專利名稱：：反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)、反射折射光學(xué)裝置、掃描曝光裝置以及微元件的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明關(guān)于一種反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)、反射折射光學(xué)裝置、掃描曝光裝置、以及使用該掃描曝光裝置的微元件的制造方法，上述反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)將第1物體(光罩(mask)、標(biāo)線片(reticle)等)的像投影至第2物體(基板等)上，上述掃描曝光裝置將第1物體的像投影曝光于第2物體上。
背景技術(shù)：
：制造例如半導(dǎo)體元件或液晶顯示元件等時(shí)，使用投影曝光裝置，該投影曝光裝置利用投影光學(xué)系統(tǒng)，將光罩(reticle、photomask等)的圖案投影至涂敷著光阻(resist)的板(玻璃板(glassplate)或半導(dǎo)體晶圓等)上。先前多使用投影曝光裝置(步進(jìn)式曝光機(jī)(stepper)),上述投影曝光裝置以分步重復(fù)(stepandrepeat)方式，將各個(gè)光罩的圖案一并曝光于板上的各曝光照射(shot)區(qū)域。近年來提出了步進(jìn)掃描(Stepandscan)方式的投影曝光裝置，上述步進(jìn)掃描方式的投影曝光裝置代替使用1個(gè)大的投影光學(xué)系統(tǒng)，沿著掃描方向并以規(guī)定間隔，將具有相等倍率的小的多個(gè)部分投影光學(xué)系統(tǒng)配置為多行，且一邊對(duì)光罩及板進(jìn)行掃描，一邊利用各部分投影光學(xué)系統(tǒng)將各個(gè)光罩的圖案曝光于板上。近年來，板日益大型化，使用超過2平方米的方形板。此處，使用上述步進(jìn)掃描方式的曝光裝置，于大型板上進(jìn)行曝光時(shí)，部分投影光學(xué)系統(tǒng)具有相等的倍率，因此，光罩亦大型化。亦必須維持光罩基板的平面性，從而光罩越大型化則其成本越高。又，為了形成通常的薄膜晶體管(thinfilmtransistor,TFT)部，必須4-5層的光罩，需要巨大的成本。因此，提出了一種投影曝光裝置，其藉由將投影光學(xué)系統(tǒng)的倍率設(shè)為放大倍率，而減小光罩的大小(日本專利申請(qǐng)案公開平成11-265848號(hào)公報(bào))。上述投影曝光裝置中，多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)的光罩上的光軸與板上的光軸實(shí)質(zhì)上配置于相同位置。因此，存在如下問題藉由不同行的投影光學(xué)系統(tǒng)而掃描曝光于板上的圖案彼此不相互連接。又，為了于上述投影曝光裝置的投影光學(xué)系統(tǒng)中，增大曝光區(qū)域，必須使構(gòu)成投影光學(xué)系統(tǒng)的透鏡大型化，但使透鏡大型化時(shí)，因保持透鏡而產(chǎn)生光軸非對(duì)稱的變形，或因重力而導(dǎo)致透鏡本身產(chǎn)生光軸非對(duì)稱的變形。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于，使用多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)，以掃描曝光方式，將光罩圖案的放大像形成于板等物體上時(shí)，進(jìn)行良好的圖案轉(zhuǎn)印。本發(fā)明的另一目的在于，不會(huì)使透鏡中產(chǎn)生光軸非對(duì)稱的變形而進(jìn)行良好的圖案轉(zhuǎn)印。才艮據(jù)本發(fā)明的第1態(tài)樣，提供一種掃描曝光裝置，其一邊將配置于第1面上的第1物體的像投影至配置于第2面上的第2物體上，一邊使上述第1物體的像與上述第2物體的位置關(guān)系于掃描方向上變化，一邊將上述第1物體的圖案轉(zhuǎn)印曝光于上述第2物體上，上述掃描曝光裝置的特征在于包括第1投影光學(xué)系統(tǒng)以及第2投影光學(xué)系統(tǒng)，上述第1投影光學(xué)系統(tǒng)于上述第1面上具有第1視場(chǎng)，根據(jù)來自該第1視場(chǎng)的光，將上述第1物體的一部分放大像投影至第2面上的第l投影區(qū)域內(nèi)，上述第2投影光學(xué)系統(tǒng)于上述第1面上具有第2視場(chǎng)，根據(jù)來自該第2視場(chǎng)的光，將上述第1物體的一部分放大像投影至第2面上的第2投影區(qū)域內(nèi)，且上述第1投影光學(xué)系統(tǒng)包括第1光束傳送部，上述第1光束傳送部沿著與連接上述第1面與上述第2面的軸線方向交叉的第1方向，傳送來自上述第1視場(chǎng)的光，自上述軸線方向觀察，上述光導(dǎo)向位于上述第1視場(chǎng)的上述第1方向側(cè)的上述第l投影區(qū)域，上述第2投影光學(xué)系統(tǒng)包括第2光束傳送部，上述第2光束傳送部，沿著與上述第1方向相反方向的第2方向，傳送來自上述第2視場(chǎng)的光，自上述軸線方向觀察，上述光導(dǎo)向位于上述第2視場(chǎng)的上述第2方向側(cè)的上述第2投影區(qū)域，當(dāng)將第1間隔設(shè)為Dm、將第2間隔設(shè)為Dp、將上述第l及第2投影光學(xué)系統(tǒng)的倍率設(shè)為(3時(shí)，滿足Dp-&xDm，其中第1間隔是沿著上述第l視場(chǎng)與上述第2視場(chǎng)的上述第1面上的上述掃描方向的間隔，第2間隔是沿著上述第l投影區(qū)域與上述第2投影區(qū)域的上述第2面上的上述掃描方向的間隔。又，根據(jù)本發(fā)明的第2態(tài)樣，提供一種掃描曝光裝置，其一邊將第1物體的像投影至第2物體上，一邊使上述第1物體的像與上述第2物體的位置關(guān)系于掃描方向上變化，一邊將上迷第1物體的圖案轉(zhuǎn)印曝光于上述第2物體上，上述掃描曝光裝置的特征在于包括第1行投影光學(xué)系統(tǒng)以及第2行投影光學(xué)系統(tǒng)，上述第1行投影光學(xué)系統(tǒng)包括于第1行上分別具有視場(chǎng)的多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)，上述第1行沿著橫切上述掃描方向的方向，即，非掃描方向，上述第2行投影光學(xué)系統(tǒng)包括于與上述第1行不同的第2行上分別具有視場(chǎng)的多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)，上述第2行是沿著上述非掃描方向的行；且上述第1行投影光學(xué)系統(tǒng)于上述第2面上的第3行上，形成與上述第1行投影光學(xué)系統(tǒng)的上述多個(gè)視場(chǎng)共軛的多個(gè)投影區(qū)域，上述第2行投影光學(xué)系統(tǒng)于上述第2面上的第4行上，形成與上述第2行投影光學(xué)系統(tǒng)的上述多個(gè)^L場(chǎng)共軛的多個(gè)"t殳影區(qū)域，當(dāng)將第1間隔設(shè)為Dm、將第2間隔設(shè)為Dp、將上述第1及第2投影光學(xué)系統(tǒng)的倍率設(shè)為p時(shí)，滿足Dp-(3xDra，其中上述第1間隔是沿著上述第1行與上述第2行的上述第1面上的上述掃描方向的間隔，上述第2間隔是沿著上述第3行與上述第4行的上述第2面上的上述掃描方向的間隔。根據(jù)本發(fā)明的第3態(tài)樣，提供一種反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，以放大的投影倍率，將配置于第1面上的第1物體的像形成于配置于第2面上的第2物體上，上述反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)的特征在于包括凹面反射鏡，配置于上述第1面與上述第2面之間的光路中；第1透鏡群，配置于上述第1面與上述凹面反射鏡之間的光路中；第2透鏡群，配置于上述第1透鏡群與上述凹面反射鏡之間的光路中；第l偏向構(gòu)件，配置于上述第2透鏡群與上述第2面之間的光路中，且使光偏向，以橫切上述第1透鏡群的光軸；第2偏向構(gòu)件，配置于上述第1偏向構(gòu)件與上述第2物體之間的光路中；以及第3透鏡群，配置于上述第2偏向構(gòu)件與上述第2面之間的光路中，且具有與上述第1透鏡群的光軸大致平行的光軸。根據(jù)本發(fā)明的第4態(tài)樣，提供一種反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，以放大的投影倍率，將配置于第1面上的第1物體的像形成于配置于第2面上的第2物體上，上述反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)的特征在于包括凹面反射鏡，配置于上迷第1面與上述第2面之間的光路中；多個(gè)透鏡，配置于上述第1面與上述第2面之間的光路中；以及光學(xué)特性調(diào)整機(jī)構(gòu)，配置于上述反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)的光瞳位置與上述第2面之間。沖艮據(jù)本發(fā)明的第5態(tài)樣，提供一種反射折射光學(xué)裝置，包括形成上述第1面的中間像的第1成像光學(xué)系統(tǒng)、以及使上述中間像與上述第2面成光學(xué)共扼的第2成像光學(xué)系統(tǒng)，上述反射折射光學(xué)裝置的特征在于上迷第1成像光學(xué)系統(tǒng)與上述第2成像光學(xué)系統(tǒng)的至少一個(gè)，藉由本發(fā)明的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)而構(gòu)成。根據(jù)本發(fā)明的第6態(tài)樣，提供一種掃描曝光裝置，其一邊使將第1面上的像投影至第2面上的投影裝置、與上述第1物體及上述第2物體的位置關(guān)系于掃描方向上變化，一邊將上述第1物體的圖案轉(zhuǎn)印曝光于上述第2物體上，上述掃描曝光裝置的特征在于上述投影裝置包括第1投影光學(xué)裝置以及第2投影光學(xué)裝置，上述第l投影光學(xué)裝置于上述掃描方向上，定位于第1位置，上述第2投影光學(xué)裝置于上述掃描方向上，定位于與上述第1位置不同的第2位置，且上迷第1及第2投影光學(xué)裝置包括本發(fā)明的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)或反射折射光學(xué)裝置。根據(jù)本發(fā)明的第7態(tài)樣，提供一種微元件的制造方法，其特征在于包括曝光步驟，使用本發(fā)明的掃描曝光裝置，將光罩圖案曝光于感光基板上；以及顯影步驟，使經(jīng)上述曝光步驟而曝光的上述感光基板顯影。上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施例，并配合附圖，詳細(xì)i兌明如下。圖l是表示第1實(shí)施形態(tài)的掃描曝光裝置的構(gòu)成圖。圖2是表示第1實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成圖。圖3是表示實(shí)施形態(tài)的掃描曝光裝置中所使用的光罩圖。圖4是表示第1實(shí)施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)的視場(chǎng)及像場(chǎng)圖。圖5是表示第2實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成圖。圖6是表示第2實(shí)施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)的視場(chǎng)及像場(chǎng)圖。圖7是表示第3實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成圖。圖8是表示第4實(shí)施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成圖。圖9是表示配置了照明視場(chǎng)光圏時(shí)的投影光學(xué)系統(tǒng)的視場(chǎng)及像場(chǎng)圖，上述照明視場(chǎng)光圈于照明光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)具有圓弧狀孔徑。圖10是用以說明實(shí)施形態(tài)的微元件的制造方法的流程圖。圖11是表示第1實(shí)施例的投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成圖。圖12是第1實(shí)施例的投影光學(xué)系統(tǒng)的像差圖。圖13是第1實(shí)施例的投影光學(xué)系統(tǒng)的像差圖。圖14是表示第2實(shí)施例的投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成圖。圖15是第2實(shí)施例的投影光學(xué)系統(tǒng)的像差圖。圖16是第2實(shí)施例的投影光學(xué)系統(tǒng)的像差圖。2:橢圓鏡3:分光鏡4、9b、9c:準(zhǔn)直透鏡5:波長(zhǎng)選擇濾光片6:中性密度濾光片7、llb、llc:聚光透鏡8:光纖8a:射入口8b~8h:射出口10b、10c:復(fù)眼透鏡12b、12c:照明浮見場(chǎng)光圈13b、13c:成像光學(xué)系統(tǒng)14b、14c:第l成像光學(xué)系統(tǒng)15b、15c:視場(chǎng)光圈16b、16c:第2成像光學(xué)系統(tǒng)50:移動(dòng)鏡52:對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)54:自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)ADlb、ADlc:第1光學(xué)特性調(diào)整機(jī)構(gòu)AD2b、AD2c:第2光學(xué)特性調(diào)整機(jī)構(gòu)AD3b、AD3c:第3光學(xué)特性調(diào)整機(jī)構(gòu)AD仆、AD4c:第4光學(xué)特性調(diào)整機(jī)構(gòu)ASb:孔徑光圈CCM、CCMb、CCMc:FM1、FMlb、FMlc:FM2、FM2b、FM2c:FM2b、FM2c:Gl、Glb、Glc:G2、G2b、G2c:G3、G3b、G3c:II、12、13:像場(chǎng)IL3-IL7:照明光學(xué)系統(tǒng)LIO、L16、L18、L20、L26:Lll、L12、L14、L17、L21、L22'L13、L19、L23、L29:L15、L25:雙凹透鏡M10-M16:行圖案部PL:投影光學(xué)裝置PLIO、PL20:反射折射光學(xué)系統(tǒng)p:投影倍率Dm、Dp:間隔凹面反射鏡第1偏向構(gòu)件第2偏向構(gòu)件第2光3各偏向面第1透鏡群第2透鏡群第3透鏡群部分照明光學(xué)系統(tǒng)IL1~IL7L24、L27、L28:Ml:Pl:PL1PL7:VI、V2、V3:正彎月透鏡負(fù)彎月透鏡雙凸透鏡光罩板投影光學(xué)系統(tǒng)視場(chǎng)具體實(shí)施方式以下，參照?qǐng)D式，說明本發(fā)明的第1實(shí)施形態(tài)。本實(shí)施形態(tài)中，列舉步進(jìn)掃描方式的掃描投影曝光裝置為例加以說明，上述步進(jìn)掃描方式的掃描投影曝光裝置相對(duì)于包含多個(gè)反射折射型投影光學(xué)系統(tǒng)PL1~PL7的投影光學(xué)裝置PL，使光罩Ml與板Pl于掃描方向上同步移動(dòng)，從而將形成于光罩Ml上的圖案的像掃描曝光于板P1上，上述多個(gè)反射折射型投影光學(xué)系統(tǒng)PL1~PL7將光罩(第1物體)M1的圖案的一部分，部分地投影至作為感光基板的外徑大于500mm的板(第2物體)P1上。此處，所謂外形大于500mm,是指一邊或?qū)蔷€大于500mm。又，以下的說明中，設(shè)定圖1中所示的正交坐標(biāo)系，一邊參照該XYZ正交坐標(biāo)系，一邊說明各構(gòu)件的位置關(guān)系。XYZ正交坐標(biāo)系以X軸及Y軸相對(duì)于板Pl成平行的方式而i殳定，Z軸設(shè)定于相對(duì)于板Pl正交的方向上。對(duì)于圖中的XYZ坐標(biāo)系而言，實(shí)際上XY平面以與水平面平行的方式而設(shè)定，Z軸設(shè)定于垂直方向。又，本實(shí)施形態(tài)中，將使板P1移動(dòng)的方向(掃描方向)設(shè)定為X方向。圖1是表示本實(shí)施形態(tài)的掃描投影曝光裝置的整體的概略構(gòu)成的立體圖。本實(shí)施形態(tài)的掃描投影曝光裝置具備包含例如超高壓水銀燈(mercurylamp)光源構(gòu)成的光源。自光源射出的光束由橢圓4竟(ellipticalmirror)2及分光鏡(dichroicmirror)3反射后，射入準(zhǔn)直透鏡(Col1imatelens)4。亦即，藉由橢圓鏡2的反射膜及分光鏡3的反射膜，取出包含g線(波長(zhǎng)436nm)、h線(波長(zhǎng)405nm)及i線(波長(zhǎng)365nm)的光的波長(zhǎng)帶(wavelengthband)的光，包含g、h、i線的光的波長(zhǎng)帶的光射入準(zhǔn)直透鏡4。又，光源配置于橢圓鏡2的第1焦點(diǎn)位置，因此包含g、h、i線的光的波長(zhǎng)帶的光于橢圓鏡2的第2焦點(diǎn)位置形成光源像。來自形成于橢圓鏡2的第2焦點(diǎn)位置的光源像的發(fā)散光束藉由準(zhǔn)直透鏡4而變?yōu)槠叫泄?，且通過僅使規(guī)定的曝光波長(zhǎng)帶的光束通過的波長(zhǎng)選擇濾光片5。通過波長(zhǎng)選擇濾光片5的光束通過中性密度濾光片(neutraldensityfilter)6，并藉由聚光透鏡7而于光纖(1ightguidefiber)8的射入口8a的射入端聚集。此處，光纖8是例如隨機(jī)地結(jié)合多條光纖心線而構(gòu)成的隨機(jī)光纖，具有射入口8a與7個(gè)射出口(以下，稱為射出口8b、8c、8d、8e、8f、8g、8h)。射入光纖8的射入口8a的光束于光纖8的內(nèi)部傳播后，藉由7個(gè)射出口8b8h分割而射出，分別射入部分地對(duì)光罩M1照明的7個(gè)部分照明光學(xué)系統(tǒng)(以下，稱為部分照明光學(xué)系統(tǒng)IL1、IU、IU、IL4、IL5、IL6、IL7)。通過各部分照明光學(xué)系統(tǒng)IL1-IL7的光分別大致均一地對(duì)光罩M1照明。來自光罩M1的照明區(qū)域、亦即與部分照明光學(xué)系統(tǒng)IL1IL7對(duì)應(yīng)的照明區(qū)域的光，分別射入7個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)(以下，稱為投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2、PL3、PL4、PL5、PL6、PL7)，上述7個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)以與各照明區(qū)域?qū)?yīng)的方式而排列，且分別將光罩Ml的圖案的一部分的像投影至板Pl上。通過投影光學(xué)系統(tǒng)PL1-PL7的光分別使光罩M1的圖案像成像于板P1上。此處，光罩Ml藉由光罩固持器(maskholder)(未圖示)而固定，且載置于光罩載物臺(tái)(maskstage)(未圖示)上。又，于光罩載物臺(tái)上配置著激光干涉儀(laserinterferometer)(未圖示)，光罩載物臺(tái)激光干涉儀用來測(cè)量及控制光罩載物臺(tái)的位置。又，板P1藉由板固持器(未圖示)而固定，且載置于板載物臺(tái)(未圖示)上。又，于板載物臺(tái)上設(shè)置著移動(dòng)鏡50。自未圖標(biāo)的板載物臺(tái)激光干涉儀射出的激光射入移動(dòng)鏡50,或由移動(dòng)鏡50反射。根據(jù)該經(jīng)射入/反射的激光的干涉，以測(cè)量及控制板載物臺(tái)的位置。上述部分照明光學(xué)系統(tǒng)IL1、IL3、IL5、IL7于與掃描方向正交的方向上具有規(guī)定間隔，且作為第1行而配置于掃描方向的后方側(cè)(第1方向側(cè))，與部分照明光學(xué)系統(tǒng)IL1、IL3、IL5、IL7相對(duì)應(yīng)而^殳置的才殳影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL3、PL5、PL7亦同樣于與掃描方向正交的方向上，具有少見定間隔，且作為第1行而配置于掃描方向的后方側(cè)(第l方向側(cè))。又，部分照明光學(xué)系統(tǒng)IU、IL4、IL6于與掃描方向正交的方向上，具有規(guī)定間隔，且作為第2行而配置于掃描方向的前方側(cè)(第2方向側(cè))，與部分照明光學(xué)系統(tǒng)IL2、IL4、IL6相對(duì)應(yīng)而設(shè)置的投影光學(xué)系統(tǒng)PL2、PL4、PL6亦同樣于與掃描方向正交的方向上，具有規(guī)定間隔，且作為第2行而配置于掃描方向的前方側(cè)(第2方向側(cè))。此處，第1行投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL3、PL5、PL7分別具有沿著配置著光罩M1的第1面上的第1行的視場(chǎng)，且于配置著板P1的第2面上的第3行上，于掃描正交方向上具有規(guī)定間隔的像場(chǎng)(投影區(qū)域)中分別形成像。又，第2行投影光學(xué)系統(tǒng)PL2、PL4、PL6分別具有沿著配置著光罩M1的第1面上的第2行的視場(chǎng)，且于配置著板Pl的第2面上的第4行上，于掃描正交方向上具有規(guī)定間隔的像場(chǎng)(投影區(qū)域)中分別形成像。為了于第l行的投影光學(xué)系統(tǒng)與第2行的投影光學(xué)系統(tǒng)之間，進(jìn)行板Pl的位置對(duì)準(zhǔn)，配置著偏向軸(off-axis)的對(duì)準(zhǔn)(alignment)系統(tǒng)52，或?yàn)榱?吏光罩Ml及板Pl的焦點(diǎn)(focus)對(duì)準(zhǔn)，配置著自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)54。圖2是表示部分照明光學(xué)系統(tǒng)IL1、IL2及投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PU的構(gòu)成圖。再者，部分照明光學(xué)系統(tǒng)IL3、IL5、IL7具有與部分照明光學(xué)系統(tǒng)IL1相同的構(gòu)成，部分照明光學(xué)系統(tǒng)IL4、IL6具有與部分照明光學(xué)系統(tǒng)IL2相同的構(gòu)成。又，投影光學(xué)系統(tǒng)PL3、PL5、PU具有與投影光學(xué)系統(tǒng)PL1相同的構(gòu)成，投影光學(xué)系統(tǒng)PL4、PL6具有與投影光學(xué)系統(tǒng)PU相同的構(gòu)成。自光纖8的射出口8b射出的光束射入部分照明光學(xué)系統(tǒng)IL1，藉由配置于射出口8b附近的準(zhǔn)直透鏡9b而聚集的光束射入作為光學(xué)積分器(opticalintegrator)的復(fù)眼透鏡(flyeyelens)10b。來自形成于復(fù)眼透鏡10b的后側(cè)焦點(diǎn)面上的多個(gè)二次光源的光束，藉由聚光透鏡(condenserlens)llb而大致均一地對(duì)光罩M1照明。又，藉由配置于射出口8c附近的準(zhǔn)直透鏡9c而聚集的光束，射入作為光學(xué)積分器的復(fù)眼透鏡10c。來自形成于復(fù)眼透鏡10c的后側(cè)焦點(diǎn)面上的多個(gè)二次光源的光束，藉由聚光透鏡11c而大致均一地對(duì)光罩Ml照明。投影光學(xué)系統(tǒng)PL1是如下的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，即，將作為光罩Ml上的視場(chǎng)內(nèi)的放大像的一次像形成于板Pl上的像場(chǎng)內(nèi)，上述投影光學(xué)系統(tǒng)PL1的掃描方向(X軸方向)上的放大倍率超過+l倍，且掃描正交方向上的放大倍率低于-1。投影光學(xué)系統(tǒng)PL1包括凹面反射鏡CCMb，配置于光罩M1與板P1之間的光路中；第l透鏡群Glb，配置于光罩M1與凹面反射鏡CCMb之間的光路中；第2透鏡群G21)，配置于第l透鏡群Glb與凹面反射鏡CCMb之間的光路中；第1偏向構(gòu)件FMlb，配置于第2透鏡群G2b與板Pl之間的光路中，且使自第2透鏡群G孔向Z軸負(fù)方向前進(jìn)的光偏向X軸負(fù)方向(第l方向)，以橫切第1透鏡群Glb的光軸；第2偏向構(gòu)件FM2b,配置于第1偏向構(gòu)件FMlb與板Pl之間的光路中，且使自第1偏向構(gòu)件FMlb向X軸負(fù)方向前進(jìn)的光偏向Z軸負(fù)方向；以及第3透鏡群G3b,配置于第2偏向構(gòu)件FM2b與板Pl之間的光路中，且具有與第1透鏡群Glb的光軸大致平行的光軸。此處，第1偏向構(gòu)件FMlb與第2偏向構(gòu)件FM2b可構(gòu)成第1光束傳送部，上述第1光束傳送部將例如自第2透鏡群G2b向Z軸負(fù)方向前進(jìn)的光傳送至X軸負(fù)方向(第1方向)后，使上述光沿著Z軸負(fù)方向前進(jìn)。此處，投影光學(xué)系統(tǒng)PL1中，以光罩M1與板P1的距離大于光罩M1與凹面反射鏡CCMb的距離的方式，分別配置著凹面反射鏡CCMb、第l透鏡群Glb、第2透鏡群G2b、第3透鏡群G3b、第1偏向構(gòu)件FMlb、以及第2偏向構(gòu)件FM2b。又，具有構(gòu)成第1透鏡群Glb、第2透鏡群G2b、以及第3透鏡群G3b的折射能力的光學(xué)構(gòu)件，以其光軸與重力方向平行的方式而配置著。又，投影光學(xué)系統(tǒng)PL1中，以板Pl側(cè)的距離大于光罩Ml側(cè)的距離的方式，配置著第l透鏡群Glb、凹面反射鏡CCMb、以及第3透鏡群G31)。再者，于凹面反射鏡CCMb與第2透鏡群G2b之間的光路中，亦即，凹面反射鏡CCMb的反射面附近，具有用以規(guī)定投影光學(xué)系統(tǒng)PL1的板Pl側(cè)的孔徑數(shù)的孔徑光圈(aperturestop)ASb,孔徑光圈ASb以光罩M1側(cè)及板Pl側(cè)為大致是遠(yuǎn)心(telecentric)的方式而定位著。該孔徑光圈ASb的位置可看作投影光學(xué)系統(tǒng)PL1的光瞳面。又，投影光學(xué)系統(tǒng)PL1于將投影光學(xué)系統(tǒng)PL1的第1透鏡群Gib的焦點(diǎn)距離設(shè)為fl、將第3透鏡群G3b的焦點(diǎn)距離設(shè)為n、將投影光學(xué)系統(tǒng)PLl的倍率設(shè)為I3時(shí)，滿足0.8xI(3I蕓f3/fl蕓1.25xIpII(3Ia.8。投影光學(xué)系統(tǒng)PU具有于掃描方向上與投影光學(xué)系統(tǒng)PL1對(duì)稱地配置的構(gòu)成，與投影光學(xué)系統(tǒng)PL1同樣，也是如下所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，即，將作為光罩Ml上的視場(chǎng)內(nèi)的放大像的一次像形成于板Pl上的像場(chǎng)內(nèi)，上述投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的掃描方向(X軸方向)上的放大倍率超過+l倍，且掃描正交方向上的放大倍率低于-1。投影光學(xué)系統(tǒng)PL2與投影光學(xué)系統(tǒng)PL1相同，具有凹面反射鏡CCMc、第l透鏡群Glc、第2透鏡群G2c、第3透鏡群G3c、第1偏向構(gòu)件FMlc、第2偏向構(gòu)件FM2b、以及孔徑光圏ASb。此處，第2投影光學(xué)系統(tǒng)PU的第l偏向構(gòu)件FMlc及第2偏向構(gòu)件FM2b可以構(gòu)成第2光束傳送部，上述第2光束傳送部將例如自第2透鏡群向Z軸負(fù)方向前進(jìn)的光傳送至X軸正方向(第2方向)后，使上述光沿著Z軸負(fù)方向前進(jìn)。又，孔徑光圈ASc的位置可以看作投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的光瞳面。投影光學(xué)系統(tǒng)PL1及投影光學(xué)系統(tǒng)PL2以如下方式而配置著，即，當(dāng)將投影光學(xué)系統(tǒng)PL1及投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的視場(chǎng)的中心彼此的掃描方向(X軸方向)上的間隔設(shè)為Dm、將投影光學(xué)系統(tǒng)PLl及第2投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的像場(chǎng)的中心彼此的掃描方向(X軸方向)上的間隔設(shè)為Dp、將投影光學(xué)系統(tǒng)PL1及投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的各投影倍率設(shè)為(3時(shí)，滿足Dp=DmxIpI(其中，IpI>1.8)。并且，本例中，自Y方向觀察，第1線(本例中相當(dāng)于第1光束傳送部的光軸)與第2線(本例中相當(dāng)于第2光束傳送部的光軸)彼此未重疊，上述第1線是連接第1投影光學(xué)系統(tǒng)PL1的視場(chǎng)與像場(chǎng)(投影區(qū)域)的線，上述第2線是連接第2投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的視場(chǎng)與像場(chǎng)(投影區(qū)域)的線。圖3是表示本實(shí)施形態(tài)的掃描曝光裝置中所使用的光罩M1的構(gòu)成圖。如圖3所示，光罩Ml具有沿著非掃描方向(Y軸方向)而配置的行圖案部M10-M16。此處，行圖案部M10中，定位著投影光學(xué)系統(tǒng)PL1的視場(chǎng)，行圖案部Mll中，定位著投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的視場(chǎng)。同樣，行圖案部MUM16中，分別定位著投影光學(xué)系統(tǒng)PL3PL7的視場(chǎng)。圖4是用以說明作為第1行而配置的投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL3及作為第2行而配置的投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的視場(chǎng)及像場(chǎng)的狀態(tài)圖。投影光學(xué)系統(tǒng)PL1分別具有視場(chǎng)VI及像場(chǎng)II，投影光學(xué)系統(tǒng)PL2分別具有視場(chǎng)V2及像場(chǎng)12,投影光學(xué)系統(tǒng)PL3分別具有視場(chǎng)V3及像場(chǎng)13。亦即，投影光學(xué)系統(tǒng)PL1將光罩Ml上的視場(chǎng)VI內(nèi)的放大像形成于板Pl上的像場(chǎng)II內(nèi)。同樣，投影光學(xué)系統(tǒng)PL2將光罩M1上的視場(chǎng)V2內(nèi)的放大像形成于板P1上的像場(chǎng)12內(nèi)，投影光學(xué)系統(tǒng)PL3將光罩Ml上的視場(chǎng)V3內(nèi)的放大像形成于板Pl上的像場(chǎng)13內(nèi)。于投影光學(xué)系統(tǒng)PL1的像場(chǎng)II與投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的像場(chǎng)I2之間、投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的像場(chǎng)12與投影光學(xué)系統(tǒng)PL3的像場(chǎng)13之間，分別形成著連接部，但于板P1上藉由將形成連接部的光罩上的圖案的端部形成為鋸齒形等，可以于板P1上連續(xù)地形成圖案。本實(shí)施形態(tài)中，當(dāng)將沿著第1及第2投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PU的掃描方向的倍率設(shè)為P時(shí)，第l及第2投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PU的視場(chǎng)的間隔(第1行與第2行的間隔)Dp與像場(chǎng)(投影區(qū)域)的間隔(第3行與第4行的間隔)Dm滿足Dp-pxDm，因此，即使使用光罩Ml,亦可以于板Pl上連續(xù)地形成圖案，上述光罩M1于圖3所示的掃描方向上，使各行圖案部Mil~M16的端部對(duì)齊而使掃描方向上的大小最小化。根據(jù)本實(shí)施形態(tài)的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，以使具備具有折射能力的光學(xué)構(gòu)件的第1透鏡群、第2透鏡群、以及第3透鏡群的光軸與重力方向平行的方式而配置著，因此，即使于為了增大曝光區(qū)域，而使構(gòu)成投影光學(xué)系統(tǒng)的透鏡，亦即，構(gòu)成第1透鏡群、第2透鏡群、以及第3透鏡群的透鏡大型化時(shí)，亦可以提供不會(huì)使透鏡產(chǎn)生與光軸非對(duì)稱的變形的高精度的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)。又,根據(jù)實(shí)施形態(tài)的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，不會(huì)形成中間像，因此，可以簡(jiǎn)化光學(xué)的構(gòu)成。又，根據(jù)本發(fā)明的掃描曝光裝置，具有不會(huì)使透鏡產(chǎn)生與光軸非對(duì)稱的變形的高精度的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，因此，可以進(jìn)行良好的曝光。又，反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)具有放大倍率，因此，可以避免光罩的大型化，且可以實(shí)現(xiàn)光罩的制造成本的降低。其次，說明本發(fā)明的第2實(shí)施形態(tài)的掃描曝光裝置中所使用的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)。再者，該第2實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)，于第1實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)的照明光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)配置著照明視場(chǎng)光圈。關(guān)于其它處，具有與第1實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)相同的構(gòu)成。因此，第2實(shí)施形態(tài)的說明中，省略與第l實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)相同的構(gòu)成的詳細(xì)說明。又，該第2實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)的說明中，對(duì)與第1實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及^L影光學(xué)系統(tǒng)相同的構(gòu)成，附加與第1實(shí)施形態(tài)中所使用的符號(hào)相同的符號(hào)來進(jìn)行說明。圖5是表示第2實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成圖。再者，圖5中，僅表示照明光學(xué)系統(tǒng)IL1、IL2及投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PU，但照明光學(xué)系統(tǒng)IL3~IL7及投影光學(xué)系統(tǒng)PL3PL7亦具有相同構(gòu)成。于與本實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)IL1的聚光透鏡lib的射出側(cè)的光罩M1成光學(xué)共軛的位置，配置著具有梯形或六邊形孔徑部的照明視場(chǎng)光圈12b，且于照明視場(chǎng)光圈12b與光罩M1之間的光路中，配置著成像光學(xué)系統(tǒng)13b。同樣，于與照明光學(xué)系統(tǒng)IL2的聚光透鏡llc的射出側(cè)的光罩Ml成光學(xué)共軛的位置，配置著照明視場(chǎng)光圈12c,且于照明視場(chǎng)光圈12c與光罩M1之間的光路中，配置著成像光學(xué)系統(tǒng)13c。圖6是用以說明于照明光學(xué)系統(tǒng)中配置著具有六邊形孔徑部的照明視場(chǎng)光圏時(shí)的投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL3及投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的視場(chǎng)及像場(chǎng)的狀態(tài)的圖。投影光學(xué)系統(tǒng)PL1分別具有六邊形視場(chǎng)V1及像場(chǎng)II，投影光學(xué)系統(tǒng)PL2分別具有六邊形視場(chǎng)V2及像場(chǎng)12,投影光學(xué)系統(tǒng)PL3分別具有六邊形視場(chǎng)V3及像場(chǎng)I3。亦即，投影光學(xué)系統(tǒng)PL1將藉由照明4^場(chǎng)光圏而規(guī)定了形狀的光罩Ml上的視場(chǎng)VI內(nèi)的放大像形成于板Pl上的像場(chǎng)II內(nèi)。同樣，投影光學(xué)系統(tǒng)PL2將藉由照明視場(chǎng)光圏而規(guī)定了形狀的光罩Ml上的視場(chǎng)V2內(nèi)的放大像形成于板Pl上的像場(chǎng)12內(nèi)，投影光學(xué)系統(tǒng)PL3將光罩Ml上的視場(chǎng)V3內(nèi)的放大像形成于板Pl上的像場(chǎng)13內(nèi)。根據(jù)本實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)，無須如第1實(shí)施形態(tài)的掃描曝光裝置般進(jìn)行光罩圖案的畫面合成，即可以于板上良好地進(jìn)行圖案的非掃描方向上的合成。其次，說明本發(fā)明的第3實(shí)施形態(tài)的掃描曝光裝置中所使用的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)。再者，該第3實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)是于第1實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)，變更投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成。關(guān)于其它處，具有與第1實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及^t殳影光學(xué)系統(tǒng)相同的構(gòu)成。因此，第3實(shí)施形態(tài)的說明中，省略與第1實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)相同的構(gòu)成的詳細(xì)說明。又，該第3實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)的說明中，對(duì)與第1實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)相同的構(gòu)成，附加與第1實(shí)施形態(tài)中所使用的符號(hào)相同的符號(hào)來進(jìn)行說明。圖7是表示第3實(shí)施形態(tài)的照明光學(xué)系統(tǒng)及投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成的圖。再者，圖7中，僅表示照明光學(xué)系統(tǒng)IL1、IU及投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2,但照明光學(xué)系統(tǒng)IL13~IL7及投影光學(xué)系統(tǒng)PL3~PL7亦具有相同構(gòu)成。本實(shí)施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2藉由投影光學(xué)裝置而構(gòu)成，上述投影光學(xué)裝置具備形成光罩M1的中間像的第1成像光學(xué)系統(tǒng)Mb、We,以及使中間像與板P1成光學(xué)共軛的第2成像光學(xué)系統(tǒng)16b、1"。此處，上述各投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2的放大倍率以掃描方向上的放大倍率超過+1，且掃描正交方向上的放大倍率超過+1的方式而設(shè)定。即，上述各投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2根據(jù)放大倍率，于第2面上形成第1面的正像(erectedimage)。又，于第1成像光學(xué)系統(tǒng)Mb、Hc與第2成像光學(xué)系統(tǒng)1"、l"之間的光路中形成著中間像的位置上，配置著視場(chǎng)光圈^b、Uc。此處，第2成像光學(xué)系統(tǒng)16b、16c具有與第1實(shí)施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PU相同的構(gòu)成。根據(jù)本實(shí)施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)，可以容易地進(jìn)行視場(chǎng)光圈的配置，又，以投影光學(xué)系統(tǒng)的精度將視場(chǎng)光圏投影至板上，因此，可以進(jìn)行高精度的投影。其次，說明本發(fā)明的第4實(shí)施形態(tài)的掃描曝光裝置中所使用的投影光學(xué)系統(tǒng)。再者，該第4實(shí)施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)是于第1實(shí)施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)中設(shè)置著光學(xué)特性調(diào)整機(jī)構(gòu)。關(guān)于其它處，具有與第1實(shí)施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)相同的構(gòu)成。因此，第4實(shí)施形態(tài)的說明中，省略與第1實(shí)施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)相同的構(gòu)成的詳細(xì)說明。又，該第4實(shí)施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)的說明中，對(duì)與第1實(shí)施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)相同的構(gòu)成，附加與第1實(shí)施形態(tài)中所使用的符號(hào)相同的符號(hào)來進(jìn)行說明。圖8是表示第4實(shí)施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成圖。再者，圖8中，僅表示投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PU，但投影光學(xué)系統(tǒng)PUPL7亦具有相同構(gòu)成。投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2于光罩M1與第1透鏡群Glb、Glc之間的光路中，具有藉由楔狀雙層玻璃而構(gòu)成的第1光學(xué)特性調(diào)整機(jī)構(gòu)ADlb、ADlc。該第1光學(xué)特性調(diào)整機(jī)構(gòu)ADlb、ADlc中，使雙層玻璃沿著楔形角而移動(dòng)，從而使玻璃厚度變化，藉此，可以調(diào)整焦點(diǎn)或像面傾斜。如此，本實(shí)施形態(tài)中，將第1光學(xué)特性調(diào)整機(jī)構(gòu)ADlb、ADlc配置于反射折射光學(xué)系統(tǒng)的縮小側(cè)(偏反射折射光學(xué)系統(tǒng)的孔徑光圏位置的物體側(cè))的光路，因此，可以增大光學(xué)特性相對(duì)于調(diào)整機(jī)構(gòu)的移動(dòng)量的變化量。亦即，可以使調(diào)整機(jī)構(gòu)的作用的炅敏度良好。而且，可以不增加調(diào)整機(jī)構(gòu)的移動(dòng)量范圍(stroke,行程)，而擴(kuò)大光學(xué)特性的調(diào)整范圍。又，投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2具備藉由第2光路偏向面FM2b、FM2c的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)而構(gòu)成的第2光學(xué)特性調(diào)整機(jī)構(gòu)AD2b、AD2c。該第2光學(xué)特性調(diào)整機(jī)構(gòu)AD2b、AD2c可以藉由使具有第2光路偏向面FM2b、FM2c的棱鏡(prismmirror)旋轉(zhuǎn)，來調(diào)^f象的旋轉(zhuǎn)。又，絲第3光學(xué)棒性調(diào)整才/^勾AD3b、AD3c，其由具有相同曲率的3個(gè)透鏡群而構(gòu)成。該第3光學(xué)特性調(diào)整機(jī)構(gòu)AD3b、ADk可以藉由使3個(gè)以相同曲率而構(gòu)成的透鏡群的中央部的透鏡，于光罩M1與板P1間的垂直方向(上下方向)上移動(dòng)，來調(diào)整倍率。又，具有由平行平板而構(gòu)成的第4光學(xué)特性調(diào)整才/U勾AD仂、AD化。該第4光學(xué)特性調(diào)整4M勾AD樸、AD牝可以藉由使平行平板相對(duì)于光軸傾斜，來調(diào)整像位置。本實(shí)施形態(tài)中，于凹面反射鏡CCMb、CCMc與第2面之間的光路中，換言之，即光瞳面與第2面之間的光路中，配置著光學(xué)特性調(diào)整機(jī)構(gòu)AD2b、AD2c、AD3b、AD3c。該光路是投影光學(xué)系統(tǒng)中的放大倍率側(cè)的光路，因此，具有如下優(yōu)點(diǎn)易于確保配置上述各光學(xué)特性調(diào)整機(jī)構(gòu)的空間。再者，上述第2實(shí)施形態(tài)中，將具有6邊形孔徑部的照明視場(chǎng)光圈配置于照明光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)，但代替上述情形，亦可以將具有圓弧狀的照明視場(chǎng)光圈配置于照明光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)。圖9是用以說明于照明光學(xué)系統(tǒng)中配置著具有圓弧狀孔徑部的照明視場(chǎng)光圈時(shí)，投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL3及投影光學(xué)系統(tǒng)PL2的視場(chǎng)及像場(chǎng)的狀態(tài)的圖。投影光學(xué)系統(tǒng)PL1分別具有圓弧狀視場(chǎng)VI及像場(chǎng)II,投影光學(xué)系統(tǒng)PL2分別具有圓弧狀視場(chǎng)V2及像場(chǎng)I2，投影光學(xué)系統(tǒng)PL3分別具有圓弧狀視場(chǎng)V3及像場(chǎng)13。亦即，投影光學(xué)系統(tǒng)PL1將藉由照明視場(chǎng)光圈而規(guī)定了形狀的光罩Ml上的圓弧狀視場(chǎng)VI內(nèi)的放大像，形成于板P1上的圓弧狀像場(chǎng)II內(nèi)。同樣，投影光學(xué)系統(tǒng)PL2將藉由照明視場(chǎng)光圈而規(guī)定了形狀的光罩Ml上的圓弧狀視場(chǎng)V2內(nèi)的放大像形成于板P1上的圓弧狀像場(chǎng)12內(nèi)，投影光學(xué)系統(tǒng)PL3將光罩M1上的圓弧狀視場(chǎng)V3內(nèi)的放大像形成于板Pl上的圓弧狀像場(chǎng)13內(nèi)。又，上述第3實(shí)施形態(tài)中，第2成像光學(xué)系統(tǒng)16b、16c具有與第1實(shí)施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2相同的構(gòu)成,但第l成4象光學(xué)系統(tǒng)14b、14c，或第1成像光學(xué)系統(tǒng)14b、14c及第2成像光學(xué)系統(tǒng)16b、16c亦可以具有與第1實(shí)施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)PL1、PL2相同的構(gòu)成。又，上述實(shí)施形態(tài)中，投影光學(xué)系統(tǒng)形成的像場(chǎng)的形狀亦可以為例如梯形。像場(chǎng)為梯形時(shí)，較好的是，使梯形的下邊(梯形中彼此平行的2邊中較長(zhǎng)的邊)朝向光軸側(cè)而配置。又，上述實(shí)施形態(tài)中，具備放電燈作為光源，選擇必要的g線(436nm)的光、h線(405nm)及i線(365nm)的光。然而，不限于此，使用如下各光時(shí)亦可以適用本發(fā)明，上述各光即，來自紫外線發(fā)光二極管(light-emittingdiode,LED)的光，來自KrF準(zhǔn)分子激光(excimerlaser)(248nm)或ArF準(zhǔn)分子激光(193nm)的激光，固體激光的高頻諧波(higherharmonic),來自作為固體光源的紫外線半導(dǎo)體激光的激光。又，本實(shí)施形態(tài)的掃描曝光裝置中，可以于板(玻璃基板)上藉由形成規(guī)定的圖案(電路圖案、電極圖案等)，來獲得作為微元件的液晶顯示元件。以下，參照?qǐng)DIO的流程圖，說明此時(shí)的方法的一例。圖10中，圖案形成步驟S401中，執(zhí)行所謂光微影步驟，即，使用本實(shí)施形態(tài)的掃描曝光裝置，將光罩的圖案轉(zhuǎn)印曝光于感光基板上。藉由該光微影步驟，于感光基板上形成包含多個(gè)電極等的規(guī)定圖案。之后，已被曝光的基板藉由經(jīng)過顯影步驟、蝕刻步驟、光阻剝離步驟等各步驟，而于基板上形成規(guī)定圖案，并進(jìn)入下一個(gè)彩色濾光片形成步驟S402。其次，于彩色濾光片形成步驟S402中形成彩色濾光片，上述彩色濾光片中，矩陣(matrix)狀地排列著多個(gè)與R(Red,紅色)、G(Green,綠色)、B(Blue，藍(lán)色)相對(duì)應(yīng)的3個(gè)點(diǎn)(dot)的組，或于水平掃描線方向上排列多個(gè)R、G、B的3根條紋(stripe)的濾光片的組。并且，于彩色濾光片形成步驟S402后，執(zhí)行單元(cell)組裝步驟S403。單元組裝步驟S403中，使用具有于圖案形成步驟S401而獲得的規(guī)定圖案的基板、以及于彩色濾光片形成步驟S402而獲得的彩色濾光片等，以組裝液晶面板(液晶單元(liquidcrystalcell))。單元組裝步驟S403中，例如，于具有于圖案形成步驟S401而獲得的規(guī)定圖案的基板、與于彩色濾光片形成步驟S402而獲得的彩色濾光片之間，注入液晶，以制造液晶面板(液晶單元)。之后，于模塊組裝步驟S404中，安裝電路、背光源(backlight)等各零件后，完成液晶顯示元件，上述電路進(jìn)行已組裝的液晶面板(液晶單元)的顯示動(dòng)作。根據(jù)上述液晶顯示元件的制造方法，使用本實(shí)施形態(tài)的掃描曝光裝置，因此，可以低成本地制造液晶顯示元件。根據(jù)本發(fā)明的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)及反射折射光學(xué)裝置，以具有折射能力的光學(xué)構(gòu)件的第1透鏡群、第2透鏡群、以及第3透鏡群的光軸與重力方向平行的方式而配置著，因此，即使為了增大曝光區(qū)域等，而使構(gòu)成投影光學(xué)系統(tǒng)的透鏡，亦即，構(gòu)成第1透鏡群、第2透鏡群、以及第3透鏡群的透鏡大型化時(shí)，亦可提供不會(huì)使透鏡產(chǎn)生與光軸非對(duì)稱的變形的高精度的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)及反射折射光學(xué)裝置，而且，可以進(jìn)行良好的圖案轉(zhuǎn)印。又，根據(jù)本發(fā)明的掃描曝光裝置，可以藉由光束移相構(gòu)件，使來自多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)的多個(gè)視場(chǎng)的光束沿著第1方向，傳送至相反方向，并導(dǎo)向多個(gè)投影區(qū)域，且可以適當(dāng)?shù)卦O(shè)定沿著此時(shí)的第1方向的視場(chǎng)間隔與投影區(qū)域間隔。因此，即使使用不同行的投影光學(xué)系統(tǒng)，亦可將圖案良好地轉(zhuǎn)印于板上。又，根據(jù)本發(fā)明的掃描曝光裝置，具備不會(huì)使透鏡產(chǎn)生與光軸非對(duì)稱的變形的高精度的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)及反射折射光學(xué)裝置，因此，可以進(jìn)行良好的曝光。又，反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)及反射折射光學(xué)裝置具有放大倍率，因此，可以避免光罩的大型化，且可以實(shí)現(xiàn)光罩的制造成本的降低。又，根據(jù)本發(fā)明的微元件的制造方法，可以避免光罩的大型化的同時(shí)，使用大型基板來制造微元件，因此，可以低成本地制造微元件。[實(shí)施例]以下說明實(shí)施例1及實(shí)施例2。表1、表2表示實(shí)施例1、實(shí)施例2的反射折射光學(xué)系統(tǒng)PLIO、PL20的光學(xué)構(gòu)件的各種要素。表l、表2的光學(xué)構(gòu)件各種要素中，分別表示為第1行(column)的面編號(hào)是沿著來自物體側(cè)的光線前進(jìn)方向的面的順序，第2行是各面的曲率半徑(mm)，第3行的面間隔是光軸上的面間隔(mm),第4行是對(duì)光學(xué)構(gòu)件的硝材的g線的折射率，第5行是對(duì)光學(xué)構(gòu)件的硝材的h線的折射率，第6行是對(duì)光學(xué)構(gòu)件的硝材的i線的折射率。(實(shí)施例1)如圖11所示，反射折射光學(xué)系統(tǒng)PL10具備凹面反射鏡CCM、第1透鏡群G1、第2透鏡群G2、第3透鏡群G3、第1偏向構(gòu)件FM1、以及第2偏向構(gòu)件FM2。此處第1透鏡群Gl包括凹面朝向光罩M的正彎月透鏡(positivemeniscuslens)L10、四面朝向光罩M的負(fù)彎月透4竟(negativemeniscuslens)Lll、以及凹面朝向光罩M的負(fù)彎月透鏡L12。第2透鏡群G2包括雙凸透鏡(biconvexlens)L13、凹面朝向光罩M的負(fù)彎月透鏡Ll4、雙凹透鏡(biconcavelens)L15、以及凹面朝向光罩M的正彎月透4竟L16。第3透鏡群G3包括凹面朝向板P的負(fù)彎月透鏡L17、凹面朝向板P的正彎月透鏡L18、以及雙凸透鏡L19而構(gòu)成。表示實(shí)施例1的反射折射光學(xué)系統(tǒng)PLIO的各種要素的值如下。(各種要素)投影倍率2.4倍像側(cè)NA:0.05625物體側(cè)NA:0.135<象場(chǎng)4)228mm視場(chǎng)4)95mm條件式的對(duì)應(yīng)值f3/fl=1430/600=2.38(表l)(光學(xué)構(gòu)件各種要素)[表l]<table>tableseeoriginaldocumentpage20</column></row><table>圖12及圖13表示反射折射光學(xué)系統(tǒng)PL10的像差圖。此處，圖12a表示球面像差，12b表示像面彎曲，12c表示畸變(distortion)像差，12d表示倍率色差，圖13表示光線像差。如該多個(gè)圖所示，反射折射光學(xué)系統(tǒng)PL20中，可以良好地修正像差。(實(shí)施例2)如圖14所示，反射折射光學(xué)系統(tǒng)PL20具備凹面反射鏡CCM、第l透鏡群G1、第2透鏡群G2、第3透鏡群G3、第1偏向構(gòu)件FM1、以及第2偏向構(gòu)件FM2。此處，第1透鏡群G1包括凹面朝向光罩M的正彎月透鏡L20、凹面朝向光罩M的負(fù)彎月透4竟L21、以及凹面朝向光罩M的負(fù)彎月透鏡L22。第2透鏡群G2包括雙凸透鏡L23、凹面朝向光罩M的負(fù)彎月透鏡L24、雙凹透鏡L25、以及凹面朝向光罩M的正彎月透鏡L26。第3透鏡群G3包括凹面朝向板P的負(fù)彎月透鏡L27、凹面朝向板P的負(fù)彎月透鏡L28、以及雙凸透鏡L29。表示實(shí)施例2的反射折射光學(xué)系統(tǒng)PUO的各種要素的值如下。(各種要素)投影倍率2.0倍像側(cè)NA:0.069物體側(cè)NA:0.138{象場(chǎng)c|)240mm一見場(chǎng)c])120mm條件式的對(duì)應(yīng)值f3/fl=1321/642=2.06(表2)(光學(xué)構(gòu)件各種要素)[表2]d33.20n(g)n(h)n(i)-4051.5721.75"80321.482731.備7-175.172.281-174.5429.841.594151.600861,61279-240.704.501-191.9755.181.柳321.48273"8677-212.24281.831417.4235.131.480321.482731.48677-551.984151-483.5913.521.466711.469641.47456-828.34133.621-777.779.271.466711.469641.47456399.4640.421-331.2125.931.480321.482731.48677-250.695.801-1052.13-5.80一1-250.69-25.93-，48032-1.48273-1.48677-331.21-40.42—1399.46-9.27-1.46671-1.46964-1.47456-777.77-133.62一1-828.34-13.52-1.46671-1.46964-1.47456-483.59-4.15一1-551.98-35.13-1.48032-1.48273-1.48677417.42ooCOtvjfON>btob_j-854.96-30.05-1.59415-1.60086-1.61279-535.59-82.36_1-332.43-70.04-1.59415-1.60086-1.61279-321.50-18.77一1-440.56-36.04-1.48032-1.48273-1.486778692,01-85.64_1圖15及圖16表示反射折射光學(xué)系統(tǒng)PL20的像差圖。此處，圖15a表示球面像差，15b表示像面彎曲，15c表示畸變像差，15d表示倍率色差，圖16表示光線像差。如該多個(gè)圖所示，反射折射光學(xué)系統(tǒng)PL20中，可以良好地j'務(wù)正^象差。再者，以上所說明的實(shí)施形態(tài)是為了易于理解本發(fā)明而揭示，而非是為了限定本發(fā)明而揭示的內(nèi)容。因此，實(shí)施形態(tài)中所揭示的各要素是亦包含屬于本發(fā)明的技術(shù)范圍的所有設(shè)計(jì)變更、或均等物的意旨。又，本揭示與于2006年3月20曰提出的日本專利申請(qǐng)案2006-76011號(hào)、及于2007年1月16日提出的日本專利申請(qǐng)案2007-6655號(hào)中所包含的主題相關(guān)聯(lián)，此處，該揭示的所有內(nèi)容作為參照事項(xiàng)而明白地編入。本發(fā)明可以較佳地用于反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)、反射折射光學(xué)裝置、掃描曝光裝置、以及使用該掃描曝光裝置的微元件的制造方法，上述反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)及反射折射光學(xué)裝置將光罩(mask、reticle)等的像投影至基板等上，上述掃描曝光裝置將第1物體的像投影曝光于第2物體上。以上所迷，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本發(fā)明作任何形式2341067890123456789012345678901111t111111222222222233上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的方法及技術(shù)內(nèi)容作出些許的更動(dòng)或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但是凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。權(quán)利要求1、一種掃描曝光裝置，其一邊將配置于第1面上的第1物體的像投影至配置于第2面上的第2物體上，一邊使上述第1物體的像與上述第2物體的位置關(guān)系于掃描方向上變化，一邊將上述第1物體的圖案轉(zhuǎn)印曝光于上述第2物體上，其特征在于其包括第1投影光學(xué)系統(tǒng)，于上述第1面上具有第1視場(chǎng)，根據(jù)來自該第1視場(chǎng)的光，將上述第1物體的一部分放大像投影至第2面上的第1投影區(qū)域內(nèi)；以及第2投影光學(xué)系統(tǒng)，于上述第1面上具有第2視場(chǎng)，根據(jù)來自該第2視場(chǎng)的光，將上述第1物體的一部分放大像投影至第2面上的第2投影區(qū)域內(nèi)，且上述第1投影光學(xué)系統(tǒng)包括第1光束傳送部，上述第1光束傳送部沿著與連接上述第1面與上述第2面的軸線方向交叉的第1方向，傳送來自上述第1視場(chǎng)的光，自上述軸線方向觀察，上述光導(dǎo)向位于上述第1視場(chǎng)的上述第1方向側(cè)的上述第1投影區(qū)域，上述第2投影光學(xué)系統(tǒng)包括第2光束傳送部，上述第2光束傳送部，沿著與上述第1方向相反方向的第2方向，傳送來自上述第2視場(chǎng)的光，自上述軸線方向觀察，上述光導(dǎo)向位于上述第2視場(chǎng)的上述第2方向側(cè)的上述第2投影區(qū)域，當(dāng)將第1間隔設(shè)為Dm、將第2間隔設(shè)為Dp、將上述第1及第2投影光學(xué)系統(tǒng)的倍率設(shè)為β時(shí)，滿足Dp＝β×Dm，其中第1間隔是沿著上述第1視場(chǎng)與上述第2視場(chǎng)的上述第1面上的上述掃描方向的間隔，第2間隔是沿著上述第1投影區(qū)域與上述第2投影區(qū)域的上述第2面上的上述掃描方向的間隔。2、根據(jù)權(quán)利要求l所述的掃描曝光裝置，其特征在于所述的第l投影光學(xué)系統(tǒng)的上述第1方向上的放大倍率以及上述第2投影光學(xué)系統(tǒng)的上述第2方向上的放大倍率超過+1。3、根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描曝光裝置，其特征在于與所述第1方向正交的第3方向上的上述第1投影光學(xué)系統(tǒng)的放大倍率以及與上述第2方向正交的第4方向上的上述第2投影光學(xué)系統(tǒng)的放大倍率低于-1。4、根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的掃描曝光裝置，其特征在于從與所述掃描方向正交的方向觀察，沿著上述第1方向連接上述第1視場(chǎng)區(qū)域與上述第1投影區(qū)域的第1線段、與沿著上述第2方向連接上述第2視場(chǎng)區(qū)域與上述第2投影區(qū)域的第2線段彼此未重疊。5、根據(jù)權(quán)利要求1至4項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的掃描曝光裝置，其特征在于所述第1光束傳送部與上述第2光束傳送部使射入至各個(gè)光束傳送部的光的前進(jìn)方向、與自各個(gè)光束傳送部射出的光的前進(jìn)方向彼此平行。6、根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的掃描曝光裝置，其特征在于所述第1光束傳送部與上述第2光束傳送部分別包括多個(gè)反射面。7、一種掃描曝光裝置，其一邊將第l物體的像投影至第2物體上，一邊使上述第1物體的像與上述第2物體的位置關(guān)系于掃描方向上變化，一邊將上述第1物體的圖案轉(zhuǎn)印曝光于上述第2物體上，其特征在于其包括第1行投影光學(xué)系統(tǒng)，包括于第1行上分別具有視場(chǎng)的多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)，上述第1行沿著橫切上述掃描方向的方向，即，非掃描方向；以及第2行投影光學(xué)系統(tǒng)，包括于與上述第1行不同的第2行上分別具有視場(chǎng)的多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)，上述第2行是沿著上述非掃描方向的行，且上述第l行投影光學(xué)系統(tǒng)于上述第2面上的第3行上，形成與上述第1行投影光學(xué)系統(tǒng)的上述多個(gè)視場(chǎng)共軛的多個(gè)投影區(qū)域，上述第2行投影光學(xué)系統(tǒng)于上述第2面上的第4行上，形成與上述第2行投影光學(xué)系統(tǒng)的上述多個(gè)視場(chǎng)共軛的多個(gè)投影區(qū)域，當(dāng)將第1間隔設(shè)為Dm、將第2間隔設(shè)為Dp、將上述第1及第2投影光學(xué)系統(tǒng)的倍率設(shè)為P時(shí)，滿足Dp=(3xDm,其中上述第1間隔是沿著上述第1行與上述第2行的上述第1面上的上述掃描方向的間隔，上述第2間隔是沿著上述第3行與上述第4行的上述第2面上的上述掃描方向的間隔。8、根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的掃描曝光裝置，其特征在于所述第1方向與上述掃描方向大致平行。9、一種反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，以放大的投影倍率，將配置于第l面上的第1物體的像形成于配置于第2面上的第2物體上，其特征在于其包括凹面反射鏡，配置于上述第1面與上述第2面之間的光路中；第l透鏡群，配置于上述第1面與上述凹面反射鏡之間的光路中；第2透鏡群，配置于上述第l透鏡群與上述凹面反射鏡之間的光路中；第1偏向構(gòu)件，配置于上述第2透鏡群與上述第2面之間的光路中，且使光偏向，以橫切上述第l透鏡群的光軸；第2偏向構(gòu)件，配置于上述第l偏向構(gòu)件與上述第2面之間的光路中；以及第3透鏡群，配置于上述第2偏向構(gòu)件與上述第2面之間的光路中，且具有與上述第l透鏡群的光軸大致平行的光軸。10、根據(jù)權(quán)利要求9所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述第1面與上述第2面的距離大于上述第1面與上述凹面反射鏡的距離。11、根據(jù)權(quán)利要求9或IO所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述的光學(xué)構(gòu)件以其光軸與重力方向平行的方式而配置著，上述光學(xué)構(gòu)件構(gòu)成上述第1透鏡群、上述第2透鏡群、以及上述第3透鏡群，且具有折射能力。12、根據(jù)權(quán)利要求9至11中任一項(xiàng)所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于其更包括孔徑光圈，上述孔徑光圈配置于上述凹面反射鏡與上述第2透鏡群之間的光路中，用以規(guī)定上述反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)的上述第2面?zhèn)葦?shù)值孔徑，且該孔徑光圈以上述第1面?zhèn)燃吧鲜龅?面?zhèn)却笾率沁h(yuǎn)心的方式而定位著。13、根據(jù)權(quán)利要求9至12中任一項(xiàng)所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，其中當(dāng)將上述第l透鏡群的焦點(diǎn)距離設(shè)為fl、將上述第3透鏡群的焦點(diǎn)距離設(shè)為f3、將上述投影光學(xué)系統(tǒng)的倍率設(shè)為P時(shí)，滿足0.8xI(3Isn/flSl.25xIpIIP1^1.8。14、根據(jù)權(quán)利要求9至13中任一項(xiàng)所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述反射折射^:影光學(xué)系統(tǒng)包括光學(xué)特性調(diào)整^4勾。15、根據(jù)權(quán)利要求14所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，其中上述光學(xué)特性調(diào)整機(jī)構(gòu)配置于上述凹面反射鏡與上述第2面之間的光路中。16、根據(jù)權(quán)利要求9至15中任一項(xiàng)所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)將上述第1物體的一次像形成于上述第2面上。17、一種反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)，以放大的投影倍率，將配置于第1面上的第1物體的像形成于配置于第2面上的第2物體上，其特征在于其包括凹面反射鏡，配置于上述第1面與上述第2面之間的光路中；多個(gè)透鏡，配置于上述第1面與上述第2面之間的光路中；以及光學(xué)特性調(diào)整機(jī)構(gòu)，配置于上述反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)的光瞳位置與上述第2面之間。18、一種反射折射光學(xué)裝置，包括形成上述第1面的中間像的第1成像光學(xué)系統(tǒng)、以及使上述中間像與上述第2面成光學(xué)共軛的第2成像光學(xué)系統(tǒng)，上述反射折射光學(xué)裝置的特征在于上述第1成像光學(xué)系統(tǒng)與上述第2成像光學(xué)系統(tǒng)的至少一個(gè)，藉由申請(qǐng)專利范圍第9項(xiàng)至第17項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)而構(gòu)成。19、一種掃描曝光裝置，其一邊使投影裝置、與上述第1物體及上述第2物體的位置關(guān)系于掃描方向上變化，一邊將上述第1物體的圖案轉(zhuǎn)印曝光于上述第2物體上，上述投影裝置將配置于第1面上的第1物體的像投影至配置于第2面上的第2物體上，其特征在于所述投影裝置包括第1投影光學(xué)裝置以及第2投影光學(xué)裝置，上述第1投影光學(xué)裝置于上述掃描方向上，定位于第1位置，上述第2投影光學(xué)裝置于上述掃描方向上，定位于與上述第l位置不同的第2位置，且上述第l及第2投影光學(xué)裝置包括申請(qǐng)專利范圍第9項(xiàng)至第17項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的反射折射投影光學(xué)系統(tǒng)、或申請(qǐng)專利范圍第18項(xiàng)所述的反射折射光學(xué)裝置。20、根據(jù)權(quán)利要求19所述的掃描曝光裝置，其特征在于所述第l及第2投影光學(xué)裝置以上述第l及第2投影光學(xué)裝置的上述第2物體側(cè)的間隔大于上述第1物體側(cè)的間隔的方式而配置著。21、根據(jù)權(quán)利要求1至8、19及20中任一項(xiàng)所述的掃描曝光裝置，其中上述第2物體是外徑大于500mm的感光基板。22、一種微元件的制造方法，其特征在于包括曝光步驟，使用申請(qǐng)專利范圍第l項(xiàng)至第8項(xiàng)、第19項(xiàng)及第20項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的掃描曝光裝置，將光罩圖案曝光于感光基板上；以及顯影步驟，使經(jīng)上述曝光步驟曝光的上述感光基板顯影。全文摘要本發(fā)明是有關(guān)于一種掃描曝光裝置，其一邊將配置于第1面上的第1物體的像投影至配置于第2面上的第2物體上，一邊使上述第1物體的像與上述第2物體的位置關(guān)系于掃描方向上變化，一邊將上述第1物體的圖案轉(zhuǎn)印曝光于上述第2物體上，上述掃描曝光裝置包括第1投影光學(xué)系統(tǒng)以及第2投影光學(xué)系統(tǒng)，上述第1投影光學(xué)系統(tǒng)于上述第1面上具有第1視場(chǎng)，根據(jù)來自該第1視場(chǎng)的光，將上述第1物體的一部分放大像投影至第2面上的第1投影區(qū)域，上述第2投影光學(xué)系統(tǒng)于上述第1面上具有第2視場(chǎng)，根據(jù)來自該第2視場(chǎng)的光，將上述第1物體的一部分放大像投影至第2面上的第2投影區(qū)域；上述第1投影光學(xué)系統(tǒng)包括第1光束傳送部，該第1光束傳送部沿著與連接上述第1面與上述第2面的軸線方向交叉的第1方向，傳送來自上述第1視場(chǎng)的光，自上述軸線方向觀察，上述光導(dǎo)向位于上述第1視場(chǎng)的上述第1方向側(cè)的上述第1投影區(qū)域，上述第2投影光學(xué)系統(tǒng)包括第2光束傳送部，該第2光束傳送部沿著與上述第1方向相反方向的第2方向，傳送來自上述第2視場(chǎng)的光，自上述軸線方向觀察，上述光導(dǎo)向位于上述第2視場(chǎng)的上述第2方向側(cè)的上述第2投影區(qū)域，當(dāng)將第1間隔設(shè)為Dm、將第2間隔設(shè)為Dp、將上述第1及第2投影光學(xué)系統(tǒng)的倍率設(shè)為β時(shí)，則滿足Dp＝β×Dm，其中上述第1間隔是沿著上述第1視場(chǎng)與上述第2視場(chǎng)的上述第1面上的上述掃描方向的間隔，上述第2間隔是沿著上述第1投影區(qū)域與上述第2投影區(qū)域的上述第2面上的上述掃描方向的間隔。文檔編號(hào)G02B13/24GK101405659SQ20078000967公開日2009年4月8日申請(qǐng)日期2007年2月23日優(yōu)先權(quán)日2006年3月20日發(fā)明者加藤正紀(jì)申請(qǐng)人:株式會(huì)社尼康