專利名稱：一種紫外曝光機的制作方法
技術領域：
一種紫外曝光機技術領域 本實用新型涉及光電產(chǎn)品封裝應用的領域，尤其涉及一種采用紫外發(fā)光二極管 的紫外曝光機。
背景技術：
紫外曝光機是提供紫外線的裝置，紫外線照射可以降低膠的黏著力。比如晶圓 是制造IC的基本原料，為了保護晶圓表面不受研磨碎屑、水分侵入，防止晶圓表面受污染，通常在其表面封上膠帶保護，在剝離膠帶時，應先以紫外線照射晶圓，降低膠帶黏著力后， 再加壓晶圓來剝離膠帶。在目前采用的紫外曝光機中，都是采用高壓汞燈來產(chǎn)生紫外線。高壓汞燈使用壽命短、 光譜復雜、耗電功率大，并且啟動慢，在應用中存在成本過高、難維護等問題。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的在于提供一種采用紫外發(fā)光二級管，耗電功率小、使用壽命 長的紫外曝光機。為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型紫外曝光機包括殼體、光源控制系統(tǒng)和曝光室，曝光室 設有蓋板、曝光平臺和發(fā)光裝置，曝光平臺設在發(fā)光裝置的上方，曝光平臺的下方設有氣孔， 發(fā)光裝置的下方設有散熱裝置，發(fā)光裝置由光源控制系統(tǒng)連接控制，殼體一側(cè)設有光源控制 系統(tǒng)的操作指示面板，其中發(fā)光裝置包括印刷電路板和陣列式均勻排列在印刷電路板上的紫 外發(fā)光二極管。上述的紫外發(fā)光二極管由四個以上組成方形或正六邊形陣列。上述的印刷電路板為鋁基印刷電路板或FR4印刷電路板。上述的光源控制系統(tǒng)包括高功率二極管驅(qū)動模塊和控制模塊，控制紫外發(fā)光二極管均勻 發(fā)光的數(shù)量和曝光的范圍。上述的曝光平臺采用紫外線透射率高的玻璃片。本實用新型采用上述結(jié)構，采用光源控制系統(tǒng)控制紫外發(fā)光二極管陣列中各個發(fā)光二極 管的明滅狀態(tài)，控制發(fā)光的數(shù)量和曝光的范圍，形成均勻的、足夠光功率密度的紫外面光源 照射到晶圓上，以滿足不同尺寸晶圓的曝光需要，從而達到曝光效果，并且紫外發(fā)光二極管 具有壽命長、耗電少、啟動快等優(yōu)點。 圖示說明
以下結(jié)合附圖對實用新型作進一步詳細說明


圖1本實用新型紫外曝光機的立體結(jié)構示意圖；圖2本實用新型紫外曝光機使用狀態(tài)的俯視示意圖；圖3本實用新型紫外曝光機的剖視示意圖；圖4本實用新型紫外發(fā)光二極管陣列之一的示意圖；圖5本實用新型紫外發(fā)光二極管陣列之二的示意圖；具體實施方式請參閱
圖1、 2 、 3、 4或5所示，本實用新型紫外曝光機包括殼體1、光 源控制系統(tǒng)2和曝光室3，光源控制系統(tǒng)2和曝光室3設在殼體1內(nèi)，殼體1 一側(cè)設有光源 控制系統(tǒng)2的操作指示面板21，曝光室3設有蓋板31、曝光平臺32和發(fā)光裝置33，曝光平 臺32設在發(fā)光裝置33的上方，采用紫外線透射率高的玻璃片，保證晶圓5表面有足夠的平 均光功率，在曝光平臺32下方設有氣孔321，作為通氣、檢測、排氣使用，以達到曝光所需 環(huán)境。發(fā)光裝置33包括印刷電路板331和陣列式均勻排列在印刷電路板331上的紫外發(fā)光二 極管332，其下方設有散熱裝置34，散熱裝置34包括一個風扇提供流動氣體，保證光源的良 好散熱。印刷電路板331為鋁基印刷電路板或FR4印刷電路板，鋁基印刷電路板有良好的散 熱效果。紫外發(fā)光二極管332由四個以上均勻組成方形或正六邊形等陣列。發(fā)光裝置33由光 源控制系統(tǒng)2連接控制，光源控制系統(tǒng)2包括高功率二極管驅(qū)動模塊22和控制模塊23，其 控制紫外發(fā)光二極管332均勻發(fā)光的數(shù)量和曝光的范圍。如圖2所示，當晶圓5需要曝光時，被置于曝光平臺32上，合上蓋板31，在圖l所示 的操作指示面板21上設定光源控制系統(tǒng)2中控制模塊23的參數(shù)、然后通過氣孔321給曝光 室3充氣，并保持曝光室3正壓后；這時可以啟動高功率二極管驅(qū)動模塊22點亮高功率紫外 發(fā)光二極管332，并在控制模塊23中預先設定的參數(shù)條件下完成曝光工作。
權利要求1、一種紫外曝光機，包括殼體、光源控制系統(tǒng)和曝光室，曝光室設有蓋板、曝光平臺和發(fā)光裝置，曝光平臺設在發(fā)光裝置的上方，曝光平臺的下方設有氣孔，發(fā)光裝置的下方設有散熱裝置，發(fā)光裝置由光源控制系統(tǒng)連接控制，殼體一側(cè)設有光源控制系統(tǒng)的操作指示面板，其特征在于發(fā)光裝置包括印刷電路板和陣列式均勻排列在印刷電路板上的紫外發(fā)光二極管。
2、 根據(jù)權利要求1所述的一種紫外曝光機，其特征在于其紫外發(fā)光二極管由四個以上 組成方形或正六邊形陣列。
3、 根據(jù)權利要求1所述的一種紫外曝光機，其特征在于其印刷電路板為鋁基印刷電路 板或FR4印刷電路板。
4、 根據(jù)權利要求1所述的一種紫外曝光機，其特征在于其光源系統(tǒng)控制包括高功率二 極管驅(qū)動模塊和控制模塊，控制紫外發(fā)光二極管均勻發(fā)光的數(shù)量和曝光的范圍。
5、 根據(jù)權利要求1所述的一種紫外曝光機，其特征在于其曝光平臺采用紫外線透射率 高的玻璃片。
專利摘要本實用新型公開了一種紫外曝光機，包括殼體、光源控制系統(tǒng)和曝光室，曝光室設有蓋板、曝光平臺和發(fā)光裝置，曝光平臺設在發(fā)光裝置的上方，曝光平臺的下方設有氣孔，發(fā)光裝置的下方設有散熱裝置，發(fā)光裝置由光源控制系統(tǒng)連接控制，殼體一側(cè)設有光源控制系統(tǒng)的操作指示面板，其中發(fā)光裝置包括印刷電路板和陣列式均勻排列在印刷電路板上的紫外發(fā)光二極管，采用以上結(jié)構，紫外發(fā)光二極管具有壽命長、耗電少、啟動快等優(yōu)點，能滿足不同尺寸晶圓的曝光需要，從而達到曝光效果。
文檔編號G03F7/20GK201122230SQ200720008960
公開日2008年9月24日 申請日期2007年12月5日 優(yōu)先權日2007年12月5日
發(fā)明者朱麗娟, 丹 林, 磊 林, 潘守興 申請人:福州高意光學有限公司