專利名稱：：維修方法、曝光方法及裝置、以及元件制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明有關(guān)于透過液體以曝光用光使基板曝光的曝光裝置的維修技術(shù)、及使用此維修技術(shù)的曝光技術(shù)及元件制造技術(shù)。
背景技術(shù)：
：半導(dǎo)體元件及液晶顯示元件等微元件(電子元件)，是使用將形成于標(biāo)線片等光掩膜上的圖案轉(zhuǎn)印至印至涂有光刻膠等感光材料的晶片等基板上、所謂的微影法加以制造。此微影制造工藝中，為了將光掩膜上的圖案透投影光學(xué)系統(tǒng)轉(zhuǎn)印至基板上，使用步進(jìn)重復(fù)(step&r印eat)方式的縮小投影型曝光裝置(所謂的步進(jìn)器、stepper)、及步進(jìn)掃描(step&scan)方式的縮小投影型曝光裝置(所謂的掃描步進(jìn)器、scanningstepper)等的曝光裝置。此種曝光裝置，為了根據(jù)隨著半導(dǎo)體元件等高積體化的圖案微細(xì)化而年年提高的分辨率(解析力)要求，進(jìn)行了曝光用光的短波長化及投影光學(xué)系統(tǒng)孔徑數(shù)(NA)的增加(大NA化)。然而，曝光用光的短波長化及大NA化雖能提升投影光學(xué)系統(tǒng)的分辨率，但卻會(huì)導(dǎo)致焦深的窄小化，因此如此下去的話焦深將變得過窄，恐有曝光動(dòng)作時(shí)聚焦欲度不足之虞。因此，作為一種實(shí)質(zhì)上縮短曝光波長、且與在空氣相較使焦深廣的方法，開發(fā)了一種利用液浸法的曝光裝置(例如，參照專利文獻(xiàn)1)。此液浸法，是將投影光學(xué)系統(tǒng)的下面與基板表面之間充滿水或有機(jī)溶媒等液體，以在形成液浸區(qū)域的狀態(tài)下進(jìn)行曝光。據(jù)此，利用曝光用光在液體中的曝光用光波長為空氣中的l/n倍(n是液體的折射率，例如為1.21.6左右)的特性，來提升解像度且能將焦深擴(kuò)大至約n倍。專利文獻(xiàn)1:國際公開第99/49504號(hào)小冊(cè)子使用上述液浸法進(jìn)行曝光處理時(shí)，一邊從既定的液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)將液體供應(yīng)至投影光學(xué)系統(tǒng)與基板間的液浸區(qū)域、一邊進(jìn)行曝光，并以既定的液體回收機(jī)構(gòu)回收該液浸區(qū)域的液體。然而，在使用此液浸法的曝光中，光刻膠殘?jiān)鹊奈⑿‘愇?微粒)有可能附著于與該液體接觸的部分，例如附著于液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)及液體回收機(jī)構(gòu)的液體流路等液體接觸的部分。此種附著的異物，有可能會(huì)在之后的曝光時(shí)再度混入液體中而附著于曝光對(duì)象的基板上，成為待轉(zhuǎn)印圖案的形狀不良等缺陷的原因。因此，最好是能在例如曝光裝置的定期性維修等時(shí)，以某種方式有效率的除去蓄積在其液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)及液體回收機(jī)構(gòu)的液體流路等的異物(雜質(zhì))。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明有鑒于上述情況，其目的在于提供一種以液浸法進(jìn)行曝光的曝光裝置的有效率的維修技術(shù)。又，本發(fā)明的另一目的，是提供一種能容易的應(yīng)用該維修技術(shù)的曝光技術(shù)及元件制造技術(shù)。又，本發(fā)明的再一目的，是提供一種能容易的進(jìn)行與該液體接觸的液體接觸部的洗凈的洗凈技術(shù)、曝光技術(shù)、以及元件制造技術(shù)。本發(fā)明的第l維修方法，是用以維修曝光裝置，該曝光裝置以第l液體充滿光學(xué)構(gòu)件2與基板P之間以形成液浸空間，透過該光學(xué)構(gòu)件與該第1液體以曝光用光使該基板曝光，其包含移動(dòng)步驟，與使用該第1液體形成該液浸空間的液浸空間形成構(gòu)件30對(duì)向配置可動(dòng)體MST;液浸步驟，使用該液浸空間形成構(gòu)件于該可動(dòng)體上形成該第1液體所構(gòu)成的該液浸空間；以及洗凈步驟，為進(jìn)行與該第1液體接觸的液體接觸部的洗凈，從該可動(dòng)體側(cè)朝包含該液體接觸部至少一部分的區(qū)域噴出第2液體。根據(jù)本發(fā)明，能容易的將以液浸法進(jìn)行曝光時(shí)附著于該液體接觸部的異物的至少一部分與該第2液體一起去除。此時(shí)，預(yù)先或至少局部的平行實(shí)施以該第1液體形成液浸空間，即能容易的除去附著于該液體接觸部的異物。因此，能有效率維修進(jìn)行該第1液體的供應(yīng)及回收的機(jī)構(gòu)。又，本發(fā)明的第2維修方法，用以維修曝光裝置，該曝光裝置系以第l液體充滿光學(xué)構(gòu)件2與基板P之間以形成液浸空間，透過該光學(xué)構(gòu)件與該第1液體以曝光用光使該基板曝光，其包含移動(dòng)步驟，系與使用該第l液體形成該液浸空間的液浸空間形成構(gòu)件30對(duì)向配置可動(dòng)體MST;蓄積步驟，使用該液浸空間形成構(gòu)件將該第1液體供應(yīng)至該可動(dòng)體上，并蓄積此供應(yīng)的該第1液體；以及洗凈步驟，為進(jìn)行與該第1液體接觸的液體接觸部的洗凈，將于該蓄積步驟中蓄積的該第1液體朝包含該液體接觸部至少一部分的區(qū)域噴出。根據(jù)本發(fā)明，能容易的將以液浸法進(jìn)行曝光時(shí)附著于該液體接觸部的異物的至少一部分與該第2液體一起去除。此時(shí)，預(yù)先或平行實(shí)施液浸曝光時(shí)所使用的第l液體的供應(yīng)，即能容易的除去附著于液體接觸部的異物，且由于該第l液體也作為洗凈用的液體，因此，能簡化洗凈用液體的供應(yīng)機(jī)構(gòu)。本發(fā)明的第3維修方法，是用以維修曝光裝置，該曝光裝置透過光學(xué)構(gòu)件2與第1液體以曝光用光使基板曝光，其特征在于具有與該第1液體接觸的液體接觸部，且與在該光學(xué)構(gòu)件與該基板之間保持該第1液體的嘴構(gòu)件30對(duì)向配置可動(dòng)體MST，使用透過該嘴構(gòu)件供應(yīng)至該可動(dòng)體的第2液體來洗凈該液體接觸部。本發(fā)明的第4維修方法，用以維修曝光裝置，該曝光裝置透過光學(xué)構(gòu)件2與第1液體以曝光用光使基板曝光，其特征在于與在該光學(xué)構(gòu)件與該基板之間保持該第1液體的嘴構(gòu)件對(duì)向配置可動(dòng)體，根據(jù)與該第1液體接觸的該液體接觸部相關(guān)的信息，設(shè)定以該第2液體洗凈該液體接觸部的洗凈條件。根據(jù)本發(fā)明，能容易的進(jìn)行液體接觸部的洗凈，進(jìn)而有效率的進(jìn)行以液浸法進(jìn)行曝光的曝光裝置的維修。又，本發(fā)明的第l曝光方法，具有使用本發(fā)明的維修方法的步驟。又，本發(fā)明的第2曝光方法，透過光學(xué)構(gòu)件2與第1液體以曝光用光使基板(P)曝光，其特征在于具有與該第1液體接觸的液體接觸部，且與在該光學(xué)構(gòu)件與該基板之間保持該第1液體的嘴構(gòu)件30對(duì)向配置可動(dòng)體MST，并包含使用經(jīng)該嘴構(gòu)件供應(yīng)至該可動(dòng)體的第2液體洗凈該液體接觸部的動(dòng)作。又，本發(fā)明的第3曝光方法，透過光學(xué)構(gòu)件2與第1液體以曝光用光使基板P曝光，其特征在于包含與在該光學(xué)構(gòu)件與該基板之間保持該第1液體的嘴構(gòu)件30對(duì)向配置可動(dòng)體MST，并包含根據(jù)與該第1液體接觸的該液體接觸部相關(guān)的信息，設(shè)定以該第2液體洗凈該液體接觸部的洗凈條件。根據(jù)此第2及第3曝光方法，能容易的進(jìn)行液體接觸部的洗凈，進(jìn)而有效率的進(jìn)行以液浸法進(jìn)行曝光的曝光裝置的維修。又，本發(fā)明的第l曝光裝置，以第1液體充滿光學(xué)構(gòu)件2與基板P之間以形成液浸空間，透過該光學(xué)構(gòu)件與該第1液體以曝光用光使該基板曝光，其具備液浸空間形成構(gòu)件30，使用該第1液體形成該液浸空間；可動(dòng)體MST，能相對(duì)該光學(xué)構(gòu)件移動(dòng)；液體噴出機(jī)構(gòu)62、63A、90，其至少一部分設(shè)于該可動(dòng)體且噴出第2液體；以及控制裝置61，在透過該液浸空間形成構(gòu)件于該可動(dòng)體上以該第1液體形成該液浸空間時(shí)，為進(jìn)行與該第1液體接觸的液體接觸部的洗凈，使該液體噴出機(jī)構(gòu)朝包含該液體接觸部至少一部分的區(qū)域噴出第2液體。又，本發(fā)明的第2曝光裝置，以第1液體充滿光學(xué)構(gòu)件2與基板P之間以形成液浸空間，透過該光學(xué)構(gòu)件與該第1液體以曝光用光使該基板曝光，其具備液浸空間形成構(gòu)件30，使用該第1液體形成該液浸空間；可動(dòng)體MST，能相對(duì)該光學(xué)構(gòu)件移動(dòng)；蓄積機(jī)構(gòu)63F、91、92，是蓄積透過該液浸空間形成構(gòu)件供應(yīng)至該可動(dòng)體上的該第1液體；以及液體噴出裝置63E、91、92,其至少一部分設(shè)于該可動(dòng)體，為進(jìn)行與該第1液體接觸的液體接觸部的洗凈，將以該蓄積機(jī)構(gòu)所蓄積的該第1液體朝包含該液體接觸部的至少一部分的區(qū)域噴出。又，本發(fā)明的第3曝光裝置，透過光學(xué)構(gòu)件2與第1液體以曝光用光使基板P曝光，其具備嘴構(gòu)件30，具有與該第1液體接觸的液體接觸部且于該光學(xué)構(gòu)件與該基板之間保持該第1液體；可動(dòng)體MST，能相對(duì)該光學(xué)構(gòu)件移動(dòng)；以及洗凈構(gòu)件，至少一部分設(shè)于該可動(dòng)體上，使用經(jīng)該嘴構(gòu)件供應(yīng)至該可動(dòng)體的第2液體洗凈該液體接觸部。又，本發(fā)明的第4曝光裝置，透過光學(xué)構(gòu)件2與第1液體以曝光用光使基板P曝光，其具備嘴構(gòu)件30，于該光學(xué)構(gòu)件與該基板之間保持該第1液體；洗凈構(gòu)件，以第2液體洗凈與該第1液體接觸的液體接觸部；可動(dòng)體MST，至少于該洗凈時(shí)與該嘴構(gòu)件對(duì)向配置；以及控制裝置61，控制該洗凈構(gòu)件以改變使用該第2液體的洗凈條件，且視與該液體接觸部相關(guān)的信息設(shè)定干洗凈條件。根據(jù)這些本發(fā)明的第l、第2、第3、或第4曝光裝置，能分別使用本發(fā)明的第l、第2、第3、或第4維修方法。又，本發(fā)明的元件制造方法，其包含使本發(fā)明的曝光方法或曝光裝置使基板曝光的動(dòng)作；以及使曝光后基板顯影的動(dòng)作。上述本發(fā)明各既定要件后所附的符號(hào)，雖對(duì)應(yīng)顯示本發(fā)明實(shí)施方式的圖中的構(gòu)件，但各符號(hào)僅為易于理解本發(fā)明而表示發(fā)明的要件，本發(fā)明并不受限于這些實(shí)施方式的構(gòu)成。根據(jù)本發(fā)明，能容易的進(jìn)行液體接觸部的洗凈，進(jìn)而有效率的進(jìn)行以液浸法進(jìn)行曝光的曝光裝置的維修。圖1是顯示本發(fā)明曝光裝置的一實(shí)施方式例，部分剖開的概略構(gòu)成圖。圖2是顯示圖1中的嘴構(gòu)件30的立體圖。圖3是沿圖2的AA線的截面圖。圖4是顯示設(shè)于圖1中的測(cè)量載臺(tái)MST的洗凈機(jī)構(gòu)的部分剖斷圖。圖5是顯示圖1的基板載臺(tái)PST及測(cè)量載臺(tái)MST的俯視圖。圖6是顯示測(cè)量載臺(tái)MST從圖5的狀態(tài)移動(dòng)至投影光學(xué)系統(tǒng)PL底面的過程的俯視圖。圖7是以截面顯示用以說明本發(fā)明的一實(shí)施方式例的洗凈動(dòng)作的測(cè)量臺(tái)MTB及嘴構(gòu)件30的圖。圖8(A)是顯示本發(fā)明另一實(shí)施方式例的洗凈機(jī)構(gòu)的部分剖斷圖；圖8(B)是顯示從該洗凈機(jī)構(gòu)噴射液體的狀態(tài)的部分剖斷圖。圖9(A)是顯示一維修動(dòng)作例的流程圖；圖9(B)是顯示微元件的一制造工藝?yán)牧鞒虉D。元件代表符號(hào)1液體2光學(xué)元件10液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)11液體供應(yīng)部13,14供應(yīng)口20液體回收機(jī)構(gòu)21液體回收部24回收口25網(wǎng)狀過濾器30嘴構(gòu)件62噴出裝置65回收裝置66混合噴出裝置89逆止閥卯噴射嘴部91圓筒部92活塞部AR1投影區(qū)域AR2液浸區(qū)域CONT控制裝置EL曝光用光EX曝光裝置M光掩膜MTB測(cè)量臺(tái)MST測(cè)量載臺(tái)P基板PL投影光學(xué)系統(tǒng)PST基板載臺(tái)具體實(shí)施例方式以下，參照?qǐng)D1圖7說明本發(fā)明的較佳實(shí)施方式例。圖1是顯示由第1實(shí)施方式的曝光裝置EX的概略構(gòu)成圖，圖1中，曝光裝置EX具備:用以支撐形成有轉(zhuǎn)印用圖案的光掩膜M的光掩膜載臺(tái)RST，支撐曝光對(duì)象的基板P的基板載臺(tái)PST，以曝光用光EL照明光掩膜載臺(tái)RST所支撐的光掩膜M的照明光學(xué)系統(tǒng)IL，將以曝光用光EL照明的光掩膜M的圖案像投影至基板載臺(tái)PST所支撐的基板上P上的投影區(qū)域AR1的投影光學(xué)系統(tǒng)PL，形成有對(duì)準(zhǔn)用基準(zhǔn)標(biāo)記等的測(cè)量載臺(tái)MST，統(tǒng)籌控制曝光裝置EX全體的動(dòng)作的控制裝置CONT，為適用液浸法的液浸系統(tǒng)(液浸機(jī)構(gòu))。本實(shí)施方式的液浸系統(tǒng)，包含對(duì)基板P上及測(cè)量載臺(tái)MST上供應(yīng)液體1的液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)10、與用以回收供應(yīng)至基板P上及測(cè)量載臺(tái)MST上的液體1的液體回收機(jī)構(gòu)20。曝光裝置EX，至少在將光掩膜M的圖案像轉(zhuǎn)印至基板P上的期間，通過液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)IO供應(yīng)的液體1在基板P上的部分區(qū)域(含投影光學(xué)系統(tǒng)PL的投影區(qū)域AR1)、或基板P上的部分區(qū)域及其周圍區(qū)域(局部的)形成液浸區(qū)域AR2。具體而言，曝光裝置EX，采用在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)冉K端部的光學(xué)元件(例如底面(射出面)大致平坦的透鏡或平行平面板等)2、與配置在該像面?zhèn)鹊幕錚表面之間充滿液體1的局部液浸方式，以通過光掩膜M的曝光用光EL，透過投影光學(xué)系統(tǒng)PL及投影光學(xué)系統(tǒng)PL與基板P間的液體1使基板P曝光，據(jù)以將光掩膜M的圖案轉(zhuǎn)印曝光至基板P。又，本例中，使用形成液浸空間(含從投影光學(xué)系統(tǒng)PL射出的曝光用光EL的光路空間)的液浸空間形成構(gòu)件(包含例如嘴構(gòu)件30)來進(jìn)行液浸曝光。本例中，作為曝光裝置EX，以使用一邊使光掩膜M與基板P同步移動(dòng)于既定掃描方向、一邊將形成于光掩膜M的圖案曝光至基板P的掃描型曝光裝置(所謂的掃描步進(jìn)器)為例進(jìn)行說明。以下，取平行于投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸AX的方向?yàn)閆軸，垂直于Z軸的平面內(nèi)沿光掩膜M與基板P的同步移動(dòng)方向(掃描方向)為X軸，沿垂直于該掃描方向的方向(非掃描方向)取Y軸來進(jìn)行說明。又，繞x軸、Y軸及z軸(傾斜)的方向分別設(shè)為ex、9Y、及ez方向。本文中的基板，包含例如于硅晶片等的半導(dǎo)體晶片等的基材上涂有感光材(以下，適當(dāng)?shù)姆Q光刻膠)，所謂的感光膜包含涂有其它保護(hù)膜(面涂膜)等各種膜者。光掩膜，則包含形成有待縮小曝光至基板上的元件圖案的標(biāo)線片，例如在玻璃板等的透明板構(gòu)件上使用鉻等遮光膜形成既定圖案者。此透射型光掩膜，并不限于以遮光膜形成圖案的二元光掩膜，也包含例如半調(diào)型、或空間頻率調(diào)變型等的移相型光掩膜等。此實(shí)施方式中，基板P，使用例如于直徑200mm至300mm程度的圓板狀半導(dǎo)體晶片上，例如以未圖示的涂布顯影裝置涂以既定厚度(例如20nm左右)的感旋光性材料的光刻膠，并視需要于其上涂有反射防止膜或面涂膜者。首先，照明光學(xué)系統(tǒng)IL,以曝光用光EL照明光掩膜載臺(tái)RST所支撐的光掩膜M，具有:用以使未圖示的光源射出的光束照度均勻化的光學(xué)積分器、中繼透鏡系統(tǒng)、用以將曝光用光EL在光掩膜M上的照明區(qū)域設(shè)定為狹縫狀的可變視野光鬧等。光掩膜M上的既定照明區(qū)域是由照明光學(xué)系統(tǒng)IL以均勻照度分布的曝光用光EL加以照明。從照明光學(xué)系統(tǒng)IL射出的曝光用光EL，使用例如從水銀燈射出的紫外線帶的亮線(i線等)、KrF準(zhǔn)分子激光光(波長248nm)等的遠(yuǎn)紫外光(DUV光)、或ArF準(zhǔn)分子激光光(波長193nm)、F2激光光(波長157nm)等的真空紫外光(VUV光)等。本例中，曝光用光EL使用ArF準(zhǔn)分子激光光。又，光掩膜載臺(tái)RST用以支撐光掩膜M，能在未圖示的光掩膜座上垂直于投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸AX的平面內(nèi)、即XY平面內(nèi)進(jìn)行2維移動(dòng)及ez方向的微小旋轉(zhuǎn)。光掩膜載臺(tái)RST，例如以線性馬達(dá)等的光掩膜載臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置RSTD加以驅(qū)動(dòng)。光掩膜載臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置RSTD以控制裝置CONT加以控制。于光掩膜載臺(tái)RST上設(shè)有反射鏡55A，于反射鏡55A的對(duì)向位置設(shè)有激光干涉儀56A。實(shí)際上，激光干涉儀56A構(gòu)成為具有3軸以上的測(cè)長軸的激光干涉儀系統(tǒng)。光掩膜載臺(tái)RST(光掩膜M)的2維方向位置以及旋轉(zhuǎn)角由激光干涉儀56A實(shí)時(shí)加以測(cè)量，測(cè)量結(jié)果輸出至控制裝置CONT。控制裝置CONT根據(jù)該測(cè)量結(jié)果驅(qū)動(dòng)光掩膜載臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置RSTD,據(jù)以進(jìn)行光掩膜載臺(tái)RST所支撐的光掩膜M的移動(dòng)及定位。又，反射鏡55A不僅是平面鏡還可包含角隅棱鏡(復(fù)歸反射器)，或者，也可取代反射鏡55A使用例如對(duì)光掩膜載臺(tái)RST的端面(側(cè)面)施以鏡面加工所形成反射面。投影光學(xué)系統(tǒng)PL，用以將光掩膜M的圖案以既定投影倍率P(P例如1/4、1/5等的縮小倍率)投影曝光至基板P上者，由包含設(shè)于基板P側(cè)(投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)?終端部的光學(xué)元件2的復(fù)數(shù)個(gè)光學(xué)元件所構(gòu)成，這些光學(xué)元件以鏡筒PK加以支撐。又，投影光學(xué)系統(tǒng)PL不限于縮小系統(tǒng)，也可以是等倍系統(tǒng)及放大系統(tǒng)的任一者。此外，投影光學(xué)系統(tǒng)PL前端部的光學(xué)元件2以能裝拆(更換)的方式設(shè)于鏡筒PK，而液浸區(qū)域AR2的液體1則接觸于光學(xué)元件2。雖未圖標(biāo)，投影光學(xué)系統(tǒng)PL透過防振機(jī)構(gòu)裝載于以3根支柱支撐的鏡筒平臺(tái)，但也可如國際公開第2006/038952號(hào)小冊(cè)子的揭示，將投影光學(xué)系統(tǒng)PL懸吊支撐于投影光學(xué)系統(tǒng)PL上方配置的未圖標(biāo)的主框架構(gòu)件、或前述光掩膜基座等。本例中，液體l使用純水。純水不僅能使ArF準(zhǔn)分子激光光穿透，例如從水銀燈射出的紫外線帶的亮線及KrF準(zhǔn)分子激光光等的遠(yuǎn)紫外線(DUV光)也能穿透。光學(xué)元件2以螢石(CaF2)形成。由于螢石與水的親和性高，因此能使光學(xué)元件2的液體接觸面2a大致完全與液體1接觸。又，光學(xué)元件2也可以是與水的親和性高的石英等。又，基板P的光刻膠，例如是具有彈開液體1的撥液性的光刻膠。如前所述，也可視需要于光刻膠上涂布保護(hù)用的面涂層。本例中，將液體l撥開的性質(zhì)稱為撥液性。當(dāng)液體l為純水時(shí)，所謂撥液性即指撥水性。又，于基板載臺(tái)PST上部固定有例如以真空吸附方式保持基板P的基板保持具PH。此外，基板載臺(tái)PST具備控制基板保持具PH(基板P)的Z方向位置(聚焦位置)及0X、0Y方向的傾斜角的Z載臺(tái)部，以及支撐此Z載臺(tái)部并移動(dòng)的XY載臺(tái)。此XY載臺(tái)部例如是透過空氣軸承裝載在底座54上與XY平面平行的導(dǎo)引面(與投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面實(shí)質(zhì)上平行的面)?；遢d臺(tái)PST(Z載臺(tái)52及XY載臺(tái)53)，以例如線性馬達(dá)等的基板載臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置PSTD加以驅(qū)動(dòng)?；遢d臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置PSTD則以控制裝置CONT加以控制。此外，本實(shí)施方式中，Z載臺(tái)部包含臺(tái)(table)、以及將此臺(tái)至少驅(qū)動(dòng)于Z、9X及eY方向的致動(dòng)器(例如音圈馬達(dá)等)，將基板保持具與臺(tái)形成為一，總稱為基板保持具PH。又，基板載臺(tái)PST也可以是臺(tái)能相對(duì)XY載臺(tái)部于6自由度方向微動(dòng)的粗微動(dòng)載臺(tái)。于基板載臺(tái)PST上的基板保持具PH設(shè)有反射鏡55B,于反射鏡55B的對(duì)向位置設(shè)有激光干涉儀56B。反射鏡55B實(shí)際上如圖5所示，由X軸反射鏡55BX及Y軸反射鏡55BY所構(gòu)成，激光干涉儀56B則以X軸激光干涉儀56BX及Y軸激光干涉儀56BY所構(gòu)成?；氐綀Dl，基板載臺(tái)PST上的基板保持具PH(基板P)的2維方向位置及旋轉(zhuǎn)角，以激光干涉儀56B加以實(shí)時(shí)測(cè)量，測(cè)量結(jié)果輸出至控制裝置CONT?？刂蒲b置CONT，根據(jù)該測(cè)量結(jié)果來驅(qū)動(dòng)基板載臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置PSTD，據(jù)以進(jìn)行基板載臺(tái)PST所支撐的基板P的移動(dòng)及定位。又，也可將激光干涉儀56B設(shè)計(jì)成也能測(cè)量基板載臺(tái)PST的z軸方向位置、及ex，ey方向的旋轉(zhuǎn)信息，其詳細(xì)狀況例如已揭示于特表2001—510577號(hào)公報(bào)(對(duì)應(yīng)國際公開第1999/28790號(hào)小冊(cè)子)。此外，也可取代反射鏡55B，而使用將基板載臺(tái)PST或基板保持具PH的側(cè)面等予以鏡面加工所形成的反射鏡。又，基板保持具PH上，以圍繞基板P的方式設(shè)有可更換的環(huán)狀、平面的撥液性板件97。作為撥液處理，例如有使用具撥液性材料的單層或復(fù)數(shù)層的薄膜涂層處理。作為具有撥液性的材料，例如有四氟乙烯(鐵氟龍(注冊(cè)商標(biāo)))等的氟系樹脂材料、丙烯系樹脂材料、硅系樹脂材料、或聚乙烯等的合成樹脂材料。板件97的上面，與基板保持具PH所保持的基板P表面大致同高的平坦面。此處，基板P的邊緣與板件97之間雖有0.1lmm的間隙，但本例中，由于基板的光刻膠為撥液性且液體l具有表面張力，因此幾乎不會(huì)產(chǎn)生液體l流入該間隙的情形，即使進(jìn)行基板P周緣附近的曝光，也能將液體1保持在板件97與投影光學(xué)系統(tǒng)PL之間。又，也可在基板保持具PH設(shè)置用以將流入至板件97與基板P間的間隙的液體1排出至外部的吸引裝置(未圖標(biāo))。因此，基板P的光刻膠(或面涂層)不一定須具有撥液性。此外，本實(shí)施方式中雖于基板保持具PH以能裝拆(可更換)的方式設(shè)有板件部97,但也可不設(shè)置板件部97，而例如對(duì)圍繞基板P的基板保持具PH的上面施以撥液處理來形成為平坦面。此時(shí)，最好是能將基板保持具PH設(shè)為能裝拆(可更換)，以進(jìn)行對(duì)該平坦面的維修(例如，撥液膜的補(bǔ)修等)。其次，圖1的液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)10用以將既定液體1供應(yīng)至基板P上，其具備可送出液體l的液體供應(yīng)部ll、以及一端部連接于液體供應(yīng)部11的供應(yīng)管12。液體供應(yīng)部11，具備收容液體1的儲(chǔ)液槽、過濾部、以及加壓泵等。又，液體供應(yīng)裝置ll不需具備儲(chǔ)液槽、過濾部、加壓泵等的全部，至少一部分例如可以曝光裝置EX的設(shè)置工廠等的設(shè)備來代用。液體回收機(jī)構(gòu)20,用以回收供應(yīng)至基板P上的液體1，具備可回收液體l的液體回收部21、一端部連接于液體回收部21的回收管22、連結(jié)于回收管22的供應(yīng)管27、以及連接于供應(yīng)管27的端部用以供應(yīng)既定洗凈液的洗凈液供應(yīng)部26。于回收管22及供應(yīng)管27的途中分別設(shè)計(jì)閥23及28。液體回收部21，例如具備真空泵等的真空系統(tǒng)(吸引裝置)、以及收容所回收液體l的儲(chǔ)液槽等。洗凈液供應(yīng)部26，具備收容洗凈液體的儲(chǔ)液槽、以及加壓泵等。關(guān)閉回收管22側(cè)的閥23、打開供應(yīng)管27側(cè)的閥28，即能從洗凈液供應(yīng)部26透過回收管27將洗凈液供應(yīng)至回收管22。此外，液體回收機(jī)構(gòu)20，不需具備真空系統(tǒng)、儲(chǔ)液槽等的全部，至少一部分例如可以曝光裝置EX的設(shè)置工廠等的設(shè)備來代用。作為洗凈液，可使用不同于液體l的水與稀釋劑的混合液、Y—丁丙酯(Y-Butyrolactone)、或異丙醇(IPA)等的溶劑。不過，也可使用含液體1的液體，例如液體1本身、或溶解(dissolve)有氣體(例如氮?dú)?、臭氧或氧氣?的液體1，或以液體1為溶劑的溶液等來作為該洗凈液。此外，使用液體1本身來作為洗凈液的情形時(shí)，由于也可將液體供應(yīng)部11用作為洗凈液供應(yīng)部，因此不一定須設(shè)置洗凈液供應(yīng)部26及供應(yīng)管27。又，也可將來自洗凈液供應(yīng)部26的供應(yīng)管27連接于與液體供應(yīng)部11連通的供應(yīng)管12。此情形下，可與液體1的供應(yīng)流路(例如供應(yīng)管12等)分開獨(dú)立的將洗凈液供應(yīng)至液浸區(qū)域(液競(jìng)空間)。于投影光學(xué)系統(tǒng)PL終端部的光學(xué)元件2附近，配置有作為流路形成構(gòu)件的嘴構(gòu)件30。嘴構(gòu)件30，在基板P(基板載臺(tái)PST)上方圍繞光學(xué)元件2周圍設(shè)置的環(huán)狀構(gòu)件，透過未圖示的支撐構(gòu)件被支撐于立柱機(jī)構(gòu)(未圖示)。在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的投影區(qū)域AR1位于基板P上的狀態(tài)，嘴構(gòu)件30具備配置成與該基板P表面對(duì)向的第1供應(yīng)口13與第2供應(yīng)口14(參照?qǐng)D3)。又，嘴構(gòu)件30，于其內(nèi)部具有供應(yīng)流路82A，82B(參照?qǐng)D3)。供應(yīng)流路82A的一端連接于第1供應(yīng)口13，于該供應(yīng)流路82A的中途，透過供應(yīng)流路82B連接于第2供應(yīng)口14(參照?qǐng)D3)，供應(yīng)流路82A的另一端部則透過供應(yīng)管12連接于液體供應(yīng)部ll。再者，嘴構(gòu)件30，具備配置成與基板P表面對(duì)向的矩形框狀回收口24(參照?qǐng)D3)。圖2是嘴構(gòu)件30的概略立體圖。如圖2所示，嘴構(gòu)件30是圍繞投影光學(xué)系統(tǒng)PL終端部的光學(xué)元件2周圍設(shè)置的環(huán)狀構(gòu)件，舉一例而言，具備第l構(gòu)件31、與配置在第1構(gòu)件31上部的第2構(gòu)件32。第l、第2構(gòu)件31及32分別為板狀構(gòu)件，于其中央部具有能配置投影光學(xué)系統(tǒng)PL(光學(xué)元件2)的貫通孔31A及32A。圖3是圖2的嘴構(gòu)件30中、下層的第1構(gòu)件31沿AA線的截面圖，圖3中，形成于其上的第2構(gòu)件32的供應(yīng)流路82A,82B以及連接于供應(yīng)流路82A的供應(yīng)管12，以2點(diǎn)鏈線表示。又，嘴構(gòu)件30的第1構(gòu)件31，具備形成在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光學(xué)元件2的+X方向側(cè)、將液體1供應(yīng)至基板P上的第l供應(yīng)口13，以及形成在光學(xué)元件2的一X方向側(cè)、將液體l供應(yīng)至基板P上的第2供應(yīng)口14。供應(yīng)口13及14配置成于X方向(基板P的掃描方向)挾著投影區(qū)域AR1。又，供應(yīng)口13及14分別貫通第1構(gòu)件31的貫通孔，雖于Y方向是細(xì)長的矩形，但也可以是從投影區(qū)域AR1的中心往外側(cè)擴(kuò)張的圓弧狀等。進(jìn)一步的，于第1構(gòu)件31，形成有配置成圍繞投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光學(xué)元件2(投影區(qū)域AR1)的矩形(也可是圓形等)框狀的回收口24、以及用以連通回收口24與回收管22的回收流路84?；厥湛?4，形成于第1構(gòu)件31底面的槽狀凹部，且相對(duì)光學(xué)元件2設(shè)置在較供應(yīng)口13，14更外側(cè)。供應(yīng)口13,14與基板P間的間隙、以及回收口24的與基板P間的間隙，雖設(shè)置成大致相同，但也可例如將回收口24與基板P間的間隙設(shè)成較供應(yīng)口13,14與基板P間的間隙狹窄。此外，嘴構(gòu)件30具備多孔構(gòu)件25，此多孔構(gòu)件25例如設(shè)在第1構(gòu)件31的液體1的流路或通過口(含供應(yīng)口13，14與回收口24的至少一方)。本實(shí)施方式中，作為多孔構(gòu)件25，嵌有覆蓋回收口24的網(wǎng)狀過濾器25(形成有多數(shù)小孔成網(wǎng)眼狀)，以下，也將多孔構(gòu)件25稱為網(wǎng)眼狀過濾器。又，多孔構(gòu)件25并不限于網(wǎng)狀過濾器，也可以例如燒結(jié)金屬或陶瓷等具有孔(pore)的材料構(gòu)成。待充滿液體l的液浸區(qū)域AR2，形成在以回收口24所圍矩形(也可以是圓形等)區(qū)域的內(nèi)側(cè)而包含投影區(qū)域AR1，且在掃描曝光時(shí)局部的形成在基板P上的一部分(或包含基板P上的一部分)。嘴構(gòu)件30，由于以液體1充滿光學(xué)元件2與基板P之間，來形成含曝光用光EL的光路空間的局部性液浸空間(相當(dāng)于液浸區(qū)域AR2)，因此也稱為液浸空間形成構(gòu)件或containmentmember(confinementmember、限制構(gòu)4牛)等。圖2的嘴構(gòu)件30的第1構(gòu)件31、第2構(gòu)件32、以及圖3的網(wǎng)狀過濾器25，分別以易與液體l親和的親液性材料、例如不銹鋼(SUS)或鈦等所形成。因此，圖1中，液浸區(qū)域AR2中的液體1，在通過設(shè)于嘴構(gòu)件30的回收口24的網(wǎng)狀過濾器25后，經(jīng)回收流路84及回收管22圓滑的被回收至液體回收部21。此時(shí)，光刻膠殘?jiān)犬愇镏校笥诰W(wǎng)狀過濾器25的網(wǎng)眼的異物將會(huì)殘留在其表面。圖3中，本例的液體的回收口24雖是矩形或圓形框狀，但也可如2點(diǎn)鏈線所示，使用由2個(gè)矩形(或圓弧狀等)回收口29A及29B(于X方向隔著供應(yīng)口13,14配置)、以及2個(gè)矩形(或圓弧狀等)回收口29C及29D(于Y方向隔著光學(xué)元件2配置)所構(gòu)成的回收口，于各回收口29A29D配置網(wǎng)狀過濾器來加以取代。又，回收口29A29D的數(shù)量可為任意。此外，也可例如國際公開第2005/122218號(hào)小冊(cè)子的揭示，使用雙重的回收口29A29D與回收口24來回收液浸區(qū)域AR2的液體1。再者，也可于供應(yīng)口13，14配置用以防止液浸區(qū)域AR2內(nèi)的異物進(jìn)入嘴構(gòu)件30內(nèi)部的狀過濾器。相反的，例如在回收管22內(nèi)附著異物的可能性低時(shí)，并不一定須設(shè)置網(wǎng)狀過濾器。又，上述實(shí)施方式所使用的嘴構(gòu)件30，并不限于上述構(gòu)造，也可使用例如歐洲專利申請(qǐng)公開第1420298號(hào)說明書、國際公開第2004/055803號(hào)小冊(cè)子、國際公開第2004/057589號(hào)小冊(cè)子、國際公開第2004/057590號(hào)小冊(cè)子、國際公開第2005/029559號(hào)小冊(cè)子(對(duì)應(yīng)美國專利申請(qǐng)公開第2006/0231206號(hào))所記載的流路形成構(gòu)件等。又，本例中，液體的供應(yīng)口13，14與回收口24雖設(shè)于同一嘴構(gòu)件30，但供應(yīng)口13,14與回收口24也可設(shè)于不同構(gòu)件(嘴構(gòu)件等)。例如，可僅將供應(yīng)口設(shè)于其它構(gòu)件，或僅將回收口設(shè)于其它構(gòu)件。又，將第2回收口設(shè)在回收口24的外側(cè)時(shí)，可將此第2回收口設(shè)于其它構(gòu)件。此外，圖1中，也可使供應(yīng)口13及14分別連通于不同的液體供應(yīng)部，從供應(yīng)口13及14以能彼此獨(dú)立控制控制量的狀態(tài)將液體1供應(yīng)至液浸區(qū)域AR2。又，供應(yīng)口13，14也可不與基板P對(duì)向配置。再者，本例的嘴構(gòu)件30的下面雖設(shè)定為較投影光學(xué)系統(tǒng)PL的下端面更接近像面?zhèn)?基板側(cè))，但也可例如將嘴構(gòu)件30的下面設(shè)定為與投影光學(xué)系統(tǒng)PL的下端面(射出面)相同高度(Z位置)。此外，也可將嘴構(gòu)件30的一部分(下端部)以不致遮蔽曝光用光EL的方式埋入至投影光學(xué)系統(tǒng)PL(光學(xué)元件2)的下側(cè)。如上所述，嘴構(gòu)件30分別構(gòu)成液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)10及液體回收機(jī)構(gòu)20的一部分。即，嘴構(gòu)件30是液浸系統(tǒng)的一部分。又，設(shè)于回收管22及供應(yīng)管27的閥23及28，分別用以開閉回收管22及供應(yīng)管27的流路，其動(dòng)作以控制裝置CONT加以控制。在回收管22的流路開放期間，液體回收部21能通過回收口22從液浸區(qū)域AR2吸引回收液體1，在閥28為關(guān)閉狀態(tài)下，以閥23封閉回收管22的流路時(shí)，即停止透過回收口24吸引回收液體1。之后，打開閥28，即能從洗凈液供應(yīng)部26注入洗凈液，經(jīng)供應(yīng)管27、回收管22及網(wǎng)狀過濾器25而通過嘴構(gòu)件30的回收口24。又，可將液浸機(jī)構(gòu)的一部分、例如至少將嘴構(gòu)件30懸吊支撐于保持投影光學(xué)系統(tǒng)PL的主框架(例如含前述鏡筒平臺(tái))，或不同于主框架的其它框架構(gòu)件亦可?；蛘?，如前所述當(dāng)投影光學(xué)系統(tǒng)PL以懸吊方式支撐時(shí)，可投影光學(xué)系統(tǒng)PL—體懸吊支撐嘴構(gòu)件30，也可與投影光學(xué)系統(tǒng)PL分開獨(dú)立的將嘴構(gòu)件30設(shè)于測(cè)量框架，若為后者的情形，投影光學(xué)系統(tǒng)PL可不以懸吊方式支撐。圖1中，液體供應(yīng)部11及洗凈液供應(yīng)部26的液體供應(yīng)以控制裝置CONT加以控制。控制裝置CONT，能分別獨(dú)立控制液體供應(yīng)部11及洗凈液供應(yīng)部26對(duì)基板P上每單位時(shí)間的液體供應(yīng)量。從液體供應(yīng)部11送出的液體1，透過供應(yīng)管12及嘴構(gòu)件30的供應(yīng)流路82A，82B，從嘴構(gòu)件30下面與基板P對(duì)向設(shè)置的供應(yīng)口13,14(參照?qǐng)D3)被供應(yīng)至基板P上。又，液體回收部21的液體回收動(dòng)作以控制裝置CONT加以控制?？刂蒲b置CONT，能控制液體回收部21每單位時(shí)間的液體回收量。從嘴構(gòu)件30下面與基板P對(duì)向設(shè)置的回收口24透過網(wǎng)狀過濾器25回收的基板P上的液體1，經(jīng)嘴構(gòu)件30的回收流路84及回收管22被回收至液體回收部21。圖1中，測(cè)量載臺(tái)MST，具備Y方向細(xì)長的長方形、被驅(qū)動(dòng)于X方向(掃描方向)的X載臺(tái)部181，例如透過空氣軸承裝載于其上的調(diào)平臺(tái)188，以及裝載于此調(diào)平臺(tái)188上作為測(cè)量單元的測(cè)量臺(tái)MTB。作為一例，測(cè)量臺(tái)MTB透過空氣軸承裝載于調(diào)平臺(tái)188上，但也可將測(cè)量臺(tái)MTB與調(diào)平臺(tái)188—體化。X載臺(tái)181部，例如透過空氣軸承裝載于底座54上能于X方向移動(dòng)自如。圖5是顯示圖1中的基板載臺(tái)PST及測(cè)量載臺(tái)MST的俯視圖，此圖5中，于Y方向(非掃描方向)隔著底座54,與X軸平行的設(shè)有X軸固定件186及187(其內(nèi)面分別于X方向以既定排列配置有復(fù)數(shù)個(gè)永久磁鐵)，于固定件186及187之間分別透過含線圈的移動(dòng)件182及183，與Y軸方向大致平行的配置有于X方向移動(dòng)自如的Y軸滑件180。并沿Y軸滑件180配置于Y方向移動(dòng)自如的基板載臺(tái)PST，由基板載臺(tái)PST內(nèi)的移動(dòng)件、與Y軸滑件180上的固定件(未圖示)構(gòu)成將基板載臺(tái)PST驅(qū)動(dòng)于Y方向的Y軸線性馬達(dá)，由移動(dòng)件182及183及與對(duì)應(yīng)的固定件186及187構(gòu)成分別將基板載臺(tái)PST驅(qū)動(dòng)于X方向的一對(duì)X軸線性馬達(dá)。這些X軸、Y軸線性馬達(dá)等，構(gòu)成圖1的基板載臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置PSTD。又，測(cè)量載臺(tái)MST的X載臺(tái)部181，透過在固定件186及187之間分別包含線圈的移動(dòng)件184及185配置成能在X方向移動(dòng)自如，由移動(dòng)件184及185及與對(duì)應(yīng)的固定件186及187構(gòu)成分別將測(cè)量載臺(tái)MST驅(qū)動(dòng)于X方向的一對(duì)X軸線性馬達(dá)。此X軸線性馬達(dá)等，于圖1中顯示為測(cè)量載臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置TSTD。圖5中，于X載臺(tái)部181的一X方向端部，以和Y軸大致平行、于Z方向重迭且依序?qū)ο蛴趦?nèi)面的方式，固定有截面形狀為〕字形的固定件167(配置有用以在Z方向產(chǎn)生相同磁場(chǎng)的復(fù)數(shù)個(gè)永久磁鐵)，以及包含大致沿X軸方向巻繞(排列)的線圈的平板狀固定件171，配置于下方固定件167內(nèi)、于測(cè)量臺(tái)MTB的Y方向分離的2處分別固定有包含沿Y軸巻繞(排列)的線圈的移動(dòng)件166A及166B，于Z方向隔著上方固定件171、于測(cè)量臺(tái)MTB固定有截面形狀為〕字形的固定件170(配置有在Y方向以既定排列配置的復(fù)數(shù)個(gè)永久磁鐵)。由下方固定件167與移動(dòng)件166A及166B分別構(gòu)成將測(cè)量臺(tái)MTB相對(duì)X載臺(tái)部181微驅(qū)動(dòng)于X方向及6z方向的X軸音圈馬達(dá)168A及168B(參照?qǐng)D1)，由上方的固定件171與移動(dòng)件170構(gòu)成相對(duì)X載臺(tái)部181將測(cè)量臺(tái)MTB驅(qū)動(dòng)于Y方向的Y軸線性馬達(dá)169。又，于測(cè)量臺(tái)MTB上的一X方向及+Y方向分別固定有X軸移動(dòng)鏡(反射面)55CX及Y軸移動(dòng)鏡(反射面)55CY，以和移動(dòng)鏡55CZ于一X方向?qū)ο虻姆绞脚渲糜蠿軸激光干涉儀56C。移動(dòng)鏡55CX，55CY，于圖l中以移動(dòng)鏡55C加以顯示。激光干涉儀56C是多軸激光干涉儀，以激光干涉儀56C隨時(shí)測(cè)量測(cè)量臺(tái)MTB的X方向位置、及0Z方向的旋轉(zhuǎn)角度等。又，或者，也可取代移動(dòng)鏡55CX，55CY而使用例如對(duì)測(cè)量載臺(tái)MST的側(cè)面等施以鏡面加工所形成反射面。另一方面，圖5中，Y方向位置測(cè)量用的激光干涉儀56BY，共享于基板載臺(tái)PST及測(cè)量載臺(tái)MST。g卩，X軸的2個(gè)激光干涉儀56BX及56C的光軸，通過投影光學(xué)系統(tǒng)PL的投影區(qū)域AR1的中心(本例中與圖1的光軸AX—致)與X軸平行，Y軸激光干涉儀56BY的光軸則通過其投影區(qū)域的中心(光軸AX)與Y軸平行。因此，通常，為進(jìn)行掃描曝光，在將基板載臺(tái)PST移動(dòng)至投影光學(xué)系統(tǒng)PL的下方時(shí)，激光干涉儀56BY的激光束照射于基板載臺(tái)PST的移動(dòng)鏡55BY，以激光干涉儀56BY測(cè)量基板載臺(tái)PST(基板P)的Y方向位置。此外，例如為測(cè)量投影光學(xué)系統(tǒng)PL的成像特性等，在將測(cè)量載臺(tái)MST的測(cè)量臺(tái)MTB移動(dòng)至投影光學(xué)系統(tǒng)PL的下方時(shí)，激光干涉儀56BY的激光束照射于測(cè)量臺(tái)MTB的移動(dòng)鏡55CY，以激光干涉儀56BY測(cè)量測(cè)量臺(tái)MTB的Y方向位置。如此，即能恒以投影光學(xué)系統(tǒng)PL的投影區(qū)域的中心為基準(zhǔn)，以高精度測(cè)量基板載臺(tái)PST及測(cè)量臺(tái)MTB的位置，而能減少高精度且昂貴的激光干涉儀的數(shù)量，降低制造成本。此外，沿基板載臺(tái)PST用的Y軸線性馬達(dá)及測(cè)量臺(tái)MTB用的Y軸線性馬達(dá)169，分別配置有學(xué)方式等的線線編碼器(未圖標(biāo))，在激光干儀56BY的激光束未照射移動(dòng)鏡55BY或55CY的期間，基板載臺(tái)PST或測(cè)量臺(tái)MTB的Y方向位置則分別以上述線性編碼器加以測(cè)量?；氐綀D1，測(cè)量臺(tái)MTB的2維方向位置及旋轉(zhuǎn)角，以激光干涉儀56C及圖5的激光干涉儀56BY(或線性編碼器)加以測(cè)量，測(cè)量結(jié)果被送至控制裝置CONT?？刂蒲b置CONT根據(jù)該測(cè)量結(jié)果驅(qū)動(dòng)測(cè)量載臺(tái)驅(qū)動(dòng)裝置TSTD、線性馬達(dá)169、以及音圈馬達(dá)168A，168B，據(jù)以進(jìn)行測(cè)量載臺(tái)MST中測(cè)量臺(tái)MTB的移動(dòng)或定位。又，調(diào)平臺(tái)188，具備能分別以例如氣缸或音圈馬達(dá)方式控制Z方向位置的3個(gè)Z軸致動(dòng)器，通常，以調(diào)平臺(tái)188控制測(cè)量臺(tái)MTB的Z方向位置、9X方向、9Y方向的角度，以使測(cè)量臺(tái)MTB的上面與投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面對(duì)焦。因此，于嘴構(gòu)件30附近，設(shè)有用以測(cè)量投影區(qū)域AR1內(nèi)及其附近的基板P上面等被檢測(cè)面的位置的自動(dòng)聚焦傳感器(未圖示)，根據(jù)此自動(dòng)聚焦傳感器的測(cè)量值，由控制裝置CONT控制調(diào)平臺(tái)188的動(dòng)作。再者，雖未圖示，也設(shè)有用以維持調(diào)平臺(tái)188相對(duì)X載臺(tái)部181的X方向、Y方向、ez方向的位置的致動(dòng)器。又，自動(dòng)聚焦傳感器通過以其復(fù)數(shù)個(gè)測(cè)量點(diǎn)分別測(cè)量被檢測(cè)面的Z方向位置信息，而檢測(cè)9X方向、9Y方向的傾斜信息(旋轉(zhuǎn)角)，但也可將該復(fù)數(shù)個(gè)測(cè)量點(diǎn)的至少一部分設(shè)定在液浸區(qū)域AR2(或投影區(qū)域AR1)內(nèi)，或者，可將全部設(shè)定在液浸區(qū)域AR2的外側(cè)。再者，例如能以激光干涉儀56B,56C測(cè)量被檢測(cè)面的Z軸、0X及6Y方向的位置信息時(shí)，可不設(shè)置能在基板P的曝光動(dòng)作中測(cè)量其Z軸方向的位置信息的自動(dòng)聚焦傳感器，可作成至少在曝光動(dòng)作中使用激光干涉儀55B，55C的測(cè)量結(jié)果來進(jìn)行被檢測(cè)面于Z軸、ex及0Y方向的位置控制。本例的測(cè)量臺(tái)MTB，具備為進(jìn)行關(guān)于曝光的各種測(cè)量的測(cè)量器類(測(cè)量用構(gòu)件)。即，測(cè)量臺(tái)MTB具備固定線線馬達(dá)169的移動(dòng)件等及移動(dòng)鏡55C的測(cè)量臺(tái)本體159，以及固定在此上面、例如由石英玻璃等低膨脹率的光透射性材料所構(gòu)成的板件IOI。此板件101的全表面形成有鉻膜，隨處設(shè)有測(cè)量器用的區(qū)域、以及特開平5—21314號(hào)公報(bào)(對(duì)應(yīng)美國專利第5，243，195號(hào))等所揭示的形成有復(fù)數(shù)個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)標(biāo)記區(qū)域FM。如圖5所示，于板件101上的基準(zhǔn)標(biāo)記區(qū)域FM，形成有圖1的光掩膜用對(duì)準(zhǔn)傳感器AS用的一對(duì)基準(zhǔn)標(biāo)記FM1,FM2、以及基板用對(duì)準(zhǔn)傳感器ALG用的基準(zhǔn)標(biāo)記FM3。將這些基準(zhǔn)標(biāo)記的位置，以對(duì)應(yīng)的對(duì)準(zhǔn)傳感器分別加以測(cè)量，即能測(cè)量出投影光學(xué)系統(tǒng)PL的投影區(qū)域AR1的投影位置與對(duì)準(zhǔn)傳感器ALG的檢測(cè)位置間的間隔(位置關(guān)系)的基準(zhǔn)線(baseline)量。于此基準(zhǔn)線量的測(cè)量時(shí)，于板件101上也形成液浸區(qū)域AR2。又，對(duì)準(zhǔn)傳感器MA、ALG可分別為影像處理方式，或以檢測(cè)因同調(diào)光束的照射而從該標(biāo)記產(chǎn)生的繞射光的方式等。于板件101上的測(cè)量器用區(qū)域，形成有各奘測(cè)量器用開口圖案。作為此測(cè)量用開口圖案，例如有空間像測(cè)量用開口圖案(例如狹縫狀開口圖案)、照明不均測(cè)量用針孔開口圖案、照度測(cè)量用開口圖案、以及液面像差測(cè)量用開口圖案等，于這些開口圖案底面?zhèn)鹊臏y(cè)量臺(tái)本體159內(nèi)，配置有以對(duì)應(yīng)測(cè)量器用光學(xué)系統(tǒng)及光電傳感器構(gòu)成的測(cè)量器。該測(cè)量器的一例，例如特開昭57—117238號(hào)公報(bào)(對(duì)應(yīng)美國專利第4,465，368號(hào)說明書)等所揭示的照度不均傳感器，例如特開2002—14005號(hào)公報(bào)(對(duì)應(yīng)美國專利申請(qǐng)公開第2002/0041377號(hào)說明書)等所揭示的用以測(cè)量以投影光學(xué)系統(tǒng)PL所投影的圖案空間像(投影像)的光強(qiáng)度的空間像測(cè)量裝置61，例如特開平11一16816號(hào)公報(bào)(對(duì)應(yīng)美國專利申請(qǐng)公開第2002/0061469號(hào)說明書)等所揭示的照度監(jiān)視器，以及例如國際公開第99/60361號(hào)小冊(cè)子(對(duì)應(yīng)歐洲專利第1，079，223號(hào)說明書)等所揭示的波面像差測(cè)量器。又，本例中，進(jìn)行透過投影光學(xué)系統(tǒng)PL與液體1以曝光用光EL使基板P曝光的液浸曝光，與此對(duì)應(yīng)的，使曝光用光EL的測(cè)量所使用的上述照度不均傳感器、照度監(jiān)視器、空間像測(cè)量器、波面像差測(cè)量器等，則透過投影光學(xué)系統(tǒng)PL及液體1來接收曝光用光EL。因此，于板件101表面涂有撥液涂層。圖4是顯示安裝于測(cè)量載臺(tái)MST的洗凈液噴出機(jī)構(gòu)，于此測(cè)量臺(tái)MTB的截面的圖4中，于測(cè)量臺(tái)本體159上面的2處形成有凹部60A及60B，于第1凹部60A上部的板件101形成有開口101a，于第2凹部60B上部的板件IOI的區(qū)域101b未形成遮光膜及剝液涂層。因此，于區(qū)域101b照明光能通過板件101。于第1凹部60A的中央部，固定有用以將從底部供應(yīng)的洗凈液從噴射口90a以高速噴設(shè)向上方的噴射嘴部90，噴射嘴部90底部的液體流入口，透過測(cè)量臺(tái)本體159內(nèi)的供應(yīng)流路86、及外部的具可撓性管線63A連接于洗凈液的噴出裝置62。g卩，本實(shí)施方式中洗凈機(jī)構(gòu)具備圖4所示的噴出機(jī)構(gòu)，通過洗凈液的噴出來洗凈與液體1接觸的液體接觸部。作為洗凈液的噴出方式，本例中以高壓噴射該洗凈液來進(jìn)行高壓洗凈。又，雖可至少洗凈于液浸曝光時(shí)與液體1接觸的液體接觸部全體，但本實(shí)施方式中僅洗凈液體接觸部的一部分、例如僅洗凈嘴構(gòu)件30下面的一部分。該洗凈液噴出的其它方式，也可以是將該洗凈液噴出成霧狀。又，可具備復(fù)數(shù)個(gè)噴射嘴部90并將這些排列成例如一行。進(jìn)一步的，可將來自噴射嘴部卯的噴射口卯a(chǎn)的洗凈液噴出方向，設(shè)定為對(duì)板件101上面的垂直方向以外的斜方向等。即，洗凈液對(duì)板件101上面的噴出角度不限于90度，可通過例如致動(dòng)器的噴射嘴部卯的驅(qū)動(dòng)，來變化洗凈液的噴出角度。又，也可在既定角落范圍內(nèi)使噴出口90a的洗凈液擴(kuò)散噴出。進(jìn)一步的，可根據(jù)與液體接觸部相關(guān)的信息，例如洗凈部位及/或污染程度改變噴出機(jī)構(gòu)的液體接觸部洗凈條件，例如改變從噴射嘴部90噴射的洗凈液種類(也包含前述混合比率、氣體溶解濃度等)、壓力、噴出圖案、或溫度等。此情形，改變的洗凈條件不限于1個(gè)，可以是復(fù)數(shù)個(gè)。又，洗凈條件并不限于洗凈液特性與噴出條件的至少其中一方，洗凈機(jī)構(gòu)也不一定須具備噴出機(jī)構(gòu)。噴出裝置62，由洗凈液的蓄積部62a、將從此蓄積部62a供應(yīng)的洗凈液控制于既定溫度(例如高溫)的溫度控制部62b、以及將經(jīng)溫度控制的洗凈液以高莊送出至管線63A側(cè)的加壓部62c所構(gòu)成，蓄積部62a、溫度控制部62b及加壓部62c的動(dòng)作以含計(jì)算機(jī)的控制部61加以控制。在例如被洗凈部的污染較多時(shí)，可加高洗凈液的溫度。又，于管線63A的途中透過具可撓性的管線63B，連接有將氣體及洗凈液混合后加以噴出的混合噴出裝置66?；旌蠂姵鲅b置66，例如由經(jīng)導(dǎo)管66c及內(nèi)部除塵濾器吸引無塵室內(nèi)的空氣的氣體吸引部66a、與混合加壓部66b構(gòu)成。混合加壓部66b，將由氣體吸引部66a供應(yīng)的氣體、與從噴出裝置62的溫度控制部62經(jīng)管線63D供應(yīng)的經(jīng)溫度控制后的洗凈液加以混合后，以既定壓力送出至管線63B側(cè)。氣體吸引部66a及混合加壓部66b的動(dòng)作以控制部61加以控制。再者，于管線63A及63B分別安裝有閥64A及閥64B，控制部61在使用噴出裝置62時(shí)關(guān)閉閥64B而打開閥64A，而在使用混合噴出裝置66時(shí)則關(guān)閉閥64A而打開閥64B。又，考慮因測(cè)量載臺(tái)MST的移動(dòng)使管線63A及63B頻繁的彎曲而有招致內(nèi)部的液體漏出之虞，閥64A,64B以盡可能的設(shè)在接近測(cè)量臺(tái)MTB的位置較佳。又，凹部60A的底面，透過測(cè)量臺(tái)本體159內(nèi)的回收流路87、及外部具可撓性的管線63C連接于液體的回收裝置65，于管線63C還安裝有開關(guān)用的閥64C?；厥昭b置65包含吸引用泵、除塵用過濾器部、以及回收后液體的蓄積部，其動(dòng)作及閥64C的開關(guān)以控制部61加以控制。本例中，以回收裝置65回收進(jìn)到凹部60A內(nèi)的洗凈液等(含形成液浸區(qū)域AR2的液體)。又，也可以使用圖1的液體回收部21經(jīng)嘴構(gòu)件來吸引回收進(jìn)入凹部60A內(nèi)的洗凈液等。此場(chǎng)合，可省略包含回收裝置65、管線63C及回收流路87測(cè)量載臺(tái)MST側(cè)的洗凈液等的回收機(jī)構(gòu)。再者，于圖4的測(cè)量臺(tái)本體159上的第2凹部60B內(nèi)，配置有包含物鏡67a、CCD等的2維攝影元件67b、以及具有照明被檢測(cè)面DP的未圖標(biāo)照明系統(tǒng)的觀察裝置67。攝影元件67b的攝影信號(hào)透過控制部61供應(yīng)至圖1的控制裝置CONT的影像處理處系統(tǒng)，此影像處理系統(tǒng)根據(jù)該攝影信號(hào)(被檢測(cè)面DP的影像)，進(jìn)行噴射嘴部90的洗凈對(duì)象構(gòu)漸的位置確認(rèn)、以及污染程度的確認(rèn)等。又，本例中，由于圖5中基準(zhǔn)標(biāo)記FM1FM3與凹部60A間的位置關(guān)系為已知，且還能通過對(duì)準(zhǔn)傳感器ALG檢測(cè)基準(zhǔn)標(biāo)記FM1FM3來測(cè)量與圖1的嘴構(gòu)件30間的位置關(guān)系，因此能從此結(jié)果高精度地求出圖4的噴射嘴部90與圖1的嘴構(gòu)件30(洗凈對(duì)象)間的位置關(guān)系。因此，觀察裝置67的設(shè)置并非絕對(duì)需要。此外，在將測(cè)量載臺(tái)MST設(shè)置于觀察裝置67的情形時(shí)，可將觀察裝置67的一部分、例如將前述照明系統(tǒng)配置在測(cè)量載臺(tái)MST的外部。從圖4的噴出裝置62噴出的洗凈液，與從圖1的洗凈液供應(yīng)部26供應(yīng)的洗凈液同樣的，可使用例如水與稀釋劑的混合液、Y—丁內(nèi)酯或IPA等溶劑，或者包含前述液體1的液體等。本實(shí)施方式中，從噴出裝置62噴出的洗凈液與從洗凈液供應(yīng)部26供應(yīng)的洗凈液為同一種類。以控制部61進(jìn)行的噴出裝置62、混合噴出裝置66及回收裝置65的動(dòng)作控制，閥64A64C的開關(guān)動(dòng)作，以及測(cè)量載臺(tái)MST對(duì)應(yīng)這些動(dòng)作的動(dòng)作，以圖1的控制裝置CONT統(tǒng)籌控制。又，也可將噴出裝置62的洗凈液蓄積部62a作成可裝卸的匣式容器，將以回收裝置65(或圖1的液體回收部21)回收的液體經(jīng)除塵濾器后送回該匣式容器，將此回收的液體再使用為洗凈液。再者，可使噴出裝置62與洗凈液供應(yīng)部26的洗凈液種類不同。例如，使洗凈液供應(yīng)部26供應(yīng)IPA等溶劑，而噴出裝置62則供應(yīng)洗凈液1。此外，洗凈機(jī)構(gòu)的一部分，可使用例如曝光裝置EX的設(shè)置工廠等的設(shè)備代用。又，洗凈機(jī)構(gòu)并不限于上述構(gòu)成，例如也可不設(shè)置蓄積部62a。圖1中，于基板P上設(shè)定有復(fù)數(shù)個(gè)照射區(qū)域，本例的控制裝置CONT一邊監(jiān)測(cè)激光干涉儀56B的輸出一邊移動(dòng)基板載臺(tái)PST，以相對(duì)投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸AX(投影區(qū)域AR1)使基板P沿既定路徑前進(jìn)，并以步進(jìn)掃描(step&scan)方式依序使復(fù)數(shù)個(gè)照射區(qū)域曝光。B卩，以曝光裝置EX進(jìn)行的掃描曝光時(shí)，于投影光學(xué)系統(tǒng)PL的矩形投影區(qū)域AR1投影光掩膜M的部分圖案像，光掩膜M相對(duì)投影光學(xué)系統(tǒng)PL以速度V移動(dòng)于X方向，與此同步的，基板P透過基板載臺(tái)PST以速度P'V(P為投影倍率)移動(dòng)于X方向。在對(duì)基板P上的一個(gè)照射區(qū)域的曝光結(jié)束后，通過基板P的步進(jìn)移動(dòng)，移動(dòng)至次一照射區(qū)域的掃描開始位置，然后，如圖5所示，以步進(jìn)掃描方式一邊移動(dòng)基板P、一邊依序進(jìn)行對(duì)各照射區(qū)域的掃描曝光處理?；錚的曝光處理中，圖1的控制裝置CONT驅(qū)動(dòng)液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)10，進(jìn)行對(duì)基板P上的液體供應(yīng)動(dòng)作。從液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)10的液體供應(yīng)部11送出的液體1在流通過供應(yīng)管12后，經(jīng)形成在嘴構(gòu)件30內(nèi)部的供應(yīng)流路82A,82B供應(yīng)至基板P上。供應(yīng)至基板P上的液體1，配合基板P的動(dòng)作流過投影光學(xué)系統(tǒng)PL之下。例如，在一照射區(qū)域的曝光中基板P移動(dòng)于+X方向時(shí)，液體l即與基板P往相同的+X方向、與基板P大致相同速度，流過投影光學(xué)系統(tǒng)PL之下。于此狀態(tài)下，從照明光學(xué)系統(tǒng)IL射出、通過光掩膜M的曝光用光EL照射至投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)龋瑩?jù)此，光掩膜M的圖案即透過投影光學(xué)系統(tǒng)PL及液浸區(qū)域AR2的液體1曝光至基板P。控制裝置CONT，在曝光用光EL照射于投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)葧r(shí)，即在基板P的曝光動(dòng)作中，進(jìn)行以液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)10對(duì)基板P上的液體1的供應(yīng)。在曝光動(dòng)作中持續(xù)以液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)10供應(yīng)液體1而良好的形成液浸區(qū)域AR2。另一方面，控制裝置CONT，在曝光用光EL照射于投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)葧r(shí)，即在基板P的曝光動(dòng)作中，進(jìn)行以液體回收機(jī)構(gòu)20對(duì)基板P上的液體1的回收。在曝光動(dòng)作中(曝光用光EL照射于投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面?zhèn)葧r(shí))，持續(xù)進(jìn)行液體回收機(jī)構(gòu)20對(duì)基板P上的液體1的回收，能抑制液浸區(qū)域AR2的擴(kuò)大。本例中，于曝光動(dòng)作中，液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)10以供應(yīng)口13,14同時(shí)進(jìn)行從投影區(qū)域AR1的兩側(cè)對(duì)基板P上的液體1的供應(yīng)。據(jù)此，從供應(yīng)口13,14供應(yīng)至基板P上的液體1，能良好的擴(kuò)散至投影光學(xué)系統(tǒng)PL終端部的光學(xué)元件2的下端面與基板P之間、以及嘴構(gòu)件30(第1構(gòu)件31)下面與基板P之間，形成至少較投影區(qū)域AR1大范圍的液浸區(qū)域AR2。又，假設(shè)供應(yīng)口13及14連接于其它液體供應(yīng)部的情形時(shí)，可就掃描方向，將從投影區(qū)域AR1前方供應(yīng)的每單位時(shí)間的液體供應(yīng)量，設(shè)定為多于從其相反側(cè)供應(yīng)的液體供又，可不在曝光動(dòng)作中進(jìn)行液體回收機(jī)構(gòu)20的液體1的回收動(dòng)作，而在曝光結(jié)束后，開放回收管22的流路來回收基板P上的液體1。舉一例而言，可僅在基板P上的某一照射區(qū)域的曝光結(jié)束后、至次一照射區(qū)域的曝光開始前的部分期間(基板P的步進(jìn)移動(dòng)期間的至少一部分)，以液體回收機(jī)構(gòu)20進(jìn)行基板P上液體1的回收?？刂蒲b置CONT，于基板P的曝光中，持續(xù)以液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)IO進(jìn)行液體1的供應(yīng)。持續(xù)進(jìn)行液體1的供應(yīng)，不僅能以液體1良好的將投影光學(xué)系統(tǒng)PL與基板P之間予以充滿，能防止產(chǎn)生液體1的振動(dòng)(所謂的水錘現(xiàn)象)。以此方式，即能對(duì)基板P的所有照射區(qū)域以液浸法進(jìn)行曝光。又，例如在基板P的更換中，控制裝置CONT，使測(cè)量載臺(tái)MST移動(dòng)至與投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光學(xué)元件2對(duì)向的位置，于測(cè)量載臺(tái)MST上形成液浸區(qū)域AR2。此時(shí)，在使基板載臺(tái)PST與測(cè)量載臺(tái)MST接近的狀態(tài)下移動(dòng)，通過與一載臺(tái)的更換將另一載臺(tái)與光學(xué)元件2對(duì)向配置，來在基板載臺(tái)PST與測(cè)量載臺(tái)MST之間移動(dòng)液浸區(qū)域AR2。控制裝置CONT，在測(cè)量載臺(tái)MST上形成有液浸區(qū)域AR2的狀態(tài)下，使用裝載于測(cè)量載臺(tái)MST的至少一個(gè)測(cè)量器(測(cè)量構(gòu)件)，進(jìn)行與曝光相關(guān)的測(cè)量(例如基準(zhǔn)線測(cè)量)。關(guān)于在基板載臺(tái)PST與測(cè)量載臺(tái)MST之間移動(dòng)液浸區(qū)域AR2的動(dòng)作，以及基板P更換中的測(cè)量載臺(tái)MST的測(cè)量動(dòng)作的詳細(xì)情形，己揭示于國際公開2005/074014號(hào)小冊(cè)子(對(duì)應(yīng)歐洲專利申請(qǐng)公開第1713113號(hào)說明書)、以及國際公開第2006/013806號(hào)小冊(cè)子等。此外，具備基板載臺(tái)與測(cè)量載臺(tái)的曝光裝置，例如已揭示于日本特開平11一135400號(hào)公報(bào)(對(duì)應(yīng)國際公開第1999/23692號(hào)小冊(cè)子)、特開2000—164504號(hào)公報(bào)(對(duì)影美國專利第6，897，963號(hào))。在指定國及選定國的國內(nèi)法許可范圍內(nèi)，援用美國專利第6,897,963號(hào)等的揭示作為本說明書的一部分。如上述的曝光步驟中，當(dāng)圖1的基板P與液浸區(qū)域AR2的液體1接觸時(shí)，會(huì)有基板P的部分成分溶析至液體1中的情形。例如，作為基板P上的感旋光性材料而使用化學(xué)增幅型光刻膠的情形時(shí)，該化學(xué)增幅型光刻膠，包含基底樹脂、基底樹脂中所含的光酸產(chǎn)生劑(PAG:PhotoAcidGenerator)以及被稱為"Quencher"的胺系物質(zhì)。當(dāng)此種光刻膠接觸液體1時(shí)，光刻膠的部分成分，具體而言，其中的PAG及胺系物質(zhì)等會(huì)有溶析至液體1中的情形。又，在基板P的基材本身(例如硅基板)與液體1接觸時(shí)，也會(huì)因構(gòu)成該基材的不同，而有該基材的部分成分(硅等)溶析至液體l中的可能性。如前所述，接觸基板P后的液體l,有可能包含由產(chǎn)生于基板P的雜質(zhì)及光刻膠殘?jiān)人鶚?gòu)成的微粒等的微小異物。又，液體1也有可能包含大氣中的塵埃及雜質(zhì)等的微小異物。因此，以液體回收機(jī)構(gòu)20回收的液體1，有可能包含各種雜質(zhì)等的異物。因此，液體回收部21將回收的液體1排出至外部。又，也可將回收后液體l的至少一部分以內(nèi)部處理裝置加以凈化后，將該凈化后的液體1送回至液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)10。又，混入液浸區(qū)域AR2的液體1中的上述微粒等的異物中，較設(shè)于圖1中的嘴構(gòu)件30的回收口24的網(wǎng)狀過濾器25的網(wǎng)眼大的異物等，有可能附著而殘留在包含網(wǎng)狀過濾器25表面(外面)等的上述液體接觸部。這些殘留的異物，有可能在基板P的曝光時(shí)，再次混入液浸區(qū)域AR2的液體1。當(dāng)混入液體1的異物附著于基板P上時(shí)，有可能導(dǎo)致將形成于基板P的圖案產(chǎn)生形狀不良等的缺陷。因此，本例的曝光裝置EX，在例如液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)10及液體回收機(jī)構(gòu)20的定期或操作員等的要求而進(jìn)行維修時(shí)，根據(jù)圖9(A)的程序以下述方式進(jìn)行殘留在嘴構(gòu)件30的異物的洗凈。又，也可隨時(shí)監(jiān)測(cè)以液回收機(jī)構(gòu)21所回收的液體中微粒的程度，在該微粒程度超過既定容許范圍時(shí)實(shí)施包含以下洗凈步驟的維修。例如，在回收管22途中透過分歧管設(shè)置測(cè)量異物(微粒)的微粒計(jì)數(shù)器，來監(jiān)測(cè)回收液體中的微粒數(shù)。微粒計(jì)數(shù)器，例如從回收的液體以既定取樣率抽出既定容量的液體，對(duì)抽出的液體照射激光束，對(duì)散射光的影像進(jìn)行影像處理來測(cè)量該液體中的微粒數(shù)。此外，也可在基板載臺(tái)PST上的基板P的更換中隨時(shí)進(jìn)行以下的洗凈動(dòng)作。再者，可例如預(yù)先使用圖4的觀察裝置67檢測(cè)嘴構(gòu)件30的污染較多的部分，于該洗凈動(dòng)作時(shí)，僅洗凈該污染較多的部分。此洗凈步驟中，在停止曝光用光EL照射的狀態(tài)下，于圖9(A)的步驟301，如圖6所示，將測(cè)量載臺(tái)MST的測(cè)量臺(tái)MTB緊貼(或接近)于基板載臺(tái)PST上的基板保持具PH。其次，使基板載臺(tái)MST與測(cè)量臺(tái)MTB(測(cè)量載臺(tái)MST)同時(shí)往+X方向移動(dòng)，將測(cè)量臺(tái)MTB上的池部60移動(dòng)至投影光學(xué)系統(tǒng)PL正下方。之后，可使基板載臺(tái)進(jìn)一步往+X方向退避。其結(jié)果，如圖7(A)所示，將測(cè)量臺(tái)MTB上的凹部60A內(nèi)的噴射嘴部90以圍著投影光學(xué)系統(tǒng)PL前端的光學(xué)元件2的方式，移動(dòng)至通過支撐構(gòu)件33A及33B(涂有撥液膜)以未圖示的立柱機(jī)構(gòu)所支撐的嘴構(gòu)件30的回收口24(網(wǎng)狀過濾器25)底面。在此狀態(tài)下，以和使用液浸法的曝光時(shí)同樣的(但不照射曝光用光EL),于步驟302中，從圖1的液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)10通過嘴構(gòu)件30的供應(yīng)口13,14，將液體1供應(yīng)至的光學(xué)元件2及圍繞此的嘴構(gòu)件30底面與測(cè)量臺(tái)MTB上面之間，如圖7(B)所示，形成液浸區(qū)域AR2(液浸步驟)。此時(shí)，為避免液浸區(qū)域AR2擴(kuò)張至嘴構(gòu)件30的外側(cè)，關(guān)閉圖1的閥28而打開閥23，以液體回收機(jī)構(gòu)20回收液浸區(qū)域AR2內(nèi)的液體1。又，由于液體1也會(huì)流入凹部60A內(nèi)，因此，可視需要打幵圖4的閥64C，經(jīng)回收流路87及圖4的管線63C以回收裝置65回收凹部60A內(nèi)的液體1。如以上所述，預(yù)先形成液浸區(qū)域AR2，即能容易的剝離附著于嘴構(gòu)件30的異物。此外，也能抑制從噴出裝置62噴射而出撞擊于嘴構(gòu)件30的洗凈液的飛散等。于此狀態(tài)下，停止以圖1的液體回收機(jī)構(gòu)20從進(jìn)行液浸區(qū)域AR2回收液體1，并停止從液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)101對(duì)液浸區(qū)域AR2供應(yīng)液體1。使洗凈液1A從池部60溢流，以使洗凈液1A通過嘴構(gòu)件30的回收口24的網(wǎng)狀過濾器25浸透至嘴構(gòu)件30內(nèi)部。但可通過測(cè)量臺(tái)MTB上面的撥液性及液體1的表面張力，而在光學(xué)元件2及嘴構(gòu)件30底面與測(cè)量臺(tái)MTB之間維持液浸區(qū)域AR2。其次，設(shè)使用圖4的噴出裝置62，于步驟303，通過控制部61的控制，關(guān)閉閥64B而打開閥64A，從噴出裝置62經(jīng)管線63A、供應(yīng)流路86及噴射嘴部90，如圖7(C)所示，朝嘴構(gòu)件30的回收口24內(nèi)的網(wǎng)狀過濾器25噴射洗凈液1B。與此同時(shí)，將流入凹部60A內(nèi)的洗凈液1B，經(jīng)回收流路87及圖4的管線63C以回收裝置65加以回收。如此，一邊進(jìn)行從噴射嘴部90噴射洗凈液1B及回收凹部60A內(nèi)的洗凈液1B—邊將圖4的測(cè)量載臺(tái)MST驅(qū)動(dòng)于X方向、Y方向，如圖7(C)所示，使噴射嘴部90沿嘴構(gòu)件30的矩形框狀回收口24及供應(yīng)口13，14相對(duì)移動(dòng)。據(jù)此，將洗凈液1B噴向網(wǎng)狀過濾器25及供應(yīng)口13，14的全面(洗凈步驟)。又，如圖7(D)所示，在測(cè)量臺(tái)MTB上面脫離嘴構(gòu)件30底面的一部分的情形時(shí)，也可以使用圖1的液體回收機(jī)20回收液浸區(qū)域AR2內(nèi)的液體1。其結(jié)果，附著在嘴構(gòu)件30的網(wǎng)狀過濾器25(回收口24)及供應(yīng)口13，14內(nèi)的異物的大部分，即混入或溶至洗凈液1B內(nèi)。且這些異物與洗凈液1B一起被回收至圖4的回收裝置65。此外，也可視需要重復(fù)復(fù)數(shù)次從圖7(A)至圖7(D)的洗凈動(dòng)作。又，也可至少部分的平行實(shí)施圖7(B)的對(duì)液浸區(qū)域AR2的液體1的供應(yīng)及回收動(dòng)作(步驟302)、與圖7(C)的從噴射嘴部90的洗凈液1B的噴射動(dòng)作(步驟303)。再者，也可取代以回收裝置65進(jìn)行的洗凈液1B的回收，或與此并行的進(jìn)行液體回收機(jī)構(gòu)20的洗凈液1B的回收。又，也可于洗凈動(dòng)作中，持續(xù)進(jìn)行對(duì)液浸區(qū)域AR2的液體1的供應(yīng)及回收動(dòng)作。本例的洗凈動(dòng)作的作用及優(yōu)點(diǎn)，整理如下。(Al)如圖7(C)所示，由于洗凈液1B供應(yīng)至嘴構(gòu)件30的回收口24及供應(yīng)口13,14，因此在以液浸法進(jìn)行曝光時(shí)，能將蓄積在嘴構(gòu)件30內(nèi)、或堆積在其表面的至少部分異物與洗凈液1B—起加以去除。此時(shí)，由于預(yù)先或部分地并行形成液浸區(qū)域AR2，因此能容易的剝離并除去附著于嘴構(gòu)件30的異物。此外，能防止因洗凈液的飛散等造成的曝光裝置的污染。因此，能有效率的進(jìn)行液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)10及液體回收機(jī)構(gòu)20的維修(進(jìn)而曝光裝置的維修)或進(jìn)行嘴構(gòu)件30的洗凈。其結(jié)果，于其后的曝光步驟中，由于基板P上的液浸區(qū)域AR2的液體中異物量減少，因此能降低被轉(zhuǎn)印的圖案形狀誤差等，高精度的進(jìn)行曝光。此外，例如圖1中液體的供應(yīng)口13，14與回收口24設(shè)置在不同嘴構(gòu)件的情形時(shí)，可于洗凈步驟中，僅進(jìn)行其中一方嘴構(gòu)件的洗凈。此外，于曝光裝置EX中，可對(duì)以液浸法進(jìn)行曝光時(shí)包含可能接觸液體1的部分(液體接觸部)的至少一部分的被洗凈部，從噴射嘴部90噴射洗凈液。據(jù)此，也能減少其后的曝光時(shí)液體中的異物量。此被洗凈部，并不限于除網(wǎng)狀過濾器25(回收口24)及供應(yīng)口13,14以外的嘴構(gòu)件30的其它液體接觸部，也可以是與嘴構(gòu)件30不同的構(gòu)件、例如光學(xué)元件2等的液體接觸部。(A2)又，由于本例中從噴射嘴90噴射洗凈液1B，因此能有效率的除去附著在嘴構(gòu)件30的異物。又，不使用噴射嘴部90，而從單純的噴出口朝被洗凈部噴出洗凈液1B亦可。此外，為提高例如洗凈液1B的洗凈效果，在從嘴構(gòu)件30噴出洗凈液1B時(shí)，使測(cè)量臺(tái)MTB于X方向、Y方向及Z方向的至少一方向振動(dòng)。前述洗凈條件，也可包含測(cè)量臺(tái)MTB的有無振動(dòng)、及/或振動(dòng)條件。(A3)又，本例中雖是從噴射嘴部90噴射從圖4的噴出裝置62供應(yīng)的洗凈液，但也可將從圖4的噴出裝置62供應(yīng)的洗凈液與氣體的混合物從噴射嘴部90噴射。此時(shí)，能通過該氣泡(空泡，cavitationbubble)提高洗凈效果。此外，也可將氮?dú)獾葰怏w溶至洗凈液中。(A4)又，本例的嘴構(gòu)件30配置成圍繞最接近投影光學(xué)系統(tǒng)PL像面的光學(xué)構(gòu)件2，且于嘴構(gòu)件30的回收口24設(shè)有網(wǎng)狀過濾器25，上述洗凈步驟中將洗凈液1B噴射于網(wǎng)狀過濾器25等。此時(shí)，可對(duì)光學(xué)元件2的下面也噴射洗凈液1B。據(jù)此，也能除去附著于光學(xué)元件2的異物。(A5)又，由于上述洗凈動(dòng)作包含回收從噴射嘴部90噴射的洗凈液1B的動(dòng)作(回收步驟)，因此能將混有異物的洗凈液IB排至外部。本例中，雖是將洗凈液IB的回收機(jī)構(gòu)(含圖4的回收裝置65的機(jī)構(gòu))設(shè)在測(cè)量載臺(tái)MST側(cè)，但也可將該洗凈液的吸引口設(shè)在例如嘴構(gòu)件30的附近。此情形下，能以圖1的液體回收裝置21兼作為從該吸引口吸引洗凈液的裝置，據(jù)此，能簡化測(cè)量載臺(tái)MST(可動(dòng)體)的構(gòu)成。(A6)又，上述實(shí)施方式中，由于液浸曝光用的液體1與洗凈液1B為不同種類，因此能使用溶劑等洗凈效果高的液體來作為洗凈液1B。此外，也可使用液體1來作為洗凈液1B，此時(shí)，能以圖1的液體供應(yīng)部11兼作為圖1的洗凈液供應(yīng)部26及圖4的噴出裝置62的蓄積部62a，能簡化液體及洗凈液的供應(yīng)機(jī)構(gòu)的構(gòu)成。其次，參照?qǐng)D8說明本發(fā)明的其它實(shí)施方式例。本例的曝光裝置基本上與圖1的曝光裝置EX為相同構(gòu)成，但本例的曝光裝置，為洗凈嘴構(gòu)件30設(shè)于圖1的測(cè)量載臺(tái)MST側(cè)的洗凈機(jī)構(gòu)不同。以下，圖8中，與圖4及圖7(A)對(duì)應(yīng)的部分賦予相同符號(hào)并省略詳細(xì)說明。圖8(A)顯示本例的測(cè)量載臺(tái)(參照?qǐng)D1)的測(cè)量臺(tái)MTB及圍繞投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光學(xué)元件2設(shè)置的嘴構(gòu)件30的截面圖，此圖8(A)中，以液浸法進(jìn)行曝光時(shí)，透過嘴構(gòu)件30從圖1的液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)10供應(yīng)液體1并以液體回收機(jī)構(gòu)20回收該液體1，據(jù)而以包含投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光學(xué)元件2及嘴構(gòu)件30的底面與和此對(duì)向的基板(未圖示)表面間的空間的方式，形成液浸空間AR2。圖8(A)中，從測(cè)量臺(tái)本體MTB上面的X方向(掃描方向)中央部至測(cè)量臺(tái)本體的一X方向側(cè)面形成有回收流路87A，于回收流路87A中途設(shè)有防止液體流向上方(+Z方向)逆止閥89。又，在與測(cè)量臺(tái)MTB上面的回收流路87A連通的開口附近形成有凹部60A,于凹部60A的中央部固定噴射嘴部90，凹部60A的底部通過回收流路87B連接于較回收流路87A的逆止閥89上部之處。又，凹部60A內(nèi)的噴射嘴部90底部的液體流入口，經(jīng)由測(cè)量臺(tái)MTB內(nèi)的供應(yīng)流路86、及外部的供應(yīng)管63E連通于用以蓄積液體的圓筒部91。此外，回收流路87A從測(cè)量臺(tái)MTB的側(cè)面經(jīng)由安裝有除塵濾器88的回收管63F連通于圓筒部91。于圓筒部91安裝以通過未圖標(biāo)的驅(qū)動(dòng)部進(jìn)行抽送的活塞部92，通過活塞部92的抽吸能經(jīng)由回收管63F將液浸區(qū)域AR2的液體1蓄積至圓筒部91內(nèi)，通過活塞部92的壓送能將圓筒部91內(nèi)的液體1經(jīng)由供應(yīng)管63E從噴射嘴部90向上方噴射(噴出)。因此，液體1的蓄積機(jī)構(gòu)包含回收流路87A、逆止閥89、回收管63F、圓筒部91、活塞部92、及此驅(qū)動(dòng)部(未圖標(biāo))而構(gòu)成，而液體l的噴出機(jī)構(gòu)則包含噴射嘴部90、供應(yīng)流路86、供應(yīng)管63E、圓筒部91、活塞部92、及此驅(qū)動(dòng)部(未圖標(biāo))而構(gòu)成。本例的洗凈機(jī)構(gòu)包含該蓄積機(jī)構(gòu)及噴出裝置而構(gòu)成。又，本例中，包含該回收管63F、圓筒部91、活塞部92的液體1的蓄積機(jī)構(gòu)，與回收流路87B—起也用作為從噴射嘴部90噴射、流入凹部60A內(nèi)的液體的回收機(jī)構(gòu)。此外，本例中，也可在例如供應(yīng)管63E與圓筒部91之間設(shè)置控制液體1的溫度的溫度控制部，以控制從噴射嘴部90噴射的液體溫度。再者，也可在例如供應(yīng)管63E與圓筒部91之間設(shè)置于液體1中混入(或溶入)空氣等氣體的混合部，以在從噴射嘴部90噴射的液體中混入氣體(氣泡)。進(jìn)一步的，也可從噴射嘴部90噴射于液體1混入了例如稀釋劑、或IPA等溶劑的洗凈液。又，本例的洗凈機(jī)構(gòu)并不限于上述構(gòu)成。其次，參照?qǐng)D8(A)及8(B)，說明在進(jìn)行例如圖1的液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)IO及液體回收機(jī)構(gòu)20的維修時(shí)，使用本例的洗凈機(jī)構(gòu)進(jìn)行圖1的嘴構(gòu)件30的洗凈時(shí)的一動(dòng)作例。首先，如圖8(A)所示，在停止曝光用光EL的照射的狀態(tài)下驅(qū)動(dòng)測(cè)量載臺(tái)MST，將測(cè)量臺(tái)MTB的回收流路87A的開口移動(dòng)至投影光學(xué)系統(tǒng)PL底面(移動(dòng)步驟)。在此狀態(tài)下，圓筒部91的活塞部92被壓至極限，圓筒部91內(nèi)無液體1的蓄積。接著，以和使用液浸法的曝光時(shí)同樣的(但不照射曝光用光EL)，從圖1的液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)10通過嘴構(gòu)件30的供應(yīng)口13，14，將液體1供應(yīng)至的光學(xué)元件2及圍繞此的嘴構(gòu)件30底面與測(cè)量臺(tái)MTB上面之間，形成液浸區(qū)域AR2(液浸步驟)。然后，將圓筒部91的活塞部92逐漸抽至極限，將液浸區(qū)域AR2內(nèi)的液體1經(jīng)由回收流路87A及回收管63F蓄積至圓筒部91內(nèi)(蓄積步驟)。此時(shí)，從圖1的液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)10,供應(yīng)圓筒部91的容量以上的液體l。其次，如圖8(B)所示，逐漸推壓圓筒部91的活塞部92，將蓄積在圓筒部91內(nèi)的液體1經(jīng)供應(yīng)管63E、供應(yīng)流路86、及噴射嘴部90朝嘴構(gòu)件30的回收口24內(nèi)的網(wǎng)狀過濾器25噴射。然后，一邊進(jìn)行此噴射嘴部90的液體1的噴射，一邊將圖4的測(cè)量載臺(tái)MST驅(qū)動(dòng)于X方向、Y方向，如圖8(B)所示，據(jù)以使噴射嘴部90沿嘴構(gòu)件30的矩形框狀的回收口24及供應(yīng)口13,14相對(duì)移動(dòng)。如此，將液體1噴射于網(wǎng)狀過濾器25及供應(yīng)口13，14的大致全面(洗凈步驟)。此場(chǎng)合，由于設(shè)有逆止閥89，因此液體l不致逆流至回收流路87A內(nèi)。當(dāng)進(jìn)行至中途圓筒部91內(nèi)的液體1變少時(shí)，如圖8(A)所示，可從圖1的液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)10透過嘴構(gòu)件30將液體1供應(yīng)至液浸區(qū)域AR2，抽拉活塞部92將液體1補(bǔ)充至圓筒部91內(nèi)。此時(shí)，流入凹部60A內(nèi)的液體也被回收。之后，通過活塞部92的壓送，能再從噴射嘴部90噴射液體1。其結(jié)果，附著在嘴構(gòu)件30的網(wǎng)狀過濾器25(回收口24)及供應(yīng)口13,14內(nèi)的異物的大部分，即混入或溶至液體1內(nèi)。且能將這些異物與液體1一起回收至圖8(A)的圓筒部91內(nèi)。又，可通過定期更換除塵濾器88、或于圓筒部91設(shè)置排水用閥，視需要將圓筒部91內(nèi)的液體排出至外部，據(jù)以防止異物混入從噴射嘴部90噴射的液體中。本例的洗凈動(dòng)作的作用等整理如下。(A7)用以洗凈嘴構(gòu)件30的洗凈液，是使用從圖1的液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)10透過嘴構(gòu)件30供應(yīng)至液浸區(qū)域AR2的液體1。因此能簡化洗凈液的供應(yīng)機(jī)構(gòu)。又，由于與預(yù)先將液體l供應(yīng)至液體接觸部的狀況相當(dāng)，因此能有效率的除去附著在嘴構(gòu)件30內(nèi)的異物。因此，能有效率的進(jìn)行液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)10及液體回收機(jī)構(gòu)20的維修(進(jìn)而曝光裝置的維修)或嘴構(gòu)件30的洗凈。又，本例的曝光裝置EX，也可對(duì)包含液體接觸部的至少一部分的被洗凈部，從噴射嘴部90噴射洗凈液。據(jù)此，也能減少其后的曝光時(shí)液體中的異物量。此被洗凈部，并不限于除網(wǎng)狀過濾器25(回收口24)及供應(yīng)口13,14以外的嘴構(gòu)件30的其它液體接觸部，也可以是與嘴構(gòu)件30不同的構(gòu)件、例如光學(xué)元件2等的液體接觸部。(A8)如圖8(A)所示，由于本例中是從噴射嘴90噴射液體1，因此能獲得高^凈效果。又，不使用噴射嘴部90，而使用單純的噴出液體1的構(gòu)件亦可。(A9)如圖8(A)所示，由于本例在回收流路87A中設(shè)有逆止閥89，因此可將圓筒部91及活塞部92兼作為液體1蓄積機(jī)構(gòu)及噴出裝置。又，也可取代逆止閥89，設(shè)法例如用以關(guān)閉回收管63F的閥。此外，也可將圓筒部91及活塞部92就蓄積機(jī)構(gòu)及噴出裝置個(gè)別設(shè)置。此情形下，例如將該2個(gè)圓筒部透過逆止閥加以連結(jié)，即能至少部分的平行實(shí)施上述液體1的蓄積步驟與使用液體1的洗凈步驟。又，也可將液體1的噴出機(jī)構(gòu)設(shè)置在測(cè)量載臺(tái)MST上。此場(chǎng)合，舉一例而言，可于圖8(A)中，在測(cè)量臺(tái)MTB上裝載噴出液體1的小型泵，連續(xù)的反復(fù)進(jìn)行從圖1的液體供應(yīng)機(jī)構(gòu)10經(jīng)圖8(A)的供應(yīng)口13,14供應(yīng)液體1，將供應(yīng)的液體1以該小型泵噴出至嘴構(gòu)件30的底面等(液體接觸部的至少一部分)的動(dòng)作。此外，也可使在測(cè)量臺(tái)MTB上噴出的液體1循環(huán)再加以噴出。此種在測(cè)量臺(tái)MTB上設(shè)置小型泵的構(gòu)成，可將載臺(tái)機(jī)構(gòu)全體小型化。又，上述實(shí)施方式中，雖移動(dòng)測(cè)量載臺(tái)MST來相對(duì)移動(dòng)噴射洗凈液1B或液體1的噴射嘴部90與嘴構(gòu)件30，但也可將嘴構(gòu)件30作成可動(dòng)，在靜止的測(cè)量載臺(tái)MST(或基板載臺(tái)PST)上相對(duì)移動(dòng)噴射嘴部90與嘴構(gòu)件30。此場(chǎng)合，也可移動(dòng)嘴構(gòu)件30與測(cè)量載臺(tái)MST的雙方。再者，也可取代嘴構(gòu)件30與測(cè)量載臺(tái)MST的相對(duì)移動(dòng)、或與此組合使液浸區(qū)域AR2的液體振動(dòng)，以提高洗凈效果。使液體振動(dòng)的構(gòu)件，可使用例如壓電陶瓷(鈦酸鋇系或鋯鈦酸鉛系(所謂的PZT)等)或肥粒鐵振動(dòng)器(磁致伸縮振動(dòng)器)等的超音波振動(dòng)器。此場(chǎng)合，可至少部分的平行實(shí)施液浸區(qū)域AR2的液體的振動(dòng)與洗凈液1B或液體1的噴出，也可在洗凈液1B或液體1的噴出前先使液浸區(qū)域AR2的投影光學(xué)系統(tǒng)PL振動(dòng)。又，上述實(shí)施方式雖是在洗凈動(dòng)作時(shí)以液體1形成液浸區(qū)域AR2，但也可使用與液浸曝光用液體不同的液體、例如從洗凈液供應(yīng)部26或前述洗凈機(jī)構(gòu)供應(yīng)的洗凈液來形成液浸區(qū)域AR2。此場(chǎng)合，可噴出與液浸區(qū)域AR2的洗凈液同一種類的洗凈液，也可噴出不同種類的洗凈液或液浸曝光用液體。此外，上述實(shí)施方式雖是在洗凈動(dòng)作時(shí)形成液浸區(qū)域AR2，但也可不形成此液浸區(qū)域AR2而進(jìn)行液體接觸部的洗凈。此場(chǎng)合，可配置抑制或防止撞擊液體接觸部的液體飛散的構(gòu)件、或形成圍繞液體接觸部的洗凈對(duì)象區(qū)域的氣體障壁(gasbarrier)。此外，上述實(shí)施方式中雖然洗凈機(jī)構(gòu)是采用液體噴出方式，但若洗凈機(jī)構(gòu)是變更洗凈條件時(shí)，可采用與液體噴出方式不同的洗凈方式的洗凈機(jī)構(gòu)。再者，上述實(shí)施方式雖是以與液浸曝光用液體1接觸的液體接觸部為洗凈對(duì)象，但若有需要，也可將不與液體1接觸的部分作為洗凈對(duì)象。又，上述實(shí)施方式中，可將設(shè)于嘴構(gòu)件30的回收口24的網(wǎng)狀過濾器25作成可更換。此外，設(shè)于回收口24等的多孔構(gòu)件若為網(wǎng)狀過濾器25(網(wǎng)眼狀過濾構(gòu)件)時(shí)，能有效率的除去異物，且容易的洗凈附著的異物。然而，設(shè)于回收口24等的多孔構(gòu)件并不限定于網(wǎng)狀過濾器25。B卩，可取代網(wǎng)狀過濾器25，而使用由海棉等構(gòu)成的多孔構(gòu)件、或具備可更換的匣式過濾器(陶瓷過濾器等)的多孔構(gòu)件等。又，多孔構(gòu)件的設(shè)置位置并不限于回收口24等。又，將嘴件30內(nèi)的網(wǎng)狀過濾器25(其它多孔構(gòu)件的情形亦同)作成可更換的情形時(shí)，在將附著了異物的網(wǎng)狀過濾器25更換為未使用(或經(jīng)洗凈)的網(wǎng)狀過濾器時(shí)，最好是能先以例如圖1的控制裝置CONT驅(qū)動(dòng)液體回收機(jī)構(gòu)20，將包含圖3的嘴構(gòu)件30內(nèi)的供應(yīng)流路82A,82B及回收流路84的液體1的流路中的液體1全部排出。如此，即能防止網(wǎng)狀過濾器25的更換時(shí)，從網(wǎng)狀過濾器25溶析至晶片W液體1中的異物殘留在嘴構(gòu)件30內(nèi)。又，上述實(shí)施方式中，測(cè)量載臺(tái)MST除洗凈機(jī)構(gòu)外，也具備上述復(fù)數(shù)測(cè)量器的至少一個(gè)及基準(zhǔn)標(biāo)記來作為測(cè)量構(gòu)件，但搭載于測(cè)量載臺(tái)MST的測(cè)量構(gòu)件的種類及/或數(shù)量等并不限于此。也可設(shè)置例如測(cè)量投影光學(xué)系統(tǒng)PL的透射率的透射率測(cè)量器等來作為測(cè)量構(gòu)件。再者，也可僅將上述測(cè)量器或僅將其一部分設(shè)于測(cè)量載臺(tái)MST，而將其它部分設(shè)于測(cè)量載臺(tái)MST外部。再者，也可將至少一個(gè)測(cè)量構(gòu)件設(shè)于基板載臺(tái)PST。又,上述實(shí)施方式中，雖是將洗凈機(jī)構(gòu)的至少一部分設(shè)于測(cè)量載臺(tái)MST，但也可將洗凈機(jī)構(gòu)的至少一部分設(shè)于與測(cè)量載臺(tái)MST分開獨(dú)立的可動(dòng)載臺(tái)(可動(dòng)構(gòu)件、可動(dòng)體)。此可動(dòng)載臺(tái)可以是基板載臺(tái)PST、也可以與基板載臺(tái)PST不同。此場(chǎng)合，例如，可通過與基板載臺(tái)PST的更換將該可動(dòng)載臺(tái)與投影光學(xué)系統(tǒng)PL配向配置，以在例如基板P的更換時(shí)等，維持前述液浸區(qū)域AR2。又，上述各實(shí)施方式中，雖使用干涉儀系統(tǒng)(56A56C)來測(cè)量光掩膜載臺(tái)RST、基板載臺(tái)PST、及測(cè)量載臺(tái)MST的各位置信息，但并不限于此，例如也可使用供檢測(cè)設(shè)于各載臺(tái)的標(biāo)尺(繞射光柵)的編碼器系統(tǒng)。此場(chǎng)合，以混合干涉儀系統(tǒng)與編碼器系統(tǒng)的雙方的混合系統(tǒng)，使用干涉儀系統(tǒng)的測(cè)量結(jié)果來進(jìn)行編碼器系統(tǒng)測(cè)量結(jié)果的校正(calibmtion)較佳。此外，也可切換使用干涉儀系統(tǒng)與編碼器系統(tǒng)、或使用雙方來進(jìn)行載臺(tái)的位置控制。又，上述各實(shí)施方式中可將基板保持具PH與基板載臺(tái)PST形成為一體，也可分別構(gòu)成基板保持具PH與基板載臺(tái)PST，例如通過真空吸附等方式將基板保持具PH固定于基板載臺(tái)PST。此外，本發(fā)明也可適用于將各種測(cè)量器類搭載于基板載臺(tái)PST的曝光裝置(不具備測(cè)量載臺(tái)MST的曝光裝置)。又，各種測(cè)量器類可僅將其一部分搭載于測(cè)量載臺(tái)MST或基板載臺(tái)，其余則設(shè)在外部或其它構(gòu)件。這些情形中，可將例如包含圖4的噴射嘴部90的洗凈機(jī)構(gòu)設(shè)于基板載臺(tái)PST側(cè)。此外，上述實(shí)施方式中曝光用光EL的照射區(qū)域(含前述照明區(qū)域、投影區(qū)域AR1)雖為矩形，但并不限于此，也可以是例如弧形等。又，照射區(qū)域(AR1等)雖是設(shè)定在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的視野內(nèi)包含光軸AX，但不限于此，也可設(shè)定為不包含光軸而呈偏心。又，半導(dǎo)體元件等的微元件，如圖9(B)所示，經(jīng)微元件的功能、性能設(shè)計(jì)步驟201，根據(jù)此設(shè)計(jì)步驟制作光掩膜(標(biāo)線片)的步驟202，制造基板(元件的基材)的步驟203，包含使用前述實(shí)施方式的曝光裝置EX將光掩膜的圖案曝光至基板的制造工藝、將曝光后的基板予以顯影的制造工藝、顯影后基板的加熱及刻蝕制造工藝等的基板處理步驟204，元件組裝步驟205(包含切割制造工藝、結(jié)合制造工藝、封裝制造工藝等的加工制造工藝)，并經(jīng)檢查步驟206等加以制造。又，上述各實(shí)施方式的基板P，除了半導(dǎo)體元件制造用的半導(dǎo)體晶片以外，也能適用于顯示器元件用的玻璃基板、薄膜磁頭用的陶瓷晶片、或在曝光裝置所使用的光掩膜或標(biāo)線片的原版(合成石英、硅晶片)、以及薄片狀構(gòu)件等。此外，基板P的形狀并限于圓形，也可以是矩形等的其它形狀。又，上述各實(shí)施方式中，雖是使用形成有轉(zhuǎn)印圖案的光掩膜，但也可取代此光掩膜，而使用例如美國專利第6,778,257號(hào)說明書所揭示，根據(jù)待曝光圖案的電子數(shù)據(jù)來形成透射圖案或反射圖案的電子光掩膜。此電子光掩膜，包含被稱為可變成形光掩膜(主動(dòng)式光掩膜或影像產(chǎn)生器)，例如非發(fā)光型影像顯示元件(空間光調(diào)變器)的一種的DMD(DigitalMicro—mirrorDevice)等。DMD具有根據(jù)既定電子數(shù)據(jù)驅(qū)動(dòng)的復(fù)數(shù)個(gè)反射元件(微小面鏡)，復(fù)數(shù)個(gè)反射元件于DMD表面排列成2維矩陣狀，且以像素單位被驅(qū)動(dòng)而反射、偏向曝光用光。各反射元件可調(diào)整其反射面角度。DMD的動(dòng)作可通過控制裝置CONT加以控制?？刂蒲b置CONT，根據(jù)與待形成至基板P上的圖案對(duì)應(yīng)的電子數(shù)據(jù)(圖案信息)驅(qū)動(dòng)DMD的反射元件，將照明系統(tǒng)IL所照射的曝光用光以反射元件加以圖案化。通過DMD的使用，與使用形成有圖案的光掩膜(標(biāo)線片)進(jìn)行曝光的情形相較，在圖案變更時(shí)，由于不須要光掩膜更換作業(yè)及在光掩膜載臺(tái)的光掩膜位置對(duì)準(zhǔn)操作，因此能更為有效率的進(jìn)行曝光動(dòng)作。此外，使用電子光掩膜的曝光裝置，可不設(shè)置光掩膜載臺(tái)，而僅通過基板載臺(tái)使基板移動(dòng)于X軸及Y軸方向。又，使用DMD的曝光裝置除上述美國專利外，也揭示于例如日本特開平8—313842號(hào)公報(bào)、特開2004—304135號(hào)公報(bào)。在指定國及選定國的國內(nèi)法許可范圍內(nèi)，援用美國專利第6,778,257號(hào)公報(bào)等的揭示作為本文記載的一部分。又，作為曝光裝置EX，除了使光掩膜M與基板P同步移動(dòng)以掃描曝光光掩膜M的圖案的步進(jìn)掃描方式的掃描型曝光裝置(掃描步進(jìn)器)之外，也能適用于在光掩膜M與基板P靜止的狀態(tài)下使光掩膜M的圖案一次曝光，并依序步進(jìn)移動(dòng)基板P的步進(jìn)重復(fù)方式的投影曝光裝置(步進(jìn)器)。作為曝光裝置EX的種類，并不限于將半導(dǎo)體元件圖案曝光至基板P的半導(dǎo)體元件制造用的曝光裝置，也能廣泛的適用于液晶顯示元件制造用或顯示器制造用的曝光裝置，或用以制造薄膜磁頭、微機(jī)器、MEMS、DNA芯片、攝影元件(CCD)，或標(biāo)線片、光掩膜等的曝光裝置等。又，本發(fā)明也能適用于例如特開平IO—163099號(hào)公報(bào)、特開平IO—214783號(hào)公報(bào)(對(duì)應(yīng)美國專利第6,341,007號(hào)、第6,400,441號(hào)、第6,549,269號(hào)及第6，590，634號(hào)說明書)、特表2000—505958號(hào)公報(bào)(對(duì)應(yīng)美國專利第5,969,441號(hào)說明書)或美國專利第6，208，407號(hào)說明書等所揭示的具備復(fù)數(shù)個(gè)基板載臺(tái)的多載臺(tái)型曝光裝置。此場(chǎng)合，是對(duì)復(fù)數(shù)個(gè)基板載臺(tái)分別實(shí)施洗凈。關(guān)于多載臺(tái)型曝光裝置，在指定國及選定國的國內(nèi)法許可范圍內(nèi)，援用上述美國專利等的揭示作為本說明書記載的一部分。又，上述各實(shí)施方式的投影光學(xué)系統(tǒng)，雖是將前端光學(xué)元件像面?zhèn)鹊墓饴房臻g(液浸空間)充滿液體，但也可采用例如國際公開第2004/019128號(hào)小冊(cè)子所揭示的將前端光學(xué)元件的光掩膜側(cè)光路空間也以液體充滿的投影光學(xué)系統(tǒng)。此外，本發(fā)明也能適用于將投影光學(xué)系統(tǒng)與基板間的液浸區(qū)域以其周圍的氣簾(aircurtain)來加以保持的液浸型曝光裝置。又，本發(fā)明也能適用于例如國際公開第2001/035168號(hào)小冊(cè)子所揭示的通過在基板上形成干涉條紋，以在基板上形成線與空間圖案(line&spacepattem)的曝光裝置。此場(chǎng)合，也透過光學(xué)構(gòu)件與基板P間的液體對(duì)基板P照射曝光用光。再者，本發(fā)明也能適用于例如日本特表2004—519850號(hào)公報(bào)(對(duì)應(yīng)美國專利第6，611，316號(hào))的揭示，將2個(gè)光掩膜圖案透過投影光學(xué)系統(tǒng)合成在基板上，通過一次掃描曝光使基板上的一個(gè)照射區(qū)域大致同時(shí)雙重曝光的曝光裝置。上述各實(shí)施方式及變形例中，不須將液體供應(yīng)部及/或液體回收部設(shè)于曝光裝置，而可代的以例如曝光裝置設(shè)置工廠等的設(shè)備。又，液浸曝光所需的曝光裝置及附屬設(shè)置的構(gòu)造，不限于上述構(gòu)造，也可使用例如歐洲專利公開第1420298號(hào)公報(bào)、國際公開第2004/055803號(hào)小冊(cè)子、國際公開第2004/057590號(hào)小冊(cè)子、國際公開第2005/029559小冊(cè)子(對(duì)應(yīng)美國專利公開第2006/0231206號(hào))、國際公開第2004/086468小冊(cè)子(對(duì)應(yīng)美國專利公開第2005/0280791號(hào))、特開2004—289126號(hào)公報(bào)(對(duì)應(yīng)美國專利第6,952,253號(hào))等所記載者。關(guān)于液浸曝光裝置的液浸機(jī)構(gòu)及其附屬機(jī)器，在指定國及選定國的國內(nèi)法許可范圍內(nèi)，援用上述美國專利或美國專利公開等的揭示作為本說明書記載的一部分。上述實(shí)施方式中，作為液浸法所使用的液體1，可使用對(duì)曝光用光的折射率高于水，例如折射率為1.61.8程度者。此處，作為折射率高于純水(例如1.5以上)的液體1，例如有折射率約1.50的異丙醇(Isopmpanol)、折射率約1.61的丙三醇(Glyceml)等具有C一H鍵、O—H鍵的既定液體，己烷、庚烷、癸垸等的既定液體(有機(jī)溶劑)、折射率約1.60的十氫奈(Decalin:Decahydronaphthalene)等。或者，液體1也可以是這些既定液體中任意2種類以上液體的混合物，或于純水中添加(混合)上述液體亦可。再者，作為液體1，也可以是于純水中添加(混合)H+、Cs+、K+、Cl+、S042—、P042—等堿或酸者。進(jìn)一步的，也可以是于純水中添加(混合)A1氧化物等的微粒子者。又，作為液體1，以光的吸收系數(shù)小、溫度依存性少、且對(duì)投影光學(xué)系統(tǒng)PL、及/或基板P表面所涂的感光材(及面涂膜或反射防止膜等)安定者較佳。作為液體l，也可使用超臨界流體。此外，可于基板P設(shè)置隔離液體以保護(hù)感光材及基材的面涂層膜等。又，也可取代氟化鈣(螢石)，而以例如石英(二氧化硅)、或氟化鋇、氟化鍶、氟化鋰、氟化鎂等的氟化合物的單結(jié)晶材料來形成投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光學(xué)元件(終端光學(xué)元件)2，或以折射率(例如1.6以上)高于石英及螢石的材料來形成。作為折射率1.6以上的材料，例如，可如國際公開第2005/059617號(hào)小冊(cè)子所揭示，使用藍(lán)寶石、二氧化鍺等，或者，也可如國際公開第2005/059618號(hào)小冊(cè)子所揭示，使用氯化鉀(折射率約1.75)等。使用液浸法的情形，可例如國際公開第2004/019128號(hào)小冊(cè)子(對(duì)應(yīng)美國專利公開第2005/0248856號(hào))所揭示的，除終端光學(xué)元件像面?zhèn)鹊墓饴吠?，也將終端光學(xué)元件的物體面?zhèn)裙饴芬砸后w充滿。再者，也可于終端光學(xué)元件表面的一部分(至少包含與液體的接觸面)或全部，形成具有親液性及/或溶解防止功能的薄膜。此外，石英雖與液體的親和性高，且也不須需溶解防止膜，但若是石英的話至少形成溶解防止膜較佳。上述各實(shí)施方式中，雖是使用ArF準(zhǔn)分子激光來作為曝光用光EL的光源，也可如國際公開第1999/46835號(hào)小冊(cè)子(對(duì)應(yīng)美國專利7,023,610號(hào))所揭示，使用包含DFB半導(dǎo)體激光或光纖激光等固體激光光源、光纖放大器等的光放大部、以及波長轉(zhuǎn)換部等，輸出波長193nm的脈沖光的高諧波產(chǎn)生裝置。此外，上述實(shí)施方式中，投影區(qū)域(曝光區(qū)域)雖為矩形，但也可以是例如圓弧形、梯形、平行四邊形、或菱形等其它形狀。如以上所述，本案實(shí)施方式的曝光裝置EX，是將包含本案申請(qǐng)專利范圍所舉的各構(gòu)成要素的各種子系統(tǒng)，以能保持既定機(jī)械精度、電氣精度、光學(xué)精度的方式，加以組裝制造。為確保上述各種精度，于此組裝的前后，對(duì)各種光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行用以達(dá)成光學(xué)精度的調(diào)整，對(duì)各種機(jī)械系統(tǒng)進(jìn)行用以達(dá)成機(jī)械精度的調(diào)整，對(duì)各種電氣系統(tǒng)則進(jìn)行用達(dá)成各種電氣精度的調(diào)整。各種子系統(tǒng)組裝至曝光裝置的步驟，包含各種子系統(tǒng)彼此間的機(jī)械連接、電氣回路的連接、氣壓回路的連接等。此各種子系統(tǒng)組裝至曝光裝置的步驟前，當(dāng)然有各個(gè)子系統(tǒng)的組裝步驟。各種子系統(tǒng)組裝至曝光裝置的步驟結(jié)束后，即進(jìn)行綜合調(diào)整，以確保曝光裝置全體的各種精度。又，曝光裝置的制造以在溫度及清潔度等受到管理的無塵室中進(jìn)行較佳。關(guān)于本案說明書所揭示的各種美國專利及美國專利申請(qǐng)公開等，除特別表示援用外，在指定國及選定國的國內(nèi)法許可范圍內(nèi)，亦援用該等的揭示作為本文的一部分。本發(fā)明并不限定于上述實(shí)施方式，在不脫離本發(fā)明要旨范圍內(nèi)當(dāng)然可以有各種構(gòu)成。此外，包含
發(fā)明內(nèi)容、申請(qǐng)專利范圍、圖式及摘要的2006年6月30日提出的日本特愿2006—182561的所有揭示內(nèi)容，完全引用于本案說明書中。根據(jù)本發(fā)明，由于能有效率的進(jìn)行以液浸法進(jìn)行曝光的曝光裝置的維修，因此可減少其后的曝光時(shí)液浸區(qū)域的液體中的異物量，以高精度制造元件。權(quán)利要求1.一種維修方法，用以維修曝光裝置，所述曝光裝置以第1液體充滿光學(xué)構(gòu)件與基板之間以形成液浸空間，透過所述光學(xué)構(gòu)件與所述第1液體以曝光用光使所述基板曝光，所述維修方法包含移動(dòng)步驟，與使用所述第1液體形成所述液浸空間的液浸空間形成構(gòu)件對(duì)向配置可動(dòng)體；液浸步驟，使用所述液浸空間形成構(gòu)件于所述可動(dòng)體上形成所述第1液體所構(gòu)成的所述液浸空間；以及洗凈步驟，為進(jìn)行與所述第1液體接觸的液體接觸部的洗凈，從所述可動(dòng)體側(cè)朝包含所述液體接觸部至少一部分的區(qū)域噴出第2液體。2.如權(quán)利要求1所述的維修方法，其中，至少局部的平行實(shí)施所述液浸步驟與所述洗凈步驟。3.如權(quán)利要求1或2所述的維修方法，其中，所述洗凈步驟，是從噴射嘴噴射所述第2液體。4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，所述洗凈步驟，是于所述第2液體混合氣體后噴出。5.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，所述維修方法具有回收所述第2液體的回收步驟。6.如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，所述第1液體與所述第2液體不同。7.如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，所述第2液體包含所述第1液體。8.如權(quán)利要求7所述的維修方法，其中，所述第2液體是于所述第1液體混入氣體或溶劑而成。9.如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，所述第1液體與所述第2液體相同。10.如權(quán)利要求7至9中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，所述第1液體是透過所述液浸空間形成構(gòu)件被供應(yīng)至所述可動(dòng)體側(cè)。11.一種維修方法，用以維修曝光裝置，所述曝光裝置系以第l液體充滿光學(xué)構(gòu)件與基板之間以形成液浸空間，透過所述光學(xué)構(gòu)件與所述第1液體以曝光用光使所述基板曝光，所述維修方法包含移動(dòng)步驟，與使用所述第1液體形成所述液浸空間的液浸空間形成構(gòu)件對(duì)向配置可動(dòng)體；蓄積步驟，使用所述液浸空間形成構(gòu)件將所述第1液體供應(yīng)至所述可動(dòng)體上，并蓄積此供應(yīng)的所述第1液體；以及洗凈步驟，為進(jìn)行與所述第1液體接觸的液體接觸部的洗凈，將于所述蓄積步驟中蓄積的所述第1液體朝包含所述液體接觸部至少一部分的區(qū)域噴出。12.如權(quán)利要求11所述的維修方法，其中，所述洗凈步驟，是將所述蓄積步驟中蓄積的所述第1液體從噴射嘴噴出。13.如權(quán)利要求11或12所述的維修方法，其中，至少局部的平行實(shí)施所述蓄積步驟與所述洗凈步驟。14.如權(quán)利要求1至13中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，所述洗凈步驟，是至少洗凈所述液浸空間形成構(gòu)件的所述第1液體通過口。15.如權(quán)利要求14所述的維修方法，其中，所述液浸空間形成構(gòu)件至少具有所述第1液體的供應(yīng)口及回收口的至少一方，所述通過口包含所述供應(yīng)口及所述回收口的至少一方。16.如權(quán)利要求1至15中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，所述洗凈步驟，是至少洗凈所述液浸空間形成構(gòu)件的多孔構(gòu)件。17.如權(quán)利要求16所述的維修方法，其中，所述多孔構(gòu)件是設(shè)在所述液浸空間形成構(gòu)件的所述第1液體的回收口或回收流路。18.如權(quán)利要求1至17中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，所述液浸空間形成構(gòu)件配置成圍繞所述光學(xué)構(gòu)件。19.如權(quán)利要求18所述的維修方法，其中，所述曝光裝置具有投影光學(xué)系統(tǒng)，所述投影光學(xué)系統(tǒng)中所述光學(xué)構(gòu)件配置于最接近像面。20.—種維修方法，用以維修曝光裝置，所述曝光裝置透過光學(xué)構(gòu)件與第1液體以曝光用光使基板曝光，其中，具有與所述第1液體接觸的液體接觸部，且與在所述光學(xué)構(gòu)件與所述基板之間保持所述第1液體的嘴構(gòu)件對(duì)向配置可動(dòng)體，使用透過所述嘴構(gòu)件供應(yīng)至所述可動(dòng)體的第2液體來洗凈所述液體接觸部。21.如權(quán)利要求20所述的維修方法，其中，從所述可動(dòng)體噴出所述第2液體以洗凈所述液體接觸部。22.如權(quán)利要求20或21所述的維修方法，其中，于所述洗凈時(shí)，在所述光學(xué)構(gòu)件與所述可動(dòng)體之間形成液浸區(qū)域。23.如權(quán)利要求22所述的維修方法，其中，所述液浸區(qū)域以所述第2液體形成。24.如權(quán)利要求20至23中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，蓄積供應(yīng)至所述可動(dòng)體的第2液體，將所述蓄積的第2液體朝向所述液體接觸部。25.—種維修方法，用以維修曝光裝置，所述曝光裝置透過光學(xué)構(gòu)件與第1液體以曝光用光使基板曝光，其中，與在所述光學(xué)構(gòu)件與所述基板之間保持所述第1液體的嘴構(gòu)件對(duì)向配置可動(dòng)體，根據(jù)與所述第1液體接觸的所述液體接觸部相關(guān)的信息，設(shè)定以所述第2液體洗凈所述液體接觸部的洗凈條件。26.如權(quán)利要求25所述的維修方法，其中，所述信息包含與所述液體接觸部的洗凈對(duì)象區(qū)域的位置與狀態(tài)中至少一方相關(guān)的信息。27.如權(quán)利要求26所述的維修方法，其中，所述信息包含與所述洗凈對(duì)象區(qū)域的污染相關(guān)的信息。28.如權(quán)利要求25至27中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，所述洗凈條件可視所述信息變動(dòng)。29.如權(quán)利要求25至28中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，所述洗凈條件包含所述第2液體的特性。30.如權(quán)利要求25至29中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，所述第2液體朝向所述液體接觸部噴出，所述洗凈條件包含所述第2液體的噴出條件。31.如權(quán)利要求20至30中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，所述第2液體包含所述第1液體。32.如權(quán)利要求31所述的維修方法，其中，所述第2液體于所述第1液體混入氣體或溶劑而成。33.如權(quán)利要求20至31中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，所述第2液體與所述第1液體相同。34.如權(quán)利要求20至31中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，所述第2液體與所述第l液體不同。35.如權(quán)利要求20至34中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，至少洗凈所述嘴構(gòu)件中所述第1液體的通過口。36.如權(quán)利要求20至35中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，所述嘴構(gòu)件具有所述第1液體的供應(yīng)口及回收口的至少一方，洗凈所述供應(yīng)口及所述回收口的至少一方。37.如權(quán)利要求20至36中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，至少洗凈所述嘴構(gòu)件的液體接觸部中的多孔構(gòu)件。38.如權(quán)利要求37所述的維修方法，其中，所述多孔構(gòu)件設(shè)在所述嘴構(gòu)件的所述第1液體的回收口或回收流路。39.如權(quán)利要求20至38中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，所述維修方法還進(jìn)行與所述嘴構(gòu)件相異的與所述第1液體的液體接觸部的洗凈。40.如權(quán)利要求39所述的維修方法，其中，與所述嘴構(gòu)件相異的液體接觸部至少包含所述光學(xué)構(gòu)件。41.如權(quán)利要求20至40中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，所述嘴構(gòu)件圍繞所述光學(xué)構(gòu)件配置，所述曝光裝置具有投影光學(xué)系統(tǒng)，所述投影光學(xué)系統(tǒng)中所述光學(xué)構(gòu)件配置于最接近像面。42.如權(quán)利要求1至41中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，所述液體接觸部包含對(duì)所述第1液體具親液性的區(qū)域。43.如權(quán)利要求1至42中任一項(xiàng)所述的維修方法，其中，所述可動(dòng)體與能保持所述基板的可動(dòng)體不同。44.一種曝光方法，透過光學(xué)構(gòu)件與第1液體以曝光用光使基板曝光，其中，具有使用權(quán)利要求1至43中任一項(xiàng)所述的維修方法的步驟。45.—種曝光方法，透過光學(xué)構(gòu)件與第1液體以曝光用光使基板曝光，其中，具有與所述第1液體接觸的液體接觸部，且與在所述光學(xué)構(gòu)件與所述基板之間保持所述第1液體的嘴構(gòu)件對(duì)向配置可動(dòng)體，并包含使用經(jīng)所述嘴構(gòu)件供應(yīng)至所述可動(dòng)體的第2液體洗凈所述液體接觸部的動(dòng)作。46.—種曝光方法，透過光學(xué)構(gòu)件與第1液體以曝光用光使基板曝光，其中，包含與在所述光學(xué)構(gòu)件與所述基板之間保持所述第1液體的嘴構(gòu)件對(duì)向配置可動(dòng)體，并包含根據(jù)與所述第1液體接觸的所述液體接觸部相關(guān)的信息，設(shè)定以所述第2液體洗凈所述液體接觸部的洗凈條件。47.—種元件制造方法，其包含使用申請(qǐng)專利范圍44至46中任一項(xiàng)所述的曝光方法使基板曝光的動(dòng)作；以及使所述曝光后基板顯影的動(dòng)作。48.—種曝光裝置，以第l液體充滿光學(xué)構(gòu)件與基板之間以形成液浸空間，透過所述光學(xué)構(gòu)件與所述第1液體以曝光用光使所述基板曝光，其中，所述曝光裝置具備液浸空間形成構(gòu)件，是使用所述第1液體形成所述液浸空間；可動(dòng)體，能相對(duì)所述光學(xué)構(gòu)件移動(dòng)；液體噴出機(jī)構(gòu)，其至少一部分設(shè)于所述可動(dòng)體且噴出第2液體；以及控制裝置，是在透過所述液浸空間形成構(gòu)件于所述可動(dòng)體上以所述第1液體形成所述液浸空間時(shí)，為進(jìn)行與所述第1液體接觸的液體接觸部的洗凈，使所述液體噴出機(jī)構(gòu)朝包含所述液體接觸部至少一部分的區(qū)域噴出第2液體。49.如權(quán)利要求48所述的曝光裝置，其中，所述液體噴出機(jī)構(gòu)包含噴射所述第2液體的噴射嘴。50.如權(quán)利要求48或49所述的曝光裝置，其中，所述液體噴出機(jī)構(gòu)包含于所述第2液體混合氣體的混合器。51.如權(quán)利要求48至50中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述曝光裝置具有回收所述第2液體的液體回收機(jī)構(gòu)。52.如權(quán)利要求48至51中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述第l液體與所述第2液體不同。53.如權(quán)利要求48至52中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述第2液體包含所述第1液體。54.如權(quán)利要求53所述的曝光裝置，其中，所述第2液體于所述第1液體混入氣體或溶劑而成。55.如權(quán)利要求48至51中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述第2液體與所述第l液體相同。56.如權(quán)利要求53至55中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述第1液體透過所述液浸空間形成構(gòu)件被供應(yīng)至所述可動(dòng)體側(cè)。57.—種曝光裝置，以第l液體充滿光學(xué)構(gòu)件與基板之間以形成液浸空間，透過所述光學(xué)構(gòu)件與所述第1液體以曝光用光使所述基板曝光，其中，所述曝光裝置具備-液浸空間形成構(gòu)件，是使用所述第1液體形成所述液浸空間；可動(dòng)體，能相對(duì)所述光學(xué)構(gòu)件移動(dòng)；蓄積機(jī)構(gòu)，蓄積透過所述液浸空間形成構(gòu)件供應(yīng)至所述可動(dòng)體上的所述第l液體；以及液體噴出裝置，其至少一部分設(shè)于所述可動(dòng)體，為進(jìn)行與所述第1液體接觸的液體接觸部的洗凈，將以所述蓄積機(jī)構(gòu)所蓄積的所述第1液體朝包含所述液體接觸部的至少一部分的區(qū)域噴出。58.如權(quán)利要求57所述的曝光裝置，其中，所述液體噴出裝置包含噴射以所述蓄積機(jī)構(gòu)所蓄積的所述第1液體的噴射嘴；所述蓄積機(jī)構(gòu)包含用以防止所述第1液體逆流至所述液浸空間形成構(gòu)件的逆止閥。59.如權(quán)利要求48或58中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述液體接觸部至少包含所述液浸空間形成構(gòu)件的所述第1液體通過口。60.如權(quán)利要求59所述的曝光裝置，其中，所述液浸空間形成構(gòu)件至少具有所述第1液體的供應(yīng)口及回收口的至少一方，所述通過口包含所述供應(yīng)口及所述回收口的至少一方。61.如權(quán)利要求48至60中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述液體接觸部至少包含所述液浸空間形成構(gòu)件的多孔構(gòu)件。62.如權(quán)利要求61所述的曝光裝置，其中，所述多孔構(gòu)件設(shè)在所述液浸空間形成構(gòu)件的所述第1液體的回收口或回收流路。63.如權(quán)利要求48至62中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述液浸空間形成構(gòu)件于所述第1液體的通過口將多孔構(gòu)件以固定、或可更換的方式設(shè)置。64.如權(quán)利要求63所述的曝光裝置，其中，所述多孔構(gòu)件為可更換，并具備于所述多孔構(gòu)件的更換時(shí)將所述第1液體從其流路完全排出的液體回收部。65.如權(quán)利要求48至64中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述液浸空間形成構(gòu)件圍繞所述光學(xué)構(gòu)件配置。66.如權(quán)利要求65所述的曝光裝置，其中，所述曝光裝置具備投影光學(xué)系統(tǒng)，所述投影光學(xué)系統(tǒng)中所述光學(xué)構(gòu)件配置于最接近像面。67.—種曝光裝置，透過光學(xué)構(gòu)件與第1液體以曝光用光使基板曝光，其中，所述曝光裝置具備嘴構(gòu)件，具有與所述第1液體接觸的液體接觸部且于所述光學(xué)構(gòu)件與所述基板之間保持所述第1液體；可動(dòng)體，能相對(duì)所述光學(xué)構(gòu)件移動(dòng)；以及洗凈構(gòu)件，至少一部分設(shè)于所述可動(dòng)體上，使用經(jīng)所述嘴構(gòu)件供應(yīng)至所述可動(dòng)體的第2液體洗凈所述液體接觸部。68.如權(quán)利要求67所述的曝光裝置，其中，所述洗凈構(gòu)件從所述可動(dòng)體噴出所述第2液體以洗凈所述液體接觸部。69.如權(quán)利要求67或68所述的曝光裝置，其中，于所述洗凈時(shí)，通過所述嘴構(gòu)件于所述光學(xué)構(gòu)件與所述可動(dòng)體之間形成液浸區(qū)域。70.如權(quán)利要求69所述的曝光裝置，其中，所述液浸區(qū)域以所述第2液體形成。71.如權(quán)利要求67至70中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述曝光裝置具備用以蓄積供應(yīng)至所述可動(dòng)體的所述第2液體的蓄積部，所述洗凈構(gòu)件將所述系的第2液體朝向所述液體接觸部。72.—種曝光裝置，透過光學(xué)構(gòu)件與第1液體以曝光用光使基板曝光，其中，所述曝光裝置具備嘴構(gòu)件，于所述光學(xué)構(gòu)件與所述基板之間保持所述第1液體；洗凈構(gòu)件，以第2液體洗凈與所述第1液體接觸的液體接觸部；可動(dòng)體，至少于所述洗凈時(shí)與所述嘴構(gòu)件對(duì)向配置；以及控制裝置，控制所述洗凈構(gòu)件以改變使用所述第2液體的洗凈條件，且視與所述液體接觸部相關(guān)的信息設(shè)定所述洗凈條件。73.如權(quán)利要求72所述的曝光裝置，其中，所述信息包含與所述液體接觸部的洗凈對(duì)象區(qū)域的位置與狀態(tài)中至少一方的信息。74.如權(quán)利要求73所述的曝光裝置，其中，所述信息包含與所述洗凈對(duì)象區(qū)域的污染相關(guān)的信息。75.如權(quán)利要求72至74所述中任一所述的曝光裝置，其中，所述信息包含所述第2液體的特性。76.如權(quán)利要求72至75中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述洗凈構(gòu)件將所述第2液體朝向所述液體接觸部噴出，所述洗凈條件包含所述第2液體的噴出條件。77.如權(quán)利要求67至76中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述第2液體包含所述第1液體。78.如權(quán)利要求77所述的曝光裝置，其中，所述第2液體是于所述第1液體混入氣體或溶劑而成。79.如權(quán)利要求67至77中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述第2液體與所述第1液體相同。80.如權(quán)利要求67至77中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述第2液體與所述第l液體不同。81.如權(quán)利要求67至80中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，至少洗凈所述嘴構(gòu)件的液體接觸部中所述第1液體的通過口。82.如權(quán)利要求67至81中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述嘴構(gòu)件具有所述第1液體的供應(yīng)口及回收口的至少一方，洗凈所述供應(yīng)口及所述回收口的至少一方。83.如權(quán)利要求67至82中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，至少洗凈所述嘴構(gòu)件的液體接觸部中的多孔構(gòu)件。84.如權(quán)利要求83所述的曝光裝置，其中，所述多孔構(gòu)件設(shè)在所述嘴構(gòu)件的所述第1液體的回收口或回收流路。85.如權(quán)利要求67至83中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述嘴構(gòu)件具有以固定、或可更換的方式設(shè)于所述第1液體通過口的多孔構(gòu)件。86.如權(quán)利要求67至85中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述洗凈構(gòu)件還進(jìn)行與所述嘴構(gòu)件相異的與所述第1液體的液體接觸部的洗凈。87.如權(quán)利要求86所述的曝光裝置，其中，與所述嘴構(gòu)件相異的液體接觸部至少包含所述光學(xué)構(gòu)件。88.如權(quán)利要求67至87中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述曝光裝置具有投影光學(xué)系統(tǒng)，所述投影光學(xué)系統(tǒng)中所述光學(xué)構(gòu)件配置于最接近像面，所述嘴構(gòu)件圍繞所述光學(xué)構(gòu)件配置。89.如權(quán)利要求48至88中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述液體接觸部包含對(duì)所述第1液體具親液性的區(qū)域。90.如權(quán)利要求48至89中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述可動(dòng)體與能保持所述基板的可動(dòng)體不同。91.如權(quán)利要求48至89中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，所述可動(dòng)體是能保持所述基板的基板載臺(tái)、或與所述基板載臺(tái)分開獨(dú)立移動(dòng)的載臺(tái)。92.—種元件制造方法，其包含使用權(quán)利要求48至91中任一項(xiàng)所述的曝光裝置使基板曝光的動(dòng)作；以及使曝光后基板顯影的動(dòng)作。全文摘要一種能有效率地進(jìn)行使用液浸法進(jìn)行曝光的曝光裝置的維修的維修方法。曝光裝置透過投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)與液浸區(qū)域(AR2)的液體(1)以曝光用光使該基板曝光，其包含與形成液浸區(qū)域(AR2)的嘴構(gòu)件(30)對(duì)向配置測(cè)量臺(tái)(MTB)的移動(dòng)步驟，使用嘴構(gòu)件(30)對(duì)測(cè)量臺(tái)(MTB)上供應(yīng)液體(1)、將此供應(yīng)的液體蓄積至圓筒部(91)內(nèi)的蓄積步驟，以及朝向含以液浸法進(jìn)行曝光時(shí)與有可能與液體(1)接觸的液體接觸部的至少部分區(qū)域、將以該蓄積步驟蓄積的液體(1)從噴射嘴部(90)噴出的洗凈步驟。文檔編號(hào)G03F7/20GK101390194SQ20078000618公開日2009年3月18日申請(qǐng)日期2007年6月28日優(yōu)先權(quán)日2006年6月30日發(fā)明者依田安史申請(qǐng)人:株式會(huì)社尼康