位置的情況下，對(duì)于與 其他的上述電極相比檢測(cè)結(jié)果相差設(shè)定值以上的上述電極，根據(jù)其他 的上述電極的檢測(cè)結(jié)果來(lái)修正上述電極的位置的步驟。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子部件的安裝狀態(tài)檢查方法，其特 征在于，具備對(duì)與上述微分干涉顯微鏡相對(duì)的一側(cè)的上述透明襯底的面進(jìn)行 清洗的步驟。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的電子部件的安裝狀態(tài)檢 查方法，其特征在于，具備求出所檢測(cè)的上述電極內(nèi)亮度變化的平均傾向的步驟； 從所拍攝的上述圖像的亮度中減去所求得的亮度變化的平均傾 向的步驟。
7. —種電子部件的安裝狀態(tài)檢查裝置，其特征在于，具備 從安裝有上述電子部件的面的背面一側(cè)映出隔著各向異性導(dǎo)電膜安裝有電子部件的透明襯底的微分干涉顯微鏡； 拍攝用上述微分干涉顯微鏡映出的圖像的攝像部；從所拍攝的圖像中使用預(yù)先登錄的上述電極的形狀來(lái)檢測(cè)設(shè)置 在上述透明襯底上的電極的位置的電極位置檢測(cè)單元；實(shí)施對(duì)形成在上述電極上的凸?fàn)畈窟M(jìn)行強(qiáng)調(diào)的微分濾波處理的 ;敞分濾波處理單元；對(duì)用上述微分濾波處理所強(qiáng)調(diào)的上述凸?fàn)畈亢皖A(yù)先準(zhǔn)備的壓痕 模型進(jìn)行圖案匹配，將匹配率大于等于設(shè)定值的上述凸?fàn)畈孔鳛閴汉?候補(bǔ)抽取的壓痕候補(bǔ)抽取單元；當(dāng)作為壓痕候補(bǔ)抽取的上述凸?fàn)畈康臐獾档牟畲笥诘扔谠O(shè)定 值的情況下，將上述凸?fàn)畈颗卸閴汉鄣膲汉叟卸▎卧?；?duì)判定為壓痕的個(gè)數(shù)進(jìn)行計(jì)數(shù)的計(jì)數(shù)單元；以及根據(jù)作為壓痕計(jì)數(shù)的數(shù)是否大于等于設(shè)定值來(lái)判定上述電子部 件對(duì)上述透明襯底的安裝狀態(tài)是否良好的良否判定單元。
8. —種電子部件的安裝狀態(tài)檢查裝置，其特征在于，具備從安裝有上述電子部件的面的背面一側(cè)映出隔著各向異性導(dǎo)電 膜安裝有電子部件的透明襯底的微分干涉顯微鏡；拍攝用上述微分干涉顯微鏡映出的圖像的攝像部；從所拍攝的圖像中，使用預(yù)先登錄的上述電極的形狀來(lái)檢測(cè)設(shè)置 在上述透明電極上的電極的位置的電極位置檢測(cè)單元；當(dāng)對(duì)形成在檢測(cè)出的上述電極上的凸?fàn)畈康膱D像的濃淡值進(jìn)行 了二值化的情況下，當(dāng)閾值以上的部分的面積大于等于設(shè)定值的情況 下判定為有異物的第1異物判定單元；當(dāng)對(duì)形成在檢測(cè)出的上述電極上的凸?fàn)畈康膱D像的濃淡值進(jìn)行 了二值化的情況下，當(dāng)閾值以下的部分的面積大于等于設(shè)定值的情況 下判定為有異物的第2異物判定單元；在對(duì)形成在上述電極上的上述凸?fàn)畈繉?shí)施了強(qiáng)調(diào)邊緣的拉普拉斯算子濾波處理后，當(dāng)對(duì)除去了因被上述各向異性導(dǎo)電膜中的導(dǎo)電性 粒子按壓而形成的上述凸?fàn)畈亢蟮膱D像的濃淡值進(jìn)行了二值化的情況下，當(dāng)閾值以下的部分的面積大于等于設(shè)定值的情況下，判定為有 異物的第3異物判定單元；在上述微分干涉顯微鏡的濃淡變化出現(xiàn)的方向上，當(dāng)對(duì)實(shí)施了與 異物尺寸一致的微分濾波處理后的圖像的濃淡值進(jìn)行了二值化的情 況下，當(dāng)閾值以上的部分的面積大于等于設(shè)定值的情況下判定為有異 物的第4異物判定單元。
9. 根據(jù)權(quán)利要求7或者8所述的電子部件的安裝狀態(tài)檢查裝置， 其特征在于具備將進(jìn)行再檢查的上述透明襯底從檢查安裝狀態(tài)的位置向利 用再檢查用的微分干涉顯微鏡進(jìn)行的再檢查位置傳送的傳送機(jī)構(gòu)。
10. —種電子設(shè)備的制造方法，其特征在于 使用在設(shè)置有電極的透明襯底上隔著各向異性導(dǎo)電膜安裝有電子部件的部件的電子設(shè)備的制造步驟中，包含利用權(quán)利要求l至6中 任一項(xiàng)所述的電子部件的安裝狀態(tài)檢查方法進(jìn)行檢查的步驟。
全文摘要
可靠地進(jìn)行使用各向異性導(dǎo)電膜安裝在透明襯底上的電子部件的安裝狀態(tài)的自動(dòng)的好壞判定。在電子部件的安裝狀態(tài)檢查方法中，具備當(dāng)隔著各向異性導(dǎo)電膜將電子部件安裝在實(shí)際透明電極上的情況下，實(shí)施強(qiáng)調(diào)形成在設(shè)置于透明襯底上的電極上的凸?fàn)畈康奈⒎譃V波處理的步驟(S4)；對(duì)用微分濾波處理強(qiáng)調(diào)的凸?fàn)畈亢皖A(yù)先準(zhǔn)備的壓痕模型進(jìn)行圖案匹配，將匹配率大于等于設(shè)定值的凸?fàn)畈孔鳛閴汉酆蜓a(bǔ)抽取的步驟(S5)；當(dāng)作為壓痕候補(bǔ)抽取的凸?fàn)畈康臐獾档牟畲笥诘扔谠O(shè)定值的情況下，將凸?fàn)畈颗卸閴汉鄣牟襟E(S6，S7)；對(duì)判定為壓痕的個(gè)數(shù)進(jìn)行計(jì)數(shù)的步驟(S9)；根據(jù)作為壓痕計(jì)數(shù)的數(shù)是否大于等于設(shè)定值來(lái)判定電子部件對(duì)透明襯底的安裝狀態(tài)的好壞的步驟(S11，S12)。
文檔編號(hào)G02F1/13GK101149490SQ20071015378
公開日2008年3月26日 申請(qǐng)日期2007年9月20日 優(yōu)先權(quán)日2006年9月20日
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