專利名稱：：具有其低折射率層與高折射率層的厚度比優(yōu)化的耐溫抗反射涂層的光學(xué)制品的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種包括涂有多層透明抗反射(AR)涂層且具有改善的熱阻和良好的耐磨損性的基材的光學(xué)制品，特別是眼用透鏡和這種光學(xué)制品的制造方法。
背景技術(shù)：
：在透鏡基材如眼用透鏡或透鏡坯(lensblank)的至少一個(gè)主表面上涂布若干用于賦予最終透鏡額外或改進(jìn)的光學(xué)或機(jī)械性質(zhì)的涂層是本領(lǐng)域常用技術(shù)。這些涂層一般稱作功能涂層。因此，在典型由有機(jī)玻璃材料制得的透鏡基材的至少一個(gè)主表面上依次涂布(從該透鏡基材的表面起)耐沖擊涂層(耐沖擊底層)、耐磨損和/或耐刮傷涂層(硬涂層)、抗反射涂層和任選防污頂涂層是通常技術(shù)。在透鏡基材的一個(gè)或兩個(gè)表面上也可以施加其它涂層如偏振涂層、光致變色或染色涂層?？狗瓷渫繉佣x為當(dāng)沉積在光學(xué)制品的表面上時(shí)改善其抗反射性的涂層。它減少相對(duì)寬的可見光譜波段的光在制品_空氣界面的反射?？狗瓷渫繉邮枪?，并且傳統(tǒng)地包括介電材料如Si02、SiO、A1203、MgF2、LiF、Si3N4、Ti<32、ZK)2、Nb2Os、Y203、Hf02、Sc203、Ta2Os、Pr203及其混合物的單層或多層堆疊。它們的性質(zhì)一般是無機(jī)的。還公知抗反射涂層優(yōu)選是包括高折射率層(HI)和低折射率層(LI)交替的多層涂層。還已知在基材與第一抗反射層之間插有亞層，以改進(jìn)所述涂層的耐磨損性和/或耐刮傷性和它對(duì)基材的粘附。一般地，傳統(tǒng)抗反射(AR)涂層具有高達(dá)約70。C的令人滿意的耐熱性。在該溫度以上，AR疊層中，特別在光學(xué)制品的基材表面可能出現(xiàn)破裂，而這會(huì)損壞AR涂層。在本專利申請(qǐng)中，開始觀察到制品或涂層中的破裂時(shí)的溫度稱作臨界溫度(Tc)。在有機(jī)玻璃基材(合成樹脂)的情況下，抗反射涂層(任選包括亞層)的沉積必須通過適度溫度處理工藝進(jìn)行，以避免基材惡化。在礦物玻璃基材的情況下，這種注意沒有用。較低溫度處理的結(jié)果在有機(jī)玻璃基材情況下一般是AR涂層耐久性低。而且，有機(jī)玻璃基材(經(jīng)涂布或未經(jīng)涂布的)具有比構(gòu)成抗反射涂層的各層或亞層的無機(jī)材料高的熱膨脹系數(shù)。結(jié)果是它們導(dǎo)致可能形成高應(yīng)力的制品。這種應(yīng)力可能在升高溫度時(shí)在AR涂層中產(chǎn)生肉眼可見的破裂或剝落。這種現(xiàn)象在有機(jī)基材基于二乙二醇二(碳酸烯丙基酯)單體、環(huán)硫化物單體(折射率論1.70的材料)或聚硫氨酯(折射率n等于或高于1.60的材料)時(shí)特別值得注意。在文獻(xiàn)中可以找到改善光學(xué)制品臨界溫度的不同方式。美國專利申請(qǐng)2005/0219724描述了涂有多層介電膜(如抗反射涂層)，包括交替的高折射率層(Ti02)和低折射率層(摻雜少量Ah03的Si02，n=1.47)的光學(xué)制品。根據(jù)該文獻(xiàn)，使用Si(VAl203混合物而不是Si02可以減小LI層的應(yīng)力，并因此減小基材表面出現(xiàn)破裂的可能性。日本專利H05-011101(HoyaCorporation)描述了初始具有良好的熱阻，并且耐熱性在若干個(gè)月之后保持在高水平的光學(xué)制品的制備。這兩種特性通過使用在基材與包括HI層和LI層的多層AR涂層之間插入的折射率為1.48—1.52的Si02/Al203亞層來獲得。某些LI層由Ta205+Y203+Si02和任選A1203的混合物構(gòu)成，得到1.61—1.62的折射率，這對(duì)于LI層相對(duì)高。該特定亞層將破裂出現(xiàn)的臨界溫度提高到初始階段100—105°C。曰本專利H05-034502是后一日本專利變化方案，其中Si02/Al203亞層替換為Si02/Ta205/Si02/Al203混合物的3層亞層。對(duì)于二乙二醇二(碳酸烯丙基酯)基材，光學(xué)制品的臨界溫度升到初始階段時(shí)95-120。C。日本專利H14-122820(SeikoEpsonCorporation)描述了涂有物理厚度為89-178nm(光學(xué)厚度520nm下0.25-0.5X)的Si02亞層和ZrCVSi02/Zr02/Si024層抗反射涂層的硬涂布基材。根據(jù)該文獻(xiàn)，高臨界溫度可以通過能夠平衡各種材料層之間的應(yīng)力和涂層厚度來達(dá)到。但是，僅被研究的^UlL亞層厚度。其厚度應(yīng)該要使得(Si02層，包括亞層，的物理厚度之和)/(Zr02層的物理厚度之和)的比為2-3。據(jù)說不期望更高的比率，因?yàn)锳R涂層的耐久性降低。實(shí)際上，如果計(jì)算中不考慮物理厚度大于或等于100nm的亞層，則實(shí)施例中LI/HI比小于或等于2。歐洲專利申請(qǐng)EP1184685(HoyaCorporation)描述了具有塑料基材和耐熱性好的或AR膜的光學(xué)元件。該制品提供有Nb(金屬鈮)或Si02亞層以促進(jìn)塑料基材與AR膜之間的粘附。存在2個(gè)條件來實(shí)現(xiàn)良好的耐熱性i)使用X/2的特定層，其必須是包括至少3個(gè)層且折射率為1.80-2.40的等同膜；ii)該等同膜的偶數(shù)層必須是Si02層。歐洲專利申請(qǐng)EP1184686(HoyaCorporation)描述了這樣的光學(xué)元件，它包括塑料基材和依次設(shè)置在其上的含金屬鈮(Nb)亞層和抗反射膜。所述亞層負(fù)責(zé)塑料基材與抗反射涂層之間的高粘附性以及優(yōu)異的耐熱性和耐沖擊性。據(jù)教導(dǎo)Si02亞層降低光學(xué)元件的熱阻。耐溫的可商購抗反射疊層也已知。Essilor提供的NeomultidiafalnMD是各層厚度為12、54、28和102nm的Zr02/Si02/Zr02/Si024層涂層。所述涂層按順序沉積在涂有耐磨損涂層的01^厶@基材(Essilor的基于1-39@單體的聚碳酸酯基材)上。所得光學(xué)制品具有110。C的臨界溫度。但是，兩面涂有該商購抗反射疊層的光學(xué)制品具有高達(dá)2.3%(每面1.15%)的在可見光范圍(3別-780nm)的平均發(fā)光反射系數(shù)Rv。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的第一目的是提供一種包括具有無機(jī)抗反射涂層的有機(jī)或礦物玻璃基材的透明光學(xué)制品，優(yōu)選透鏡，更優(yōu)選眼用鏡片透鏡，其對(duì)熱和溫度變化具有改進(jìn)的耐受性，即具有高的臨界溫度，并且可替代已知耐熱AR涂布的光學(xué)制品。這種耐破裂的無機(jī)抗反射涂層如果施加在半成品透鏡的第一面上，一般是前(凸)面上特別受關(guān)注，因?yàn)榻又梢酝ㄟ^旋涂在透鏡的第二面上(一般在背面)沉積AR涂層，隨后在升高的溫度下固化而不會(huì)使前面的AR變化。本發(fā)明的第二目的是提供一種具有這種臨界溫度高(75-110°C)的AR涂層的光學(xué)制品，這種涂層不會(huì)降低所述制品的光學(xué)和機(jī)械性能，例如顏色和抗反射性能、可清潔性、層對(duì)基材的粘附性、耐磨損性和耐腐蝕性。特別地，光學(xué)制品應(yīng)該對(duì)熱水中浸泡，以及隨后的機(jī)械表面應(yīng)力具有良好的耐受。除此以外，它的平均發(fā)光反射系數(shù)Rv應(yīng)該盡可能低。此外，臨界溫度應(yīng)該即使在長時(shí)間之后仍保持在高水平。本發(fā)明的另一目的是提供制造上述制品的方法，這種方法能夠容易地整合到傳統(tǒng)制造鏈中并避免加熱基材。各層的沉積可能在20。C-30"€的溫度下進(jìn)行。本發(fā)明發(fā)明人已發(fā)現(xiàn)這些問題能通過優(yōu)化(抗反射疊層的低折射率層的總物理厚度)/(抗反射疊層的高折射率層的總物理厚度)之比，或在AR疊層包括至少一個(gè)物理厚度^100nm且不是AR疊層最外層的LI層時(shí)稍微不同的比率來解決。相比較所述比率低的傳統(tǒng)抗反射疊層，本發(fā)明的抗反射疊層具有更高的比率和更高的臨界溫度，而同時(shí)表現(xiàn)出高的耐磨損性。本發(fā)明涉及具有抗反射性的光學(xué)制品，其包括具有至少一個(gè)涂有多層抗反射涂層的主面的基材，所述多層抗反射涂層包括至少一個(gè)高折射率層和至少一個(gè)低^斤射率層的疊層，其中-^f氐折射率層的折射率為1.55或更低；-各高折射率層的折射率高于1.55，并且該層不包含五氧化二鈮(Nb2Os);-光學(xué)制品的所述經(jīng)涂布主面的平均發(fā)光反射系數(shù)rVS1%;以及(a)抗反射涂層在所述涂層最外層以下的低折射率層各具有小于100nm的物理厚度，比率R抗反射涂層的低折射率層的物理厚度之和T抗反射涂層的高折射率層的物理厚度之和大于2.1，并且抗反射涂層不包括含鈮(Nb)亞層；或者(b)抗反射涂層包括-至少一個(gè)物理厚度a00nm且不是抗反射涂層最外層的低折射率層，和—至少一個(gè)高折射率i和至少一個(gè)低折射率層，它們位于所述物理厚度$100nm且不是距基材最遠(yuǎn)的抗反射涂層最外層的低折射率層上方，并且比率r抗反射涂層的低折射率層的物理厚度之和t—抗反射涂層的高折射率層的物理厚度之和大于2.1，條件是所述比率rt計(jì)算中所考慮的抗反射涂層的各層僅是位于所述物理厚度^100nm且不是距基材最遠(yuǎn)的抗反射涂層最外層的低折射率層上方的各層。本發(fā)明的另一目的是提供制造以上光學(xué)制品的方法，包括如下步驟-提供具有兩個(gè)主面的光學(xué)制品；-在所述光學(xué)制品的至少一個(gè)主面上形成如上所述，任選包括亞層的抗反射涂層；其中抗反射涂層的各層通過真空沉積來沉積。本發(fā)明的另一目的是提供一種獲得這樣的光學(xué)制品的方法，該光學(xué)制品包括具有至少一個(gè)涂有多層抗反射涂層的主面且臨界溫fe75。C的基材，其中所述抗反射涂層的RT比率大于2.1,Rt定叉如上，并滿足以上條件。本發(fā)明的另一目的是在沉積到光學(xué)制品基材的至少一個(gè)主面上的多層抗反射涂層中應(yīng)用大于2.1的Rt比率，以獲得臨界溫度^75。C的光學(xué)制品，Rt定叉如上，并滿足以上條件。本發(fā)明的其它目的、特征和優(yōu)點(diǎn)從下面的詳細(xì)描述中將變得明了。但應(yīng)該理解到詳細(xì)描述和特定實(shí)施例雖然說明本發(fā)明的特定實(shí)施方案，但僅是舉例給出，因?yàn)樵诒景l(fā)明精神和范圍內(nèi)的各種變化和修改對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員在該詳細(xì)描述的基礎(chǔ)上是顯而易見的。本發(fā)明的詳細(xì)描述和優(yōu)選實(shí)施方案術(shù)語"包括"(及其任何語法變化形式，如"包括的")、"具有"(及其任何語法變化形式，如"具有的")、"包含"(及其任何語法變化形式，如"包含的"、"含")和"含有"(及其任何語法變化形式，如"含有的"、"含，，)都是開放式用詞。它們用來說明所述特征、整數(shù)、步驟或其組分或基團(tuán)的存在，但不排除一種或多種其它特征、整數(shù)、步驟或其組分或基團(tuán)的存在或加入。因此，"包括"、"具有"、"包含"或"含有"一個(gè)或多個(gè)步驟或要素的方法或方法中的步驟具備所述一個(gè)或多個(gè)步驟或要素，但不限于僅具備所述一個(gè)或多個(gè)步驟或要素。除非另有說明，本文所用表示成分的量、反應(yīng)條件等的所有數(shù)字或用語要理解為在所有情況下用術(shù)語"約"修飾。本文術(shù)語"透鏡，，指有機(jī)或礦物玻璃透鏡，包括可以涂有一個(gè)或多個(gè)各種性質(zhì)涂層的透鏡基材。當(dāng)光學(xué)制品包括一個(gè)或多個(gè)表面涂層時(shí)，術(shù)語"在光學(xué)制品上沉積層"是指在光學(xué)制品的最外涂層上沉積層。術(shù)語"AR涂層，，和"AR疊層"具有相同意義。"抗反射涂層的最外層"是指距基材最遠(yuǎn)的抗反射涂層的層。"抗反射涂層的最內(nèi)層"是指距基材最近的抗反射涂層的層。"抗反射涂層的內(nèi)層，，是指抗反射涂層除了所述AR涂層最外層以外的任何層。"層2下方的層l"理解為層2距基材比層1遠(yuǎn)。"層2上方的層l"理解為層2距基材比層1近。在本發(fā)明中，抗反射涂層設(shè)計(jì)具有盡可能高的RT比率，以增加光學(xué)制品的耐溫性。實(shí)際上，已經(jīng)建立臨界溫度與上述RT比率之間的關(guān)系。不希望囿于任何特定理論，申請(qǐng)/4目信AR疊層破裂開始于高折射率層內(nèi)部。為變得可見，這種破裂必須在AR涂層內(nèi)部蔓延，使其尺寸增大?？梢越⑶疑暾?qǐng)人未涉及過的假設(shè)是LI層具有比HI層好的耐伸長性，并且如果它們的厚度足夠則可以限制破裂。結(jié)果，必須具有高的按AR疊層整體計(jì)算的物理厚度Rt比率，除非AR疊層中存在100nm或更厚的LI內(nèi)層。實(shí)際上，如果抗反射涂層內(nèi)部存在高厚度LI層(厚度高于100nm)，則它可以阻止破裂芟延。在這種情況下，RT比率必須基于疊層的上部分，即不考慮所述高厚度LI層及其下面的層來計(jì)算。如果存在若干高厚度LI層，則RT基于疊層的位于物理厚度^100nm且不是距基材最遠(yuǎn)的抗反射涂層最外層的厚低折射率層上方的部分來計(jì)算?？梢越⑶疑暾?qǐng)人未涉及過的另一假設(shè)是光學(xué)疊層的結(jié)構(gòu)，特別是各材料的物理厚度比會(huì)影響該疊層的應(yīng)力狀態(tài)。壓縮應(yīng)力(LI層處在壓縮下)越高，臨界溫度越好。值得注意的是在本申請(qǐng)中，單層或多層亞層(它們是任選的構(gòu)成部分)視為抗反射疊層的部分，即使它們對(duì)光學(xué)制品的抗反射性質(zhì)沒有貢獻(xiàn)。因此，RT計(jì)算中考慮任選的亞層的層厚，除非所述層位于物理厚度^100nm且不是抗反射涂層最外層的低折射率層下方或除非所述層是物理厚度aoonm的低折射率層。在后一情況下，位于物理厚度aOOnm的亞層LI層下方的層以及物理厚度^100nm的亞層LI層的厚度在Rr計(jì)算中不被考慮。還值得注意的是AR疊層的最外層可以是100nm或M的LI層(在這種情況下，RT計(jì)算考慮它)。除非另有說明，本專利申請(qǐng)中所提到的所有厚度都是物理厚度。Rr優(yōu)選大于或等于下面任一值2.15、2.2、2.25、2,3、2.35、2,4、2.45、2.5、2.75、3、3.5、4。根據(jù)本發(fā)明涂布的制品的臨界溫度優(yōu)選&75。C，更優(yōu)選&80。C，甚至更好&85。C,最好&90。C。如本文所用，低折射率層意指折射率為1.55或更低，優(yōu)選低于1.50，甚至更好低于1.45的層，高折射率層意指折射率高于1.55,優(yōu)選高于1.6,更優(yōu)選高于1.8，甚至更好高于2的層，二者都在550nm的參考波長下測(cè)得。除非另有說明，本專利申請(qǐng)中所述的所有折射率都是25'C，X=550nm下測(cè)得。HI層是傳統(tǒng)的高折射率層，可以包含但不限于一種或多種礦物氧化物如1102、PrTi03、LaTK)3、Zr02、Ta2Os、Y203、Ce203、La203、Dy2Os、Nd2Os、Hf02、Sc203、Pr203或Ah03或Si3N4及其混合物，優(yōu)選1102或PrTi03。HI層可以任選包含低折射率材料如Si02。顯然，這些化合物的混合物要使得所得層的折射率如上限定(大于1.55)。HI層不包含Nb2Os,并且不是通過蒸發(fā)含Nb2Os的化合物混合物制得。Ti02是最優(yōu)選的HI材料。由于其高折射率(500nm下n-2.35)，HI層的物理厚度可以減小，Rt比率可以増大。在優(yōu)選的實(shí)施方案中，抗反射疊層的至少一個(gè)HI層包含Ti02，優(yōu)選由TK)2構(gòu)成。它優(yōu)選在離子輔助(IAD)下沉積，這會(huì)降低其拉伸強(qiáng)度并增大其折射率。根據(jù)另一優(yōu)選實(shí)施方案，抗^Jt疊層的至少一個(gè)HI層包含PrTi03，優(yōu)選由PrTK)3構(gòu)成。由于其高的熱阻，該氧化物材料特別受關(guān)注。要注意其高的熱阻也可能是高RT比率對(duì)臨界溫度的影響不那么驚人的原因。LI層也是/>知的，可以包含但不限于Si02、MgF2、ZrF4、A1203、A1F3、錐水晶石(Na3Al3F14)、水晶石(Na3[AlF6)或其混合物，優(yōu)選SK)2或摻雜有有助于升高疊層臨界溫度的Al203的Si02。顯然，這些化合物的混合物要使得所得層的折射率如上限定(低于或等于1.55)。當(dāng)使用Si(VAl203混合物時(shí)，LI層優(yōu)選包含相對(duì)于所述層中Si02+Ab03總重量為1-10wt%，更優(yōu)選1-8wt%的A1203。過高量的氧化鋁對(duì)AR涂層的粘附性不利。例如，可以使用摻雜有4wt%或更少A1203的Si02，或摻雜有8wt%A1203的Si02?？缮藤廠i02/Al203混合物也可以使用，例如UmicoreMaterialsAG提供的LIMA(550nm下折射率n=1.48-1.50)，或MerckKGaA提供的物質(zhì)L5(500nm下折射率n=1.48)。最優(yōu)選的LI層材料是摻雜有8wt°/。Al203WSi02。該材料得到臨界溫度達(dá)到最高水平而且甚至在若干個(gè)月之后仍保持的抗反射疊層。所述疊層也是最壓縮的那種。在優(yōu)選的實(shí)施方案中，抗反射涂層的至少一個(gè)LI層包含Si02和A1203混合物，優(yōu)選由Si()2和Ab03混合物構(gòu)成。在另一優(yōu)選實(shí)施方案中，抗反射涂層的所有LI層(如果所述抗反射涂層包括具有至少一個(gè)LI層的亞層，則該亞層的LI層不包括在內(nèi))包含Si02和A1203混合物，優(yōu)選由Si02和A1203混合物構(gòu)成。根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案，AR涂層的最外層是沉積在HI層上的LI層，使得R，T比率(AR涂層最外層的物理厚度)/(AR涂層第二外層的物理厚度)大于或等于2，大于或等于2.1更好，更優(yōu)選大于或等于2.2,甚至更優(yōu)選大于或等于2.5，大于或等于3更好，大于或等于3.5最好，大于或等于4最佳。一般地，HI層具有10-120nm的物理厚度，LI層具有10-100nm的物理厚度。優(yōu)選地，抗反射涂層的總物理厚度小于lpm，更優(yōu)選小于或等于500rnn，小于或等于250nm甚至更好。抗反射涂層的總物理厚度一般大于100nm，優(yōu)選大于150nm。本發(fā)明的抗反射涂層可以包括改善最終光學(xué)制品在至少一部分可見光i普內(nèi)的抗反射性質(zhì)的任何層或?qū)拥亩询B，由此增加透光率并減少表面反射。優(yōu)選地，多層抗^Jt涂層包括至少2個(gè)LI層和至少2個(gè)HI層。優(yōu)選地，抗反射涂層中的總層fc9，優(yōu)選￡7。根據(jù)本發(fā)明的特定實(shí)施方案，抗反射涂層不包括4個(gè)抗反射層。LI層和HI層在AR疊層中不必交替，^T艮據(jù)本發(fā)明特定實(shí)施方案，抗反射涂層可以包括低折射率層和高折射率層的交替堆疊。兩個(gè)或更多個(gè)HI層可以沉積在彼此之上，兩個(gè)或更多個(gè)LI層可以沉積在彼此之上。在優(yōu)選的實(shí)施方案中，多層AR疊層的最外層是低折射率層。任選地，抗反射涂層包括亞層。"亞層"是指一般為改進(jìn)粘附或改進(jìn)耐磨損性和/或耐刮傷性而采用的層。在本專利申請(qǐng)中，AR涂層包括"抗^^射層"和任選包括亞層。所述亞層視為抗反射疊層的部分，但沒有將它稱作"抗反射層"。它插在(棵露的或經(jīng)涂布的)基材與AR涂層的抗反射層(即顯著影響光學(xué)制品的AR性質(zhì)的那些層)之間。亞層一般具有較高的厚度，并且一般不參與抗反射光學(xué)活動(dòng)，一般沒有顯著的光學(xué)效果。亞層在文獻(xiàn)中有時(shí)稱作下層、底下層、底層、基本層、較低層、粘附層、補(bǔ)充層(subbinglayer)或J^5出層。任選地，亞層可以是層合的，即由若干層組成。單層亞層比多層亞層優(yōu)選。亞層的厚度必須足以促進(jìn)抗反射涂層的其它層對(duì)基材的耐磨損性。當(dāng)存在時(shí)，亞層一般形成在耐磨損和/或耐刮傷涂層上。所述亞層的厚度優(yōu)選高于或等于75nm，更優(yōu)選^;80nm，甚至更優(yōu)選2100nm，^120nm更好。其厚度一般小于250nm，優(yōu)選小于200nm。它可以包含一種或多種常規(guī)用于制備亞層的材料，例如一種或多種選自本說明書前述材料中的介電材料。優(yōu)選地，亞層是基于Si02的單層亞層，更優(yōu)選不含Al203。在這種情況下，所述SK)2亞層視為AR疊層的低折射率層。最優(yōu)選地，亞層是由Si02構(gòu)成的單層亞層。在另一優(yōu)選實(shí)施方案中，亞層是由下列層構(gòu)成的多層亞層-一層由Si02構(gòu)成的層，其厚度優(yōu)選大于或等于75nm,更優(yōu)選^80nm，甚至更優(yōu)選^100nm，$120nm更好；和-插在所述由SK)2構(gòu)成的層與光學(xué)制品的基材(可以是經(jīng)涂布基材)之間的至多3層。在另一實(shí)施方案中，亞層由至少一種金屬或金屬氧化物的薄層構(gòu)成，所述薄層厚度為10nm或更小，優(yōu)選5nm或更小。當(dāng)抗反射涂層的在所述涂層最外層下方的低折射率層，即內(nèi)LI層，各自具有小于100nm的物理厚度時(shí)，抗反射涂層不包括含金屬鈮(Nb)的亞層。根據(jù)本發(fā)明的特定實(shí)施方案，本發(fā)明抗反射涂層不包括任何亞層。根據(jù)本發(fā)明的另一特定實(shí)施方案，在抗反射涂層包括至少一個(gè)物理厚度^100nm且不是抗反射涂層最外層的低折射率層的情況下，抗反射涂層不包括含鈮(Nb)的亞層。公知光學(xué)制品具有帶靜電趨勢(shì)，特別在干狀態(tài)下通過用布或聚酯片摩擦其表面以對(duì)其清洗時(shí)。結(jié)果，只要電荷保持在透鏡上，它們就能吸引透鏡附近的小粒子如灰塵并使其固定。本領(lǐng)域已知在抗反射疊層內(nèi)部包括至少一個(gè)導(dǎo)電層，以使抗反射涂布透鏡具有抗靜電性。這有助于快速消散電荷。涂有包括導(dǎo)電層的AR疊層的基材在例如國際專利申請(qǐng)WO01/55752和歐洲專利EP0834092中已有描述。本發(fā)明的光學(xué)制品可以通過在AR疊層內(nèi)并入至少一個(gè)導(dǎo)電層而抗靜電。它優(yōu)選沉積在AR疊層的任選亞層或抗>^射層上。"抗靜電，，是指不會(huì)保留和/或形成可察覺的靜電荷的性質(zhì)。當(dāng)制品在用合適布摩擦之后不吸引或固定灰塵或小粒子時(shí)一般視為具有可接受的抗靜電性。玻璃清空通過用布摩擦或任何其它靜電荷產(chǎn)生過程(通過電暈施加的電荷)而形成的靜電荷的能力可以通過測(cè)量所述電荷消散所需的時(shí)間來量化。因此，抗靜電玻璃具有100毫秒量級(jí)的放電時(shí)間，而靜電玻璃的放電時(shí)間在十分之幾秒量級(jí)。本發(fā)明中導(dǎo)電層可以位于AR涂層中任何位置，M是它不會(huì)明顯損害涂層的抗反射性。它可以是AR涂層的最內(nèi)層，即AR涂層的距光學(xué)制品基材最近的層，或AR涂層的最外層，即AR涂層的距光學(xué)制品基材最遠(yuǎn)的層，或AR涂層的任何內(nèi)層。它優(yōu)選位于低折射率層下方。導(dǎo)電層必須足夠薄以不損害抗反射涂層的透明度。一般地，根據(jù)其性質(zhì)，其厚度為0.1-150nm，0.1-50nm更好。低于0.1nm的厚度一般不能獲得足夠的導(dǎo)電性，而高于150nm的厚度一般不能獲得所需的透明度且吸收性能差。導(dǎo)電層優(yōu)選由導(dǎo)電性且高度透明的材料制得。在這種情況下，其厚度優(yōu)選0.1-30nm，更優(yōu)選l-20nm,1-10nm甚至更好。所述導(dǎo)電性且高度透明的材料優(yōu)選是選自錮氧化物、錫氧化物、鋅氧化物及其混合物的金屬氧化物。優(yōu)選銦-錫氧化物(In203:Sn，摻雜錫的銦氧化物)和錫氧化物(ln203)。根據(jù)本發(fā)明的最優(yōu)選實(shí)施方案，導(dǎo)電且光學(xué)透明層包含銦-錫氧化物，優(yōu)選是錮-錫氧化物層，簡寫為ITO。一般地，導(dǎo)電層貢獻(xiàn)抗反射性且是AR涂層的高折射率層。例子是由導(dǎo)電性且高度透明的材料制得的層如ITO層。導(dǎo)電層也可以是非常薄的貴金屬層，厚度通常是小于lnm,優(yōu)選小于0.5nm。本發(fā)明的光學(xué)制品優(yōu)選是透明光學(xué)制品，更優(yōu)選是透鏡，其可以是成品或半成品，甚至更優(yōu)選是眼用透鏡。該透鏡也可以是偏振透鏡或光致變色透鏡。成品透鏡定義為按其預(yù)定形狀獲得，其兩個(gè)主面都表面化或鑄造成所需幾何形狀的透鏡。其一般通過將可聚合組合物澆到兩個(gè)具有所需表面幾何形狀的模具之間并接著聚合制得。半成品透鏡定義為僅其一個(gè)主面(一般是透鏡的前面)表面化或鑄造成所需幾何形狀的透鏡。佘下的面，優(yōu)選透鏡的后面接著必須表面加工成所需形狀。根據(jù)本發(fā)明，光學(xué)制品包括(優(yōu)選透明的)基材，具有前后主面的礦物或有機(jī)玻璃基材，并且至少一個(gè)主面涂有本發(fā)明的多層抗反射涂層。光學(xué)制品的兩個(gè)主面都可以涂有根據(jù)本發(fā)明的抗反射涂層。在透鏡的情況下，基材的后(背)面(一M凹面)是透鏡基材在使用時(shí)最靠近佩戴者眼睛的面?；牡那懊?一般是凸面)是透鏡基材在使用時(shí)最遠(yuǎn)離佩戴者眼睛的面?；目梢杂傻V物玻璃或有機(jī)玻璃，優(yōu)選有機(jī)玻璃(聚合物基材)制得。有機(jī)玻璃可以由任何當(dāng)前用于有機(jī)眼用透鏡的材料制得，例如熱塑性材料如聚碳酸酯和熱塑性聚氨S旨；或熱固性(交聯(lián))材料，如通過聚合烯丙基衍生物如線性或帶支鏈的脂族或芳族多元醇的碳酸烯丙基酯得到的那些，所述碳酸烯丙基酯例如為乙二醇二(碳酸烯丙酯)、二乙二醇二(碳酸2-甲基烯丙酯)、二乙二醇二(碳酸烯丙酯)、乙二醇二(碳酸2-氯烯丙酯)、三乙二醇二(碳酸烯丙酯)、1，3-丙二醇二(碳酸烯丙酯)、丙二醇二(碳酸2-乙基烯丙酯)、1，3-丁二醇二(碳酸烯丙酯)、1，4-丁二醇二(碳酸2-溴烯丙酯)、二丙二醇二(碳酸烯丙酯)、1，3-丙二醇二(碳酸2-乙基烯丙酯)、1，5-戊二醇二(碳酸烯丙酯)、亞異丙基雙酚A二(碳酸烯丙酯)；基于聚(甲基)丙烯酸酯和共聚物的基材如通過聚合甲基丙烯酸烷基酯，特別是曱基丙烯酸d-C4烷基酯如(曱基)丙烯酸曱酯和(曱基)丙烯酸乙酯得到的基材，包含源自雙酚A的(曱基)丙烯酸類聚合物/共聚物的基材，聚乙氧基化芳族(曱基)丙烯酸酯如聚乙氧基化雙酚酯二(曱基)丙烯酸酯，聚硫代(曱基)丙烯酸酯，熱固性聚氨酯，聚硫氨酯，聚環(huán)氧化物，聚環(huán)硫化物，及它們的共聚物和共混物。特別推薦的基材是聚碳酸酯，特別是通過二乙二醇二(碳酸烯丙酯)聚合或共聚得到的基材，其為PPGINDUSTRIES售賣的商品CR-39(ORMAESSILOR透鏡)。推薦的基材還包括通過聚合硫代(曱基)丙烯酸類單體得到的那些基材，如法國專利申請(qǐng)F(tuán)R2734827中乂^開的那些?；娘@然可以通過聚合以上單體的混合物得到。"(共)聚合物"是指聚合物或共聚物。(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。優(yōu)選的有機(jī)基材是熱膨脹系數(shù)為50.l(T6。C"-180.10-6。C"，優(yōu)選100,106。C—1-180.10-6。C1的那些。AR涂層可以形成在棵露的基材上，或者如果基材涂有表面涂層，則形成在基材的涂層最外層上。根據(jù)本發(fā)明，光學(xué)制品可以包括涂有各種涂層的基材，所迷涂層選自但不限于耐沖擊涂層(耐沖擊底層)、耐磨損和/或耐刮傷涂層(硬涂層)、偏振涂層、光致變色涂層、染色涂層、防污頂涂層。AR涂層優(yōu)選形成在耐沖擊涂層或耐磨損和/或耐刮傷涂層上。在本發(fā)明的一種實(shí)施方案中，透鏡基材的至少一個(gè)主面從透鏡基材的表面開始依次涂有耐沖擊涂層(耐沖擊底層)、耐磨損和/或耐刮傷涂層(硬涂層)、本發(fā)明的抗反射涂層和防污頂涂層。在本發(fā)明的另一實(shí)施方案中，透鏡基材的至少一個(gè)主面從透鏡基材的表面開始依次涂有耐磨損和/或耐刮傷涂層(硬涂層)、本發(fā)明的抗反射涂層和防污頂涂層。本發(fā)明中可以采用的耐沖擊底涂層可以是常用來改進(jìn)成品光學(xué)制品的耐沖擊性的任何涂層。而且，該涂層如果存在，一般會(huì)增強(qiáng)耐磨損和/或耐刮傷涂層在成品光學(xué)制品的基材上的粘附。耐沖擊底涂層定義為相比較沒有耐沖擊底涂層的相同成品光學(xué)制品，改進(jìn)了該光學(xué)制品的耐沖擊性的涂層。典型的耐沖擊底涂層是基于(甲基)丙烯酸類的涂層和基于聚氨酯的涂層。基于(甲基)丙烯酸類的耐沖擊涂層尤其在美國專利No.5，015，523和No,6,503,631等中有公開，而基于熱塑性交聯(lián)聚氨酯樹脂涂層特別在日本專利No.63-141001和No.63-67223、歐洲專利No,0404111和美國專利No.5,316,791中有乂>開。特別地，根據(jù)本發(fā)明的耐沖擊底涂層可以由膠乳組合物如聚(甲基)丙烯酸類膠乳、聚氨酯膠乳或聚酯膠乳制得。在優(yōu)選的基于(甲基)丙烯酸類的耐沖擊底涂層組合物中，可以提到基于聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯的組合物，如四乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇(200)二丙烯酸酯、聚乙二醇(400)二丙烯酸酯、聚乙二醇(600)二(曱基)丙烯酸酯和氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯，以及它們的混合物。優(yōu)選地，耐沖擊底涂層的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg)低于30。C。在優(yōu)選的耐沖擊底涂層組合物中，可以提到Zeneca售賣的商品名為AcryliclatexA-639的丙烯酸類膠乳和BaxendenChemicals售賣的商品名為W-240和W-234的聚氨酯膠乳。在優(yōu)選的實(shí)施方案中，耐沖擊底涂層也可以包含有效量的偶聯(lián)劑，以促進(jìn)該底涂層對(duì)光學(xué)基材和/或耐刮傷涂層的粘附。針對(duì)下文所述耐磨損和/或耐刮傷涂層組合物提到的相同量的相同偶聯(lián)劑可以用在耐沖擊涂層組合物中。耐沖擊底涂層組合物可以利用任何傳統(tǒng)方法如旋涂、浸涂或流涂而施涂到透銑基材上。在光學(xué)制品成型之前，耐沖擊底涂層組合物可以簡單干燥或任選預(yù)固化。才艮據(jù)耐沖擊底涂層組合物的性質(zhì)，可以采用熱固化、uv固化或二者結(jié)合。耐沖擊底涂層在固化之后的厚度通常為0.05-30nm,優(yōu)選0.5-20jim,更特別是0.6-15jim，0.6-5甚至更好。制品的耐沖擊底涂層沉積在其上的表面可以任選經(jīng)過用于改進(jìn)粘附的物理或化學(xué)預(yù)處理步驟，例如高頻放電等離子體處理、輝光放電等離子體處理、電暈處理、電子束處理、離子束處理、溶劑處理、或酸或堿(NaOH)處理。任何已知的耐磨損和/或耐刮傷光學(xué)涂層組合物可以用來形成本發(fā)明的耐磨損和/或耐刮傷涂層。因此，耐磨損和/或耐刮傷涂層組合物可以是可UV固化組合物和/或可熱固化組合物。耐磨損和/或耐刮傷涂層定義為相比較沒有耐磨損和/或耐刮傷涂層的相同光學(xué)制品，改進(jìn)了該光學(xué)制品的耐磨損和/或耐刮傷性的涂層。優(yōu)選的涂層組合物是基于(甲基)丙烯酸酯的涂料。術(shù)語"(甲基)丙烯酸酯"是指甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯?；?曱基)丙烯酸酯的涂層組合物的主要組分可以選自單官能(甲基)丙烯酸酯和多官能(甲基)丙烯酸酯如二官能(甲基)丙烯酸酯、三官能(甲基)丙烯酸酯、四官能(甲基)丙烯酸酯、五官能(甲基)丙烯酸酯、六官能(甲基)丙烯酸酯?？梢杂米骰?曱基)丙烯酸酯的涂層組合物的主要組分的單體的例子是*單官能(甲基)丙烯酸酯甲基丙烯酸烯丙酯、丙烯酸2-乙H基乙酯、甲基丙烯酸2-乙氧基乙酯、己內(nèi)酯丙烯酸酯、甲基丙烯酸異冰片基酯、甲基丙烯酸月桂酯、聚丙二醇單甲基丙烯酸酯。，二官能(甲基)丙烯酸酯1，4-丁二醇二丙烯酸酯、1，6-己二醇二丙烯酸酯、1，6-己二醇二甲基丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、乙氧基化雙酚A二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、1，4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、四乙二醇二曱基丙烯酸S旨、二乙二醇二丙烯酸酯。三官能(甲基)丙烯酸酯三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、乙氧基化三羥曱基丙烷三丙烯酸酯、三羥曱基丙烷三甲基丙烯酸酯。*四至六官能(曱基)丙烯酸酯二季戊四醇五丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、乙lL&化季戊四醇四丙烯酸酯、五丙烯酸酯。其它優(yōu)選的耐磨損和/或耐刮傷涂層是含硅涂層，特別是在FR2702486(EP0614957)、WO94/10230、US4,211,823和US5,015,523中公開的通過固化含珪烷或其水解產(chǎn)物，優(yōu)選環(huán)氧硅烷，更優(yōu)選環(huán)氡基烷氧基硅烷的前體組合物得到的那些。特別優(yōu)選的耐磨損和/或耐刮傷涂層用組合物在FR2702486中有公開。所述優(yōu)選組合物包含環(huán)氧基三烷氧基硅烷和二烷基二烷氧基硅烷的水解產(chǎn)物、膠質(zhì)礦物填料和傕化量的鋁基固化催化劑，組合物的余下部分基本由常用于配制這些組合物的溶劑組成。表面活性劑也優(yōu)選加入組合物中以改善沉積物的光學(xué)質(zhì)量。尤其優(yōu)選的基于環(huán)氧基烷氧基硅烷的耐磨損和/或耐刮傷涂層組合物是包含如下主要成分的那些作為環(huán)氡基三烷l^i^烷組分的？縮水甘油氧丙基三甲氧基硅烷(GLYMO)水解產(chǎn)物、作為二烷基二烷氧M烷組分的二曱基二乙氧基硅烷(DMDES)的水解產(chǎn)物、硅膠和催化量的乙酰丙酮合鋁。為改進(jìn)耐磨損和/或耐刮傷涂層對(duì)耐沖擊底涂層的粘附，可以將有效量的至少一種偶聯(lián)劑加入耐磨損和/或耐刮傷涂層組合物中。優(yōu)選的偶聯(lián)劑是環(huán)氧基烷氧M烷和(優(yōu)選包含端烯屬雙鍵的)不飽和烷氧基珪烷的預(yù)縮合溶液。環(huán)氧基烷IU^烷的例子是GLYMO、，縮7jC甘油氧丙基-五甲基二硅氧烷、Y-縮7K甘油氧丙基-甲基二異丙烯氧硅烷、Y-縮水甘油氧丙基-甲基二乙氧基硅烷、Y-縮水甘油氧丙基-二甲基乙氧基硅烷、，縮水甘油氧丙基-二異丙基乙氧M烷和，縮7jC甘油氧丙基二(三甲基硅烷氧基)曱基硅烷。優(yōu)選的環(huán)氧基烷氧基硅烷是GLYMO。不飽和烷flj^烷可以是乙烯基珪烷、烯丙基硅烷、丙烯酸硅烷或甲基丙烯酸硅烷。乙烯1^:烷的例子是乙烯基三(2-曱氧基乙氧基)硅烷、乙烯基三異丁氧基硅烷、乙烯基三叔丁氧M烷、乙烯基三苯氧基硅烷、乙烯基三曱氧基硅烷、乙烯基三異丙氧基珪烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三乙酰lL^硅烷、乙烯基甲基二乙氧M烷、乙烯基曱基二乙酰氧M烷、乙烯基二(三曱M烷氧基)硅烷和乙烯基二甲氡基乙氧M烷。烯丙M烷的例子是烯丙基三曱氧基硅烷、烷基三乙氧基硅烷和烯丙基三(三甲M烷氧基)珪烷。丙烯酸珪烷的例子是3-丙烯酰氧基丙基三(三甲基法烷氧基)硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、丙烯酰氧基丙基曱基二甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基甲基二(三甲基硅烷氧基)硅烷、3-丙烯酰氧基丙基二甲基甲氧絲烷、N-(3-丙烯酰氧基-2-羥丙基)-3-tJ^丙基三乙氧絲烷。甲基丙烯酸硅烷的例子是3-甲基丙烯酰氧基丙基三(乙烯基二甲氧基硅烷氧基)硅烷、3-曱基丙烯酰氧基丙基三(三甲基硅烷氧基)硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三(甲氧基乙IL^)硅烷、3-曱基丙烯酰氧基丙基三甲ILi^烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基五甲基二硅氧烷、3-曱基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基二甲基甲氧基硅烷、3-曱基丙烯酰氧基丙基二甲基乙氧M烷、3-甲基丙烯酰氧基丙烯基三甲氧基硅烷和3-曱基丙烯酰氧基丙基二(三甲M烷氧基)甲M烷。優(yōu)選的硅烷是丙烯酰氧基丙基三甲氧M烷。優(yōu)選地，用在偶聯(lián)劑制備中的環(huán)氧基烷氧基硅烷和不飽和烷氧M烷的量要使得重量比R一環(huán)氧基烷氧基眭烷的重量不飽和烷氧基法烷的重量滿足條件0.8^R^1.2。偶聯(lián)劑優(yōu)選包含至少50%重量來自環(huán)氧基烷氧基硅烷和不飽和烷氧基眭烷的固體材料，更優(yōu)選至少60%重量。偶聯(lián)劑優(yōu)選包含少于40wt%液態(tài)水和/或有機(jī)溶劑，更優(yōu)選少于35wt%。來自環(huán)氧基烷氧基硅烷和不飽和烷氧基硅烷的固體材料的重量是指這些硅烷的理論干提取量，它是單元QkSiO(4-k),2的計(jì)算重量，Q是帶有環(huán)氧基或不飽和基團(tuán)的有機(jī)基團(tuán)，QkSiO(4-k)/2來自QkSiR，0(4匈，其中SiR，水解時(shí)反應(yīng)形成SiOH。k是1-3的整數(shù)并優(yōu)選等于1。R，優(yōu)選烷氧基如OCH3。在于偶聯(lián)劑組合物中由烷M^烷水解和縮合得到的水和醇。偶聯(lián)劑的優(yōu)選制備方法包括1)混合烷氧絲烷；2)使烷HJ^硅烷水解，優(yōu)選通過加入酸，如鹽酸；3)攪拌混合物；4)任選加入有機(jī)溶劑；5)加入一種或若干種催化劑如乙酰丙酮合鋁；以及6)攪拌(典型的持續(xù)時(shí)間過夜)。通常，偶聯(lián)劑在耐刮傷涂層組合物中的加入量為該組合物總重量的0.1-15wt%，優(yōu)選l-10wt0/0。耐磨損和/或耐刮傷涂層組合物一般可以利用任何傳統(tǒng)方法如旋涂、浸涂或流涂施加到耐沖擊底涂層上或基材上。預(yù)固化耐磨損和/或耐刮傷涂層組合物。根據(jù)耐磨損和/或耐刮傷涂層組合物的性質(zhì)，可以采用熱固化、uv固化或二者結(jié)合。固化之后耐磨損和/或耐刮傷涂層的厚度通常為1-15nm，優(yōu)選2-6jim,優(yōu)選3-5nm。在將任選亞層和抗反射層沉積到(可以已經(jīng)涂布，例如涂有耐磨損和/或耐刮傷涂層的)基材上之前，優(yōu)選對(duì)所述任選已經(jīng)涂布的基材的表面進(jìn)行預(yù)處理以增大層的粘附。作為處理步驟，可以采用高頻放電等離子體方法、輝光放電等離子體方法、電暈處理、用能量物質(zhì)轟擊例如電子束方法或離子束方法("離子預(yù)清洗"或"IPC")。這些預(yù)處理通常在真空中進(jìn)行。也可以采用酸或堿預(yù)處理。"能量物質(zhì)，，是指具有1-150eV,優(yōu)選10-150eV，更優(yōu)選40-150eV能量的物質(zhì)。能量物質(zhì)可以是化學(xué)物質(zhì)如離子、自由基或質(zhì)子或電子類物質(zhì)。由于這些清洗處理，基材表面的清潔度得到優(yōu)化。優(yōu)選離子轟擊處理。還可以在沉積接下來的層之前對(duì)任選亞層的至少一個(gè)層或至少一個(gè)抗反射層進(jìn)行這種表面準(zhǔn)備處理。本發(fā)明中可以采用的防污頂涂層是低表面能頂涂層。它可以沉積到本發(fā)明AR涂層的至少部分上，優(yōu)選沉積到所述涂層的整個(gè)表面上。防污頂涂層限定為疏水和/或疏油表面涂層。本發(fā)明優(yōu)選采用的涂層是使制品表面能降低到小于20mJ/m2的那些。當(dāng)采用表面能小于14mJ/m2，甚至更好小于12mJ/n^的防污頂涂層時(shí)，本發(fā)明特別受關(guān)注。上ii^面能值根據(jù)文獻(xiàn)Owens,D.K.;Wendt，R.G."Estimationofthesurfaceforceenergyofpolymers(聚合物的表面能4古算)'，，J.Appl.Polym.Sci.1969,51，1741-1747中所述的OwensWendt法計(jì)算。根據(jù)本發(fā)明的防污頂涂層優(yōu)選具有有機(jī)性質(zhì)。"有機(jī)性質(zhì)"是指含有相對(duì)于涂層總重量為至少40wt%,優(yōu)選至少50wt。/。的有機(jī)材料的層。優(yōu)選的防污頂涂層由含至少一種氟化化合物的液體涂布材料制得。疏水和/或疏油表面涂層最經(jīng)常包含帶有氟化基團(tuán)，特別是全氟烴或全氟聚醚基團(tuán)的基于硅烷的化合物。作為例子提到含一個(gè)或多個(gè)含氟基團(tuán)如以上提到的那些的硅氮烷、聚硅氮烷或聚硅氧烷化合物。這種化合物在現(xiàn)有技術(shù)中已有廣泛公開，例如在專利US4410563、EP0203730、EP74卯21、EP844265和EP933377中。防污頂涂層的傳統(tǒng)形成方法包括沉積帶有氟化基團(tuán)和Si-R基團(tuán)的化合物，R表示-OH基團(tuán)或其前體如-Cl、-NH2、-NH-或-O-烷基，優(yōu)選烷氧基。這種化合物可以在它們所沉積到的表面上直接或在水解之后進(jìn)行聚合反應(yīng)和/或與側(cè)反應(yīng)基的交聯(lián)反應(yīng)。優(yōu)選的氟化化合物是帶有至少一個(gè)選自氟化烴、全氟烴、氟化聚醚如F3C-(OC3F6)24-0-(CF2)2-(CH2)2-0-CH2-Si(OCH3)3和全氟聚醚，特別是全氟聚醚的基團(tuán)的硅烷和硅氮烷。在氟硅烷中，可以提到下式化合物<formula>formulaseeoriginaldocumentpage25</formula>其中ii-5、7、9或11，R是烷基，通常是C廣do烷基如曱基、乙基和丙基；<formula>formulaseeoriginaldocumentpage25</formula>其中n，-7或9，R定義如上。還適用于制備疏水和/或疏油頂涂層的含有氟硅烷化合物的組合物公開在US6，183，872中。這種組合物包含下面通式表示且數(shù)均分子量為5xl02-lxl05的含^:有機(jī)含氟聚合物<formula>formulaseeoriginaldocumentpage26</formula>其中RF表示全氟烷基，Z表示氟原子或三氟曱基，a、b、c、d和e各自獨(dú)立地表示0或等于或大于1的整數(shù)，條件是a+b+c+d+e不小于1且下標(biāo)a、b、c、d和e所括的重復(fù)單元在上式中出現(xiàn)的順序不限于所示那樣，Y表示氫原子或含1-4個(gè)碳原子的烷基，X表示氫、溴或碘原子，R1表示羥基或可水解取代基，W表示氫原子或單價(jià)烴基，l表示0、l或2，m表示l、2或3，n"表示等于或大于l,優(yōu)選等于或大于2的整數(shù)。其它用于形成疏水和/或疏油表面涂層的優(yōu)選組合物是包含含有氟化聚醚基團(tuán)，特別是全氟聚醚基團(tuán)的化合物的那些。特別優(yōu)選的一類含有氟化聚醚基團(tuán)的組合物在US6,277,485中有公開。US6,277,485的防污頂涂層是通過施加含至少一種下式氟化硅烷的涂層組合物(通常是溶液形式)制得的含有氟化硅氧烷的至少部分固化涂層<formula>formulaseeoriginaldocumentpage26</formula>其中Rp是單價(jià)或二價(jià)多氟聚醚基團(tuán)；W是任選含一個(gè)或多個(gè)雜原子或官能團(tuán)，任選被鹵原子取代且優(yōu)選含2-16個(gè)碳原子的二價(jià)亞烷基、亞芳基或其組合；W是低級(jí)烷基(即C廣Ct烷基)；Y是鹵原子、低級(jí)烷ftj^(即d-C4烷氧基，優(yōu)選甲氧基或乙猛)或低級(jí)酰氧基(即-OC(O)R3，其中R3是d-d烷基)；x是0或l;且y是l(Rf是羊價(jià))或2(RF是二價(jià))。合適化合物通常具有至少約1000的(數(shù)均)分子量。優(yōu)選地，Y是低級(jí)烷氧基且RF是全氟聚醚基團(tuán)。用于制備防污頂涂層的可商購組合物是Shin-EtsuChemical銷售的組合物KY13(f和KP80^以及DaikinIndustries銷售的組合物OPTOOLDSX(含全氟亞丙基結(jié)構(gòu)部分的氟基樹脂)。OPTOOLDSX⑧是最優(yōu)選的防污頂涂層用涂布材料。用于形成本發(fā)明防污頂涂層的液體涂布材料可以包含一種或多種上述化合物。優(yōu)選地，這些化合物或化合物的混合物呈液態(tài)或可以通過加熱呈液態(tài)，由此為適合沉積的狀態(tài)。這種防污頂涂層的沉積技術(shù)非常多樣，包括液相沉積如浸涂、旋涂(離心)、噴涂或氣相沉積(真空蒸發(fā))。其中優(yōu)選通過旋涂或浸涂沉積。如果防污頂涂層以液體形式施加，則將至少一種溶劑加入涂布材料中以制得濃度和粘度適合涂布的液體涂布溶液。沉積之后進(jìn)行固化。就此而言，優(yōu)選的溶劑是氟化溶劑和烷醇如甲醇，優(yōu)選氟化溶劑。氟化溶劑的例子包括任何具有含約1-約25個(gè)碳原子的碳鏈的部分或全部氟化有機(jī)分子，例如氟化鏈烷烴，優(yōu)選全氟衍生物，和氟化醚氧化物，優(yōu)選全氟烷基烷基醚氧化物，以及它們的混合物。作為氟化鏈烷烴，可以使用全氟己烷(DAIKINIndustries的"Demnum")。作為氟化醚氧化物，可以使用甲基全氟烷基醚，例如甲基九氟異丁基醚、甲基九氟丁基醚或其混合物，如3M銷售的商品名為HFE-7100的可商購混合物。涂布溶液中溶劑的量優(yōu)選80-99.99wt%。根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)制品具有低Rm和Rv值、高Tv和非常好的耐磨損性，這可以才艮據(jù)按照標(biāo)準(zhǔn)ASTMF735-94進(jìn)行的Bayer試驗(yàn)進(jìn)行測(cè)量。它們沒有光學(xué)缺陷如破裂，耐得住溫度變化，這在基材與AR膜的膨脹能力非常不同時(shí)特別有用。此外，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)制品具有AR疊層的層對(duì)基材的優(yōu)異粘附性。粘附性可以利用WO99/49097中定義的nx10blow(吹)試驗(yàn)來評(píng)價(jià)。優(yōu)選地，其兩面都涂有本發(fā)明AR涂層的光學(xué)制品在可見光范圍(400-700nm)內(nèi)的平均反射系數(shù)RmS2%，更優(yōu)選Sl.5%，Sl。/o甚至更好，$0.8%還要更好。根據(jù)本發(fā)明的最優(yōu)選實(shí)施方案，光學(xué)制品的Rm值為0.7-0.8。優(yōu)選地，光學(xué)制品涂有本發(fā)明AR涂層的主面在可見光范圍(400-700nm)內(nèi)的平均反射系數(shù)Rm5l%,更優(yōu)選^0.75%,^0.5%甚至更好，$0.4%還要更好。根據(jù)本發(fā)明的最優(yōu)選實(shí)施方案，光學(xué)制品所述主面的Rm值為0.35-0.4。優(yōu)選地，其兩面都涂有本發(fā)明AR涂層的光學(xué)制品在可見光范圍(380-780nm)內(nèi)的平均發(fā)光反射系數(shù)R^2。/Q，更優(yōu)選￡1.5%，￡1%甚至更好，￡0.8%還要更好。根據(jù)本發(fā)明的最優(yōu)選實(shí)施方案，光學(xué)制品的Rm值為0.7-0.8。優(yōu)選地，光學(xué)制品涂有本發(fā)明AR涂層的主面在可見光范圍(380-780nm)內(nèi)的平均發(fā)光反射系數(shù)Rv￡l%,更優(yōu)選S0.75%，^).5%甚至更好，￡0.4%還要更好。根據(jù)本發(fā)明的最優(yōu)選實(shí)施方案，光學(xué)制品所述主面的Rm值為0.35-0.4?？狗瓷渫繉宇I(lǐng)域的技術(shù)人員公知實(shí)現(xiàn)低Rm和Rv值的途徑。優(yōu)選地，本發(fā)明的抗反射涂層要使得當(dāng)光學(xué)制品的兩面都涂有所述涂層時(shí)因AR涂層具有可見光范圍內(nèi)優(yōu)選1%或更低，更優(yōu)選低于1%的吸光率，和/或優(yōu)選大于90%，更優(yōu)選大于95%,甚至更優(yōu)選大于96%，甚至更好大于98%的可見光譜內(nèi)相對(duì)透光系數(shù)Tv。優(yōu)選地，同時(shí)滿足這兩個(gè)特征。如本文所用，"平均^^射系數(shù)Rm"(對(duì)應(yīng)于400-700nm的平均光i瞽反射)和"平均發(fā)光反射系數(shù)"Rv(對(duì)應(yīng)于380-780nm(估計(jì)值(ponderatedvalue))的平均光譜v^射)在標(biāo)準(zhǔn)ISO13666:1998中有定義，并根據(jù)國際標(biāo)準(zhǔn)化組織(ISO)在2000年公布的標(biāo)準(zhǔn)ISO8980-4測(cè)量。"透光率，，或"可見光鐠內(nèi)相對(duì)透光系數(shù)"Tv(或rv)在標(biāo)準(zhǔn)ISO13666:1998中也有定義，并根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)ISO8980-3測(cè)量(380-780nm)。本發(fā)明還涉及制造上述光學(xué)制品的方法，包括如下步驟-提供具有兩個(gè)主面的光學(xué)制品；-在所述光學(xué)制品的至少一個(gè)主面上形成如上所述任選包括亞層的抗反射涂層；其中抗^^射涂層的層通過真空沉積進(jìn)行沉積。這種方法避免了加熱基材，這在有機(jī)玻璃的情況下特別受關(guān)注。用于沉積AR疊層的不同層(AR各層或任選亞層)的真空方法包括i)蒸發(fā)；ii)用離子束噴射；iii)陰極'減射；iv)等離子體輔助化學(xué)氣相沉積。這些4支術(shù)詳細(xì)描述在"ThinFilmProcesses，，和"ThinFilmProcessesII"，Vossen&Kern，Ed.，AcademicPress(分別1978和1991)中。特別推薦的技術(shù)是真空蒸發(fā)。任選的導(dǎo)電層，一般是抗反射疊層的HI層，可以根據(jù)任何合適方法沉積，例如通過任選在離子輔助下的真空蒸發(fā)(IAD:離子輔助沉積)或通過濺射^t術(shù)來沉積。IAD方法包括在所述層正形成的同時(shí)用重離子填充，以增加密度、粘附性和折射率。它需要?dú)怏w氛圍如氬和/或氧中的離子等離子體。IAD處理和IPC預(yù)處理可以用離子槍進(jìn)行，離子是由電子已被從中提取出的氣體原子制得的粒子。優(yōu)選地，這種處理包括用氬離子(Ar+)轟擊待處理表面，其中活化表面上的電流密度為10-100jiA/cm2,真空室中壓力可以為8.10-5毫巴-2.10-4毫巴。表面預(yù)處理如IPC(離子預(yù)清洗)在其中基材的最外層涂層是硬涂層的階段進(jìn)行。待涂布本發(fā)明AR涂層的光學(xué)制品可以是成品透鏡或半成品透鏡。其一個(gè)主面可以先前已涂有合適的涂層疊層(抗反射、硬涂層、底涂層、耐沖擊涂層等)。本發(fā)明的方法提供了許多優(yōu)點(diǎn)。例如，它的實(shí)施不要求改變AR涂層傳統(tǒng)沉積方法中的原有調(diào)整，不要求改變沉積裝置，不要求各種附加設(shè)備。通過下文所述實(shí)施例來進(jìn)一步說明本發(fā)明。這些實(shí)施例意在舉例說明本發(fā)明，不應(yīng)解釋為限制本發(fā)明的范圍。實(shí)施例1.透鏡的制備一般程序?qū)嵤├兴玫墓鈱W(xué)制品是表面化成-2.00屈光度且直徑為70mm的半成品ORMA⑧4.50基本圓透鏡(baseroundlens)。ORMA⑧是Essilor的注冊(cè)商標(biāo)。該基材通過聚合二乙二醇二(碳酸烯丙酯)單體,通常是CR-39得到。將該透鏡在凹側(cè)旋涂基于GLYMO水解產(chǎn)物的聚硅氧烷型耐磨損和/或耐刮傷涂層(硬涂層，厚度1.8fim);在清洗線中洗滌，包括在乙酸中洗滌，用水和去離子水漂洗；接著熱空氣干燥，并在AR涂布之前于80'C下汽蒸4小時(shí)或于120。C下汽蒸3小時(shí)。接著將透鏡置于設(shè)有用于容納待處理透鏡的環(huán)形開口的傳送帶上，凹側(cè)對(duì)著蒸發(fā)源和離子槍。進(jìn)行泵送操作，直至達(dá)到次級(jí)真空。使用離子槍用氬離子束輻照基材表面使其活化(離子預(yù)清洗步驟)。接著，在離子輻照已經(jīng)中斷之后，接著蒸發(fā)所需數(shù)量的抗反射光學(xué)層，其中如下述電子槍作為蒸發(fā)源。最后，通過真空蒸發(fā)沉積OptronInc.銷售的OF110材料的疏水疏油涂層。所得疏水疏油涂層的厚度為2-5nm。由此，制得從基材開始帶有耐磨損涂層、抗反射涂層和疏水防油涂層的有機(jī)玻璃。2.抗反射涂層的沉積實(shí)驗(yàn)細(xì)節(jié)實(shí)施例1—5用于沉積的介電材料以顆粒形式使用。Si02由CanonOptronInc.提供，ZrCh和Si02/Al203(LIMA⑧)由UmicoreMaterialsAG提供，Ti02、LaTiO"Si02/Al203(L5⑧)和PrTi03由Merck提供。用于沉積抗反射疊層的真空處理機(jī)是具有Physimeca軟件改進(jìn)的BAK760真空室，設(shè)有電子槍8kV用于蒸發(fā)氧化物、"end-Hall"MarkIICommonwealth型離子槍用于用氬離子進(jìn)行初步表面準(zhǔn)備、焦耳效應(yīng)坩堝、石英刻度尺和與LN2線連接的Meissnertrapandbafflecoil(Meissner阱線圏)。使用石英刻度尺跟蹤所沉積層的厚度，一旦達(dá)到所需厚度即停止蒸發(fā)。所述室內(nèi)的壓力用Granville-Phillips樣吏離子壓力計(jì)測(cè)量。在不加熱基材下通過真空蒸發(fā)沉積AR疊層的層(對(duì)HI材料呈反應(yīng)性)。實(shí)施例6、7和8:用于沉積的介電材料以顆粒形式使用。Si02由CanonOptronInc.提供，Zr02、Ti02和Si02/Al203(LIMA⑧)由UmicoreMaterialsAG提供。用于沉積抗反射疊層的真空處理機(jī)是具有Physimeca軟件改進(jìn)的Satis900真空室，設(shè)有電子槍8kV用于蒸發(fā)氧化物、"end-Hall"MarkIICommonwealth型離子槍用于用氬離子進(jìn)行初步表面準(zhǔn)備、焦耳效應(yīng)坩堝、石英刻度尺和與PolycoldPFC660HC裝置連接的Meissnertrapandbafflecoil(Meissner阱線圏)。使用石英刻度尺跟蹤所沉積層的厚度，一旦達(dá)到所需厚度即停止蒸發(fā)。所述室內(nèi)的壓力用Granville-Phillips微離子壓力計(jì)測(cè)量。在不加熱基材下通過真空蒸發(fā)沉積AR疊層的層(對(duì)HI材料呈反應(yīng)性)。沉積工藝實(shí)施例1-8進(jìn)行泵送操作，直至達(dá)到次級(jí)真空(2.10-5-3.10-5毫巴)。接著，通過IPC(離子預(yù)清洗)將基材表面活化2分鐘(1A,100V)。在沒有IAD下沉積第一HI層(TK)2、Zr02、LaTi03或PrTi03)(用02反應(yīng)性沉積，02分壓對(duì)于ZK)2為8.10-5毫巴，對(duì)于Ti02為10"毫巴)，沉積第一LI層(Si02或Si02/Al203)，在沒有IAD下沉積第二HI層(Ti02、Zr02、LaTi03或PrTi03)(用02反應(yīng)性沉積，02分壓對(duì)于ZrO;j為7.1(T5-8.1(T5毫巴，對(duì)于Ti02為IO-4毫巴)。最后，沉積第二LI層(Si02或Si02/Al203)。沉積速率對(duì)于第一LI層為0.26—0.34nm/s，對(duì)于第一HI層為0.77—0.89nm/s，對(duì)于笫二LI層為0.27-0.35nm/s，對(duì)于第二HI層為1-1.3nm/s。才艮據(jù)如上所述沉積工藝進(jìn)行對(duì)比例CE1-CE6,其疊層描述在表1中。僅第一HI層以減小的速率沉積，其它層以1—1.3nm/s的增大的速率沉積。3.耐熱性試驗(yàn)臨界溫度(Tc)的測(cè)定在透鏡制得48小時(shí)之內(nèi)進(jìn)行耐熱性試驗(yàn)。將所制得的透鎮(zhèn)^L^預(yù)熱到選定溫度的烘箱中，并保持1小時(shí)。將它們從烘箱中移出，并在臺(tái)燈下就破裂存在與否通過反射對(duì)其進(jìn)行目測(cè)評(píng)價(jià)。在不同溫度下進(jìn)行該實(shí)驗(yàn)，從5(TC開始，并以5。C增量升高加熱溫度。測(cè)量透鏡不能耐受該熱處理并在1小時(shí)之后破裂時(shí)的溫度。該溫度在下表中給出作為臨界溫度。在已經(jīng)測(cè)試若干塊透鏡時(shí)，所述臨界溫度是平均值。4.光學(xué)特性的測(cè)定記錄整個(gè)可見光范圍的平均反射系數(shù)Rm和Rv,它們能夠?qū)R涂層的性能和殘余反射的顏色在色空間CIEI^aAb+(1976)中量化?？紤]基于延伸10°視覺刺激的標(biāo)準(zhǔn)色度觀測(cè)器和標(biāo)準(zhǔn)光源D65(日光)，由這些系數(shù)得到色系數(shù)。O指彩度，L4旨亮度，h指色相角。一些所制得透鏡的光學(xué)特性給出在表2中。5.耐磨損性的測(cè)定(Bayer試驗(yàn))Bayer磨損試驗(yàn)是用于測(cè)定彎曲/透#*面耐磨損性的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)。根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)ASTMF735-94(用于透明塑料和涂層耐磨損性的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法，利用振蕩妙、方法)和ISOCD15258(用于眼用透鏡的Bayer磨損試驗(yàn))進(jìn)行Bayer值測(cè)定，Bayer值越高意味著耐磨損性越高。在該試驗(yàn)之前，將經(jīng)涂布的透鏡安裝并用夾具緊緊固定在托盤底部上，鄰著具有相似曲率、直徑、厚度和屈光度的未經(jīng)涂布CR-39⑧參比透鏡。將特定顆粒尺寸的磨擦粉(砂)均勻倒在透鏡和托盤上，并以100次/分鐘將托盤振蕩2分鐘。振蕩利用通過旋轉(zhuǎn)輪連接到振蕩板上的電動(dòng)機(jī)來實(shí)現(xiàn)。接著移出經(jīng)涂布的透鏡和參比透鏡，并在該試驗(yàn)進(jìn)行之前和之后根據(jù)ASTMD1003-00用HazeGuardPlusmeter測(cè)量參比樣品和經(jīng)涂布樣品的霧度和透光度。結(jié)果表示為標(biāo)準(zhǔn)《1-39@試驗(yàn)透鏡與經(jīng)涂布透鏡的計(jì)算比(因磨擦砂造成的霧度增值)。參比CR-39⑧透鏡的Bayer值設(shè)定為1。每次測(cè)量僅j吏用新鮮的妙、。一些所制得透鏡的耐磨損性結(jié)果記在表3中(對(duì)12x3透鏡進(jìn)行該試驗(yàn))。6.涂層粘附性的評(píng)價(jià)(nx10blow試驗(yàn))利用稱作"nx10blow試驗(yàn)"的過程進(jìn)行定性測(cè)試。該過程使得可以評(píng)價(jià)沉積在基材如眼用透鏡上的膜的粘附情況。該試驗(yàn)例如按國際專利申請(qǐng)WO99/49097中所述的進(jìn)行。操作者每3個(gè)循環(huán)通過目測(cè)透鏡檢查受試透鏡的狀態(tài)。他記下第一次出現(xiàn)缺陷時(shí)已經(jīng)過的循環(huán)數(shù)。因此，該試驗(yàn)值越大，AR疊層的層對(duì)基材的粘附越好。為比較，標(biāo)準(zhǔn)抗反射玻璃的nxlOblow值量級(jí)為3。一些所制得透鏡的nx10blow試驗(yàn)結(jié)果記在表2中(對(duì)30個(gè)相同透鏡進(jìn)行該試驗(yàn))。7.結(jié)果根據(jù)實(shí)施例1-8和對(duì)比例1-6得到的疊層詳細(xì)列在下表1中。所制得的抗反射涂層的Tc測(cè)量值和RT比率在同一表中給出。在Rt奸算中不考慮的層以灰色出現(xiàn)。可以看到，使用高RT比率可得到高的臨界溫度。無論多少層數(shù)都如此。通過比較實(shí)施例1和CE1的疊層可看出計(jì)算整個(gè)疊層Rt比率(如杲疊層不包括厚度^100nm的厚內(nèi)LI層)的意義。如果計(jì)算所述比率考慮兩個(gè)最后沉積的層，則得到大的值疊層l(2.51)和CE1(2.")。但是，疊層CEl表現(xiàn)出低的Tc，而疊層l表現(xiàn)出高的Tc。從對(duì)比例2的疊層清楚看到，如果所述疊層包括厚內(nèi)LI層(厚度^100nm)則不必基于整個(gè)疊層計(jì)算Rr比率。如果計(jì)算所述比率考慮四個(gè)最后沉積的層或所有抗反射層，則得到大的值，分別為3.18和4.68，這不能與低的Te值相關(guān)聯(lián)。如果僅考慮的層是距基材最遠(yuǎn)的在厚LI層上方的那些，則得到小的Rr值(0.76)，這能與低的Te值相關(guān)聯(lián)。從對(duì)比例4的疊層還清楚看到，Rr計(jì)算中不必考慮厚亞層(^100nm)(否則得到2.22的值，這與疊層1和5的值相當(dāng))。對(duì)比例5當(dāng)與對(duì)比例4比較時(shí)表明不包括亞層不改變Tc。從RT比率為0.95的AR疊層到RT比率為2.27的AR疊層(具有相同材料)的變化，一般導(dǎo)致臨界溫度發(fā)生了可觀的升高。一般地，在低折射率抗反射層中用Si02/Al203代替Si02也導(dǎo)致臨界溫度可觀地升高。一般地，在低折射率抗反射層中用具有8%入1203的Si02/Al203代替具有4%入1203的Si02/Al203也導(dǎo)致臨界溫度可觀地升高，而且耐磨損性輕微下降。實(shí)施例8的透鏡(HI:Ti02，LI:Si02中具有8%A1203的Si02/Al203)表現(xiàn)出最好的溫度性能。一周之后臨界溫度都沒有下降。在一個(gè)月之后，實(shí)施例7和8的透鏡的臨界溫度仍非常高(分別為9(TC和91'C)。表l<table>tableseeoriginaldocumentpage35</column></row><table>(*)亞層<table>tableseeoriginaldocumentpage35</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage36</column></row><table>SKVAl203為(")LIMA4，來自Umicore，具有4重量％^203(***)L5，來自Merck。(****)具有8重量%A1203的Si02。表2:—些所制得透鏡的光學(xué)特性<table>tableseeoriginaldocumentpage37</column></row><table>對(duì)比例的數(shù)據(jù)以灰色出現(xiàn)。要理解到本說明書和實(shí)施例舉例說明了本發(fā)明與清楚理解本發(fā)明相關(guān)的方面。因此，為了簡化本說明書，沒有給出本發(fā)明某些對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見且不會(huì)更有利于更好理解本發(fā)明的方面。雖然就某些實(shí)施方案描述了本發(fā)明，但本發(fā)明并不限于所公開的特定實(shí)施方案或?qū)嵤├?，而是意在涵蓋在如所附權(quán)利要求所限定的本發(fā)明范圍和精神內(nèi)的修改。權(quán)利要求1.一種具有抗反射性的光學(xué)制品，其包括具有至少一個(gè)涂有多層抗反射涂層的主面的基材，所述多層抗反射涂層包括至少一個(gè)高折射率層和至少一個(gè)低折射率層的疊層，其中-各低折射率層的折射率為1.55或更低，-各高折射率層的折射率高于1.55，并且該層不包含五氧化二鈮(Nb2O5)，-光學(xué)制品的所述經(jīng)涂布主面的平均發(fā)光反射系數(shù)Rv≤1％，以及(a)抗反射涂層在所述涂層最外層以下的低折射率層各自具有小于100nm的物理厚度，比率大于2.1，并且抗反射涂層不包括含鈮(Nb)亞層，或者(b)抗反射涂層包括-至少一個(gè)物理厚度≥100nm且不是抗反射涂層最外層的低折射率層，和-至少一個(gè)高折射率層和至少一個(gè)低折射率層，它們位于所述物理厚度≥100nm且不是距基材最遠(yuǎn)的抗反射涂層最外層的低折射率層上方，并且比率大于2.1，條件是所述比率RT計(jì)算中所考慮的抗反射涂層的各層僅是位于所述物理厚度≥100nm且不是距基材最遠(yuǎn)的抗反射涂層最外層的低折射率層上方的各層，并且優(yōu)選抗反射涂層不包括含鈮(Nb)亞層。2.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)制品，其中Rt大于或等于2.15,優(yōu)選大于或等于2.2,更優(yōu)選大于或等于2.25，大于或等于2.3甚至更好。3.根據(jù)權(quán)利要求l的光學(xué)制品，其臨界溫度275。C。4.根據(jù)權(quán)利要求l的光學(xué)制品，其中抗反射涂層的高折射率層包含選自Ti02、PrTi03、Zr02及其混合物的至少一種材料。5.根據(jù)權(quán)利要求l的光學(xué)制品，其中抗反射疊層的至少一個(gè)高折射率層包含Ti02。6.根據(jù)權(quán)利要求l的光學(xué)制品，其中抗反射疊層的至少一個(gè)低折射率層包含Si02和A1203的混合物。7.根據(jù)權(quán)利要求l的光學(xué)制品，其中抗反射涂層的所有低折射率層都包含Si()2和A1203的混合物，如果所述抗反射涂層包括具有至少一個(gè)低折射率層的亞層，則所述亞層的低折射率層例外。8.根據(jù)權(quán)利要求l的光學(xué)制品，其中抗反射涂層包括亞層。9.根據(jù)權(quán)利要求8的光學(xué)制品，其中亞層A^于SK)2的不含A1203的單層亞層。10.根據(jù)權(quán)利要求8的光學(xué)制品，其中亞層是由如下層構(gòu)成的多層亞層-一層由SiOz構(gòu)成的層；以及-插在所述由Si02構(gòu)成的層與光學(xué)制品基材之間的至多3層。11.根據(jù)權(quán)利要求8的光學(xué)制品，其中亞層由至少一種金屬或金屬氧化物的薄層構(gòu)成，所述薄層厚度為10nm或更小。12.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)制品，其中抗反射涂層包括至少一個(gè)導(dǎo)電層。13.根據(jù)權(quán)利要求12的光學(xué)制品，其中導(dǎo)電層由選自銦氧化物、錫氧化物、鋅氧化物及其混合物的材料制得。14.根據(jù)權(quán)利要求12的光學(xué)制品，其中導(dǎo)電層包含銦-錫氧化物。15.根據(jù)權(quán)利要求l的光學(xué)制品，其中基材是有機(jī)或礦物玻璃基材。16.根據(jù)權(quán)利要求15的光學(xué)制品，其中基材是熱膨脹系數(shù)為50,l(T6。C—1—180.10_6XT1的有機(jī)玻璃基材。17.根據(jù)權(quán)利要求l的光學(xué)制品，其是成品或半成品透鏡。18.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)制品，其中基材涂有耐磨損和/或耐刮傷涂層、耐沖擊涂層或涂有耐磨損和/或耐刮傷涂層的耐沖擊涂層。19.一種制造具有抗反射性光學(xué)制品的方法，包括如下步驟-提供具有兩個(gè)主面的光學(xué)制品；-在所述光學(xué)制品的至少一個(gè)主面上形成如^L利要求1-18中任一項(xiàng)所限定的抗反射涂層；其中抗^^射涂層的各層通過真空沉積來沉積。20.根據(jù)權(quán)利要求19的方法，其中抗反射涂層的各層通過真空蒸發(fā)來沉積。21.—種獲得光學(xué)制品的方法，所述光學(xué)制品包括具有至少一個(gè)涂有多層抗反射涂層的主面且臨界溫度^75。C的基材，其中所述抗反射涂層的Rt比率大于2.1，Rt如下定叉抗反射涂層的低折射率層的物理厚度之和Rt=抗反射涂層的高折射率層的物理厚度之和并且其中-所述多層抗^Jt涂層包括至少一個(gè)高折射率層和至少一個(gè)低折射率層的疊層，-各低折射率層的折射率為1.55或更低，-各高折射率層的折射率高于1.55,并且該層不包含五氧化二鈮(Nb2Os),-光學(xué)制品的所述經(jīng)涂布主面的平均發(fā)光反射系數(shù)RSI%，以及(a)抗反射涂層在所述涂層最外層以下的低折射率層各自具有小于100nm的物理厚度，并且抗反射涂層不包括含鈮(Nb)亞層，或者(b)抗反射涂層包括-至少一個(gè)物理厚度SIOOnm且不是抗反射涂層最外層的低折射率層，和-至少一個(gè)高折射率層和至少一個(gè)低折射率層，它們位于所述物理厚度^100nm且不"巨基材最遠(yuǎn)的抗反射涂層最外層的低折射率層上方；條件是所述比率RT計(jì)算中所考慮的抗反射涂層的各層僅是位于所述物理厚度SIOOnm且不是距基材最遠(yuǎn)的抗反射涂層最外層的低折射率層上方的各層，并且優(yōu)選抗反射涂層不包括含鈮(Nb)亞層。全文摘要本發(fā)明涉及具有抗反射性和高熱阻的光學(xué)制品，其包括至少一個(gè)主面涂有包括至少一個(gè)高折射率層和至少一個(gè)低折射率層的疊層的多層抗反射涂層的基材，其中比率R_T＝(抗反射涂層的低折射率層的物理厚度之和)/(抗反射涂層的高折射率層的物理厚度之和)大于2.1。如果所述抗反射疊層包括至少一個(gè)物理厚度≥100nm且不是抗反射涂層最外層的低折射率層，則所述比率R_T計(jì)算中不考慮相對(duì)厚的層以及底下層。文檔編號(hào)G02B1/11GK101512389SQ200780032457公開日2009年8月19日申請(qǐng)日期2007年6月27日優(yōu)先權(quán)日2006年6月28日發(fā)明者F·阿魯伊,L·努韋羅,M·托馬斯,O·貝納特申請(qǐng)人:埃西勒國際通用光學(xué)公司