專利名稱：光學(xué)系統(tǒng)、具體而言微光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)或投射物鏡的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光學(xué)系統(tǒng)，具體而言涉及微光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)或
投射物鏡(projection objective )。具體而言，本發(fā)明涉及具有影響偏振的光 學(xué)布置的微光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)或投射物鏡，該影響偏振的光學(xué)布 置在提供希望的偏振分布上允許增強(qiáng)的靈活性。
背景技術(shù)：
微光刻用于微結(jié)構(gòu)元件的生產(chǎn)，例如集成電路或LCD。微光刻在具有照 明系統(tǒng)和投射物鏡的所謂投射曝光設(shè)備中進(jìn)行。在該情形中，利用照明系統(tǒng) 照明的掩模(=掩模母版reticle )圖像利用投射物鏡被投射到襯底(例如硅 晶片)上，該襯底涂覆以光敏層(光致抗蝕劑)并且布置在投射物鏡的像平 面中，以便將掩模結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移至村底上的光敏涂層上。
為了優(yōu)化圖Y象對比度，已知各種方案來特別設(shè)定照明系統(tǒng)中的光瞳平面 中和/或掩模母版中的特定的偏振分布。
WO 2005/069081 A2公開了包括光學(xué)活性晶體并且包括在晶體的光學(xué)軸 的方向厚度分布變化的影響偏振的光學(xué)元件。
/人WO 2006/077849 Al和其它事物已知，在照明系統(tǒng)的光瞳平面中或其 附近布置光學(xué)元件，用于轉(zhuǎn)變偏振狀態(tài)，所述光學(xué)元件具有多個(gè)可變光學(xué)旋 轉(zhuǎn)元件，通過可變光學(xué)旋轉(zhuǎn)元件，入射的線性偏振的光的偏振方向可以旋轉(zhuǎn) 可變的可調(diào)整的旋轉(zhuǎn)角度。通過這些旋轉(zhuǎn)元件提供的可變旋轉(zhuǎn)角度或偏振狀 態(tài)也尤其根據(jù)測量偏振狀態(tài)的裝置所提供的測量結(jié)果而調(diào)整，以便例如相互 適應(yīng)兩個(gè)不同的系統(tǒng)。
WO 2005/031467 A2公開了 ，在投射曝光設(shè)備中，利用 一或更多的偏振 操縱裝置來影響偏振分布，該一或更多的偏振操縱裝置也可以布置于多個(gè)位 置并且可以為可以被引入光束路徑的影響偏振的光學(xué)元件的形式，其中這些影響偏振元件的動(dòng)作可以通過改變位置，例如元件的旋轉(zhuǎn)、偏心或傾斜而變 化。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種光學(xué)系統(tǒng)，具體而言一種微光刻投射曝光設(shè)備 的照明系統(tǒng)或投射物鏡，它在提供希望的偏振分布上具有提高的靈活性。 該目的通過獨(dú)立權(quán)利要求1的特征而獲得。
根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)系統(tǒng)，具體而言微光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)或投 射物鏡，包括至少一影響偏振的光學(xué)布置，其具有至少兩個(gè)、光學(xué)活性材料 的影響偏振的光學(xué)元件，其中至少一所述影響偏振的元件被可旋轉(zhuǎn)地布置。
根據(jù)本發(fā)明，提供了至少兩個(gè)、光學(xué)活性材料的影響偏振的光學(xué)元件， 其中至少一所述影響偏振的元件被可旋轉(zhuǎn)地布置，這樣的事實(shí)提供利用旋轉(zhuǎn) 而如所希望地在光學(xué)系統(tǒng)中可變地定位這些影響偏振的光學(xué)元件的可能性， 和在光束路徑中可能提供其相互疊置的不同程度的可能性，由此提供偏振分 布可調(diào)整性方面的高度靈活性。在該方面，利用簡單(多個(gè))旋轉(zhuǎn)所述元件， 尤其可以產(chǎn)生、避免、或者具體而言改變在光束路徑中兩個(gè)影響偏振的光學(xué) 元件的重疊區(qū)，以^^根據(jù)入射光是否均穿過影響偏振的光學(xué)元件兩者，僅穿 過其一或者一個(gè)也未穿過，根據(jù)由所述元件的疊置所提供的光學(xué)活性材料的 整體厚度，而產(chǎn)生整體旋轉(zhuǎn)效果。
根據(jù)本發(fā)明的布置的另 一優(yōu)點(diǎn)是(例如與具有相對彼此可移置的楔形構(gòu) 件的配置對比)，可以使用幾乎整個(gè)光瞳區(qū)成為希望的界定的偏振狀態(tài)，或 者可以基本在整個(gè)光瞳平面上實(shí)現(xiàn)界定的偏振分布。
根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例，每個(gè)所述影響偏振元件被可旋轉(zhuǎn)地布置。具體地，影 響偏振的元件可以相互獨(dú)立地被可旋轉(zhuǎn)地布置。
根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例，至少兩個(gè)影響偏振的光學(xué)元件各自具有恒定的厚度， 它也優(yōu)選這樣被選擇，使得每個(gè)這些元件引起線性偏振光以卯。和90°奇數(shù)倍 的偏振方向旋轉(zhuǎn)。在該情形中，當(dāng)穿過兩個(gè)影響偏振元件時(shí)，偏振狀態(tài)因此
旋轉(zhuǎn)180°。采用該配置，影響偏振元件的各旋轉(zhuǎn)位置的改變使得可以從初始 的恒定偏振方向的線性偏振光產(chǎn)生多個(gè)不同的偏振分布，其中所述光瞳的對 應(yīng)的單獨(dú)的區(qū)可以以不同的方式關(guān)于其偏振方向被旋轉(zhuǎn)或者90。(當(dāng)僅穿過 一個(gè)元件)或者可以保持未改變(當(dāng)穿過兩個(gè)元件或者一個(gè)元件也未穿過)。
7根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例，影響偏振的光學(xué)布置至少緊鄰布置于光學(xué)系統(tǒng)的光瞳 平面。
根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例，對于影響偏振的光學(xué)布置存在至少一中性位置，其中 至少兩個(gè)影響偏振的光學(xué)元件使穿過布置的光的偏振狀態(tài)基本保持不變。這 具有整體布置可以永久保留在光學(xué)系統(tǒng)中的優(yōu)點(diǎn)，既便例如不希望偏振狀態(tài) 改變。
根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例，對于影響偏振的光學(xué)布置存在至少一位置，其中碰撞 于該布置之上的線性偏振光的優(yōu)選偏振方向被旋轉(zhuǎn)90°。這使得可以以靈活
的方式選擇一種作為90。延遲器的設(shè)置，依靠光學(xué)系統(tǒng)的兩個(gè)部分之間的影 響偏振的光學(xué)布置的作用，該90。延遲器適于實(shí)現(xiàn)在相應(yīng)的部分中出現(xiàn)的相 位跳變(例如由于鏡子的反射現(xiàn)象)的補(bǔ)償。在該情形，兩個(gè)相互垂直的偏 振狀態(tài)通過根據(jù)本發(fā)明的影響偏振的光學(xué)布置作為90。延遲器的作用而被互 換，使得在第二部分中的相位跳變之和精確地低償在第一部分中的相位跳變 之和。
根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例，至少兩個(gè)影響偏振的光學(xué)元件以這樣的方式布置，使 得在光學(xué)系統(tǒng)的光束路徑中其光學(xué)有效表面為圓的扇形的形狀的對應(yīng)幾何 形狀并且優(yōu)選是半圓。在該情形也優(yōu)選至少兩個(gè)影響偏振的光學(xué)元件以這樣 的方式可旋轉(zhuǎn)地布置，使得其光學(xué)有效表面在影響偏振的光學(xué)元件的至少一 旋轉(zhuǎn)位置相互補(bǔ)充，以便構(gòu)成整體圓形表面(在平面圖中或作為投射)。作 為影響偏振元件的各光學(xué)有效表面的半圓幾何形狀的結(jié)果，這些元件的合適 的旋轉(zhuǎn)使得可以產(chǎn)生具有圓的部分的形狀的幾何形狀的區(qū)并且具有相互不 同的偏振方向。這些偏振分布首先包括稱為'準(zhǔn)切向，偏振分布(也稱為'X-Y 偏振，)，它在一階近似中是切向的偏振分布中，包括優(yōu)選偏振方向在X方向 的光分量和優(yōu)選偏振方向在Y方向的光分量，其中這兩個(gè)光分量尤其可以在 光束截面中所占據(jù)的其整個(gè)表面面積方面和在其強(qiáng)度方面都一致(在此X軸 和Y軸被設(shè)為是笛卡兒坐標(biāo)系的相互垂直的軸，其中垂直于X軸和X軸的 Z軸平行于光學(xué)系統(tǒng)軸或光傳播方向延伸)。
但是，可以被產(chǎn)生的偏振分布還包括具有垂直和水平極的大小的偏振分 布，它們與上述界定的分布相關(guān)而改變，就其而言，因此優(yōu)選偏振方向在X 方向和優(yōu)選偏振方向在Y方向的光分量在光束截面中其所占據(jù)的總面積方 面和在其強(qiáng)度方面分別不一致。換言之，根據(jù)本發(fā)明的影響偏振的光學(xué)布置也可以產(chǎn)生多個(gè)偏振分布，就其而言，可以連續(xù)地改變在光束截面中存在的 面積的相對尺寸關(guān)系，而具有恒定的優(yōu)選偏振方向。
才艮據(jù)另一優(yōu)選配置，影響偏振的光學(xué)布置具有另一具有垂直于光學(xué)系統(tǒng) 軸取向的光學(xué)晶體軸的雙折射晶體材料。優(yōu)選另 一光學(xué)元件繞光學(xué)系統(tǒng)軸可 旋轉(zhuǎn)地布置。此外該光學(xué)元件優(yōu)選具有四分之一波長板或多個(gè)四分之一波長 板的布置。該另一光學(xué)元件優(yōu)選僅布置在光束穿過影響偏振的光學(xué)布置的中 心部分區(qū)中。
該設(shè)計(jì)配置使得它可以產(chǎn)生其中圓偏振光或者有效地未被偏振的光也 產(chǎn)生于光瞳的中心區(qū)(該區(qū)的尺寸取決于另一光學(xué)元件的范圍)的偏振分布。
在該方面，本發(fā)明利用了下列事實(shí)，在^^據(jù)本發(fā)明的布置中，圓偏振光 在偏振狀態(tài)未被影響的條件下穿過光學(xué)活性材料，因?yàn)閳A偏振狀態(tài)代表光學(xué) 活性材料的固有狀態(tài)。此外，利用所述另一光學(xué)元件(四分之一波長板)的旋 轉(zhuǎn)，可以相對于碰撞于所述布置之上的光的偏振方向，調(diào)整其光學(xué)晶體軸的 取向，換而言之，四分之一波長板可以放置在其將線性入射偏振轉(zhuǎn)換為圓偏 振的位置和其保留線性入射偏振未改變的位置之間。
根據(jù)另一實(shí)施例，所述另一光學(xué)元件也可以具有四分之一波長板的矩陣 狀或棋盤狀布置。在該情形中，矩陣或棋盤狀布置的單獨(dú)區(qū)可以具有相對彼
此旋轉(zhuǎn)90。的光學(xué)晶體軸，使得正被討論的區(qū)交替地將線性入射偏振分別轉(zhuǎn)
換為右圓偏振光和左圓偏振光，因此，通過圖像處理中組分的疊置，而在光 瞳的中心區(qū)再次設(shè)置未偏振的光。
上述總體構(gòu)思的實(shí)施，即圓偏振光穿過光學(xué)活性材料而不在偏振狀態(tài)方 面被影響，因?yàn)閳A偏振狀態(tài)代表光學(xué)活性材料的固有狀態(tài)，不限于根據(jù)本發(fā) 明的影響偏振布置，而是也可以普遍地在其它布置或光學(xué)系統(tǒng)中被實(shí)施。'
沖艮據(jù)本發(fā)明的另一方面，還涉及微光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)，其中
不同的照明"沒置可以在照明系統(tǒng)中^皮i殳置，并且其中在照明系統(tǒng)中存在的偏 振分布可以通過至少一光學(xué)元件的旋轉(zhuǎn)而被適應(yīng)于分別設(shè)置的照明設(shè)置。
在該情形中這些照明設(shè)置可以在所生產(chǎn)的照明極的尺寸和/或形狀方面 不同，在該情形中，偏振分布可以連續(xù)地適應(yīng)于這些照明極的尺寸和/或形狀。 根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例，至少 一這些照明設(shè)置是環(huán)形照明設(shè)置。 根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例，至少 一光學(xué)元件由光學(xué)活性材料制成。 根據(jù)另 一方面，本發(fā)明還涉及在至少一照明極中設(shè)置偏振分布的方法，具體地在具有上迷特征的光學(xué)系統(tǒng)中或照明系統(tǒng)中，其中偏振分布的設(shè)置受 到至少一光學(xué)元件的旋轉(zhuǎn)的影響。
根據(jù)另一方面，本發(fā)明還涉及光學(xué)系統(tǒng)，具體地是微光刻投射設(shè)備的照 明系統(tǒng)或投射物鏡，包括光學(xué)活性材料的至少一光學(xué)元件，其中所述光學(xué)元 件是這樣布置的，使得在光學(xué)系統(tǒng)的工作中其至少以圓偏振光按區(qū)照射。
根據(jù)另一方面，本發(fā)明還涉及操作光學(xué)系統(tǒng)的方法，具體地是微光刻投 射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)或投射物鏡，其中所述系統(tǒng)具有至少一光學(xué)活性材料 的光學(xué)元件，其中所述光學(xué)系統(tǒng)至少以圓偏振光按區(qū)照射。
本發(fā)明還涉及微光刻投射曝光設(shè)備，微結(jié)構(gòu)元件的微光刻生產(chǎn)的方法和 微結(jié)構(gòu)元件。
在說明書和所附權(quán)利要求中闡述了本發(fā)明的更多的配置。
以下將通過在附圖中以實(shí)例方式示出的實(shí)施例更詳細(xì)地描述本發(fā)明，其
中
圖1是根據(jù)本發(fā)明的微光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的示意圖2是根據(jù)本發(fā)明的影響偏振的光學(xué)布置的結(jié)構(gòu)的示意圖3a-3k示出了通過圖2的影響偏振的光學(xué)元件的不同旋轉(zhuǎn)位置可以獲
得的對于預(yù)定入射偏振分布(圖3a)的偏振分布的示意圖(圖3b-3k);
圖4示出了在另 一實(shí)施例中示出根據(jù)本發(fā)明的影響偏振的光學(xué)元件的結(jié)
構(gòu)的示意側(cè)視圖。
圖5a-5d示出了示出通過圖4的影響偏振的光學(xué)元件的不同旋轉(zhuǎn)位置對 于預(yù)定入射偏振分布(圖5a)可以獲得的偏振分布的示意圖(見圖5b-5c), 和才艮據(jù)本發(fā)明的影響偏振的光學(xué)布置的另一替代配置(圖5d);
圖6-7示出了示出在另一實(shí)施例中根據(jù)本發(fā)明的影響偏振的光學(xué)布置的 結(jié)構(gòu)的示意圖和可以利用這樣的布置產(chǎn)生的出射偏振分布；以及
圖8a-8e示出了可以在光學(xué)系統(tǒng)中被設(shè)定的不同照明設(shè)置的示意圖。
具體實(shí)施例方式
圖1是示出根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的微光刻曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)的基本結(jié) 構(gòu)的示意圖。照明系統(tǒng)1采用來自包括例如193 nm工作波長的ArF激光的光源單元 (未示出)和產(chǎn)生平行光束的束形成光學(xué)系統(tǒng)的光，用于結(jié)構(gòu)承載掩模(掩 模母版)的照明。
根據(jù)所示出的實(shí)施例，光源單元的平行光束首先撞擊衍射光學(xué)元件3(也
稱為'光瞳界定元件，)，它通過由光瞳平面Pl中的&汙射表面結(jié)構(gòu)所界定 的角輻射特性的方式產(chǎn)生希望的強(qiáng)度分布(例如雙極或四極分布)。如圖i
中所示出的，在光傳播方向布置在折射光學(xué)元件3的下游的是具有產(chǎn)生可變 直徑的平行光束的變焦物鏡(zoom object )的光學(xué)單元4，和軸錐體(axicon )。 利用變焦物鏡結(jié)合布置在上游的折射光學(xué)元件3，才艮據(jù)各變焦位置和軸錐體 元件的位置，在光瞳平面Pl中產(chǎn)生不同的照明配置。光學(xué)單元4還包括改 變方向4竟4a。
根據(jù)所述實(shí)施例，影響偏振的光學(xué)布置5布置于光瞳平面Pl中。該布 置可以包括任何以下所述的影響偏振的光學(xué)布置的配置。
在光束路徑中在光傳播方向布置在影響偏振的光學(xué)布置5的下游的是光 混合裝置6,它自身以已知的方式具有包括適于產(chǎn)生光混合的微光學(xué)元件的 布置。光混合裝置也可以替代地包括蜂巢聚光器、或?qū)τ谠诠ぷ鞑ㄩL的光透 明的材料例如石英玻璃或者還有晶狀氟化鈣的條形積分器。
光混合裝置6在光傳播方向被跟隨著透鏡組7，其下游是具有掩模母版 掩模系統(tǒng)(REMA)的場平面Fl，其圖像通過在光傳播方向的下游位置的 REMA物鏡，產(chǎn)生于布置在場平面F2中的結(jié)構(gòu)承載掩模(掩模母版)2上， 并且它由此界定了掩模母版2上的照明區(qū)。結(jié)構(gòu)承載掩模2用投射物鏡(在 此未示出)成像于被提供以光敏層的晶片或襯底上。
參考圖2，在此示出的僅是影響偏振的光學(xué)布置200的示意性側(cè)視圖。 影響偏振的光學(xué)布置200包括第一影響偏振的光學(xué)元件210和第二影響偏振 的光學(xué)元件220，它們相互獨(dú)立地圍繞著共同旋轉(zhuǎn)軸可旋轉(zhuǎn)地布置(該軸在 示出的實(shí)施例中與光學(xué)系統(tǒng)軸OA —致)?？尚D(zhuǎn)布置的實(shí)施可以受到光學(xué) 元件210、 220的影響，該各光學(xué)元件210、 220例如包括在光學(xué)使用面積之 外的各自范圍，并且在固定元件(未示出)中被固定在未被光學(xué)使用的各自 區(qū)中，固定方式例如為夾鉗安裝或粘結(jié)安裝，這又通過(優(yōu)選可驅(qū)動(dòng))旋轉(zhuǎn) 裝置是可旋轉(zhuǎn)的。根據(jù)另 一實(shí)施例，僅有影響偏振元件210和220之一被可 旋轉(zhuǎn)地布置。
ii兩個(gè)影響偏振的光學(xué)元件210和220各自以平板的形式由光學(xué)活性晶狀 石英生產(chǎn)，其中各晶體材料的光學(xué)晶體軸與上述旋轉(zhuǎn)軸(即也與光學(xué)系統(tǒng)軸， 對應(yīng)于示出的坐標(biāo)系的z軸)成平行關(guān)系取向。此外在示出的實(shí)施例中影響 偏振的光學(xué)元件210、 220各自為恒定厚度的平板的形式，所述厚度是這樣 選擇的使得元件210、 220產(chǎn)生線性偏振光學(xué)90?；蚱淦鏀?shù)倍的偏振方向的旋 轉(zhuǎn)。當(dāng)使用在193nm的波長和21.6。C具有大約323.17mm的比旋轉(zhuǎn)能力a 合成的光學(xué)活性晶狀石英時(shí)，該條件對應(yīng)于影響偏振的光學(xué)元件210、 220 的278.5pm或其奇數(shù)倍的厚度。對于自然石英，為了對比的目的，光學(xué)行為 就例如關(guān)于Oa (天然石英)=325.2 ± 0.57mm來確定(在20。C和25。C之間的 環(huán)境溫度，其中溫度相關(guān)性由AOa/AT = 2.37 mrad/(mm。C) ± 0.14 mrad/(mm。C)來確定)。
根據(jù)所示出的實(shí)施例，影響偏振的光學(xué)元件210和220的幾何形狀可以 基本上按希望被選擇(例如以圓板的或矩形板的形式)，影響偏振的光學(xué)元 件210和220被這樣在光束路徑中布置，使得在光學(xué)系統(tǒng)的光束路徑中，各 這些元件210、 220的光學(xué)有效表面分別是半圓幾何形狀。在圖3b-3k的示 意圖中，這些元件210、 220的各光學(xué)有效表面通過相互不同的陰影線示出， 其中取決于單獨(dú)的元件210、 220的對應(yīng)的旋轉(zhuǎn)位置而存在的重疊區(qū)通過對 應(yīng)的雙陰影線而被識別。這些圖還示出了通過在光傳播方向在影響偏振的光 學(xué)布置200的下游的元件210、 220的動(dòng)作所設(shè)置的偏振分布，更具體地通 過箭頭的方向指示對應(yīng)的優(yōu)選偏振方向。因而這些箭頭在此僅作為單箭頭示 出(并且不作為雙箭頭)，以便更好地示出實(shí)際旋轉(zhuǎn)角度，但是在該方面例 如出射偏振的180。的旋轉(zhuǎn)角度的旋轉(zhuǎn)最終保持偏振分布不變。
在分別在圖3b和3c中示出的布置310和320中，影響偏振元件210和 220是這樣定位的，4吏得其相互完全疊加。因而作為結(jié)果存在分別具有對于 入射偏振在影響偏振的光學(xué)布置200后面未改變偏振方向的半圓區(qū)311和 321 (在圖3a中面對Y方向)，以及其中偏振方向已經(jīng)被旋轉(zhuǎn)180。的半圓區(qū) 321和322。因而對于在圖3b中示出以及在圖3c中示出的設(shè)置，在影響偏 振的光學(xué)布置200的動(dòng)作方面，出射偏振分布對應(yīng)于入射偏振分布，使得各 情形包括不改變偏振分布的布置200的中性位置。
在圖3d和圖3e中，影響偏振的光學(xué)元件210和220的位置是這樣選擇 的，使得其有效光學(xué)表面不重疊但是相互補(bǔ)充以便提供圓形的整體表面(在平面圖中或作為投射)。結(jié)果偏振方向90。的旋轉(zhuǎn)分別發(fā)生于各兩個(gè)對應(yīng)的半 圓區(qū)331和332,和341和342中。當(dāng)在光學(xué)系統(tǒng)的兩個(gè)部分之間，影響偏 振的光學(xué)布置的動(dòng)作旨在實(shí)施在光學(xué)系統(tǒng)的各部分中出現(xiàn)的相位跳變的補(bǔ) 償，這樣的設(shè)置尤為有效，相位跳變例如由鏡的反射現(xiàn)象引起。在該情形中， 兩個(gè)相互垂直的偏振狀態(tài)通過作為90。延遲器的根據(jù)本發(fā)明的影響偏振的光 學(xué)布置的動(dòng)作而被互換，使得在第二部分中的相位跳變之和精確地低償在第 一部分中的相位跳變。減小/補(bǔ)償偏振狀態(tài)不希望的改變的該原理例如乂人WO 03/07701 1 Al中已知，并且因而還可以采用才艮據(jù)本發(fā)明的影響偏4展的光學(xué)布 置而實(shí)施。
在圖3g中所示出的影響偏振的光學(xué)元件210和220的布置360是這樣 選擇的，使得它們在Y方向上(即垂直)的相互面對關(guān)系的兩個(gè)區(qū)362和 364中不重疊(使得在各情形中在此發(fā)生偏振方向90。的旋轉(zhuǎn))。與之對比， 兩個(gè)元件210和220在區(qū)363中重疊，使得在此偏振方向被旋轉(zhuǎn)180°。在X 方向與區(qū)363成相對關(guān)系的區(qū)361中，元件210和220分別都不在光束^各徑 中，使得在此根本沒有發(fā)生偏振方向的旋轉(zhuǎn)。作為結(jié)果獲得的偏振分布被稱 為'準(zhǔn)切向，和'X-Y偏振，，因?yàn)樗^在一階近似中它包括優(yōu)選偏振方向 在X方向的光分量和優(yōu)選偏振方向在Y方向的光分量。在圖3g的布置360 的情形中，這兩個(gè)光分量就其在光束截面這所占據(jù)的總表面還有其強(qiáng)度而言 一致。
在圖3f和3h中示出的布置是這樣選擇的，使得元件210、 220的重疊 區(qū)和未被元件210或220所覆蓋的區(qū)各自比僅被元件210、 220之一各自覆 蓋的區(qū)(即在圖3f中的區(qū)352和354和在圖3h中的區(qū)372和374)小(圖 3f,區(qū)351、 353 )或大(見圖3h，區(qū)371、 373 )。結(jié)果，優(yōu)選偏振方向在X 方向和優(yōu)選偏振方向在Y方向的光分量就其在光束截面中所占據(jù)的總面積 和其強(qiáng)度而言分別不一致。分別改變覆蓋區(qū)353和373的大小使得可以以恒
在元件210和220的圖3j中所示出的布置390中，元件210和220的非 重疊區(qū)以相對關(guān)系在X方向水平布置，其中在垂直地相對布置的區(qū)392和 394中，元件210和220或者重疊(區(qū)394 )或者根本不存在(區(qū)392 )。結(jié) 果，圖3j的布置390產(chǎn)生被稱為'準(zhǔn)徑向，的偏振分布，其中分別在X軸 和Y軸上的優(yōu)選偏振方向，以與方向朝向光學(xué)系統(tǒng)軸OA的半徑平行的關(guān)系取向。相似于上述圖3f和3h的實(shí)施例，圖3i和3k的實(shí)施例對于上述圖3j 的布置3卯以這樣的方式》，改，使得在光束截面中存在并且分別在X方向和 Y方向成相對關(guān)系的極尺寸或表面的面積被改變而具有恒定的優(yōu)選偏振方 向。
以下將參考圖6和7描述根據(jù)本發(fā)明的影響偏振的光學(xué)布置的另 一實(shí)施 例。該布置與參考圖2和3描述的影響偏振布置200不同，即總共6個(gè)影響 偏振元件沿光學(xué)系統(tǒng)軸OA連續(xù)地布置并且被布置得圍繞光學(xué)系統(tǒng)軸OA(形 成共同的旋轉(zhuǎn)軸)可旋轉(zhuǎn)。各這些元件(也由具有平行于光學(xué)系統(tǒng)軸OA光 學(xué)晶體軸的光學(xué)活性晶狀石英制成)而且也是恒定厚度，與圖2和3不同， 這些元件不是為半圓的形狀而是為四分之一圓的形狀。對應(yīng)的布置例如在圖 7a(以及圖7c、圖7e、等第)中作為平面圖示出，在該方面數(shù)字'1，， '1 + 2，， '2 + 3，等識別在正^皮討^淪的圓形扇區(qū)中存在的對應(yīng)的元件和在此重 疊的元件。作為已經(jīng)在圖2和3的實(shí)例中的情形，單個(gè)元件的旋轉(zhuǎn)圍繞相關(guān) 整圓的中心點(diǎn)發(fā)生。單獨(dú)的影響偏振元件的厚度是這樣選擇的，使得在光學(xué) 傳播方向的頭兩個(gè)元件分別產(chǎn)生線性偏振光45?；蚱淦鏀?shù)倍的偏振方向的旋 轉(zhuǎn)。在光傳播方向上接下來的兩個(gè)元件(即該布置的第三和第四元件)是這 樣的厚度使得其產(chǎn)生線性偏振光卯。的偏振方向的旋轉(zhuǎn)。在光傳播方向上更 后面的兩個(gè)元件(即該布置的第五和第六個(gè)元件)分別引起線性偏振光135° 的偏振方向的旋轉(zhuǎn)。
如已經(jīng)利用圖2和3的實(shí)例所描述的，穿過多個(gè)板時(shí)的偏振狀態(tài)通過光 分別穿過的多個(gè)板的單獨(dú)旋轉(zhuǎn)之和而旋轉(zhuǎn)。
該布置在提供希望的偏振狀態(tài)方面實(shí)現(xiàn)了靈活性的進(jìn)一步的增加，如以 下所述。圖6首先示出了可以用兩個(gè)分別疊置的元件的結(jié)合實(shí)現(xiàn)的結(jié)果的全 部旋轉(zhuǎn)的綜述。在該情形中單獨(dú)的影響偏振元件從'1，至'6，連續(xù)編號并 且當(dāng)光穿過這兩個(gè)板時(shí)導(dǎo)致的旋轉(zhuǎn)角以角度并且也以箭頭符號的形式說明。
現(xiàn)在，對于這些影響偏振的光學(xué)元件布置的實(shí)施例，圖7a-7p示出了， 六個(gè)影響偏振的光學(xué)元件的總共八個(gè)不同的配置以及對應(yīng)的產(chǎn)生的出射偏 振分布。在該方面圖7b示出了與圖7a的配置相關(guān)的出射偏振分布，圖7d 示出了與圖7c的配置相關(guān)的出射偏振分布，等等。在所有情形中，各入射 偏振分布分別對應(yīng)于圖3a和圖5a的配置，即在Y方向具有優(yōu)選偏振方向的 線性偏振分布。圖7a和7c的配置分別適于產(chǎn)生準(zhǔn)切向偏振分布(圖7a,b)和準(zhǔn)徑向偏 振分布(分別是圖7c、 d)，分別與圖3g和3j對比，它仍然分別是對于理想 切向和徑向偏振分布的更好近似。
圖7e-7f的配置對應(yīng)于作為不影響偏振狀態(tài)的結(jié)果的中性位置。圖7g-7h 對應(yīng)于優(yōu)選偏振方向90。的規(guī)則旋轉(zhuǎn)，并且因而相似于上述圖3d和圖3e的 配置，適于最小化在未被偏振操作中的殘留偏振的剩余角度。
圖7i-7j的配置，相似于圖3g的實(shí)施例，對應(yīng)于準(zhǔn)切向X-Y偏振的產(chǎn) 生，根據(jù)圖7k-71的另一可能的配置，也可以圍繞光學(xué)系統(tǒng)軸OA旋轉(zhuǎn)45。 而產(chǎn)生。
圖7m-7n和圖7o-7p的配置因而分別對應(yīng)于優(yōu)選偏振方向的45° (圖 7m-7n)和135° (圖7o-7p )的均勻旋轉(zhuǎn)。
以下，參考圖4和圖5a-5c,將描述根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的影響偏振 的光學(xué)布置。該影響偏振的光學(xué)布置400首先具有圖2和圖3的布置200的 兩個(gè)影響偏振的光學(xué)元件210和220。另外并且在光傳播方向(沿示出的坐 標(biāo)系中的z軸)被布置在布置200的上游，但是作為布置400的組成元件， 存在另一雙折射晶體材料的光學(xué)元件410，其中該光學(xué)晶體軸垂直于光學(xué)系 統(tǒng)軸OA取向，與元件210和220形成對比。4艮據(jù)示出的實(shí)施例，該另一光 學(xué)元件410是以四分之一波長板的形式并且也圍繞元件210和220的公共旋 轉(zhuǎn)軸而可旋轉(zhuǎn)地布置(它在示出的實(shí)施例軸也與光學(xué)系統(tǒng)軸OA符合)并且 獨(dú)立于元件210和220。另外元件410包括圓形幾何形狀并且在示出的實(shí)施 例中具有穿過該布置的光束的直徑的大約50%的直徑(這就是說例如大約
50%的最大光瞳直徑)。
如在圖5a-c中所示出的，根據(jù)圖4的布置400,可以從具有恒定偏振方 向的原始的入射偏振分布(見圖5a)產(chǎn)生出射偏振分布，該出射偏振分布依 靠在光瞳中心區(qū)(其尺寸取決于光學(xué)元件410的范圍)的四分之一波長板的 作用而產(chǎn)生圓偏振光。在該方面，有益的效果是通過四分之一波長板產(chǎn)生的 圓偏振光穿過后面的元件210、 220而不影響偏振狀態(tài)，因?yàn)閳A偏振狀態(tài)代 表光學(xué)活性材料的固有狀態(tài)。由于前述從線性入射偏振分布產(chǎn)生圓偏振光的 動(dòng)作預(yù)示元件410中光學(xué)晶體軸為相對于線性入射偏振分布軸的優(yōu)選偏振方 向是基本45。的角度，所以上述產(chǎn)生圓偏振的效果也可以利用元件410圍繞 光學(xué)系統(tǒng)軸OA的旋轉(zhuǎn)而被改進(jìn)或抑制。具體地在示出的實(shí)施例中，光學(xué)元件410不具有任何影響偏振動(dòng)作，如果元件410中的光學(xué)晶體軸平行于線性 入射偏振的優(yōu)選偏振方向(即在示出的坐標(biāo)系軸的y方向)，因?yàn)樵撈穹?向關(guān)于四分之一 波長板的雙折射材料也形成固有狀態(tài)。
在這種意義上，圖5b中所示出的配置對應(yīng)于與圖3g相似的準(zhǔn)切向偏振 分布的產(chǎn)生，圖5b中示出了板的旋轉(zhuǎn)位置以及出射偏振分布，相似于圖3 的視圖，但是在光瞳的中心區(qū)515具有圓偏振分布。在圖5c中所示出的布 置520，相似于圖3f,對應(yīng)于又一準(zhǔn)切向偏振分布的產(chǎn)生，該準(zhǔn)切向偏沖展分 布與垂直極522、 524相比在水平極521、 523具有不同尺寸，并且在光瞳的 中心區(qū)525具有圓偏振分布。相似地，對于參考圖2和3已經(jīng)描述的所有配 置，利用圖4的影響偏振的光學(xué)布置400,可以產(chǎn)生對應(yīng)的包括在光瞳的中 心區(qū)的圓偏振的出射偏振分布，即所述在光瞳中心區(qū)的圓偏振的產(chǎn)生獨(dú)立于 其他影響偏振元件或旋轉(zhuǎn)器板的位置來實(shí)現(xiàn)。
此外應(yīng)當(dāng)理解在光的傳播方向布置在偏振旋轉(zhuǎn)器或影響偏振元件上游 的四分之一波長板的原理也可以被應(yīng)用于參考圖6和7所述的布置，以便產(chǎn) 生在圖7a-7p中詳細(xì)示出的出射偏振布置，在各情形中相似地具有在光瞳的 中心區(qū)中的圓偏振分布。
根據(jù)另一實(shí)施例，另一光學(xué)元件410,如在圖5d的示意圖中所示出的， 替代四分之一波長板，也可以具有四分之一波長板的矩陣狀或棋盤狀布置 570,其中相互相鄰布置的矩陣狀布置的四分之一波長板分別具有相互相對 旋轉(zhuǎn)90。的光學(xué)晶體軸，其中此外相似于圖4,所述布置例如在光傳播方向 定位于影響偏振布置200的上游(在圖5d中被560所標(biāo)識)并且也優(yōu)選圍 繞在z方向上延伸的光學(xué)系統(tǒng)軸OA可旋轉(zhuǎn)地布置。根據(jù)另一替代實(shí)施例， 另一光學(xué)元件410也可以包括影響偏振元件的矩陣狀或棋盤狀分布，在該情 形，在該分布中各相鄰元件交替地產(chǎn)生四分之一波長-和(3 *四分之一波 長)-延遲。
優(yōu)選在上述矩陣狀布置中，'逆，的雙折射區(qū)圍繞光瞳中心以點(diǎn)對稱布 置。作為在圖像處理中單個(gè)元件的疊置的結(jié)果，兩種配置都分別允許光瞳的 中心區(qū)中準(zhǔn)未偏振光的產(chǎn)生。在這些配置中，上述矩形形式布置的作用也可 以分別利用對于形成旋轉(zhuǎn)軸的光學(xué)系統(tǒng)軸旋轉(zhuǎn)大約45°而被"切換為開或 關(guān)，，。具有四分之一波長板(或(3 *四分之一波長板)矩陣狀或棋盤狀布置的結(jié) 構(gòu)也可以與各此前所述的影響偏振布置(分別參考圖2、 3和圖6、 7)結(jié)合。
16圖8a-e示出了可以在光學(xué)系統(tǒng)中設(shè)置的典型照明設(shè)置，例如如圖1中所 示出并且例如根據(jù)所使用的各掩;f莫而優(yōu)選的照明系統(tǒng)，其中圖8a示出了所 謂具有'小西格馬，的照明設(shè)置(也稱為小西格馬設(shè)置)，圖8b示出了環(huán)形 照明設(shè)置，圖8c示出了四極照明設(shè)置，也稱為C-四方(C-quad)設(shè)置，并 且圖8d示出也被稱為類星體設(shè)置的照明設(shè)置，其中四極的四個(gè)極被布置得 相對于C -四方設(shè)置在各情形中分別圍繞z軸關(guān)于x軸和y軸旋轉(zhuǎn)45°。圖 8e示出了相似于圖8c的照明設(shè)置，而具有在x方向以相反關(guān)系布置的極的 變化的尺寸('水平，極)。根據(jù)本發(fā)明的影響偏振的光學(xué)布置尤其可以被使 用，以便通過旋轉(zhuǎn)至少一影響偏振的光學(xué)元件，使在照明系統(tǒng)中各被設(shè)置或 存在的偏振分布，就極尺寸而言，連續(xù)地適于各設(shè)置的照明設(shè)置，即照明極 的尺寸和/或形狀。
如果以下參考具體實(shí)施例描述本發(fā)明，則例如通過結(jié)合和/或相互交換單 個(gè)實(shí)施例的特征，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言各種變更和替代配置是顯見 的。因而對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員顯見的是，這樣的變更和替代配置也被本發(fā) 明包含并且本發(fā)明的范圍僅根據(jù)所附權(quán)利要求及其等同物限制。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)系統(tǒng)，具體而言一種微光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)或投射物鏡，包括至少一影響偏振的光學(xué)布置(200、400、550)，具有至少兩個(gè)、光學(xué)活性材料的影響偏振的光學(xué)元件(210、220)，其中至少一所述影響偏振元件(210、220)可旋轉(zhuǎn)地布置。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于每個(gè)所述影響偏振元件(210、 220)可;5走轉(zhuǎn)地布置。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于至少一影響偏振的光 學(xué)元件(210、 220)在垂直于所述光學(xué)系統(tǒng)軸(OA)的平面中是可旋轉(zhuǎn)的。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于每個(gè)所述影響偏振的光學(xué) 元件(210、 220)在垂直于所述光學(xué)系統(tǒng)軸(OA)的平面中分別是可旋轉(zhuǎn) 的。
5. 根據(jù)權(quán)利要求2至4任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述影響偏振 的光學(xué)元件(210、 220)繞公共旋轉(zhuǎn)軸可旋轉(zhuǎn)地布置。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述光學(xué)系統(tǒng)具有與所述 公共旋轉(zhuǎn)軸一致的光學(xué)系統(tǒng)軸(OA )。
7. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述至少兩個(gè)影 響偏振的光學(xué)元件(210、 220)分別具有恒定的厚度。
8. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述至少兩個(gè)影 響偏纟展的光學(xué)元件(210、 220)的至少一個(gè)的厚度并且優(yōu)選這些元件的每個(gè) 被這樣選擇，使得其產(chǎn)生線性偏振光90。或其奇數(shù)倍的偏振方向的旋轉(zhuǎn)。
9. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述光學(xué)系統(tǒng)具 有光學(xué)系統(tǒng)軸(OA),其中所述至少兩個(gè)影響偏振的光學(xué)元件(210、 220) 沿所述光學(xué)系統(tǒng)軸(OA)直接連續(xù)布置。
10. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述光學(xué)系統(tǒng)具 有光學(xué)系統(tǒng)軸(OA)，其中所述光學(xué)活性材料分別是光學(xué)活性晶體材料并且 所述光學(xué)晶軸分別平行于所述光學(xué)系統(tǒng)軸(OA)。
11. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述光學(xué)活性材 料是石英、Te02或AgGaS2。
12. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于存在至少一所述影響偏振的光學(xué)布置的中性位置，其中所述至少兩個(gè)影響偏振的光學(xué)元件(210、 220)使穿過所述布置的光的偏振狀態(tài)基本未變。
13. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于存在至少一所述 影響偏振的光學(xué)布置的位置，其中碰撞于所述布置之上的線性偏振光的優(yōu)選 偏，振方向祐^走轉(zhuǎn)90。。
14. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于重疊區(qū)通過所述 至少一影響偏振的光學(xué)元件(210、 220)的旋轉(zhuǎn)是可變的，其中所述重疊區(qū) 由在所述重疊區(qū)內(nèi)通過均穿過影響偏振的光學(xué)元件(210、 220)兩者而穿過 所述光學(xué)系統(tǒng)的光的光束所界定。 —
15. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述至少兩個(gè)影 響偏振元件(210、 220)以這樣的方式布置，使得其在所述光學(xué)系統(tǒng)的光束 路徑中的有效光學(xué)表面分別以圓的扇形的幾何形狀，優(yōu)選半圓的幾何形狀或 以四分之一 圓的幾<可形狀。
16. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述影響偏振光 學(xué)系統(tǒng)具有多于2個(gè)，優(yōu)選6個(gè)這樣的影響偏振的光學(xué)元件。
17. 根據(jù)權(quán)利要求16的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于至少兩個(gè)所述影響偏振 的光學(xué)元件相互厚度不同。
18. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述至少兩個(gè)影 響偏振的光學(xué)元件(210、 220)的有效光學(xué)表面在光傳播方向在至少一旋轉(zhuǎn) 位置完全重疊。
19. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于在至少一旋轉(zhuǎn)位 置所述影響偏振的光學(xué)元件(210、 220)的光學(xué)有效表面相互補(bǔ)充，以侵_沖是 供整體圓形區(qū)。
20. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于在所述至少兩個(gè) 影響偏振的光學(xué)元件(210、 220)的至少一位置中的所述影響偏振的光學(xué)布
21. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述影響偏振光 學(xué)至少緊鄰所述光學(xué)系統(tǒng)的光瞳平面(Pl)布置。
22. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述光學(xué)系統(tǒng)具 有光學(xué)系統(tǒng)軸(OA),其中所述影響偏振的光學(xué)布置(400)具有雙折射晶體材料的另一光學(xué)元件(410),所述雙折射晶體材料具有垂直于所述光學(xué)系 統(tǒng)軸(OA)取向的光學(xué)晶體軸。
23. 根據(jù)權(quán)利要求22的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述另一光學(xué)元件(410) 繞所述光學(xué)系統(tǒng)(OA)軸可旋轉(zhuǎn)地布置。
24. 根據(jù)權(quán)利要求22或23的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述另一光學(xué)元件 (410 )具有一個(gè)四分之一波長板或多個(gè)四分之一波長板的布置。
25. 才艮據(jù)權(quán)利要求22至24任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)，其中所述另一光學(xué)元件 具有四分之一波長板的矩陣狀布置(570),其中在所述布置的至少兩個(gè)相鄰 四分之一波長板中所述光學(xué)晶體軸相互相對旋轉(zhuǎn)90°。
26. 根據(jù)權(quán)利要求22至25任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述另一光 學(xué)元件僅被布置在穿過所述影響偏振的光學(xué)布置的所述光束的中心部分區(qū) 中。
27. 根據(jù)權(quán)利要求22至26任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述另一光 學(xué)元件包括圓形幾何形狀。
28. 根據(jù)權(quán)利要求22至27任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述另一光 學(xué)元件具有在所述光學(xué)系統(tǒng)的工作中穿過其的光束的直徑40%至60%的范 圍的直徑。
29. —致微光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)，其中不同的照明設(shè)置可以在所述照明系統(tǒng)中被設(shè)置；并且 其中在所述照明系統(tǒng)中存在的偏振分布可以通過至少一光學(xué)元件的旋 轉(zhuǎn)而適應(yīng)于所述分別設(shè)置的照明設(shè)置。
30. 根據(jù)權(quán)利要求29的照明系統(tǒng)，其特征在于所述照明設(shè)置在所產(chǎn)生 的照明極的尺寸和/或形狀上不同，其中所述偏振分布可以連續(xù)地適應(yīng)于所述 照明極的尺寸和/或形狀。
31. 根據(jù)權(quán)利要求29或30的照明系統(tǒng)，其特征在于所述至少一照明設(shè) 置是環(huán)形照明設(shè)置。
32. 根據(jù)權(quán)利要求29至31任一項(xiàng)的照明系統(tǒng)，其特征在于所述至少一 光學(xué)元件由光學(xué)活性材料制成。
33. 根據(jù)權(quán)利要求29至32任一項(xiàng)的照明系統(tǒng)，其特征在于所述照明系 統(tǒng)是根據(jù)權(quán)利要求1至28任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)。
34. —種在至少一照明極中，具體而言在根據(jù)權(quán)利要求1至28任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)中或在根據(jù)權(quán)利要求29至33任一項(xiàng)的照明系統(tǒng)中，設(shè)置偏振分 布的方法，其中所述偏振分布的設(shè)置受到至少一光學(xué)元件的旋轉(zhuǎn)的影響。
35. 根據(jù)權(quán)利要求34的方法，其特征在于所述至少一光學(xué)元件由光學(xué) 活性材料制成。
36. 根據(jù)權(quán)利要求34或35的方法，其特征在于所述至少一照明極是環(huán) 形照明設(shè)置的照明極。
37. —種光學(xué)系統(tǒng)，具體而言一種微光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)或投 射物鏡，包括光學(xué)活性材料的至少一光學(xué)元件；其中所述光學(xué)元件布置，使得在所述光學(xué)系統(tǒng)的工作中它至少以圓偏振 光被按區(qū)照射。
38. —種光學(xué)系統(tǒng)、具體而言微光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)或投射物 鏡的操作方法，其中所述系統(tǒng)具有至少一光學(xué)活性材料的光學(xué)元件，其中所 述光學(xué)系統(tǒng)至少在以圓偏振光祐j姿區(qū)照射。
39. —種影響偏振的光學(xué)系統(tǒng)，具體而言用于根據(jù)權(quán)利要求1至28任 一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)或根據(jù)權(quán)利要求29至33任一項(xiàng)的照明系統(tǒng)，其中所述布置 具有至少兩個(gè)光學(xué)活性材料的影響偏振元件(210、 220)并且其中至少一所 述影響偏振的光學(xué)元件(210、 220)可旋轉(zhuǎn)地布置。
40. 根據(jù)權(quán)利要求39的影響偏振的光學(xué)系統(tǒng)，其中每個(gè)所述影響偏振 的光學(xué)元件(210、 220)可旋轉(zhuǎn)地布置。
41. 一種具有照明系統(tǒng)和投射物鏡的微光刻投射曝光設(shè)備，其中所述照 明系統(tǒng)和/或所述4殳射物鏡是根據(jù)權(quán)利要求1至28任一項(xiàng)的光學(xué)系統(tǒng)或者其 中所述照明系統(tǒng)根據(jù)權(quán)利要求29至33任一項(xiàng)設(shè)計(jì)。
42. —種微結(jié)構(gòu)元件的微光刻生產(chǎn)的方法，包括下列步驟 提供對于其至少部分施加光敏材料層的襯底； 提供具有其圖像將被產(chǎn)生的結(jié)構(gòu)的掩模(2); 提供根據(jù)權(quán)利要求41的微光刻投射曝光設(shè)備；并且 利用所述投射曝光設(shè)備投射至少一部分掩模(2)于所述層的區(qū)上。
43. —種根據(jù)在權(quán)利要求42中所提出的方法生產(chǎn)的微結(jié)構(gòu)元件。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種光學(xué)系統(tǒng)，具體而言一種微光刻投射曝光設(shè)備的照明系統(tǒng)或投射物鏡，其包括至少一影響偏振的光學(xué)布置(200、400、550)，所述光學(xué)布置具有至少兩個(gè)、光學(xué)活性材料的影響偏振的光學(xué)元件(210、220)，其中至少一所述影響偏振的元件(210、220)被可旋轉(zhuǎn)地布置。
文檔編號G03F7/20GK101568884SQ200780047864
公開日2009年10月28日 申請日期2007年12月7日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月21日
發(fā)明者尼爾斯·迪克曼, 達(dá)米安·菲奧爾卡 申請人:卡爾蔡司Smt股份公司