專利名稱：一種散射條生成方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體光刻中分辨率增強技術(shù)，尤其涉及用于增強分辨率的散 射條生成方法。
背景技術(shù)：
在0.13um或更低的技術(shù)節(jié)點的半導(dǎo)體光刻制程中，分辨率增強技術(shù) (resolution enhancement technology )運用得十分普遍。散射條(scatter bar)是 種十分常見的分辨率增強(RET)技術(shù)，它的主要原理是通過在光掩膜板主圖形 (main feature )插入亞精度輔助圖案達到調(diào)整圖案光強分布密度的目的。這樣， 可有效增大光刻制程工藝窗口 。
通常的情況下是在隔離或半隔離的光掩模板主圖形中插入散射條來擴大光 刻制程的工藝窗口 。目前的散射條生成方法是基于一定規(guī)格參數(shù)的設(shè)置來在主 圖形中生成插入的散射條。當光掩模板主圖形狀比較復(fù)雜時，生成的部分散射 條會橋接在一起。當生成橋接在一起的散射條時，橋接的散射條中部分散射條 會被隨機性的縮短或者清除。這樣容易出現(xiàn)主圖形中比較關(guān)鍵的圖形部分的散 射條的規(guī)格參數(shù)不符合要求或者關(guān)鍵圖形部分沒有散射條，導(dǎo)致在光刻過程中 這一部分圖形的分辨率并沒有達到期望值，從而影響光刻圖形質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種散射條的生成方法，避免光掩模板主 圖形中關(guān)鍵圖形部分的散射條隨機性被縮短或清除而影響光刻圖形質(zhì)量的問題 出現(xiàn)。
為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供的散射條的生成方法，是在光刻隔離或半隔 離的光掩模板主圖形中插入散射條，它包括以下步驟步驟l:在光掩模板主圖 形中均插入預(yù)設(shè)參數(shù)值的散射條；步驟2:判定插入的散射條中橋接在一起的散射條各自的影響因子，并對其影響因子進行大小的排序；步驟3:修正橋接在一 起的影響因子最小的散射條，直至它不與其他影響因子比其大的散射條相接； 步驟4:進一步檢測剩下的散射條是否仍然有橋接在一起的散射條，如果有則返 回到步驟3，如果沒有則停止對散射條的修正。步驟2中判定橋接在一起的散射 條各自的影響因子是通過計算散射條對應(yīng)的主圖形部分的正歸化影像對數(shù)斜率 值來判定。步驟3中修正影響因子最小的散射條為縮短影響因子最小的散射條 直至與其橋連的散射條之間達到最'J 、預(yù)設(shè)距離。
與現(xiàn)有散射條生成方法相比，通過判定插入的散射條中橋接在一起的散射 條的影響因子來修正影響因子小的散射條，這樣可以避免光掩模板主圖形中關(guān) 鍵的主圖形部分的散射條，也就是影響因子大的散射條，被隨機性縮短或清除， 從而導(dǎo)致光刻質(zhì)量的問題產(chǎn)生。
以下結(jié)合附圖和本發(fā)明的具體實施方式
作進一步詳細說明
圖l是光掩模主圖形示意圖。
圖2是插入散射條后的光掩模主圖形示意圖。
圖3是修正一次后可解決散射條橋接的示意圖。
圖4是修正后沒有解決散射條橋接的示意圖。
圖5是圖4中散射條再次修正后的示意圖。
圖6是圖5中修正后散射條不符合預(yù)設(shè)參數(shù)被刪除的示意圖。
具體實施例方式
在光刻隔離或半隔離光掩模板上主圖形時，需在主圖形中插入散射條以提 高光刻圖案分辨率。請參閱

圖1,圖1中與1的填充圖案相同的均為光掩才莫板主 圖形，以該光掩模主圖案形為例，說明散射條的生成方法。首先在光掩模板主 圖形中均插入預(yù)設(shè)參數(shù)值的散射條，如圖2中2a、 2b、 2c和2d所示的散射條， 從圖2中可看出2c和2d散射條與散射條2a橋接。緊接著判定橋接的散射條2c、 2d和2a的影響因子，并對散射條的影響因子進行大小排序。判定散射條2c、 2d 和2a的影響因子，是通過分別計算散射條2c、 2d和2a對應(yīng)的主圖形部分的正歸化影像對數(shù)斜率值(normalized image log slope )來判定。正歸化影像對數(shù)斜 率值(NILS)是衡量光掩模板主圖形空間影像(aerial image )成像質(zhì)量的一個重要 的參數(shù)。它的計算公式由以下公式給出
Zw(/)為空間影像的光強的對數(shù)，A^(/)/Ax空間影像光強對數(shù)曲線的斜率，CDtarget 為光掩模板主圖形的線寬。當計算出的正歸化影像對數(shù)斜率值越高時，對應(yīng)的 光掩模板主圖形成像質(zhì)量越好，那么此光掩模板主圖形對應(yīng)的散射條的影響因 子就會越小，也就是此散射條對提高光掩模板主圖形成像質(zhì)量越不重要。因此，
當有橋接在一起的散射條時，計算橋接在一起散射條各自對應(yīng)的光掩模板主圖 形部分的NILS,對應(yīng)地就可得出各散射條的影響因子的大小關(guān)系，并對這些散 射條的影響因子進行排序。
然后修正橋接在一起的影響因子最小的散射條，直至它不與其他影響因子 比其大的散射條相接。然而有時散射條經(jīng)過一次修正之后可能仍然相接。這樣 就需要進一步檢測剩下的散射條是否仍然有橋接在一起的散射條，如果有則返 回上述修正步驟，如果沒有則停止對散射條的修正。
假設(shè)得出的散射條的影響因子大小關(guān)系為2c>2d>2a，按照這種大小關(guān)系 修正影響因子最小的散射條2a,直至它不與其他影響因子比其大的散射條2c和 2d相接。如圖3所示，縮短散射條2a,不與散射條2a和2b相接。對圖3而言， 縮短散射條2a直至與其橋連的散射條2c和2d之間達到最小預(yù)設(shè)距離，則圖中 3中就沒有橋接在一起的散射條。
假設(shè)得出的散射條的影響因子關(guān)系為2a>2c>2d,修正散射條2d，即縮短 散射條2d之后，散射條2a與2c仍然相接，如圖4所示。這樣需要再次進行修 正，請參閱圖5，由于散射條2a的影響因子大于散射條2c的影響因子，因此修 正散射條2c，即縮短散射條2c直至與橋連的散射條2a之間達到最小預(yù)設(shè)距離 之后，就沒有橋接在一起的散射條。然而當修正后的散射條縮短到一定程度時 不滿足插入的散射條預(yù)設(shè)參數(shù)值之后就會自動被刪除，請參閱圖6，當圖5中散 射條2c和2d散射條縮短到一定程度不滿足散射條的最小長度參數(shù)時，就會被
自動刪除。
采用上述散射條的生成方法可有效地避免光刻主圖案中關(guān)鍵圖形部分的散射條，即影響因子大的散射條，被隨機性縮短或清除，從而導(dǎo)致光刻質(zhì)量的問 題產(chǎn)生。這樣可有效保證光刻半隔離或隔離圖案的質(zhì)量。
權(quán)利要求
1、一種散射條的生成方法，它是在隔離或半隔離的光掩膜板主圖形中插入散射條，其特征在于，它包括以下步驟步驟1在光掩模板主圖形中均插入預(yù)設(shè)參數(shù)值的散射條；步驟2判定插入的散射條中橋接在一起的散射條各自的影響因子，并對其影響因子進行大小的排序；步驟3修正橋接在一起的影響因子最小的散射條，直至它不與其他影響因子比其大的散射條相接；步驟4進一步檢測剩下的散射條是否仍然有橋接在一起的散射條，如果有則返回到步驟3，如果沒有則停止對散射條的修正。
2、 如權(quán)利要求1所述散射條的生成方法，其特征在于，所述步驟2中判定橋 接在一起的散射條各自的影響因子是通過計算散射條對應(yīng)的主特征圖案的正歸 化影像對數(shù)斜率值來判定。
3、 如權(quán)利要求1所述散射條的生成方法，其特征在于，所述步驟3中修正影 響因子最小的散射條為縮短影響因子最小的散射條直至與其橋連的散射條之間 達到最小的預(yù)設(shè)距離。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種散射條的生成方法，它主要應(yīng)用于提高隔離或半隔離圖案的光刻質(zhì)量。它包括以下步驟1在光掩膜板主圖形中均插入預(yù)設(shè)參數(shù)值的散射條；2判定插入的散射條中橋接在一起的散射條各自的影響因子，并對其影響因子進行大小的排序；3修正橋接在一起的影響因子最小的散射條，直至它不與其他影響因子比其大的散射條相接；步驟4進一步檢測剩下的散射條是否仍然有橋接在一起的散射條，如果有則返回到步驟3，如果沒有則停止對散射條的修正。采用本發(fā)明的散射條的生成方法，可有效解決目前的散射條生成方法中重要的散射條被隨機性縮短或去除影響光刻質(zhì)量的問題。
文檔編號G03F1/72GK101452205SQ20071017157
公開日2009年6月10日 申請日期2007年11月30日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月30日
發(fā)明者娟 劉 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司